JP2010179299A - Liquid droplet ejection apparatus - Google Patents

Liquid droplet ejection apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2010179299A
JP2010179299A JP2010003457A JP2010003457A JP2010179299A JP 2010179299 A JP2010179299 A JP 2010179299A JP 2010003457 A JP2010003457 A JP 2010003457A JP 2010003457 A JP2010003457 A JP 2010003457A JP 2010179299 A JP2010179299 A JP 2010179299A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
droplet ejection
work
functional liquid
gap
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010003457A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5304660B2 (en
Inventor
Nagatane Yasu
永植 安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2010003457A priority Critical patent/JP5304660B2/en
Publication of JP2010179299A publication Critical patent/JP2010179299A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5304660B2 publication Critical patent/JP5304660B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gap adjusting device and the like capable of adjusting a work gap to as a small value as possible by precisely measuring the displacement of a nozzle plane in the up and down directions. <P>SOLUTION: The gap adjusting device comprises a position measuring means 181 for measuring respectively positions in the up and down directions for a plurality of places of a nozzle plane 103 departed from each other, a gap measuring system transferring mechanism 24 for transferring a function droplet ejection head 81 with respect to the position measuring means 181, an ascending and descending means 132 for fine adjusting a work gap by transferring the function droplet ejection head 81 in the up and down directions with respect to a workpiece W, a control means 3 for controlling the ascending and descending means 132 from a measured result of the position measuring means 181 wherein the control means 3 controls the ascending and descending means 132 so that a departed distance between a nearest position among a plurality of measured results by the position measuring means 181 and the surface of the workpiece W may become a set work gap. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板等のワークの表面と、インクジェットヘッドに代表される機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間のワークギャップを調整可能なギャップ調整装置、これに使用されるキャリブレーション用治具、およびギャップ調整装置を備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a gap adjusting device capable of adjusting a work gap between a surface of a work such as a substrate and a nozzle surface of a functional liquid droplet ejection head represented by an ink jet head, and a calibration jig used therefor And a droplet discharge device including a gap adjusting device, a method of manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic apparatus.

このような液滴吐出装置では、ワークギャップを一定の値に保った状態でワークに対して機能液滴を吐出できるようにするため、ワークギャップを調整可能なギャップ調整手段が設けられている。このワークギャップは、機能液滴の飛行曲がりや着弾径等を精度良く管理するため、極力小さい値(例えば、0.15mm〜0.3mm)に設定することが望ましい。したがって、従来のギャップ調整手段では、機能液滴吐出ヘッドの各角部に1つずつ距離センサを取り付け、各距離センサによるワークの表面との距離の測定値うち最小の測定値に基づいて、ノズル面とワークの表面との離間距離が設定したワークギャップを保持するように機能液滴吐出ヘッドをワークに対して離接させることにより、機能液滴吐出ヘッドのノズル面がワークの表面に接触するのを防止することが考えられている。だが実際には、複数の距離センサを、ノズル面に対して上下方向に均一に機能液滴吐出ヘッドに精度よく取り付けることは困難であるため、機能液滴吐出ヘッドに単一の距離センサを取り付け、その測定結果に基づいてワークギャップを調整している。(例えば、特許文献1参照。)。   In such a droplet discharge device, gap adjusting means capable of adjusting the work gap is provided in order to discharge functional droplets to the workpiece while keeping the work gap at a constant value. This work gap is desirably set to a value as small as possible (for example, 0.15 mm to 0.3 mm) in order to accurately manage the flight bend, landing diameter, etc. of the functional liquid droplets. Therefore, in the conventional gap adjusting means, one distance sensor is attached to each corner of the functional liquid droplet ejection head, and the nozzle surface is measured based on the smallest measured value of the distances to the surface of the workpiece by each distance sensor. The nozzle surface of the functional liquid droplet ejection head comes into contact with the surface of the workpiece by bringing the functional liquid droplet ejection head into and out of contact with the workpiece so that the gap between the workpiece and the surface of the workpiece is maintained. It is considered to prevent. However, in reality, it is difficult to attach multiple distance sensors to the functional liquid droplet ejection head uniformly in the vertical direction with respect to the nozzle surface, so a single distance sensor is attached to the functional liquid droplet ejection head. The work gap is adjusted based on the measurement results. (For example, refer to Patent Document 1).

特開2002−273974号公報(第3、5、6頁、第1、9図)Japanese Patent Laid-Open No. 2002-273974 (pages 3, 5, 6 and 1, 9)

ところで、機能液滴吐出ヘッドは、その構造上のバラツキや組付け構造のバラツキに基づいて、キャリッジに対して傾いて搭載されていたり、交換時にノズル面の上下方向の位置が変更されたり、複数の機能液滴吐出ヘッドが相互に上下方向に位置ずれしてキャリッジに搭載されていたりすることから、ノズル面が上下方向に位置ずれしている場合がある。しかしながら、機能液滴吐出ヘッドに取り付けられた単一の距離センサでは、ノズル面の上下方向の位置ずれを正確に測定することができなかった。したがって、ワークギャップを極力小さい値に調整すると、ノズル面のうち下方に位置ずれしている箇所がワークの表面に接触するおそれがあった。   By the way, the functional liquid droplet ejection head is mounted to be inclined with respect to the carriage based on the structural variation or assembly structure variation, or the position of the nozzle surface in the vertical direction is changed during replacement. Since the functional liquid droplet ejection heads are displaced from each other in the vertical direction and are mounted on the carriage, the nozzle surface may be displaced in the vertical direction. However, with a single distance sensor attached to the functional liquid droplet ejection head, the positional deviation in the vertical direction of the nozzle surface cannot be accurately measured. Therefore, when the workpiece gap is adjusted to a value as small as possible, there is a possibility that a portion of the nozzle surface that is displaced downward contacts the workpiece surface.

本発明は、ノズル面の上下方向の位置ずれを正確に測定することでワークギャップを極力小さい値に調整することができるギャップ調整装置、これに使用されるキャリブレーション用治具、およびギャップ調整装置を備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを目的としている。   The present invention relates to a gap adjusting device capable of adjusting a work gap to a value as small as possible by accurately measuring a positional deviation in a vertical direction of a nozzle surface, a calibration jig used in the gap adjusting device, and a gap adjusting device. And a method of manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic apparatus.

本発明のギャップ調整装置は、ワークテーブル上にセットされたワークの表面とワークに機能液を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間のワークギャップを、微調整するギャップ調整装置において、相互に離間したノズル面の複数の箇所に対し、上下方向の位置をそれぞれ測定する位置測定手段と、ノズル面の複数の箇所を位置測定手段に順に臨ませるように、位置測定手段に対し機能液滴吐出ヘッドをワークの表面と平行な平面内において相対的に移動させるギャップ測定系移動機構と、機能液滴吐出ヘッドをワークに対して上下方向に相対的に移動させてワークギャップを微調整する昇降手段と、位置測定手段による測定結果に基づいて、昇降手段を制御する制御手段と、を備え、制御手段は、位置測定手段による複数の測定結果の最も近い位置とワークの表面との離間距離が設定したワークギャップとなるように、昇降手段を制御することを特徴とする。   The gap adjusting device of the present invention is a gap adjusting device that finely adjusts the work gap between the surface of the work set on the work table and the nozzle surface of the functional liquid droplet discharge head that discharges the functional liquid onto the work. The position measuring means for measuring the position in the vertical direction with respect to a plurality of locations on the nozzle surface spaced apart from each other, and the functional liquid for the position measuring means so that the plurality of locations on the nozzle surface face the position measuring means in order. A gap measuring system moving mechanism that moves the droplet discharge head relatively in a plane parallel to the surface of the workpiece, and a fine adjustment of the work gap by moving the functional droplet discharge head relative to the workpiece in the vertical direction And a control means for controlling the elevating means based on the measurement result by the position measuring means, the control means comprising a plurality of measurement results by the position measuring means. As the closest position and the surface of the workpiece and the workpiece gap distance was set in, and controlling the lifting means.

この構成によれば、位置測定手段によりノズル面の複数の箇所に対する上下方向の位置をそれぞれ測定する。このため、複数の距離センサを機能液滴吐出ヘッドに取り付けた場合のように相互の上下方向の取付け精度が問題となることなく、ノズル面の上下方向の位置ずれを正確に測定することができる。そして、位置測定手段による複数の測定結果の最も近い位置とワークの表面との離間距離が設定したワークギャップとなるため、ノズル面がワークの表面に接触することがない。
なお、複数の位置測定手段を、上下方向に相互に精度よく配設可能な場合には、複数の位置測定手段によりノズル面の複数の箇所に対する上下方向の位置をそれぞれ測定するようにしてもよい。
According to this structure, the position of the up-down direction with respect to the several location of a nozzle surface is each measured by a position measurement means. For this reason, it is possible to accurately measure the vertical displacement of the nozzle surface without causing a problem in mutual vertical mounting accuracy as in the case of mounting a plurality of distance sensors to the functional liquid droplet ejection head. . Since the distance between the closest position of the plurality of measurement results obtained by the position measuring means and the surface of the workpiece is a set work gap, the nozzle surface does not contact the surface of the workpiece.
In addition, when a plurality of position measuring means can be arranged with high accuracy in the vertical direction, the position in the vertical direction with respect to a plurality of locations on the nozzle surface may be respectively measured by the plurality of position measuring means. .

この場合、ノズル面は、方形に形成され、ノズル面の複数の箇所は、少なくともノズル面の4隅となる4箇所を含むことが好ましい。   In this case, it is preferable that the nozzle surface is formed in a square shape, and the plurality of locations on the nozzle surface include at least four locations that form the four corners of the nozzle surface.

この構成によれば、ノズル面の4隅となる4箇所のうちの1箇所がノズル面のうち最も下方に位置する箇所であることから、位置測定手段により、ノズル面のうち最も下方に位置する箇所を確実に測定することができる。   According to this configuration, since one of the four corners of the nozzle surface is the lowest position on the nozzle surface, the position measurement unit positions the lowest position on the nozzle surface. The location can be measured reliably.

これらの場合、ワークの厚さを計測するワーク厚さ計測手段を、さらに備え、制御手段は、ワーク厚さ計測手段により計測されたワーク厚さデータに応じて所定のワーク厚さデータを更新するデータ更新手段を、有することが好ましい。   In these cases, a work thickness measuring means for measuring the thickness of the work is further provided, and the control means updates predetermined work thickness data in accordance with the work thickness data measured by the work thickness measuring means. It is preferable to have data update means.

この構成によれば、データ更新手段により、ワーク厚さ計測手段によって計測されたワーク厚さデータに基づいて所定のワーク厚さデータが更新され、制御手段により、更新された所定のワーク厚さデータに基づいて位置測定手段による複数の測定結果の最も近い位置とワークの表面との離間距離が演算される。このため、ワークの厚さに応じてワークギャップを微調整することができる。   According to this configuration, the predetermined workpiece thickness data is updated by the data updating unit based on the workpiece thickness data measured by the workpiece thickness measuring unit, and the updated predetermined workpiece thickness data is updated by the control unit. The distance between the closest position of the plurality of measurement results by the position measuring means and the surface of the workpiece is calculated based on the above. For this reason, the work gap can be finely adjusted according to the thickness of the work.

これらの場合、ワークテーブルの表面との間で位置管理された第1測定基準面を有するキャリブレーション用治具を、さらに備え、位置測定手段は、第1測定基準面との上下方向の第1基準距離を測定し、制御手段は、第1基準距離に基づいて位置測定手段のゼロ点補正を行うことが好ましい。   In these cases, a calibration jig having a first measurement reference surface whose position is managed with respect to the surface of the work table is further provided, and the position measuring means is a first member in the vertical direction with respect to the first measurement reference surface. The reference distance is measured, and the control means preferably performs zero point correction of the position measurement means based on the first reference distance.

この構成によれば、位置測定手段を新設または交換した場合であっても、位置測定手段のゼロ点補正が行われるため、位置測定手段が配設された上下方向の位置により位置測定手段の測定結果が影響されることがない。   According to this configuration, even when the position measuring unit is newly installed or replaced, the zero point correction of the position measuring unit is performed. Therefore, the position measuring unit is measured by the vertical position where the position measuring unit is disposed. The result is not affected.

この場合、位置測定手段は、レーザ光を用いたノズル面用距離センサであって、第1測定基準面は、ノズル面に対するレーザ光の反射率と略等しい反射率を有することが好ましい。   In this case, the position measuring means is a nozzle surface distance sensor using laser light, and the first measurement reference surface preferably has a reflectance substantially equal to the reflectance of the laser light with respect to the nozzle surface.

この構成によれば、ノズル面用距離センサによる測定結果が、測定面に対するレーザ光の反射率による影響を受けることがなく、ノズル面と第1測定基準面とを同一条件下で測定することができる。このため、ノズル面用距離センサによるノズル面の複数の箇所との距離の測定結果に対して、正確なゼロ点補正を行うことができる。   According to this configuration, the measurement result by the nozzle surface distance sensor is not affected by the reflectance of the laser beam with respect to the measurement surface, and the nozzle surface and the first measurement reference surface can be measured under the same conditions. it can. For this reason, accurate zero point correction can be performed on the measurement results of the distances from the nozzle surface distance sensor to a plurality of locations on the nozzle surface.

これらの場合、キャリブレーション用治具は、ワークテーブルの表面との間で位置管理された第2測定基準面を、さらに有し、ワーク厚さ計測手段は、第2測定基準面との上下方向の第2基準距離を測定し、制御手段は、第2基準距離に基づいてワーク厚さ計測手段のゼロ点補正を行うことが好ましい。   In these cases, the calibration jig further has a second measurement reference surface whose position is controlled with respect to the surface of the work table, and the workpiece thickness measurement means is in the vertical direction with respect to the second measurement reference surface. The second reference distance is measured, and the control means preferably performs zero point correction of the workpiece thickness measuring means based on the second reference distance.

この構成によれば、ワーク厚さ計測手段を新設または交換した場合であっても、ワーク厚さ計測手段のゼロ点補正が行われるため、ワーク厚さ計測手段が配設された上下方向の位置によりワーク厚さ計測手段の測定結果が影響されることがない。   According to this configuration, even when the workpiece thickness measuring means is newly installed or replaced, the zero point correction of the workpiece thickness measuring means is performed, so the vertical position where the workpiece thickness measuring means is disposed Therefore, the measurement result of the workpiece thickness measuring means is not affected.

この場合、ワーク厚さ計測手段は、レーザ光を用いたワーク厚さ用距離センサであって、第2測定基準面は、ワークの表面に対するレーザ光の反射率と略等しい反射率を有することが好ましい。   In this case, the workpiece thickness measuring means is a workpiece thickness distance sensor using laser light, and the second measurement reference surface may have a reflectance substantially equal to the reflectance of the laser beam with respect to the workpiece surface. preferable.

この構成によれば、ワーク厚さ用距離センサによる測定結果が、測定面に対するレーザ光の反射率による影響を受けることがなく、ワークの表面と第2測定基準面とを同一条件下で測定することができる。このため、ワーク厚さ用距離センサによるワークの表面との距離の測定結果に対して、正確なゼロ点補正を行うことができる。   According to this configuration, the measurement result by the workpiece thickness distance sensor is not affected by the reflectance of the laser beam with respect to the measurement surface, and the surface of the workpiece and the second measurement reference surface are measured under the same conditions. be able to. Therefore, accurate zero point correction can be performed on the measurement result of the distance from the workpiece surface by the workpiece thickness sensor.

これらの場合、キャリブレーション用治具は、ワークテーブルに貫通形成した取付穴に配設されていることが好ましい。   In these cases, it is preferable that the calibration jig is disposed in a mounting hole formed through the work table.

この構成によれば、測定基準面をワークテーブルの表面から所定の距離に配設するのを容易に行うことができる。   According to this configuration, it is possible to easily arrange the measurement reference plane at a predetermined distance from the surface of the work table.

本発明のキャリブレーション用治具によれば、上記のギャップ調整装置に備えられることを特徴とする。   According to the calibration jig of the present invention, the calibration jig is provided in the gap adjusting device.

この構成によれば、測定対象面に対するレーザ光の反射率と略等しいレーザ光の反射率を有する第1測定基準面と第2測定基準面とを有することで、ノズル面用距離センサおよびワーク厚さ用距離センサの両方のゼロ点補正を正確に行うことができる。例えば、ノズル面を構成するノズルプレートが黒色のステンレス板で、ワークが石英のガラス基板のときに、キャリブレーション用治具の第1測定基準面を黒色のステンレス板で、第2測定基準面を石英ガラスで構成する。   According to this configuration, the nozzle surface distance sensor and the workpiece thickness are obtained by having the first measurement reference surface and the second measurement reference surface having the reflectance of the laser light substantially equal to the reflectance of the laser light with respect to the measurement target surface. The zero point correction of both the distance sensors can be performed accurately. For example, when the nozzle plate constituting the nozzle surface is a black stainless steel plate and the workpiece is a quartz glass substrate, the first measurement reference surface of the calibration jig is the black stainless steel plate and the second measurement reference surface is Consists of quartz glass.

本発明の液滴吐出装置は、上記したギャップ調整装置を備えたことを特徴とする。   The droplet discharge device of the present invention is characterized by including the gap adjusting device described above.

この構成によれば、ワークギャップを極力小さい値に調整することができるギャップ調整装置を備えているため、機能液滴の飛行曲がりや着弾径等が精度良く管理された状態で、ワークに対し機能液の吐出を行うことができる。   According to this configuration, since the gap adjusting device that can adjust the work gap to the smallest possible value is provided, it is possible to function on the work in a state where the flying bend, the landing diameter, etc. of the functional liquid droplets are accurately controlled. Liquid discharge can be performed.

この場合、機能液滴吐出ヘッドを保守するための保守装置と、機能液滴吐出ヘッドを保守装置に対して上下方向に移動させ、かつ、保守装置とノズル面との上下方向の距離を調整するZ軸移動手段と、をさらに備え、昇降手段は、キャリッジに搭載されると共に、Z軸移動手段を兼ねていることが好ましい。   In this case, the maintenance device for maintaining the functional liquid droplet ejection head, the functional liquid droplet ejection head is moved vertically with respect to the maintenance device, and the vertical distance between the maintenance device and the nozzle surface is adjusted. Z-axis moving means is further provided, and the elevating means is preferably mounted on the carriage and also serves as the Z-axis moving means.

この構成によれば、Z軸移動手段を昇降手段が兼ねていることで、昇降手段とは別に、保守動作において機能液滴吐出ヘッドを保守装置に対して昇降させるための手段をさらに備える必要がない。したがって、液滴吐出装置全体の構造を単純化することができる。   According to this configuration, since the elevating means also serves as the Z-axis moving means, it is necessary to further include means for elevating the functional liquid droplet ejection head relative to the maintenance device in the maintenance operation, separately from the elevating means. Absent. Therefore, the structure of the entire droplet discharge device can be simplified.

これらの場合、ワークに対し機能液滴吐出ヘッドから機能液を吐出させて描画を行う描画動作時において、機能液滴吐出ヘッドをワークに対して互いに直交する方向に相対的に移動させるX軸テーブルおよびY軸テーブルを、さらに備え、ギャップ測定系移動機構は、キャリッジを介して機能液滴吐出ヘッドをワークの表面に平行な一方向に移動させる移動手段と、キャリッジに搭載されると共に、キャリッジをその軸心を中心に回転させることにより機能液滴吐出ヘッドをワークの表面に平行な平面内において回転させる回転手段と、を有し、移動手段は、Y軸テーブルを兼ねていることが好ましい。   In these cases, an X-axis table that relatively moves the functional liquid droplet ejection head in a direction orthogonal to the work during a drawing operation in which the functional liquid is ejected from the functional liquid droplet ejection head onto the work. And a Y-axis table, and the gap measuring system moving mechanism is mounted on the carriage, moving means for moving the functional liquid droplet ejection head in one direction parallel to the surface of the workpiece via the carriage, Rotating means for rotating the functional liquid droplet ejection head in a plane parallel to the surface of the workpiece by rotating about the axis, and the moving means preferably also serves as a Y-axis table.

この構成によれば、Y軸テーブルを兼ねている移動手段と、回転手段とからギャップ測定系移動機構が構成されていることで、移動手段とは別に、描画動作において機能液滴吐出ヘッドをワークに対して移動させるための手段をさらに備えることなく、ノズル面の複数の箇所を容易に位置測定手段に臨ませることができる。したがって、液滴吐出装置全体の構造を単純化することができる。   According to this configuration, since the gap measuring system moving mechanism is configured by the moving means that also serves as the Y-axis table and the rotating means, the functional liquid droplet ejection head can be used in the drawing operation separately from the moving means. A plurality of locations on the nozzle surface can be easily exposed to the position measuring means without further providing means for moving the nozzle. Therefore, the structure of the entire droplet discharge device can be simplified.

本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。   A method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention is characterized in that a film-forming unit made of functional droplets is formed on a workpiece using the above-described droplet discharge device.

また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。   In addition, an electro-optical device according to the present invention is characterized in that the above-described droplet discharge device is used to form a film forming portion using functional droplets on a workpiece.

これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッド間の混色を防止する等の目的に応じて適切なワイピング動作を行うことができる液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置(フラットパネルディスプレイ)としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機EL装置、PDP装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるFED(Field Emission Display)やSED(Surface-conduction Electoron-Emitter Display)装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。   According to these configurations, since it is manufactured using a droplet discharge device that can perform an appropriate wiping operation according to the purpose such as preventing color mixing between the functional droplet discharge heads, a highly reliable electric An optical device can be manufactured. As the electro-optical device (flat panel display), a color filter, a liquid crystal display device, an organic EL device, a PDP device, an electron emission device, and the like are conceivable. The electron emission device is a concept including a so-called FED (Field Emission Display) or SED (Surface-conduction Electoron-Emitter Display) device. Further, as the electro-optical device, devices including metal wiring formation, lens formation, resist formation, light diffuser formation, and the like are conceivable.

本発明の電子機器は、上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device.

この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。   In this case, the electronic apparatus corresponds to various electric products in addition to a mobile phone and a personal computer equipped with a so-called flat panel display.

実施形態に係る液滴吐出装置の平面図である。It is a top view of the droplet discharge device concerning an embodiment. 実施形態に液滴吐出装置の正面図である。It is a front view of a droplet discharge device in an embodiment. 実施形態に係る液滴吐出装置の側面図である。It is a side view of the droplet discharge device concerning an embodiment. 実施形態に係るヘッドユニットの平面図である。It is a top view of the head unit concerning an embodiment. 実施形態に係る機能液滴吐出ヘッドの斜視図である。It is a perspective view of the functional liquid droplet ejection head concerning an embodiment. 実施形態に係るメインキャリッジの斜視図である。It is a perspective view of the main carriage which concerns on embodiment. 実施形態に係るキャリッジ本体の斜視図である。It is a perspective view of the carriage main body which concerns on embodiment. 実施形態に係るヘッド回転機構の正面図である。It is a front view of the head rotation mechanism concerning an embodiment. 実施形態に係るヘッド昇降機構の正面図である。It is a front view of the head raising / lowering mechanism which concerns on embodiment. 実施形態に係る吐出検査ユニット、共通支持フレームおよびノズル面用距離センサの斜視図である。It is a perspective view of a discharge inspection unit, a common support frame, and a nozzle surface distance sensor according to the embodiment. 実施形態に係るギャップ調整装置の模式図である。It is a mimetic diagram of a gap adjustment device concerning an embodiment. (a)実施形態に係るキャリブレーション用治具の斜視図、(b)実施形態に係るキャリブレーション用治具の断面図である。(A) A perspective view of a calibration jig according to the embodiment, (b) a cross-sectional view of the calibration jig according to the embodiment. カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining a color filter manufacturing process. (a)〜(e)は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。(A)-(e) is a schematic cross section of the color filter shown to the manufacturing process order. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device using the color filter to which this invention is applied. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第2の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device of the 2nd example using the color filter to which this invention is applied. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第3の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device of the 3rd example using the color filter to which this invention is applied. 有機EL装置である表示装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display apparatus which is an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the manufacturing process of the display apparatus which is an organic electroluminescent apparatus. 無機物バンク層の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of an inorganic bank layer. 有機物バンク層の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of an organic substance bank layer. 正孔注入/輸送層を形成する過程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the process in which a positive hole injection / transport layer is formed. 正孔注入/輸送層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the positive hole injection / transport layer was formed. 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the process in which a blue light emitting layer is formed. 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the blue light emitting layer was formed. 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the light emitting layer of each color was formed. 陰極の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of a cathode. PDP装置である表示装置の要部分解斜視図である。It is a principal part disassembled perspective view of the display apparatus which is a PDP apparatus. FED装置である表示装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display apparatus which is a FED apparatus.

以下、添付の図面を参照して、本発明の液滴吐出装置について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、例えば、有機EL装置(詳細は後述する)等の、いわゆるフラットパネルディスプレイの製造装置に適用され、機能液滴吐出ヘッドを用い、そのノズル面とワークである基板の表面との間のワークギャップを調整した状態で、基板に発光材料等の機能液を吐出する描画動作を行い、有機EL装置の発光機能を為すR・G・B3色の発光層および正孔注入層を形成するものである。   Hereinafter, a droplet discharge device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The liquid droplet ejection apparatus of this embodiment is applied to a so-called flat panel display manufacturing apparatus such as an organic EL apparatus (details will be described later), and uses a functional liquid droplet ejection head, which has a nozzle surface and a workpiece. In a state where the work gap between the substrate surface and the surface of the substrate is adjusted, a drawing operation for discharging a functional liquid such as a light emitting material to the substrate is performed, and the R, G, B three-color light emitting layer and the positive light A hole injection layer is formed.

まず、本実施形態の液滴吐出装置について説明する。図1ないし図3に示すように、実施形態の液滴吐出装置1は、機能液滴吐出ヘッド81を搭載した描画装置11と、機能液滴吐出ヘッド81の保守等に用いる各種の装置からなるメンテナンス装置12(保守装置)とを備えている。また、液滴吐出装置1は、チャンバ装置2内に収容されており、描画動作を含む一連の製造工程を、チャンバ装置2で構成するドライエアーの雰囲気中で行うようにしている。   First, the droplet discharge device of this embodiment will be described. As shown in FIGS. 1 to 3, the droplet discharge device 1 of the embodiment includes a drawing device 11 equipped with a functional droplet discharge head 81 and various devices used for maintenance of the functional droplet discharge head 81. And a maintenance device 12 (maintenance device). Further, the droplet discharge device 1 is accommodated in the chamber device 2, and a series of manufacturing processes including a drawing operation are performed in an atmosphere of dry air configured by the chamber device 2.

描画装置11は、床上に設置した架台21と、架台21上に設置した石定盤22と、石定盤22上に設置したX軸テーブル23およびこれに直交するY軸テーブル24と、X軸テーブル23に移動自在に搭載された吸着テーブル25(ワークテーブル)と、Y軸テーブル24に吊設するように設けたメインキャリッジ26(キャリッジ)と、メインキャリッジ26に搭載したヘッドユニット27と、吸着テーブル25上にセットされたワークWの表面とヘッドユニット27に搭載された機能液滴吐出ヘッド81のノズル面103との間のワークギャップを調整するギャップ調整装置28と、を備えている。描画装置11には、この他にも、ヘッドユニット27(機能液滴吐出ヘッド81)の位置認識を行うヘッド認識カメラ29や、ワークWの位置認識を行うためのワーク認識カメラ30、ワークWに吐出した機能液滴の描画結果を観察するための描画観察カメラ31、真空ポンプ34(後述する)を駆動させるための吸引用スイッチユニット32等の各種装置が備えられている。   The drawing apparatus 11 includes a gantry 21 installed on the floor, a stone surface plate 22 installed on the gantry 21, an X axis table 23 installed on the stone surface plate 22, a Y axis table 24 orthogonal thereto, and an X axis A suction table 25 (work table) mounted movably on the table 23, a main carriage 26 (carriage) provided so as to be suspended from the Y-axis table 24, a head unit 27 mounted on the main carriage 26, and a suction And a gap adjusting device for adjusting a work gap between the surface of the work W set on the table 25 and the nozzle surface 103 of the functional liquid droplet ejection head 81 mounted on the head unit 27. In addition to this, the drawing apparatus 11 includes a head recognition camera 29 for recognizing the position of the head unit 27 (functional liquid droplet ejection head 81), a work recognition camera 30 for recognizing the position of the work W, and a work W. Various devices such as a drawing observation camera 31 for observing the drawing result of the discharged functional liquid droplets and a suction switch unit 32 for driving a vacuum pump 34 (described later) are provided.

また、描画装置11は、チャンバ装置2の外部に別置きとして、描画装置11に機能液を供給する機能液供給装置33、および吸着テーブル25に連なるワークW吸着用の真空ポンプ34を備えている。そして、液滴吐出装置1には、図外のホスト・コンピュータ3が接続されており、ホスト・コンピュータ3により、描画装置11およびメンテナンス装置12の統括制御が行われている。   In addition, the drawing apparatus 11 includes a functional liquid supply apparatus 33 that supplies a functional liquid to the drawing apparatus 11 and a vacuum pump 34 for workpiece W adsorption connected to the adsorption table 25, separately from the chamber apparatus 2. . A host computer 3 (not shown) is connected to the droplet discharge device 1, and the host computer 3 performs overall control of the drawing device 11 and the maintenance device 12.

機能液供給装置33は、後述する3個の機能液滴吐出ヘッド81に、それぞれR・G・B3色の機能液を供給するものであり、R・G・B3色の機能液タンク(図示省略)と、機能液タンクを収容するケース41と、ケース41を支持する装置架台42とを有している。装置架台42には、回収した機能液を貯留する機能液回収タンクや洗浄液を貯留する洗浄液タンク(図示省略)と、各装置を駆動・制御するための圧縮エアー(ドライエアー)を供給する圧縮エアー供給装置35とが組み込まれている。なお、図示は省略するが、3個の機能液タンクから延びる機能液チューブや、圧縮エアー供給装置35から延びるエアーチューブは、一箇所にまとめられ、チャンバ装置2の後部から描画装置11に取り込まれる。   The functional liquid supply device 33 supplies R, G, and B3 functional liquids to three functional liquid droplet ejection heads 81, which will be described later, and R, G, and B3 functional liquid tanks (not shown). ), A case 41 for accommodating the functional liquid tank, and a device base 42 for supporting the case 41. Compressed air for supplying a functional liquid recovery tank for storing the recovered functional liquid, a cleaning liquid tank (not shown) for storing the cleaning liquid, and compressed air (dry air) for driving and controlling each apparatus to the apparatus base 42 A supply device 35 is incorporated. Although illustration is omitted, the functional liquid tubes extending from the three functional liquid tanks and the air tubes extending from the compressed air supply device 35 are collected in one place and taken into the drawing device 11 from the rear portion of the chamber device 2. .

吸着テーブル25は、X軸テーブル23のθテーブル61(後述する)に支持されており、上記の真空ポンプ34に連なる真空チューブ(図示省略)が接続され、そのエアー吸引によってセットされたワークWが平坦度を維持するように、すなわちワークWの表面がX・Y平面と平行になるように、これを吸着している。また、詳細は後述するが、吸着テーブル25の表面には、その厚さ方向(上下方向)に貫通した取付穴51が設けられており、取付穴51には、ギャップ調整装置28のキャリブレーション用治具183が配設されている。   The suction table 25 is supported by a θ table 61 (described later) of the X-axis table 23, connected to a vacuum tube (not shown) connected to the vacuum pump 34, and the workpiece W set by the air suction is used. This is adsorbed so that the flatness is maintained, that is, the surface of the workpiece W is parallel to the XY plane. Although details will be described later, a mounting hole 51 penetrating in the thickness direction (vertical direction) is provided on the surface of the suction table 25, and the mounting hole 51 is used for calibration of the gap adjusting device 28. A jig 183 is provided.

X軸テーブル23は、石定盤22上に直接設置されており、上記の吸着テーブル25を支持するθテーブル61と、θテーブル61をX軸方向にスライド自在に支持するX軸エアースライダ(図示省略)と、θテーブル61および吸着テーブル25を介して、ワークWをX軸方向に移動させるX軸リニアモータ(図示省略)と、X軸エアースライダに併設したX軸リニアスケール(図示省略)と、を備えている。X軸テーブル23では、X軸リニアモータの駆動により、θテーブル61および吸着テーブル25等からなるセットテーブル63が、X軸エアースライダを案内にしてX軸方向に移動する。   The X-axis table 23 is directly installed on the stone surface plate 22, and a θ table 61 that supports the suction table 25 and an X-axis air slider (not shown) that supports the θ table 61 slidably in the X-axis direction. (Omitted), an X-axis linear motor (not shown) for moving the workpiece W in the X-axis direction via the θ table 61 and the suction table 25, and an X-axis linear scale (not shown) attached to the X-axis air slider. It is equipped with. In the X-axis table 23, the drive of the X-axis linear motor moves the set table 63 including the θ table 61 and the suction table 25 in the X-axis direction with the X-axis air slider as a guide.

なお、X軸エアースライダ、X軸リニアモータおよびX軸リニアスケールは、X軸に対して平行に配設されており、X軸ボックス62内に収容されている。また、θテーブル61には、上記のヘッド認識カメラ29が固定されており、吸着テーブル25に対して、ヘッドユニット27の位置を補正可能となっている。   Note that the X-axis air slider, the X-axis linear motor, and the X-axis linear scale are disposed in parallel to the X-axis and are accommodated in the X-axis box 62. The head recognition camera 29 is fixed to the θ table 61, and the position of the head unit 27 can be corrected with respect to the suction table 25.

Y軸テーブル24は、石定盤22に立設されたスタンド付のY軸フレーム71に載置されており、X軸テーブルを跨ぐようにしてX軸テーブル23に直交する方向に延在している。Y軸フレーム71にスライド自在に支持され、メインキャリッジを支持するY軸エアースライダ(図示省略)と、Y軸エアースライダを介して、ヘッドユニット27をY軸方向に移動させるY軸リニアモータ(図示省略)と、Y軸エアースライダに併設したY軸リニアスケール(図示省略)と、を有している。   The Y-axis table 24 is placed on a Y-axis frame 71 with a stand that is erected on the stone surface plate 22, and extends in a direction perpendicular to the X-axis table 23 so as to straddle the X-axis table. Yes. A Y-axis air slider (not shown) that is slidably supported by the Y-axis frame 71 and supports the main carriage, and a Y-axis linear motor (not shown) that moves the head unit 27 in the Y-axis direction via the Y-axis air slider. And a Y-axis linear scale (not shown) attached to the Y-axis air slider.

そして、Y軸テーブル24は、これに搭載したヘッドユニット27(機能液滴吐出ヘッド81)を、X軸テーブル23の直上部に位置する描画エリアと、後述するギャップ調整装置28のノズル面用距離センサ181の直上部やメンテナンス装置12の各ユニットの直上部との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Y軸テーブル24は、吸着テーブル25にセットしたワークWに描画を行う場合には、ヘッドユニット27を描画エリアに臨ませ、ワークギャップの微調整を行う場合には、ヘッドユニット27をノズル面用距離センサ181に臨ませ、機能液滴吐出ヘッド81の機能回復や吐出検査を行う場合には、ヘッドユニット27をメンテナンス装置12の各ユニットに臨ませる。   The Y-axis table 24 includes the head unit 27 (functional liquid droplet ejection head 81) mounted on the Y-axis table 24 at a drawing area located immediately above the X-axis table 23 and a nozzle surface distance of a gap adjusting device 28 described later. It is appropriately moved between the upper part of the sensor 181 and the upper part of each unit of the maintenance device 12. That is, the Y-axis table 24 allows the head unit 27 to face the drawing area when drawing on the work W set on the suction table 25, and the head unit 27 is used as a nozzle when fine adjustment of the work gap is performed. When performing functional recovery or ejection inspection of the functional liquid droplet ejection head 81 by facing the surface distance sensor 181, the head unit 27 is caused to face each unit of the maintenance device 12.

なお、Y軸フレーム71には、Y軸エアースライダの他に、カメラ用エアースライダ(図示省略)がスライド自在に支持されており、カメラ用エアースライダには、上記のワーク認識カメラ30および描画観察カメラ31が固定されている。カメラ用エアースライダとY軸スライダは、独立して移動可能に構成されており,Y軸リニアモータの駆動により、ワーク認識カメラ30および描画観察カメラは、メインキャリッジ26とは独立にY軸方向に移動する。   In addition to the Y-axis air slider, a camera air slider (not shown) is slidably supported on the Y-axis frame 71. The camera air slider includes the workpiece recognition camera 30 and the drawing observation. The camera 31 is fixed. The camera air slider and the Y-axis slider are configured to be movable independently, and the workpiece recognition camera 30 and the drawing observation camera are driven in the Y-axis direction independently of the main carriage 26 by driving the Y-axis linear motor. Moving.

図4に示すように、ヘッドユニット27は、3個の機能液滴吐出ヘッド81と、機能液滴吐出ヘッド81を位置決め固定するための3個の装着開口83が横並びに形成されたヘッドプレート82と、を備えている。3個の機能液滴吐出ヘッド81は、上記のR・G・B3色の発光層617bを形成するための3種類の機能液に対応させたものであり、それぞれの機能液滴吐出ヘッド81に、R・G・B3色の発光層617bを形成する機能液が1種類ずつ対応するようになっている。また、ヘッドユニット27は、メインキャリッジ26に対し着脱自在に保持されている。   As shown in FIG. 4, the head unit 27 includes a head plate 82 in which three functional liquid droplet ejection heads 81 and three mounting openings 83 for positioning and fixing the functional liquid droplet ejection heads 81 are formed side by side. And. The three functional liquid droplet ejection heads 81 correspond to the three types of functional liquids for forming the light emitting layer 617b of the R, G, and B colors described above. Each of the functional liquids forming the light emitting layer 617b of R, G, B colors corresponds to each one. The head unit 27 is detachably held with respect to the main carriage 26.

図5に示すように、機能液滴吐出ヘッド81は、いわゆる2連のものであり、2連の接続針92を有する機能液導入部91と、機能液導入部91に連なる2連のヘッド基板93と、機能液導入部91の下方(図5では上方)に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体94と、を備えている。各接続針92は、配管アダプタ(図示省略)を介して、機能液タンクから延びる機能液チューブに接続されており、機能液滴吐出ヘッド81は、各接続針92から機能液の供給を受けるようになっている。   As shown in FIG. 5, the functional liquid droplet ejection head 81 is a so-called double type, a functional liquid introduction unit 91 having two connection needles 92, and a dual head substrate connected to the functional liquid introduction unit 91. 93, and a head main body 94 which is connected to the lower side (upper side in FIG. 5) of the functional liquid introduction portion 91 and has an in-head flow path filled with the functional liquid therein. Each connection needle 92 is connected to a functional liquid tube extending from the functional liquid tank via a piping adapter (not shown), and the functional liquid droplet ejection head 81 is supplied with the functional liquid from each connection needle 92. It has become.

ヘッド本体94は、2連のポンプ部101(ピエゾ圧電素子)と、共晶メッキ(黒色)が施されたステンレス板からなり、ノズル面103を有する方形のノズルプレート102と、で構成されている。ノズル面103には、多数(180個)のノズル105からなるノズル列104が2列形成されている。そして、機能液滴吐出ヘッド81は、ポンプ部101の作用によりノズル105から機能液を吐出するようになっている。なお、ノズル面103がワークWの表面に対して傾いてメインキャリッジ26(キャリッジ本体111)に搭載されている場合、ノズル面103の4隅となる4箇所の測定箇所106のうちの1箇所がノズル面103のうち最も下方に位置する箇所となる。詳細は後述するが、各機能液滴吐出ヘッド81の4箇所の測定箇所106(計12箇所)について、ギャップ調整装置28のノズル面用距離センサ181により上下方向の位置が測定される。   The head main body 94 is composed of two pump parts 101 (piezo piezoelectric elements) and a rectangular nozzle plate 102 having a nozzle face 103 made of a stainless steel plate with eutectic plating (black). . On the nozzle surface 103, two rows of nozzle rows 104 composed of a large number (180) of nozzles 105 are formed. The functional liquid droplet ejection head 81 ejects functional liquid from the nozzle 105 by the action of the pump unit 101. When the nozzle surface 103 is inclined with respect to the surface of the workpiece W and mounted on the main carriage 26 (carriage main body 111), one of the four measurement points 106 serving as the four corners of the nozzle surface 103 is This is the lowest position on the nozzle surface 103. Although details will be described later, the position in the vertical direction is measured by the nozzle surface distance sensor 181 of the gap adjusting device 28 at four measurement locations 106 (12 locations in total) of each functional liquid droplet ejection head 81.

図6に示すように、メインキャリッジ26は、上記のヘッドユニット27を着脱自在に搭載するキャリッジ本体111と、キャリッジ本体111を吊設するように保持したヘッド調整機構112と、停電時など装置の非常停止時に、ヘッドユニット27が自身の重みで下がることを防止するため、3本の引張りばね114を有するヘッドバランス機構113と、で構成されている。メインキャリッジ26は、Y軸テーブル24に移動自在に取り付けられているが、Y軸テーブル24への取付け姿勢を調整するための上下一対の姿勢調整ねじ116を有する姿勢調整機構115により、ヘッドプレート82に搭載された機能液滴吐出ヘッド81のノズル面103の平行度を全体として調整することができるようになっている。   As shown in FIG. 6, the main carriage 26 includes a carriage main body 111 on which the head unit 27 is detachably mounted, a head adjustment mechanism 112 that holds the carriage main body 111 so as to be suspended, and a device such as a power failure. In order to prevent the head unit 27 from being lowered by its own weight during an emergency stop, the head balance mechanism 113 having three tension springs 114 is included. The main carriage 26 is movably attached to the Y-axis table 24, but the head plate 82 is provided by a posture adjustment mechanism 115 having a pair of upper and lower posture adjustment screws 116 for adjusting the posture of attachment to the Y-axis table 24. It is possible to adjust the parallelism of the nozzle surface 103 of the functional liquid droplet ejection head 81 mounted on the whole as a whole.

図7に示すように、キャリッジ本体111は、ヘッドユニット27を吊設支持するヘッドホルダ121と、ヘッドホルダ121の上部に配設された一対のあおり調整機構122と、を備えている。   As shown in FIG. 7, the carriage body 111 includes a head holder 121 that suspends and supports the head unit 27, and a pair of tilt adjustment mechanisms 122 disposed on the top of the head holder 121.

一対のあおり調整機構122は、それぞれあおり調整ねじ123を有しており、このあおり調整ねじ123を上下させることにより、ヘッドホルダ121の支持姿勢(あおり)が調整される。すなわち、一対のあおり調整機構122により、ヘッドホルダ121に搭載された3個の機能液滴吐出ヘッド81のノズル面103の平行度を全体として調整することができるようになっている。   Each of the pair of tilt adjusting mechanisms 122 has a tilt adjusting screw 123, and the support posture (tilting) of the head holder 121 is adjusted by moving the tilt adjusting screw 123 up and down. That is, the parallelism of the nozzle surfaces 103 of the three functional liquid droplet ejection heads 81 mounted on the head holder 121 can be adjusted as a whole by the pair of tilt adjustment mechanisms 122.

ヘッド調整機構112は、キャリッジ本体111を吊設支持し、キャリッジ本体111を介してヘッドユニット27を回転させるヘッド回転機構131(回転手段)と、ヘッド回転手段を吊設支持し、ヘッド回転機構131を介して、ヘッドユニット27を昇降させるヘッド昇降機構132(Z軸移動手段)と、を備えている。   The head adjustment mechanism 112 suspends and supports the carriage main body 111, rotates the head unit 27 via the carriage main body 111, and suspends and supports the head rotation means, and the head rotation mechanism 131. And a head lifting / lowering mechanism 132 (Z-axis moving means) that lifts and lowers the head unit 27.

ヘッド回転機構131は、ヘッドユニット27を、メインキャリッジ26の軸心であるθ軸を中心に回転させることにより、X・Y平面内(ワークWの表面と平行な面内)における機能液滴吐出ヘッド81の向きを自在に変更させるものであり、ワークWの種類に合わせて、ノズル105のノズル間隔や機能液滴の塗布密度を調節する場合や、ギャップ調整装置28のノズル面用距離センサ181に対応させて、機能液滴吐出ヘッド81の向きを変更する場合等に用いられる。   The head rotating mechanism 131 rotates the head unit 27 around the θ axis that is the axis of the main carriage 26, thereby discharging functional liquid droplets in the XY plane (in a plane parallel to the surface of the workpiece W). The direction of the head 81 is freely changed. When adjusting the nozzle interval of the nozzle 105 and the application density of the functional liquid droplets according to the type of the work W, or the nozzle surface distance sensor 181 of the gap adjusting device 28. This is used when the direction of the functional liquid droplet ejection head 81 is changed corresponding to the above.

図8に示すように、ヘッド回転機構131は、ヘッドホルダ93を吊下げるように支持する吊設部材141と、吊設部材141を回転自在に支持するヘッド支持フレーム142と、吊設部材141を介し、ヘッドホルダ93に搭載されたヘッドユニット27(機能液滴吐出ヘッド81)を回転させるためのヘッド回転モータ143と、ヘッド回転モータ143の動力を吊設部材141に伝達する動力伝達機構144(ハーモニックドライブ)と、を備えており、動力伝達機構144を介して、吊設部材141をθ軸を中心に回転させる。そして、ヘッドユニット27は、その軸心がθ軸と一致するように、キャリッジ本体111に搭載されているため、この吊設部材141の回転により、ヘッドユニット27がその軸心を中心に回転する。   As shown in FIG. 8, the head rotating mechanism 131 includes a suspension member 141 that supports the head holder 93 so as to suspend, a head support frame 142 that rotatably supports the suspension member 141, and a suspension member 141. Via the head rotation motor 143 for rotating the head unit 27 (functional liquid droplet ejection head 81) mounted on the head holder 93, and the power transmission mechanism 144 (which transmits the power of the head rotation motor 143 to the suspension member 141). Harmonic drive), and the suspension member 141 is rotated about the θ axis via the power transmission mechanism 144. Since the head unit 27 is mounted on the carriage body 111 so that its axis coincides with the θ-axis, the rotation of the suspension member 141 causes the head unit 27 to rotate around the axis. .

このように、ヘッド回転機構131は、ヘッド昇降機構132とキャリッジ本体111とを相互に連結すると共に、キャリッジ本体111を介してヘッドユニット27をX・Y平面内において正逆回転させる。これにより、ヘッドユニット27の初期位置決め段階において、ヘッドユニット27をθ軸方向に位置補正することができる。また、詳細は後述するが、ヘッド回転機構131は、機能液滴吐出ヘッド81のノズル面103の四隅となる4箇所を、ギャップ調整装置28のノズル面用距離センサ181に臨ませるときにも使用される。なお、ヘッド支持フレーム142には、アーム部材145を介して、ギャップ調整装置28のワーク厚さ用距離センサ182(後述する)が取り付けられている。   As described above, the head rotating mechanism 131 connects the head lifting mechanism 132 and the carriage body 111 to each other, and rotates the head unit 27 forward and backward in the XY plane via the carriage body 111. Thereby, the position of the head unit 27 can be corrected in the θ-axis direction at the initial positioning stage of the head unit 27. As will be described in detail later, the head rotating mechanism 131 is also used when the four corners of the nozzle surface 103 of the functional liquid droplet ejection head 81 are caused to face the nozzle surface distance sensor 181 of the gap adjusting device 28. Is done. Note that a workpiece thickness distance sensor 182 (described later) of the gap adjusting device 28 is attached to the head support frame 142 via an arm member 145.

本実施形態では、ヘッドユニット27に搭載された機能液滴吐出ヘッド81の姿勢がY軸方向に対して平行となる位置を所定のヘッド基準位置として、ヘッドユニット27がメインキャリッジ26に取り付けられており、ヘッドユニット27を、この所定のヘッド基準位置である0°から±90°の範囲で回動させるようになっている。   In the present embodiment, the head unit 27 is attached to the main carriage 26 with the position where the posture of the functional liquid droplet ejection head 81 mounted on the head unit 27 is parallel to the Y-axis direction as a predetermined head reference position. Thus, the head unit 27 is rotated in the range of 0 ° to ± 90 ° which is the predetermined head reference position.

ヘッド昇降機構132は、ヘッド回転機構131およびキャリッジ本体111を介してヘッドユニット27を昇降させるものであり、メンテナンス装置12の各ユニットに対応させて、機能液滴吐出ヘッド81のノズル面103を適切な所定の高さ位置に調節する他、ワークギャップを微調整する昇降手段としても用いられる。   The head lifting mechanism 132 lifts and lowers the head unit 27 via the head rotating mechanism 131 and the carriage body 111. The nozzle surface 103 of the functional liquid droplet ejection head 81 is appropriately set in correspondence with each unit of the maintenance device 12. In addition to adjusting to a predetermined height position, it is also used as an elevating means for finely adjusting the work gap.

図9に示すように、ヘッド昇降機構132は、ヘッド回転機構131を支持する左右一対の支持ブロック151と、左右一対の支持ブロック151を上下方向にスライド自在に支持する昇降ブロック152と、支持ブロック151の移動を案内する左右一対のヘッド昇降ガイド153と、昇降ブロック152に螺合したヘッド昇降ボールねじ154と、ヘッド昇降ボールねじ154の一端に連結したヘッド昇降モータ155(ブレーキ付サーボモータ)と、で構成されている。そして、ヘッド昇降モータ155が正逆回転すると、昇降ブロック152を介して支持ブロック151が昇降し、ヘッドユニット27(機能液滴吐出ヘッド81)が上下方向に移動するようになっている。   As shown in FIG. 9, the head lifting mechanism 132 includes a pair of left and right support blocks 151 that support the head rotation mechanism 131, a lift block 152 that supports the pair of left and right support blocks 151 slidably in the vertical direction, and a support block 151, a pair of left and right head lifting guides 153 for guiding the movement of 151, a head lifting ball screw 154 screwed to the lifting block 152, and a head lifting motor 155 (servo motor with brake) connected to one end of the head lifting ball screw 154. , Is composed of. When the head lifting / lowering motor 155 rotates in the forward / reverse direction, the support block 151 is lifted / lowered via the lifting / lowering block 152, and the head unit 27 (functional liquid droplet ejection head 81) moves in the vertical direction.

以上に述べたように、ヘッドプレート82に搭載された3個の機能液滴吐出ヘッド81は、キャリッジ本体111およびヘッド調整機構112を介して、Y軸テーブルによりY軸方向に移動可能となっている。そして、姿勢調整機構115およびあおり調整機構122により、機能液滴吐出ヘッド81のノズル面103の平行度を全体として調整することができるようになっている。一方、各機能液滴吐出ヘッド81は、その構造上のバラツキや組付け構造のバラツキに基づいて、ヘッドプレート82に対して傾いて搭載されていたり、交換時にノズル面103の上下方向の位置が変更されたり、3個の機能液滴吐出ヘッド81が相互に上下方向に位置ずれしてヘッドプレート82に搭載されていたりすることから、ノズル面103が上下方向に位置ずれしている。そのため、例えばワークWを吸着テーブル25にセットする毎に、ギャップ調整装置28によりノズル面103の上下方向の位置ずれを正確に測定することで、ノズル面103がワークWの表面に接触することを防止している(詳細は後述する)。   As described above, the three functional liquid droplet ejection heads 81 mounted on the head plate 82 can be moved in the Y-axis direction by the Y-axis table via the carriage body 111 and the head adjustment mechanism 112. Yes. The parallelism of the nozzle surface 103 of the functional liquid droplet ejection head 81 can be adjusted as a whole by the attitude adjustment mechanism 115 and the tilt adjustment mechanism 122. On the other hand, each functional liquid droplet ejection head 81 is mounted to be inclined with respect to the head plate 82 based on the structural variation or the variation of the assembly structure, or the vertical position of the nozzle surface 103 is changed during replacement. Since the three functional liquid droplet ejection heads 81 are shifted in the vertical direction and mounted on the head plate 82, the nozzle surface 103 is shifted in the vertical direction. Therefore, for example, every time the workpiece W is set on the suction table 25, the gap adjustment device 28 accurately measures the vertical displacement of the nozzle surface 103 so that the nozzle surface 103 contacts the surface of the workpiece W. (Details will be described later).

ここで、描画装置11の一連の動作について簡単に説明する。まず、機能液を吐出する前の準備として、ワークWにワーク認識カメラ30を臨ませ、吸着テーブル25にセットされたワークWの位置補正を行うと共に、ヘッド認識カメラ29およびヘッドユニット27を移動させてヘッド認識カメラ29にヘッドユニット27を臨ませ、ヘッド認識カメラ29により、ヘッドユニット27の位置補正を行う。   Here, a series of operations of the drawing apparatus 11 will be briefly described. First, as a preparation before discharging the functional liquid, the workpiece recognition camera 30 faces the workpiece W, the position of the workpiece W set on the suction table 25 is corrected, and the head recognition camera 29 and the head unit 27 are moved. Then, the head unit 27 faces the head recognition camera 29, and the position of the head unit 27 is corrected by the head recognition camera 29.

次に、ギャップ調整装置28により、ワークギャップを微調整する(詳細は後述する)。また、ヘッド回転機構131により、ヘッドユニット27を回転させて、ノズル列104の列方向がY軸方向に対して平行になるように機能液滴吐出ヘッド81の向きを調整する。   Next, the work gap is finely adjusted by the gap adjusting device 28 (details will be described later). Further, the head rotating mechanism 131 rotates the head unit 27 to adjust the orientation of the functional liquid droplet ejection head 81 so that the row direction of the nozzle row 104 is parallel to the Y-axis direction.

続いて、X軸テーブル23が、ワークWを主走査(X軸)方向に往動させる。ワークWの往動と同期して、機能液滴吐出ヘッド81が選択的に駆動され、ワークWに対する機能液の選択的な吐出動作が行われる。ワークWが一往動すると、Y軸テーブル24は、メインキャリッジ26を副走査(Y軸)方向に移動させる。そして、X軸テーブル23により、ワークWを復動させると共に、これと同期して機能液滴吐出ヘッド81の選択的な駆動を行う。ワークWの一復動が終了すると、Y軸テーブル24により、メインキャリッジ26を副走査させる。そしてこれを、数回繰り返すことで、ワークWの端から端まで(全領域)の描画が行われる。   Subsequently, the X-axis table 23 moves the workpiece W forward in the main scanning (X-axis) direction. In synchronization with the forward movement of the work W, the functional liquid droplet ejection head 81 is selectively driven, and the functional liquid is selectively ejected onto the work W. When the workpiece W moves once, the Y-axis table 24 moves the main carriage 26 in the sub-scanning (Y-axis) direction. Then, the work W is moved backward by the X-axis table 23, and the functional liquid droplet ejection head 81 is selectively driven in synchronization with the work W. When the backward movement of the work W is completed, the main carriage 26 is sub-scanned by the Y-axis table 24. Then, by repeating this several times, drawing of the work W from end to end (entire area) is performed.

一方、メンテナンス装置12は、図1に示すように、機能液滴吐出ヘッド81から予備吐出された機能液を受けるためのフラッシングユニット161と、機能液滴吐出ヘッド81のポンプ吸引を行う吸引ユニット162と、機能液滴吐出ヘッド81のノズル面103に付着する汚れを払拭するためのワイピングユニット163と、機能液滴吐出ヘッド81から吐出される機能液の吐出状態を検査するための吐出検査ユニット164と、機能液滴吐出ヘッド81から吐出された機能液の重量を測定する重量測定ユニット165と、を備えている。フラッシングユニット161、吸引ユニット162、ワイピングユニットおよび吐出検査ユニット164は、X軸テーブル23の図示の左側に配設され、重量測定ユニット165は、X軸テーブル23の図示の右側に配設されている。そして、これら各ユニットは、Y軸方向に移動するヘッドユニット27の移動軌跡上に配設されており、Y軸テーブル24によるヘッドユニット27の移動を利用して、ヘッドユニット27に臨み、ヘッド昇降機構132によりノズル面103との距離が調整された後、保守に供するようになっている。なお、ワークWに対して機能液を吐出させる直前に行う吐出前フラッシング用に、吸着テーブル25の前後には、吐出前フラッシングユニット166,166がそれぞれ設けられている。   On the other hand, as shown in FIG. 1, the maintenance device 12 includes a flushing unit 161 for receiving the functional liquid preliminarily discharged from the functional liquid droplet ejection head 81, and a suction unit 162 for performing pump suction of the functional liquid droplet ejection head 81. A wiping unit 163 for wiping off dirt adhering to the nozzle surface 103 of the functional liquid droplet ejection head 81, and an ejection inspection unit 164 for inspecting the ejection state of the functional liquid ejected from the functional liquid droplet ejection head 81. And a weight measuring unit 165 for measuring the weight of the functional liquid ejected from the functional liquid droplet ejection head 81. The flushing unit 161, the suction unit 162, the wiping unit, and the discharge inspection unit 164 are disposed on the left side of the X-axis table 23, and the weight measurement unit 165 is disposed on the right side of the X-axis table 23. . These units are arranged on the movement trajectory of the head unit 27 that moves in the Y-axis direction, and use the movement of the head unit 27 by the Y-axis table 24 to face the head unit 27 and move the head up and down. After the distance from the nozzle surface 103 is adjusted by the mechanism 132, it is used for maintenance. Note that pre-discharge flushing units 166 and 166 are provided before and after the suction table 25 for pre-discharge flushing performed immediately before the functional liquid is discharged to the workpiece W, respectively.

また、X軸テーブル23の図示の左側には、吸引ユニット162および吐出検査ユニット164を支持する共通支持フレーム171がX軸テーブル23と横並びに設置されている。図10に示すように、共通支持フレーム171は、石定盤22上に設置したベース部172と、ベース部172の長手方向の一端に立設したスタンド部173とを有しており、ベース部172は吐出検査ユニット164を載置し、スタンド部173は吸引ユニット162を支持する吸引ユニット支持台174を載置している。なお、吸引ユニット支持台174には、Y軸方向に延びたセンサ支持部材175を介して、平面視長方形のノズル面用距離センサ181が配設されている。   A common support frame 171 that supports the suction unit 162 and the discharge inspection unit 164 is installed side by side with the X-axis table 23 on the left side of the X-axis table 23 in the drawing. As shown in FIG. 10, the common support frame 171 includes a base portion 172 installed on the stone surface plate 22 and a stand portion 173 erected on one end in the longitudinal direction of the base portion 172. Reference numeral 172 denotes a discharge inspection unit 164, and the stand portion 173 places a suction unit support base 174 that supports the suction unit 162. The suction unit support 174 is provided with a nozzle surface distance sensor 181 having a rectangular shape in plan view via a sensor support member 175 extending in the Y-axis direction.

続いて、図11および図12を参照して、本実施形態のギャップ調整装置28について詳細に説明する。ギャップ調整装置28は、上記の吸引ユニット支持台174に配設され、ノズル面103の複数の箇所との距離を測定するノズル面用距離センサ181と、上記のヘッド支持フレーム142に取り付けられ、ワークの厚さを測定するワーク厚さ用距離センサ182と、上記の吸着テーブル25に配設されたキャリブレーション用治具183と、を備えている。さらに、ギャップ調整装置28は、ノズル面103の複数の測定箇所106をノズル面用距離センサ181に順に臨ませるように、機能液滴吐出ヘッド81をワークWの平面と平行な平面内において移動させるギャップ測定系移動機構と、機能液滴吐出ヘッド81をワークWに対して上下方向に移動させてワークギャップを微調整する昇降手段と、機能液滴吐出ヘッド81をワークWの表面に平行な平面内において回転させる回転手段と、ノズル面用距離センサ181の測定結果に基づき昇降手段を制御する制御手段と、を備え、上記のY軸テーブル24およびヘッド回転機構131、ヘッド昇降機構132ホスト・コンピュータ3を、それぞれ移動手段および回転手段(ギャップ測定系移動機構)、昇降手段、制御手段として機能させている。なお、ノズル面用距離センサ181は、上下方向にキャリブレーション用治具183を挟んでヘッドユニット27に対向するように配設されている。   Subsequently, the gap adjusting device 28 of the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 11 and 12. The gap adjusting device 28 is disposed on the suction unit support base 174 and is attached to the nozzle surface distance sensor 181 for measuring the distance from a plurality of locations on the nozzle surface 103 and the head support frame 142. A workpiece thickness sensor 182 for measuring the thickness of the workpiece and a calibration jig 183 disposed on the suction table 25 are provided. Further, the gap adjusting device 28 moves the functional liquid droplet ejection head 81 in a plane parallel to the plane of the workpiece W so that the plurality of measurement points 106 of the nozzle surface 103 are sequentially faced to the nozzle surface distance sensor 181. A gap measuring system moving mechanism, lifting means for finely adjusting the work gap by moving the functional liquid droplet ejection head 81 in the vertical direction with respect to the work W, and a plane parallel to the surface of the work W. And a control means for controlling the lifting / lowering means based on the measurement result of the nozzle surface distance sensor 181. The Y-axis table 24, the head rotating mechanism 131, and the head lifting / lowering mechanism 132 are host computers. 3 function as moving means and rotating means (gap measurement system moving mechanism), elevating means and control means, respectively. . The nozzle surface distance sensor 181 is arranged so as to face the head unit 27 with the calibration jig 183 sandwiched in the vertical direction.

ノズル面用距離センサ181は、吸着テーブル25の表面の上下方向の位置をゼロ点とし、ノズル面103の4隅となる4箇所の測定箇所106、すなわち、3個の機能液滴吐出ヘッド81について12箇所の測定箇所106の上下方向の位置を測定するものであって、レーザ光の反射を利用して上記の各位置を精度よく測定する。また、ノズル面103の4隅となる4箇所の測定箇所106のうちの1箇所がノズル面103のうち最も下方に位置する箇所であることから、距離測定手段により、ノズル面103のうち最も下方に位置する箇所を確実に測定することができる。この測定結果はホスト・コンピュータ3に出力され、ホスト・コンピュータ3により複数の測定結果の最も近い位置が判定される。なお、測定箇所の個数や位置は任意であって、例えば、各機能液滴吐出ヘッド81がメインキャリッジ26(ヘッドプレート82)に対して平行に精度よく搭載されている場合には、各ノズル面103の任意の1箇所の上下方向の位置を測定すればよい。   The nozzle surface distance sensor 181 sets the vertical position of the surface of the suction table 25 as the zero point, and the four measurement points 106 that are the four corners of the nozzle surface 103, that is, the three functional liquid droplet ejection heads 81. It measures the vertical positions of the twelve measurement points 106, and accurately measures each of the above-mentioned positions using the reflection of laser light. In addition, since one of the four measurement locations 106 that are the four corners of the nozzle surface 103 is the lowest position of the nozzle surface 103, the distance measurement means causes the lowest measurement of the nozzle surface 103. It is possible to reliably measure the location located in the area. This measurement result is output to the host computer 3, and the host computer 3 determines the closest position of the plurality of measurement results. The number and position of the measurement locations are arbitrary. For example, when each functional liquid droplet ejection head 81 is accurately mounted in parallel to the main carriage 26 (head plate 82), each nozzle surface What is necessary is just to measure the position of the up-down direction of arbitrary one of 103.

また、ノズル面用距離センサ181が新設または交換された場合等には、ノズル面用距離センサ181によりキャリブレーション用治具183の第1測定基準面192(後述する)との上下方向の第1基準距離の測定が行われる。この場合、第1測定基準面192とワークWの表面との間の寸法は管理されており、この測定結果はホスト・コンピュータ3に出力され、ホスト・コンピュータ3により第1基準距離に基づいてノズル面用距離センサ181のゼロ点補正が行われる。したがって、ノズル面用距離センサ181を新設または交換した場合であっても、ノズル面用距離センサ181のゼロ点補正が行われるため、ノズル面用距離センサ181による測定結果が、測定面に対するレーザ光の反射率による影響を受けることがないため、ノズル面用距離センサ181によるノズル面103の複数の測定箇所106との距離の測定結果に対して、正確なゼロ点補正を行うことができる。   In addition, when the nozzle surface distance sensor 181 is newly installed or replaced, the nozzle surface distance sensor 181 causes the first vertical measurement surface 192 (to be described later) of the calibration jig 183 to be first in the vertical direction. A reference distance is measured. In this case, the dimension between the first measurement reference surface 192 and the surface of the workpiece W is controlled, and this measurement result is output to the host computer 3, and the host computer 3 generates a nozzle based on the first reference distance. The zero point correction of the surface distance sensor 181 is performed. Therefore, even when the nozzle surface distance sensor 181 is newly installed or replaced, the zero point correction of the nozzle surface distance sensor 181 is performed, so that the measurement result by the nozzle surface distance sensor 181 is the laser beam for the measurement surface. Therefore, accurate zero point correction can be performed on the measurement result of the distance from the plurality of measurement points 106 on the nozzle surface 103 by the nozzle surface distance sensor 181.

ノズル面用距離センサ181は、ヘッド回転機構131を駆動して、ノズル列の列方向がY軸方向と平行(所定のヘッド基準位置に対して+90°の位置)となるようにヘッドユニット27を回転させ、各ノズル面103の一方の短辺側をノズル面用距離センサ181上に位置させる。次に、3個の機能液滴吐出ヘッド81の各ノズル面103の4隅となる12箇所の測定箇所106のうち、各ノズル面103の一方の短辺の両端となる6箇所の測定箇所106を、Y軸テーブル24によりノズル面用距離センサ181に順に臨ませ、6箇所の測定箇所106の上下方向の位置が測定される。続いて、ヘッド回転機構131により、ヘッドユニット27をθ軸を中心に180°(所定のヘッド基準位置に対して−90°の位置)回転させ、各ノズル面103の他方の短辺側をノズル面用距離センサ181上に位置させる。そして、12箇所の測定箇所106のうち、各ノズル面103の他方の短辺の両端となる6箇所の測定箇所106を、Y軸テーブル24によりノズル面用距離センサ181に順に臨ませ、6箇所の測定箇所106の上下方向の位置が測定される。   The nozzle surface distance sensor 181 drives the head rotation mechanism 131 to adjust the head unit 27 so that the row direction of the nozzle row is parallel to the Y-axis direction (position of + 90 ° with respect to a predetermined head reference position). The nozzle surface 103 is rotated so that one short side of each nozzle surface 103 is positioned on the nozzle surface distance sensor 181. Next, out of 12 measurement points 106 that are four corners of each nozzle surface 103 of the three functional liquid droplet ejection heads 81, six measurement points 106 that are both ends of one short side of each nozzle surface 103. Are sequentially directed to the nozzle surface distance sensor 181 by the Y-axis table 24, and the vertical positions of the six measurement points 106 are measured. Subsequently, the head rotating mechanism 131 rotates the head unit 27 by 180 ° (position of −90 ° with respect to a predetermined head reference position) about the θ axis, and the other short side of each nozzle surface 103 is set to the nozzle. It is located on the surface distance sensor 181. Then, among the 12 measurement points 106, the six measurement points 106 which are the opposite ends of the other short side of each nozzle surface 103 are sequentially exposed to the nozzle surface distance sensor 181 by the Y-axis table 24, and the six measurement points 106 are exposed. The vertical position of the measurement location 106 is measured.

このようにして、3個の機能液滴吐出ヘッド81の各ノズル面103の4隅となる12箇所の測定箇所106の上下方向の位置が測定される。したがって、複数のノズル面用距離センサ181を機能液滴吐出ヘッド81に取り付けた場合のように相互の上下方向の取付け精度が問題となることなく、機能液滴吐出ヘッド81のノズル面103の上下方向の位置ずれを正確に測定することができる。また、描画動作時やメンテナンス動作時に使用されるY軸テーブル24およびヘッド回転機構により、ノズル面103の測定箇所106を容易に距離測定センサに臨ませることができるため、機能液滴吐出ヘッド81をノズル面用距離センサ181に臨ませるための手段をさらに備える必要がなく、液滴吐出装置1全体の構造を単純化することができる。   In this manner, the vertical positions of 12 measurement points 106 that are the four corners of each nozzle surface 103 of the three functional liquid droplet ejection heads 81 are measured. Accordingly, the upper and lower surfaces of the nozzle surface 103 of the functional liquid droplet ejection head 81 are not affected by the mounting accuracy in the vertical direction of each other as in the case where the plurality of nozzle surface distance sensors 181 are attached to the functional liquid droplet ejection head 81. It is possible to accurately measure the displacement in the direction. Further, the Y-axis table 24 and the head rotation mechanism used during the drawing operation and the maintenance operation can easily cause the measurement location 106 of the nozzle surface 103 to face the distance measurement sensor. There is no need to further include means for facing the nozzle surface distance sensor 181, and the entire structure of the droplet discharge device 1 can be simplified.

なお、ノズル面103の複数の測定箇所106をノズル面用距離センサ181に順に臨ませるためには、ノズル面用距離センサ181を吸着テーブル25に配設し、機能液滴吐出ヘッド81およびノズル面用距離センサ181の両方を移動させるようにしてもよい。また、複数のノズル面用距離センサ181を、複数の測定箇所に相当する位置に、上下方向に相互に精度よく配設し、複数のノズル面用距離センサ181により複数の測定箇所106に対する上下方向の位置をそれぞれ測定するようにしてもよい。   In order to cause the plurality of measurement points 106 of the nozzle surface 103 to sequentially face the nozzle surface distance sensor 181, the nozzle surface distance sensor 181 is disposed on the suction table 25, and the functional liquid droplet ejection head 81 and the nozzle surface are arranged. Both the distance sensors 181 for use may be moved. In addition, a plurality of nozzle surface distance sensors 181 are arranged with high accuracy in the vertical direction at positions corresponding to the plurality of measurement locations, and the plurality of nozzle surface distance sensors 181 are arranged in the vertical direction with respect to the plurality of measurement locations 106. Each position may be measured.

また、ノズル面用距離センサ181は、X軸方向に移動する吸着テーブル25の移動軌跡上に位置するため、X軸テーブル23による吸着テーブル25の移動を利用して、キャリブレーション用治具183に臨むようになっている。   Further, since the nozzle surface distance sensor 181 is located on the movement locus of the suction table 25 that moves in the X-axis direction, the movement of the suction table 25 by the X-axis table 23 is used for the calibration jig 183. It comes to face.

ワーク厚さ用距離センサ182は、吸着テーブル25の表面の上下方向の位置をゼロ点とし、ワークWの表面の位置を測定するものであり、レーザ光の反射を利用して上記の位置を精度良く計測する。この測定結果はホスト・コンピュータ3に出力され、ホスト・コンピュータ3によりワークWの厚みが算出される。   The workpiece thickness distance sensor 182 measures the position of the surface of the workpiece W using the vertical position of the surface of the suction table 25 as a zero point, and uses the reflection of laser light to accurately determine the above position. Measure well. This measurement result is output to the host computer 3, and the thickness of the workpiece W is calculated by the host computer 3.

また、ワーク厚さ用距離センサ182が新設または交換された場合等には、ノズル面用距離センサ181同様に、ワーク厚さ用距離センサ182によりキャリブレーション用治具183の第2測定基準面197(後述する)との上下方向の第2基準距離の測定が行われる。この場合、第2測定基準面197とワークWの表面との間の寸法は管理されており、この測定結果はホスト・コンピュータ3に出力され、ホスト・コンピュータ3により第2基準距離に基づいてワーク厚さ用距離センサ182のゼロ点補正が行われる。   When the workpiece thickness sensor 182 is newly installed or replaced, the second measurement reference surface 197 of the calibration jig 183 is measured by the workpiece thickness sensor 182 in the same manner as the nozzle surface sensor 181. Measurement of the second reference distance in the vertical direction (described later) is performed. In this case, the dimension between the second measurement reference surface 197 and the surface of the workpiece W is controlled, and the measurement result is output to the host computer 3, and the host computer 3 outputs the workpiece based on the second reference distance. Zero point correction of the thickness distance sensor 182 is performed.

なお、上下方向の位置を測定・計測するには、本実施形態で用いたノズル面用距離センサ181やワーク厚さ用距離センサ182のようにレーザ光の反射を利用したもの(レーザ距離センサ)の他、画像認識によるセンサや受発光素子からなるフォトセンサ等、各種の測定手段を用いることができる。   In order to measure and measure the position in the vertical direction, a laser beam reflection sensor (laser distance sensor) such as the nozzle surface distance sensor 181 and the workpiece thickness distance sensor 182 used in this embodiment is used. In addition, various measuring means such as a sensor based on image recognition and a photosensor including a light emitting / receiving element can be used.

図12に示すように、キャリブレーション用治具183は、ノズル面用距離センサ181およびワーク厚さ用距離センサ182のゼロ点補正に用いられるものであって、ステンレス板からなる円板状の基準板191と、その上面に同心円状に形成された凹部193に嵌合され、石英ガラスからなる円板状のガラス板196と、を備えている。基準板191は、裏面側の周縁部が段部を介して薄肉に形成され、この段部の部分で半部を没入させるようにして取付穴51(吸着テーブル25の表面)に装着される。基準板191の裏面側は、第1測定基準面192を形成する部位であり、この裏面にはノズルプレート102と同様の共晶メッキ(黒色)が施されている。ガラス板196は、その表面が第2測定基準面197となっており、基準板191の表面と面一になるように凹部193に嵌め込まれている。凹部193の周囲に位置して、基準板191には4個のねじ穴195が周方向に均等間隔で形成されており、これらのねじ穴195に螺合する4個のねじ(図示省略)の座面により、ガラス板196を凹部193上に4箇所で固定するようになっている。   As shown in FIG. 12, the calibration jig 183 is used for zero point correction of the nozzle surface distance sensor 181 and the workpiece thickness distance sensor 182, and is a disc-shaped reference made of a stainless steel plate. A plate 191 and a disk-shaped glass plate 196 made of quartz glass are fitted in a concave portion 193 formed concentrically on the upper surface thereof. The reference plate 191 is attached to the mounting hole 51 (the surface of the suction table 25) so that the peripheral portion on the back surface side is formed thin through a step portion, and the half portion is immersed in the step portion. The back surface side of the reference plate 191 is a part where the first measurement reference surface 192 is formed, and eutectic plating (black) similar to the nozzle plate 102 is applied to this back surface. The surface of the glass plate 196 is a second measurement reference surface 197 and is fitted in the recess 193 so as to be flush with the surface of the reference plate 191. Positioned around the recess 193, four screw holes 195 are formed in the reference plate 191 at equal intervals in the circumferential direction, and four screws (not shown) screwed into these screw holes 195 are formed. The glass plate 196 is fixed on the recess 193 at four locations by the seating surface.

キャリブレーション用治具183は、第1測定基準面192が下方を向き、第2測定基準面が上方を向くように、取付穴51に配設されている。また、第1測定基準面192は、吸着テーブル25の表面から基準板191の厚さに相当する距離に位置管理され、第2測定基準面197は、吸着テーブル25の表面からガラス板196の厚さに相当する距離に位置管理されている。この第1測定基準面192、第2測定基準面と吸着テーブル25とのそれぞれの差分は、ホスト・コンピュータ3のデータに加味されている。   The calibration jig 183 is disposed in the mounting hole 51 so that the first measurement reference surface 192 faces downward and the second measurement reference surface faces upward. The position of the first measurement reference surface 192 is managed at a distance corresponding to the thickness of the reference plate 191 from the surface of the suction table 25, and the second measurement reference surface 197 is the thickness of the glass plate 196 from the surface of the suction table 25. The position is managed at a distance corresponding to this. Differences between the first measurement reference plane 192, the second measurement reference plane, and the suction table 25 are added to the data of the host computer 3.

図11において仮想線で示すように、基準板191の第1測定基準面192は、ノズル面用距離センサ181のゼロ点補正を行う際に基準となるものであって、ノズル面用距離センサ181により第1測定基準面192にレーザ光が照射され、第1基準距離の測定が行われる。この第1基準距離と、吸着テーブル25の表面から第1測定基準面192までの距離(基準板191の厚さ)とから、吸着テーブル25の表面の上下方向の位置がゼロ点となるようにゼロ点補正が行われる。基準板191は、ノズルプレート102と同様に共結メッキが施されたステンレス板からなるため、その第1測定基準面192は、ノズル面103に対するレーザ光の反射率と略等しい反射率を有している。したがって、ノズル面用距離センサ181による測定結果が、測定面に対するレーザ光の反射率による影響を受けることがなく、ノズル面103と第1測定基準面192とを同一条件下で測定することができ、ノズル面用距離センサ181によるノズル面103との距離の測定結果に対して、正確なゼロ点補正を行うことができる。   11, the first measurement reference surface 192 of the reference plate 191 serves as a reference when the zero point correction of the nozzle surface distance sensor 181 is performed, and the nozzle surface distance sensor 181 is used as a reference. As a result, the first measurement reference plane 192 is irradiated with laser light, and the first reference distance is measured. Based on the first reference distance and the distance from the surface of the suction table 25 to the first measurement reference surface 192 (the thickness of the reference plate 191), the vertical position of the surface of the suction table 25 becomes a zero point. Zero point correction is performed. Since the reference plate 191 is made of a stainless steel plate that has been subjected to co-plating similarly to the nozzle plate 102, the first measurement reference surface 192 has a reflectance that is substantially equal to the reflectance of the laser beam with respect to the nozzle surface 103. ing. Therefore, the measurement result by the nozzle surface distance sensor 181 is not affected by the reflectance of the laser beam with respect to the measurement surface, and the nozzle surface 103 and the first measurement reference surface 192 can be measured under the same conditions. Thus, accurate zero point correction can be performed on the measurement result of the distance from the nozzle surface 103 by the nozzle surface distance sensor 181.

基準板191の第2測定基準面197は、第1測定基準面192と同様に、ワーク厚さ用距離センサ182のゼロ点補正を行う際に基準となるものであって、ワーク厚さ用距離センサ182により第2測定基準面197にレーザ光が照射され、第2基準距離の測定が行われる。第2測定基準面197はガラス板196に形成されているため、ワークW(石英のガラス基板)に対するレーザ光の反射率と略等しい反射率を有している。したがって、ワーク厚さ用距離センサ182による測定結果が、測定面に対するレーザ光の反射率による影響を受けることがなく、ワークWの表面と第2測定基準面197とを同一条件下で測定することができ、ワーク厚さ用距離センサ182によるワークWの表面との距離の測定結果に対して、正確なゼロ点補正を行うことができる。   Similar to the first measurement reference surface 192, the second measurement reference surface 197 of the reference plate 191 serves as a reference when the zero point correction of the workpiece thickness distance sensor 182 is performed, and is a workpiece thickness distance. The sensor 182 irradiates the second measurement reference surface 197 with laser light, and the second reference distance is measured. Since the second measurement reference surface 197 is formed on the glass plate 196, the second measurement reference surface 197 has a reflectance substantially equal to the reflectance of the laser beam with respect to the workpiece W (quartz glass substrate). Therefore, the measurement result by the workpiece thickness distance sensor 182 is not affected by the reflectance of the laser beam with respect to the measurement surface, and the surface of the workpiece W and the second measurement reference surface 197 are measured under the same conditions. Therefore, accurate zero point correction can be performed on the measurement result of the distance from the surface of the workpiece W by the workpiece thickness sensor 182.

図11に示すように、ホスト・コンピュータ3は、ノズル面用距離センサ181およびワーク厚さ用距離センサ182の測定結果に基づいて、ヘッド昇降機構132の昇降動作を制御している。ノズル面用距離センサ181およびワーク厚さ用距離センサ182は、上述したように、吸着テーブル25の表面の上下方向の位置をゼロ点とするものであって、その新設または交換時等において、ゼロ点調整が行われている。   As shown in FIG. 11, the host computer 3 controls the lifting operation of the head lifting mechanism 132 based on the measurement results of the nozzle surface distance sensor 181 and the workpiece thickness distance sensor 182. As described above, the nozzle surface distance sensor 181 and the workpiece thickness distance sensor 182 have the vertical position on the surface of the suction table 25 as a zero point, and are zero when newly installed or replaced. Point adjustment has been made.

ノズル面用距離センサ181により3個の機能液滴吐出ヘッド81について12箇所の測定箇所106の上下方向の位置が測定され、その測定結果がホスト・コンピュータ3に送られる。ホスト・コンピュータ3は、12個の測定結果から最小の測定値(最も近い測定箇所106との距離)を選択する。   The nozzle surface distance sensor 181 measures the vertical positions of twelve measurement locations 106 for the three functional liquid droplet ejection heads 81, and sends the measurement results to the host computer 3. The host computer 3 selects the minimum measurement value (distance from the closest measurement point 106) from the 12 measurement results.

また、ワークWが吸着テーブル25にセットされると、ワーク厚さ用距離センサ182によりワークWの表面の上下方向の位置が測定され、その測定結果、すなわちワーク厚さデータがホスト・コンピュータ3に送られる。ホスト・コンピュータ3は、記憶されているワーク厚さデータを更新するデータ更新手段201を有しており、ワークWがセットされる毎にワーク厚さデータが更新される。このため、ワークWの厚さに応じてワークギャップを微調整することができる。   When the workpiece W is set on the suction table 25, the vertical position of the surface of the workpiece W is measured by the workpiece thickness sensor 182, and the measurement result, that is, the workpiece thickness data is sent to the host computer 3. Sent. The host computer 3 has data updating means 201 for updating the stored workpiece thickness data, and the workpiece thickness data is updated every time the workpiece W is set. For this reason, the work gap can be finely adjusted according to the thickness of the work W.

ホスト・コンピュータ3は、データ更新手段201により更新されたワーク厚さデータと、選択した最小の測定値とから、その最も近い測定箇所106とワークWの表面との離間距離を演算する。そして、ホスト・コンピュータ3は、演算された離間距離が設定したワークギャップ(例えば、0.15mm)となるように、ヘッド昇降機構132を駆動し、ヘッドユニット27(ノズル面103)を昇降させて、ヘッドギャップが微調整される。したがって、ノズル面用距離センサ181による12個の測定結果の最も近い位置とワークWの表面との離間距離が設定したワークギャップとなるため、ノズル面103がワークWの表面に接触することがない。
なお、ワークギャップを微調整するためには、ワークWを上下させてもよく、ヘッドユニット27およびワークWの両者を上下させてもよい。
The host computer 3 calculates the distance between the closest measurement location 106 and the surface of the workpiece W from the workpiece thickness data updated by the data updating means 201 and the selected minimum measurement value. Then, the host computer 3 drives the head elevating mechanism 132 to raise and lower the head unit 27 (nozzle surface 103) so that the calculated separation distance becomes a set work gap (for example, 0.15 mm). The head gap is finely adjusted. Accordingly, since the distance between the closest position of the 12 measurement results obtained by the nozzle surface distance sensor 181 and the surface of the workpiece W is a set work gap, the nozzle surface 103 does not contact the surface of the workpiece W. .
In order to finely adjust the work gap, the work W may be moved up and down, or both the head unit 27 and the work W may be moved up and down.

次に、本実施形態の液滴吐出装置1を用いて製造される電気光学装置(フラットパネルディスプレイ)として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機EL装置、PDP装置、電子放出装置(FED装置、SED装置)等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。   Next, as an electro-optical device (flat panel display) manufactured using the droplet discharge device 1 of the present embodiment, a color filter, a liquid crystal display device, an organic EL device, a PDP device, an electron emission device (FED device, SED). The structure and the manufacturing method thereof will be described by taking a device) as an example.

まず、液晶表示装置や有機EL装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図13は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図14は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ500(フィルタ基体500A)の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程(S1)では、図14(a)に示すように、基板(W)501上にブラックマトリクス502を形成する。ブラックマトリクス502は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス502を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス502を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
First, a method for manufacturing a color filter incorporated in a liquid crystal display device, an organic EL device or the like will be described. FIG. 13 is a flowchart showing the manufacturing process of the color filter, and FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of the color filter 500 (filter base body 500A) of this embodiment shown in the order of the manufacturing process.
First, in the black matrix formation step (S1), a black matrix 502 is formed on a substrate (W) 501 as shown in FIG. The black matrix 502 is formed of metal chromium, a laminate of metal chromium and chromium oxide, resin black, or the like. A sputtering method, a vapor deposition method, or the like can be used to form the black matrix 502 made of a metal thin film. Further, when forming the black matrix 502 made of a resin thin film, a gravure printing method, a photoresist method, a thermal transfer method, or the like can be used.

続いて、バンク形成工程(S2)において、ブラックマトリクス502上に重畳する状態でバンク503を形成する。即ち、まず図14(b)に示すように、基板501及びブラックマトリクス502を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層504を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム505で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図14(c)に示すように、レジスト層504の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層504をパターニングして、バンク503を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク503とその下のブラックマトリクス502は、各画素領域507aを区画する区画壁部507bとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド81により着色層(成膜部)508R、508G、508Bを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
Subsequently, in the bank formation step (S2), the bank 503 is formed in a state of being superimposed on the black matrix 502. That is, first, as shown in FIG. 14B, a resist layer 504 made of a negative transparent photosensitive resin is formed so as to cover the substrate 501 and the black matrix 502. Then, an exposure process is performed with the upper surface covered with a mask film 505 formed in a matrix pattern shape.
Further, as shown in FIG. 14C, the resist layer 504 is patterned by etching an unexposed portion of the resist layer 504 to form a bank 503. When the black matrix is formed from resin black, it is possible to use both the black matrix and the bank.
The bank 503 and the black matrix 502 therebelow serve as a partition wall portion 507b that partitions each pixel region 507a, and the colored layer (film forming portions) 508R, 508G, When forming 508B, the landing area of the functional droplet is defined.

以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体500Aが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク503の材料として、塗膜表面が疎液(疎水)性となる樹脂材料を用いている。そして、基板(ガラス基板)501の表面が親液(親水)性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク503(区画壁部507b)に囲まれた各画素領域507a内への液滴の着弾位置精度が向上する。
The filter substrate 500A is obtained through the above black matrix forming step and bank forming step.
In the present embodiment, as the material for the bank 503, a resin material whose surface is lyophobic (hydrophobic) is used. Since the surface of the substrate (glass substrate) 501 is lyophilic (hydrophilic), the droplets into each pixel region 507a surrounded by the bank 503 (partition wall portion 507b) in the colored layer forming step described later. The landing position accuracy is improved.

次に、着色層形成工程(S3)では、図14(d)に示すように、機能液滴吐出ヘッド81によって機能液滴を吐出して区画壁部507bで囲まれた各画素領域507a内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド81を用いて、R・G・Bの3色の機能液(フィルタ材料)を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、R・G・Bの3色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。   Next, in the colored layer forming step (S3), as shown in FIG. 14 (d), functional droplets are ejected by the functional droplet ejection head 81 to enter each pixel region 507a surrounded by the partition wall portion 507b. Make it land. In this case, the functional liquid droplet ejection head 81 is used to introduce functional liquids (filter materials) of three colors of R, G, and B to eject functional liquid droplets. Note that the arrangement pattern of the three colors R, G, and B includes a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement, and the like.

その後、乾燥処理(加熱等の処理)を経て機能液を定着させ、3色の着色層508R、508G、508Bを形成する。着色層508R、508G、508Bを形成したならば、保護膜形成工程(S4)に移り、図14(e)に示すように、基板501、区画壁部507b、および着色層508R、508G、508Bの上面を覆うように保護膜509を形成する。
即ち、基板501の着色層508R、508G、508Bが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜509が形成される。
そして、保護膜509を形成した後、基板501を個々の有効画素領域毎に切断することによって、カラーフィルタ500が得られる。
Thereafter, the functional liquid is fixed through a drying process (a process such as heating), and three colored layers 508R, 508G, and 508B are formed. When the colored layers 508R, 508G, and 508B are formed, the process proceeds to the protective film forming step (S4), and as shown in FIG. 14E, the substrate 501, the partition wall portion 507b, and the colored layers 508R, 508G, and 508B are moved. A protective film 509 is formed so as to cover the upper surface.
That is, after the protective film coating liquid is discharged over the entire surface of the substrate 501 where the colored layers 508R, 508G, and 508B are formed, the protective film 509 is formed through a drying process.
After forming the protective film 509, the color filter 500 is obtained by cutting the substrate 501 for each effective pixel region.

図15は、上記のカラーフィルタ500を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置(液晶装置)の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置520に、液晶駆動用IC、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ500は図14に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。   FIG. 15 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a passive matrix liquid crystal device (liquid crystal device) as an example of a liquid crystal display device using the color filter 500 described above. By attaching auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC, a backlight, and a support to the liquid crystal device 520, a transmissive liquid crystal display device as a final product can be obtained. Since the color filter 500 is the same as that shown in FIG. 14, the corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

この液晶装置520は、カラーフィルタ500、ガラス基板等からなる対向基板521、及び、これらの間に挟持されたSTN(Super Twisted Nematic)液晶組成物からなる液晶層522により概略構成されており、カラーフィルタ500を図中上側(観測者側)に配置している。
なお、図示していないが、対向基板521およびカラーフィルタ500の外面(液晶層522側とは反対側の面)には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板521側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
The liquid crystal device 520 is roughly composed of a color filter 500, a counter substrate 521 made of a glass substrate, and a liquid crystal layer 522 made of STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal composition sandwiched between them, The filter 500 is arranged on the upper side (observer side) in the figure.
Although not shown, polarizing plates are provided on the outer surfaces of the counter substrate 521 and the color filter 500 (surfaces opposite to the liquid crystal layer 522 side), and the polarizing plates located on the counter substrate 521 side are also provided. A backlight is disposed outside.

カラーフィルタ500の保護膜509上(液晶層側)には、図15において左右方向に長尺な短冊状の第1電極523が所定の間隔で複数形成されており、この第1電極523のカラーフィルタ500側とは反対側の面を覆うように第1配向膜524が形成されている。
一方、対向基板521におけるカラーフィルタ500と対向する面には、カラーフィルタ500の第1電極523と直交する方向に長尺な短冊状の第2電極526が所定の間隔で複数形成され、この第2電極526の液晶層522側の面を覆うように第2配向膜527が形成されている。これらの第1電極523および第2電極526は、ITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料により形成されている。
On the protective film 509 of the color filter 500 (on the liquid crystal layer side), a plurality of strip-shaped first electrodes 523 elongated in the left-right direction in FIG. 15 are formed at predetermined intervals. The color of the first electrode 523 A first alignment film 524 is formed so as to cover the surface opposite to the filter 500 side.
On the other hand, a plurality of strip-shaped second electrodes 526 elongated in a direction orthogonal to the first electrode 523 of the color filter 500 are formed on the surface of the counter substrate 521 facing the color filter 500 at a predetermined interval. A second alignment film 527 is formed so as to cover the surface of the two electrodes 526 on the liquid crystal layer 522 side. The first electrode 523 and the second electrode 526 are formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

液晶層522内に設けられたスペーサ528は、液晶層522の厚さ(セルギャップ)を一定に保持するための部材である。また、シール材529は液晶層522内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第1電極523の一端部は引き回し配線523aとしてシール材529の外側まで延在している。
そして、第1電極523と第2電極526とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ500の着色層508R、508G、508Bが位置するように構成されている。
The spacer 528 provided in the liquid crystal layer 522 is a member for keeping the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer 522 constant. The sealing material 529 is a member for preventing the liquid crystal composition in the liquid crystal layer 522 from leaking to the outside. Note that one end of the first electrode 523 extends to the outside of the sealing material 529 as a lead-out wiring 523a.
A portion where the first electrode 523 and the second electrode 526 intersect with each other is a pixel, and the color layers 508R, 508G, and 508B of the color filter 500 are located in the portion that becomes the pixel.

通常の製造工程では、カラーフィルタ500に、第1電極523のパターニングおよび第1配向膜524の塗布を行ってカラーフィルタ500側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板521に、第2電極526のパターニングおよび第2配向膜527の塗布を行って対向基板521側の部分を作成する。その後、対向基板521側の部分にスペーサ528およびシール材529を作り込み、この状態でカラーフィルタ500側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材529の注入口から液晶層522を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。   In a normal manufacturing process, patterning of the first electrode 523 and application of the first alignment film 524 are performed on the color filter 500 to create a portion on the color filter 500 side. Patterning of the electrode 526 and application of the second alignment film 527 are performed to create a portion on the counter substrate 521 side. Thereafter, a spacer 528 and a sealing material 529 are formed in the portion on the counter substrate 521 side, and the portion on the color filter 500 side is bonded in this state. Next, liquid crystal constituting the liquid crystal layer 522 is injected from the inlet of the sealing material 529, and the inlet is closed. Thereafter, both polarizing plates and the backlight are laminated.

実施形態の液滴吐出装置1は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料(機能液)を塗布すると共に、対向基板521側の部分にカラーフィルタ500側の部分を貼り合わせる前に、シール材529で囲んだ領域に液晶(機能液)を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材529の印刷を、機能液滴吐出ヘッド81で行うことも可能である。さらに、第1・第2両配向膜524,527の塗布を機能液滴吐出ヘッド81で行うことも可能である。   The droplet discharge device 1 according to the embodiment applies, for example, a spacer material (functional liquid) that constitutes the cell gap, and before the portion on the color filter 500 side is bonded to the portion on the counter substrate 521 side, the sealing material Liquid crystal (functional liquid) can be uniformly applied to the region surrounded by 529. In addition, the above-described sealing material 529 can be printed by the functional liquid droplet ejection head 81. Furthermore, the first and second alignment films 524 and 527 can be applied by the functional liquid droplet ejection head 81.

図16は、本実施形態において製造したカラーフィルタ500を用いた液晶装置の第2の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置530が上記液晶装置520と大きく異なる点は、カラーフィルタ500を図中下側(観測者側とは反対側)に配置した点である。
この液晶装置530は、カラーフィルタ500とガラス基板等からなる対向基板531との間にSTN液晶からなる液晶層532が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板531およびカラーフィルタ500の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
FIG. 16 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a second example of a liquid crystal device using the color filter 500 manufactured in the present embodiment.
The liquid crystal device 530 is significantly different from the liquid crystal device 520 in that the color filter 500 is arranged on the lower side (the side opposite to the observer side) in the figure.
The liquid crystal device 530 is generally configured by sandwiching a liquid crystal layer 532 made of STN liquid crystal between a color filter 500 and a counter substrate 531 made of a glass substrate or the like. Although not shown, polarizing plates and the like are provided on the outer surfaces of the counter substrate 531 and the color filter 500, respectively.

カラーフィルタ500の保護膜509上(液晶層532側)には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第1電極533が所定の間隔で複数形成されており、この第1電極533の液晶層532側の面を覆うように第1配向膜534が形成されている。
対向基板531のカラーフィルタ500と対向する面上には、カラーフィルタ500側の第1電極533と直交する方向に延在する複数の短冊状の第2電極536が所定の間隔で形成され、この第2電極536の液晶層532側の面を覆うように第2配向膜537が形成されている。
On the protective film 509 of the color filter 500 (on the liquid crystal layer 532 side), a plurality of strip-shaped first electrodes 533 elongated in the depth direction in the figure are formed at predetermined intervals, and the liquid crystal of the first electrodes 533 is formed. A first alignment film 534 is formed so as to cover the surface on the layer 532 side.
A plurality of strip-shaped second electrodes 536 extending in a direction orthogonal to the first electrode 533 on the color filter 500 side are formed on the surface of the counter substrate 531 facing the color filter 500 at a predetermined interval. A second alignment film 537 is formed so as to cover the surface of the second electrode 536 on the liquid crystal layer 532 side.

液晶層532には、この液晶層532の厚さを一定に保持するためのスペーサ538と、液晶層532内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材539が設けられている。
そして、上記した液晶装置520と同様に、第1電極533と第2電極536との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ500の着色層508R、508G、508Bが位置するように構成されている。
The liquid crystal layer 532 is provided with a spacer 538 for keeping the thickness of the liquid crystal layer 532 constant and a sealing material 539 for preventing the liquid crystal composition in the liquid crystal layer 532 from leaking to the outside. Yes.
Similarly to the liquid crystal device 520 described above, a portion where the first electrode 533 and the second electrode 536 intersect with each other is a pixel, and the colored layers 508R, 508G, and 508B of the color filter 500 are located at the portion that becomes the pixel. Is configured to do.

図17は、本発明を適用したカラーフィルタ500を用いて液晶装置を構成した第3の例を示したもので、透過型のTFT(Thin Film Transistor)型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置550は、カラーフィルタ500を図中上側(観測者側)に配置したものである。
FIG. 17 shows a third example in which a liquid crystal device is configured using the color filter 500 to which the present invention is applied, and is an exploded perspective view showing a schematic configuration of a transmissive TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal device. It is.
In the liquid crystal device 550, the color filter 500 is arranged on the upper side (observer side) in the figure.

この液晶装置550は、カラーフィルタ500と、これに対向するように配置された対向基板551と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ500の上面側(観測者側)に配置された偏光板555と、対向基板551の下面側に配設された偏光板(図示せず)とにより概略構成されている。
カラーフィルタ500の保護膜509の表面(対向基板551側の面)には液晶駆動用の電極556が形成されている。この電極556は、ITO等の透明導電材料からなり、後述の画素電極560が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極556の画素電極560とは反対側の面を覆った状態で配向膜557が設けられている。
The liquid crystal device 550 includes a color filter 500, a counter substrate 551 disposed so as to face the color filter 500, a liquid crystal layer (not shown) sandwiched therebetween, and an upper surface side (observer side) of the color filter 500. The polarizing plate 555 and the polarizing plate (not shown) arranged on the lower surface side of the counter substrate 551 are roughly configured.
A liquid crystal driving electrode 556 is formed on the surface of the protective film 509 of the color filter 500 (the surface on the counter substrate 551 side). The electrode 556 is made of a transparent conductive material such as ITO, and is a full surface electrode that covers the entire region where a pixel electrode 560 described later is formed. An alignment film 557 is provided so as to cover the surface of the electrode 556 opposite to the pixel electrode 560.

対向基板551のカラーフィルタ500と対向する面には絶縁層558が形成されており、この絶縁層558上には、走査線561及び信号線562が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線561と信号線562とに囲まれた領域内には画素電極560が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極560上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。   An insulating layer 558 is formed on the surface of the counter substrate 551 facing the color filter 500, and the scanning lines 561 and the signal lines 562 are formed on the insulating layer 558 in a state of being orthogonal to each other. A pixel electrode 560 is formed in a region surrounded by the scanning lines 561 and the signal lines 562. In an actual liquid crystal device, an alignment film is provided on the pixel electrode 560, but the illustration is omitted.

また、画素電極560の切欠部と走査線561と信号線562とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ563が組み込まれて構成されている。そして、走査線561と信号線562に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ563をオン・オフして画素電極560への通電制御を行うことができるように構成されている。   In addition, a thin film transistor 563 including a source electrode, a drain electrode, a semiconductor, and a gate electrode is incorporated in a portion surrounded by the cutout portion of the pixel electrode 560 and the scanning line 561 and the signal line 562. . The thin film transistor 563 is turned on / off by application of signals to the scanning line 561 and the signal line 562 so that energization control to the pixel electrode 560 can be performed.

なお、上記の各例の液晶装置520,530,550は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。   Note that the liquid crystal devices 520, 530, and 550 in the above examples are transmissive, but a reflective liquid crystal device or a transflective liquid crystal device is provided by providing a reflective layer or a transflective layer. You can also.

次に、図18は、有機EL装置の表示領域(以下、単に表示装置600と称する)の要部断面図である。   Next, FIG. 18 is a cross-sectional view of a main part of a display region (hereinafter simply referred to as a display device 600) of the organic EL device.

この表示装置600は、基板(W)601上に、回路素子部602、発光素子部603及び陰極604が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置600においては、発光素子部603から基板601側に発した光が、回路素子部602及び基板601を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部603から基板601の反対側に発した光が陰極604により反射された後、回路素子部602及び基板601を透過して観測者側に出射されるようになっている。
The display device 600 is schematically configured with a circuit element portion 602, a light emitting element portion 603, and a cathode 604 stacked on a substrate (W) 601.
In the display device 600, light emitted from the light emitting element portion 603 to the substrate 601 side is transmitted through the circuit element portion 602 and the substrate 601 and emitted to the observer side, and the light emitting element portion 603 is opposite to the substrate 601. After the light emitted to the side is reflected by the cathode 604, the light passes through the circuit element portion 602 and the substrate 601 and is emitted to the observer side.

回路素子部602と基板601との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜606が形成され、この下地保護膜606上(発光素子部603側)に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜607が形成されている。この半導体膜607の左右の領域には、ソース領域607a及びドレイン領域607bが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域607cとなっている。   A base protective film 606 made of a silicon oxide film is formed between the circuit element portion 602 and the substrate 601, and an island-shaped semiconductor film 607 made of polycrystalline silicon is formed on the base protective film 606 (on the light emitting element portion 603 side). Is formed. In the left and right regions of the semiconductor film 607, a source region 607a and a drain region 607b are formed by high concentration cation implantation, respectively. A central portion where no positive ions are implanted is a channel region 607c.

また、回路素子部602には、下地保護膜606及び半導体膜607を覆う透明なゲート絶縁膜608が形成され、このゲート絶縁膜608上の半導体膜607のチャネル領域607cに対応する位置には、例えばAl、Mo、Ta、Ti、W等から構成されるゲート電極609が形成されている。このゲート電極609及びゲート絶縁膜608上には、透明な第1層間絶縁膜611aと第2層間絶縁膜611bが形成されている。また、第1、第2層間絶縁膜611a、611bを貫通して、半導体膜607のソース領域607a、ドレイン領域607bにそれぞれ連通するコンタクトホール612a,612bが形成されている。   In the circuit element portion 602, a transparent gate insulating film 608 covering the base protective film 606 and the semiconductor film 607 is formed, and a position corresponding to the channel region 607c of the semiconductor film 607 on the gate insulating film 608 is formed. For example, a gate electrode 609 made of Al, Mo, Ta, Ti, W or the like is formed. On the gate electrode 609 and the gate insulating film 608, a transparent first interlayer insulating film 611a and a second interlayer insulating film 611b are formed. Further, contact holes 612a and 612b are formed through the first and second interlayer insulating films 611a and 611b and communicating with the source region 607a and the drain region 607b of the semiconductor film 607, respectively.

そして、第2層間絶縁膜611b上には、ITO等からなる透明な画素電極613が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極613は、コンタクトホール612aを通じてソース領域607aに接続されている。
また、第1層間絶縁膜611a上には電源線614が配設されており、この電源線614は、コンタクトホール612bを通じてドレイン領域607bに接続されている。
A transparent pixel electrode 613 made of ITO or the like is patterned and formed in a predetermined shape on the second interlayer insulating film 611b, and the pixel electrode 613 is connected to the source region 607a through the contact hole 612a. .
A power line 614 is disposed on the first interlayer insulating film 611a, and the power line 614 is connected to the drain region 607b through the contact hole 612b.

このように、回路素子部602には、各画素電極613に接続された駆動用の薄膜トランジスタ615がそれぞれ形成されている。   Thus, the driving thin film transistors 615 connected to the pixel electrodes 613 are formed in the circuit element portion 602, respectively.

上記発光素子部603は、複数の画素電極613上の各々に積層された機能層617と、各画素電極613及び機能層617の間に備えられて各機能層617を区画するバンク部618とにより概略構成されている。
これら画素電極613、機能層617、及び、機能層617上に配設された陰極604によって発光素子が構成されている。なお、画素電極613は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極613の間にバンク部618が形成されている。
The light emitting element portion 603 includes a functional layer 617 stacked on each of the plurality of pixel electrodes 613, and a bank portion 618 provided between each pixel electrode 613 and the functional layer 617 to partition each functional layer 617. It is roughly structured.
The pixel electrode 613, the functional layer 617, and the cathode 604 provided on the functional layer 617 constitute a light emitting element. Note that the pixel electrode 613 is formed by patterning in a substantially rectangular shape in plan view, and a bank portion 618 is formed between the pixel electrodes 613.

バンク部618は、例えばSiO、SiO2、TiO2等の無機材料により形成される無機物バンク層618a(第1バンク層)と、この無機物バンク層618a上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層618b(第2バンク層)とにより構成されている。このバンク部618の一部は、画素電極613の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部618の間には、画素電極613に対して上方に向けて次第に拡開した開口部619が形成されている。
The bank unit 618 is laminated on the inorganic bank layer 618a (first bank layer) 618a formed of an inorganic material such as SiO, SiO 2 , TiO 2, and the like, and is made of an acrylic resin, a polyimide resin, or the like. It is composed of an organic bank layer 618b (second bank layer) having a trapezoidal cross section formed of a resist having excellent heat resistance and solvent resistance. A part of the bank unit 618 is formed on the peripheral edge of the pixel electrode 613.
An opening 619 that gradually expands upward with respect to the pixel electrode 613 is formed between the bank portions 618.

上記機能層617は、開口部619内において画素電極613上に積層状態で形成された正孔注入/輸送層617aと、この正孔注入/輸送層617a上に形成された発光層617bとにより構成されている。なお、この発光層617bに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入/輸送層617aは、画素電極613側から正孔を輸送して発光層617bに注入する機能を有する。この正孔注入/輸送層617aは、正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物(機能液)を吐出することで形成される。正孔注入/輸送層形成材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の混合物を用いる。
The functional layer 617 includes a hole injection / transport layer 617a formed in a stacked state on the pixel electrode 613 in the opening 619, and a light emitting layer 617b formed on the hole injection / transport layer 617a. Has been. In addition, you may further form the other functional layer which has another function adjacent to this light emitting layer 617b. For example, it is possible to form an electron transport layer.
The hole injection / transport layer 617a has a function of transporting holes from the pixel electrode 613 side and injecting them into the light emitting layer 617b. The hole injection / transport layer 617a is formed by discharging a first composition (functional liquid) containing a hole injection / transport layer forming material. As the hole injection / transport layer forming material, for example, a mixture of a polythiophene derivative such as polyethylenedioxythiophene and polystyrenesulfonic acid is used.

発光層617bは、赤色(R)、緑色(G)、又は青色(B)の何れかに発光するもので、発光層形成材料(発光材料)を含む第2組成物(機能液)を吐出することで形成される。また、第2組成物の溶媒(非極性溶媒)としては、正孔注入/輸送層120aに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層617bの第2組成物に用いることにより、正孔注入/輸送層617aを再溶解させることなく発光層617bを形成することができる。   The light emitting layer 617b emits light in red (R), green (G), or blue (B), and discharges a second composition (functional liquid) containing a light emitting layer forming material (light emitting material). Is formed. The solvent (nonpolar solvent) of the second composition is preferably insoluble in the hole injection / transport layer 120a. For example, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, tetramethylbenzene, or the like is used. be able to. By using such a nonpolar solvent for the second composition of the light emitting layer 617b, the light emitting layer 617b can be formed without re-dissolving the hole injection / transport layer 617a.

そして、発光層617bでは、正孔注入/輸送層617aから注入された正孔と、陰極604から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。   The light emitting layer 617b is configured such that the holes injected from the hole injection / transport layer 617a and the electrons injected from the cathode 604 are recombined in the light emitting layer to emit light.

陰極604は、発光素子部603の全面を覆う状態で形成されており、画素電極613と対になって機能層617に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極604の上部には図示しない封止部材が配置される。   The cathode 604 is formed so as to cover the entire surface of the light emitting element portion 603, and plays a role of flowing current to the functional layer 617 in a pair with the pixel electrode 613. Note that a sealing member (not shown) is disposed on the cathode 604.

次に、上記の表示装置600の製造工程を図19〜図27を参照して説明する。
この表示装置600は、図19に示すように、バンク部形成工程(S21)、表面処理工程(S22)、正孔注入/輸送層形成工程(S23)、発光層形成工程(S24)、及び対向電極形成工程(S25)を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
Next, a manufacturing process of the display device 600 will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 19, the display device 600 includes a bank part forming step (S21), a surface treatment step (S22), a hole injection / transport layer forming step (S23), a light emitting layer forming step (S24), It is manufactured through an electrode formation step (S25). In addition, a manufacturing process is not restricted to what is illustrated, and when other processes are removed as needed, it may be added.

まず、バンク部形成工程(S21)では、図20に示すように、第2層間絶縁膜611b上に無機物バンク層618aを形成する。この無機物バンク層618aは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層618aの一部は画素電極613の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層618aを形成したならば、図21に示すように、無機物バンク層618a上に有機物バンク層618bを形成する。この有機物バンク層618bも無機物バンク層618aと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部618が形成される。また、これに伴い、各バンク部618間には、画素電極613に対して上方に開口した開口部619が形成される。この開口部619は、画素領域を規定する。
First, in the bank part forming step (S21), as shown in FIG. 20, an inorganic bank layer 618a is formed on the second interlayer insulating film 611b. The inorganic bank layer 618a is formed by forming an inorganic film at a formation position and then patterning the inorganic film by a photolithography technique or the like. At this time, a part of the inorganic bank layer 618 a is formed so as to overlap with the peripheral edge of the pixel electrode 613.
When the inorganic bank layer 618a is formed, an organic bank layer 618b is formed on the inorganic bank layer 618a as shown in FIG. The organic bank layer 618b is also formed by patterning using a photolithography technique or the like in the same manner as the inorganic bank layer 618a.
In this way, the bank portion 618 is formed. Accordingly, an opening 619 opening upward with respect to the pixel electrode 613 is formed between the bank portions 618. The opening 619 defines a pixel region.

表面処理工程(S22)では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層618aの第1積層部618aa及び画素電極613の電極面613aであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極613であるITOの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層618bの壁面618s及び有機物バンク層618bの上面618tに施され、例えば4フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理(撥液性に処理)される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド81を用いて機能層617を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部619から溢れ出るのを防止することが可能となる。
In the surface treatment step (S22), a lyophilic process and a lyophobic process are performed. The regions to be subjected to the lyophilic treatment are the first stacked portion 618aa of the inorganic bank layer 618a and the electrode surface 613a of the pixel electrode 613. These regions are made lyophilic by plasma treatment using oxygen as a processing gas, for example. Is done. This plasma treatment also serves to clean the ITO that is the pixel electrode 613.
In addition, the lyophobic treatment is performed on the wall surface 618s of the organic bank layer 618b and the upper surface 618t of the organic bank layer 618b, and the surface is fluorinated (treated to be liquid repellent) by plasma treatment using, for example, tetrafluoromethane. )
By performing this surface treatment process, when forming the functional layer 617 using the functional liquid droplet ejection head 81, the functional liquid droplets can be landed more reliably on the pixel area. It is possible to prevent the functional droplets from overflowing from the opening 619.

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体600Aが得られる。この表示装置基体600Aは、図1に示した液滴吐出装置1のセットテーブル63に載置され、以下の正孔注入/輸送層形成工程(S23)及び発光層形成工程(S24)が行われる。   Then, the display device base 600A is obtained through the above steps. The display device base 600A is placed on the set table 63 of the droplet discharge device 1 shown in FIG. 1, and the following hole injection / transport layer forming step (S23) and light emitting layer forming step (S24) are performed. .

図22に示すように、正孔注入/輸送層形成工程(S23)では、機能液滴吐出ヘッド81から正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物を画素領域である各開口部619内に吐出する。その後、図23に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第1組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極(電極面613a)613上に正孔注入/輸送層617aを形成する。   As shown in FIG. 22, in the hole injection / transport layer forming step (S23), the first composition containing the hole injection / transport layer forming material is transferred from the functional liquid droplet ejection head 81 to each opening 619 that is a pixel region. Discharge inside. Thereafter, as shown in FIG. 23, a drying treatment and a heat treatment are performed to evaporate the polar solvent contained in the first composition, and a hole injection / transport layer 617a is formed on the pixel electrode (electrode surface 613a) 613.

次に発光層形成工程(S24)について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入/輸送層617aの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第2組成物の溶媒として、正孔注入/輸送層617aに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入/輸送層617aは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第2組成物を正孔注入/輸送層617a上に吐出しても、正孔注入/輸送層617aと発光層617bとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層617bを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入/輸送層617aの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理(表面改質処理)を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第2組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入/輸送層617a上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入/輸送層617aの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第2組成物を正孔注入/輸送層617aに均一に塗布することができる。
Next, the light emitting layer forming step (S24) will be described. In this light emitting layer forming step, as described above, in order to prevent re-dissolution of the hole injection / transport layer 617a, the hole injection / transport layer 617a is used as a solvent for the second composition used in forming the light emitting layer. A non-polar solvent insoluble in.
However, since the hole injection / transport layer 617a has a low affinity for the nonpolar solvent, the hole injection / transport layer 617a has a low affinity even if the second composition containing the nonpolar solvent is discharged onto the hole injection / transport layer 617a. There is a possibility that the injection / transport layer 617a and the light emitting layer 617b cannot be adhered to each other, or the light emitting layer 617b cannot be applied uniformly.
Therefore, in order to increase the surface affinity of the hole injection / transport layer 617a with respect to the nonpolar solvent and the light emitting layer forming material, it is preferable to perform a surface treatment (surface modification treatment) before forming the light emitting layer. In this surface treatment, a surface modifying material which is the same solvent as the non-polar solvent of the second composition used in the formation of the light emitting layer or a similar solvent is applied on the hole injection / transport layer 617a, and this is applied. This is done by drying.
By performing such treatment, the surface of the hole injection / transport layer 617a is easily adapted to the nonpolar solvent. In the subsequent step, the second composition containing the light emitting layer forming material is added to the hole injection / transport layer. It can be uniformly applied to 617a.

そして次に、図24に示すように、各色のうちの何れか(図24の例では青色(B))に対応する発光層形成材料を含有する第2組成物を機能液滴として画素領域(開口部619)内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第2組成物は、正孔注入/輸送層617a上に広がって開口部619内に満たされる。なお、万一、第2組成物が画素領域から外れてバンク部618の上面618t上に着弾した場合でも、この上面618tは、上述したように撥液処理が施されているので、第2組成物が開口部619内に転がり込み易くなっている。   Then, as shown in FIG. 24, the second composition containing the light-emitting layer forming material corresponding to one of the colors (blue (B) in the example of FIG. 24) is used as a functional droplet as a pixel region ( A predetermined amount is driven into the opening 619). The second composition driven into the pixel region spreads on the hole injection / transport layer 617a and fills the opening 619. Even if the second composition deviates from the pixel region and lands on the upper surface 618t of the bank portion 618, the upper composition 618t is subjected to the liquid repellent treatment as described above. Things are easy to roll into the opening 619.

その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第2組成物を乾燥処理し、第2組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図25に示すように、正孔注入/輸送層617a上に発光層617bが形成される。この図の場合、青色(B)に対応する発光層617bが形成されている。   Thereafter, by performing a drying process or the like, the discharged second composition is dried, the nonpolar solvent contained in the second composition is evaporated, and as shown in FIG. 25, a hole injection / transport layer 617a is obtained. A light emitting layer 617b is formed thereon. In the case of this figure, a light emitting layer 617b corresponding to blue (B) is formed.

同様に、機能液滴吐出ヘッド81を用い、図26に示すように、上記した青色(B)に対応する発光層617bの場合と同様の工程を順次行い、他の色(赤色(R)及び緑色(G))に対応する発光層617bを形成する。なお、発光層617bの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、R・G・Bの3色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。   Similarly, using the functional liquid droplet ejection head 81, as shown in FIG. 26, the same steps as in the case of the light emitting layer 617b corresponding to the blue (B) described above are sequentially performed, and other colors (red (R) and red (R) and A light emitting layer 617b corresponding to green (G) is formed. Note that the order in which the light-emitting layers 617b are formed is not limited to the illustrated order, and may be formed in any order. For example, the order of formation can be determined according to the light emitting layer forming material. Further, the arrangement pattern of the three colors R, G, and B includes a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement, and the like.

以上のようにして、画素電極613上に機能層617、即ち、正孔注入/輸送層617a及び発光層617bが形成される。そして、対向電極形成工程(S25)に移行する。   As described above, the functional layer 617, that is, the hole injection / transport layer 617a and the light emitting layer 617b are formed on the pixel electrode 613. And it transfers to a counter electrode formation process (S25).

対向電極形成工程(S25)では、図27に示すように、発光層617b及び有機物バンク層618bの全面に陰極604(対向電極)を、例えば蒸着法、スパッタ法、CVD法等によって形成する。この陰極604は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極604の上部には、電極としてのAl膜、Ag膜や、その酸化防止のためのSiO2、SiN等の保護層が適宜設けられる。
In the counter electrode forming step (S25), as shown in FIG. 27, a cathode 604 (counter electrode) is formed on the entire surface of the light emitting layer 617b and the organic bank layer 618b by, for example, vapor deposition, sputtering, CVD, or the like. In the present embodiment, the cathode 604 is configured by, for example, laminating a calcium layer and an aluminum layer.
At the top of the cathode 604, Al film as the electrode, Ag film and a protective layer of SiO 2, SiN, or the like for its antioxidant is appropriately provided.

このようにして陰極604を形成した後、この陰極604の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置600が得られる。   After forming the cathode 604 in this way, the display device 600 is obtained by performing other processes such as a sealing process for sealing the upper part of the cathode 604 with a sealing member and a wiring process.

次に、図28は、プラズマ型表示装置(PDP装置:以下、単に表示装置700と称する)の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置700を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置700は、互いに対向して配置された第1基板701、第2基板702、及びこれらの間に形成される放電表示部703を含んで概略構成される。放電表示部703は、複数の放電室705により構成されている。これらの複数の放電室705のうち、赤色放電室705R、緑色放電室705G、青色放電室705Bの3つの放電室705が組になって1つの画素を構成するように配置されている。
Next, FIG. 28 is an exploded perspective view of an essential part of a plasma display device (PDP device: hereinafter simply referred to as a display device 700). In the figure, the display device 700 is shown with a part thereof cut away.
The display device 700 is schematically configured to include a first substrate 701 and a second substrate 702 that are disposed to face each other, and a discharge display portion 703 that is formed therebetween. The discharge display unit 703 includes a plurality of discharge chambers 705. Among the plurality of discharge chambers 705, the three discharge chambers 705 of the red discharge chamber 705R, the green discharge chamber 705G, and the blue discharge chamber 705B are arranged to form one pixel.

第1基板701の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極706が形成され、このアドレス電極706と第1基板701の上面とを覆うように誘電体層707が形成されている。誘電体層707上には、各アドレス電極706の間に位置し、且つ各アドレス電極706に沿うように隔壁708が立設されている。この隔壁708は、図示するようにアドレス電極706の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極706と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁708によって仕切られた領域が放電室705となっている。
Address electrodes 706 are formed in stripes at predetermined intervals on the upper surface of the first substrate 701, and a dielectric layer 707 is formed so as to cover the address electrodes 706 and the upper surface of the first substrate 701. On the dielectric layer 707, partition walls 708 are provided so as to be positioned between the address electrodes 706 and along the address electrodes 706. The partition 708 includes one extending on both sides in the width direction of the address electrode 706 as shown, and one not shown extending in the direction orthogonal to the address electrode 706.
A region partitioned by the partition 708 is a discharge chamber 705.

放電室705内には蛍光体709が配置されている。蛍光体709は、赤(R)、緑(G)、青(B)の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室705Rの底部には赤色蛍光体709Rが、緑色放電室705Gの底部には緑色蛍光体709Gが、青色放電室705Bの底部には青色蛍光体709Bが各々配置されている。   A phosphor 709 is disposed in the discharge chamber 705. The phosphor 709 emits red (R), green (G), or blue (B) fluorescence, and the red phosphor 709R is disposed at the bottom of the red discharge chamber 705R, and the green discharge chamber 705G. A green phosphor 709G and a blue phosphor 709B are arranged at the bottom and the blue discharge chamber 705B, respectively.

第2基板702の図中下側の面には、上記アドレス電極706と直交する方向に複数の表示電極711が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層712、及びMgOなどからなる保護膜713が形成されている。
第1基板701と第2基板702とは、アドレス電極706と表示電極711が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極706と表示電極711は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極706,711に通電することにより、放電表示部703において蛍光体709が励起発光し、カラー表示が可能となる。
On the lower surface of the second substrate 702 in the drawing, a plurality of display electrodes 711 are formed in stripes at predetermined intervals in a direction orthogonal to the address electrodes 706. A dielectric layer 712 and a protective film 713 made of MgO or the like are formed so as to cover them.
The first substrate 701 and the second substrate 702 are bonded so that the address electrodes 706 and the display electrodes 711 face each other in a state of being orthogonal to each other. The address electrode 706 and the display electrode 711 are connected to an AC power source (not shown).
When the electrodes 706 and 711 are energized, the phosphor 709 emits light in the discharge display portion 703, and color display is possible.

本実施形態においては、上記アドレス電極706、表示電極711、及び蛍光体709を、図1に示した液滴吐出装置1を用いて形成することができる。以下、第1基板701におけるアドレス電極706の形成工程を例示する。
この場合、第1基板701を液滴吐出装置1のセットテーブル63に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド81により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
In the present embodiment, the address electrode 706, the display electrode 711, and the phosphor 709 can be formed using the droplet discharge device 1 shown in FIG. Hereinafter, a process of forming the address electrode 706 on the first substrate 701 will be exemplified.
In this case, the following steps are performed with the first substrate 701 placed on the set table 63 of the droplet discharge device 1.
First, a liquid material (functional liquid) containing a conductive film wiring forming material is landed on the address electrode formation region as a functional liquid droplet by the functional liquid droplet ejection head 81. This liquid material is obtained by dispersing conductive fine particles such as metal in a dispersion medium as a conductive film wiring forming material. As the conductive fine particles, metal fine particles containing gold, silver, copper, palladium, nickel, or the like, a conductive polymer, or the like is used.

補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極706が形成される。   When the replenishment of the liquid material is completed for all the address electrode formation regions to be replenished, the address material 706 is formed by drying the discharged liquid material and evaporating the dispersion medium contained in the liquid material. .

ところで、上記においてはアドレス電極706の形成を例示したが、上記表示電極711及び蛍光体709についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極711の形成の場合、アドレス電極706の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体709の形成の場合には、各色(R,G,B)に対応する蛍光材料を含んだ液体材料(機能液)を機能液滴吐出ヘッド81から液滴として吐出し、対応する色の放電室705内に着弾させる。
By the way, although the formation of the address electrode 706 has been exemplified in the above, the display electrode 711 and the phosphor 709 can also be formed through the above steps.
In the case of forming the display electrode 711, as in the case of the address electrode 706, a liquid material (functional liquid) containing a conductive film wiring forming material is landed on the display electrode formation region as a functional droplet.
Further, in the case of forming the phosphor 709, a liquid material (functional liquid) containing a fluorescent material corresponding to each color (R, G, B) is ejected as droplets from the functional liquid droplet ejection head 81, and corresponding. Land in the color discharge chamber 705.

次に、図29は、電子放出装置(FED装置:以下、単に表示装置800と称する)の要部断面図である。なお、同図では表示装置800を、その一部を断面として示してある。
この表示装置800は、互いに対向して配置された第1基板801、第2基板802、及びこれらの間に形成される電界放出表示部803を含んで概略構成される。電界放出表示部803は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部805により構成されている。
Next, FIG. 29 is a cross-sectional view of an essential part of an electron emission device (FED device: hereinafter simply referred to as a display device 800). In the drawing, a part of the display device 800 is shown as a cross section.
The display device 800 includes a first substrate 801, a second substrate 802, and a field emission display unit 803 formed therebetween, which are disposed to face each other. The field emission display unit 803 includes a plurality of electron emission units 805 arranged in a matrix.

第1基板801の上面には、カソード電極806を構成する第1素子電極806aおよび第2素子電極806bが相互に直交するように形成されている。また、第1素子電極806aおよび第2素子電極806bで仕切られた部分には、ギャップ808を形成した素子膜807が形成されている。すなわち、第1素子電極806a、第2素子電極806bおよび素子膜807により複数の電子放出部805が構成されている。素子膜807は、例えば酸化パラジウム(PdO)等で構成され、またギャップ808は、素子膜807を成膜した後、フォーミング等で形成される。   On the upper surface of the first substrate 801, a first element electrode 806a and a second element electrode 806b constituting the cathode electrode 806 are formed so as to be orthogonal to each other. In addition, an element film 807 having a gap 808 is formed in a portion partitioned by the first element electrode 806a and the second element electrode 806b. That is, a plurality of electron emission portions 805 are configured by the first element electrode 806a, the second element electrode 806b, and the element film 807. The element film 807 is made of, for example, palladium oxide (PdO), and the gap 808 is formed by forming after the element film 807 is formed.

第2基板802の下面には、カソード電極806に対峙するアノード電極809が形成されている。アノード電極809の下面には、格子状のバンク部811が形成され、このバンク部811で囲まれた下向きの各開口部812に、電子放出部805に対応するように蛍光体813が配置されている。蛍光体813は、赤(R)、緑(G)、青(B)の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部812には、赤色蛍光体813R、緑色蛍光体813Gおよび青色蛍光体813Bが、所定のパターンで配置されている。   An anode electrode 809 that faces the cathode electrode 806 is formed on the lower surface of the second substrate 802. A lattice-shaped bank portion 811 is formed on the lower surface of the anode electrode 809, and a phosphor 813 is disposed in each downward opening 812 surrounded by the bank portion 811 so as to correspond to the electron emission portion 805. Yes. The phosphor 813 emits fluorescence of any one of red (R), green (G), and blue (B), and each opening 812 has a red phosphor 813R, a green phosphor 813G, and a blue color. The phosphors 813B are arranged in a predetermined pattern.

そして、このように構成した第1基板801と第2基板802とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置800では、素子膜(ギャップ808)807を介して、陰極である第1素子電極806aまたは第2素子電極806bから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極809に形成した蛍光体813に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。   The first substrate 801 and the second substrate 802 configured as described above are bonded together with a minute gap. In this display device 800, electrons that jump out of the first element electrode 806 a or the second element electrode 806 b that are cathodes are applied to the phosphor 813 formed on the anode electrode 809 that is an anode through the element film (gap 808) 807. Excited light emission enables color display.

この場合も、他の実施形態と同様に、第1素子電極806a、第2素子電極806bおよびアノード電極809を、液滴吐出装置1を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体813R,813G,813Bを、液滴吐出装置1を用いて形成することができる。   Also in this case, as in the other embodiments, the first element electrode 806a, the second element electrode 806b, and the anode electrode 809 can be formed using the droplet discharge device 1, and each color phosphor 813R, 813G and 813B can be formed using the droplet discharge device 1.

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。上記した液滴吐出装置1を各種の電気光学装置(デバイス)の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。   Further, as other electro-optical devices, devices including metal wiring formation, lens formation, resist formation, light diffuser formation, and the like are conceivable. By using the droplet discharge device 1 described above for manufacturing various electro-optical devices (devices), various electro-optical devices can be efficiently manufactured.

以上に述べたように、本発明のギャップ調整装置および液滴吐出装置によれば、ノズル面の上下方向の位置ずれを正確に測定することでワークギャップを極力小さい値に調整することができる。したがって、機能液滴の飛行曲がりや着弾径等を精度良く管理することができる。   As described above, according to the gap adjusting device and the droplet discharge device of the present invention, the work gap can be adjusted to a minimum value by accurately measuring the vertical displacement of the nozzle surface. Therefore, it is possible to accurately manage the flight bend, the landing diameter, and the like of the functional droplet.

本発明の電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器によれば、機能液滴の飛行曲がりや着弾径等が精度良く管理された液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い高品質の電気光学装置や電子機器を提供することができる。   According to the method of manufacturing an electro-optical device, the electro-optical device, and the electronic apparatus of the present invention, since it is manufactured using a droplet discharge device in which the flying bend, the landing diameter, etc. of the functional droplet are accurately controlled, the reliability It is possible to provide a high-quality electro-optical device and electronic equipment.

1 液滴吐出装置、3 ホスト・コンピュータ、11 描画装置、22 X軸テーブル、23 Y軸テーブル、25 吸着テーブル、26 メインキャリッジ、27 ヘッドユニット、28 ギャップ調整装置、51 取付穴、81 機能液滴吐出ヘッド、813 ノズル面、106 測定箇所、131 ヘッド回転機構、132 ヘッド昇降機構、181 ノズル面用距離センサ、182 ワーク厚さ用距離センサ、183 キャリブレーション用治具、192 第1測定基準面、197 第2測定基準面、201 データ更新手段、W ワーク。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Droplet discharge device, 3 Host computer, 11 Drawing apparatus, 22 X-axis table, 23 Y-axis table, 25 Suction table, 26 Main carriage, 27 Head unit, 28 Gap adjustment device, 51 Mounting hole, 81 Functional droplet Discharge head, 813 nozzle surface, 106 measurement location, 131 head rotation mechanism, 132 head lifting mechanism, 181 nozzle surface distance sensor, 182 workpiece thickness distance sensor, 183 calibration jig, 192 first measurement reference surface, 197 Second measurement reference plane, 201 data updating means, W work.

Claims (15)

ワークテーブル上にセットされたワークの表面と前記ワークに機能液を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面との間のワークギャップを、微調整するギャップ調整装置において、
相互に離間した前記ノズル面の複数の箇所に対し、上下方向の位置をそれぞれ測定する位置測定手段と、
前記ノズル面の複数の箇所を前記位置測定手段に順に臨ませるように、前記位置測定手段に対し前記機能液滴吐出ヘッドを前記ワークの表面と平行な平面内において相対的に移動させるギャップ測定系移動機構と、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記ワークに対して上下方向に相対的に移動させてワークギャップを微調整する昇降手段と、
前記位置測定手段による測定結果に基づいて、前記昇降手段を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記位置測定手段による複数の測定結果の最も近い位置と前記ワークの表面との離間距離が設定したワークギャップとなるように、前記昇降手段を制御することを特徴とするギャップ調整装置。
In a gap adjustment device that finely adjusts a work gap between a work surface set on a work table and a nozzle surface of a functional liquid droplet ejection head that discharges a functional liquid onto the work,
Position measuring means for measuring the position in the vertical direction with respect to a plurality of locations on the nozzle surface spaced from each other;
A gap measuring system that moves the functional liquid droplet ejection head relative to the position measuring unit in a plane parallel to the surface of the workpiece so that a plurality of locations on the nozzle surface are sequentially exposed to the position measuring unit. A moving mechanism;
Elevating means for finely adjusting the work gap by moving the functional liquid droplet ejection head relative to the work in the vertical direction;
Control means for controlling the elevating means based on the measurement result by the position measuring means,
The control means controls the elevating means so that a separation distance between the closest position of a plurality of measurement results by the position measuring means and the surface of the work becomes a set work gap. apparatus.
前記ノズル面は、方形に形成され、
前記ノズル面の複数の箇所は、少なくともノズル面の4隅となる4箇所を含むことを特徴とする請求項1に記載のギャップ調整装置。
The nozzle surface is formed in a square shape,
2. The gap adjusting device according to claim 1, wherein the plurality of locations on the nozzle surface include at least four locations that form four corners of the nozzle surface.
前記ワークの厚さを計測するワーク厚さ計測手段を、さらに備え、
前記制御手段は、前記ワーク厚さ計測手段により計測されたワーク厚さデータに応じて所定のワーク厚さデータを更新するデータ更新手段を、有することを特徴とする請求項1または2に記載のギャップ調整装置。
A work thickness measuring means for measuring the thickness of the work is further provided,
The said control means has a data update means which updates predetermined | prescribed workpiece thickness data according to the workpiece | work thickness data measured by the said workpiece | work thickness measurement means, The Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. Gap adjustment device.
前記ワークテーブルの表面との間で位置管理された第1測定基準面を有するキャリブレーション用治具を、さらに備え、
前記位置測定手段は、前記第1測定基準面との上下方向の第1基準距離を測定し、
前記制御手段は、前記第1基準距離に基づいて前記位置測定手段のゼロ点補正を行うことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のギャップ調整装置。
A calibration jig having a first measurement reference surface whose position is controlled with respect to the surface of the work table,
The position measuring means measures a first reference distance in a vertical direction with respect to the first measurement reference plane;
4. The gap adjusting device according to claim 1, wherein the control unit performs zero point correction of the position measuring unit based on the first reference distance. 5.
前記位置測定手段は、レーザ光を用いたノズル面用距離センサであって、
前記第1測定基準面は、前記ノズル面に対する前記レーザ光の反射率と略等しい反射率を有することを特徴とする請求項4に記載のギャップ調整装置。
The position measuring means is a nozzle surface distance sensor using laser light,
The gap adjusting device according to claim 4, wherein the first measurement reference surface has a reflectance that is substantially equal to a reflectance of the laser beam with respect to the nozzle surface.
前記キャリブレーション用治具は、前記ワークテーブルの表面との間で位置管理された第2測定基準面を、さらに有し、
前記ワーク厚さ計測手段は、前記第2測定基準面との上下方向の第2基準距離を測定し、
前記制御手段は、前記第2基準距離に基づいて前記ワーク厚さ計測手段のゼロ点補正を行うことを特徴とする請求項4または5に記載のギャップ調整装置。
The calibration jig further includes a second measurement reference surface whose position is managed with respect to the surface of the work table,
The workpiece thickness measuring means measures a second reference distance in the vertical direction with respect to the second measurement reference plane,
6. The gap adjusting device according to claim 4, wherein the control unit performs zero point correction of the workpiece thickness measuring unit based on the second reference distance.
前記ワーク厚さ計測手段は、レーザ光を用いたワーク厚さ用距離センサであって、
前記第2測定基準面は、前記ワークの表面に対する前記レーザ光の反射率と略等しい反射率を有することを特徴とする請求項6に記載のギャップ調整装置。
The workpiece thickness measuring means is a workpiece thickness distance sensor using laser light,
The gap adjusting device according to claim 6, wherein the second measurement reference plane has a reflectance substantially equal to a reflectance of the laser beam with respect to a surface of the workpiece.
前記キャリブレーション用治具は、前記ワークテーブルに貫通形成した取付穴に配設されていることを特徴とする請求項4ないし7のいずれかに記載のギャップ調整装置。   The gap adjusting device according to any one of claims 4 to 7, wherein the calibration jig is disposed in a mounting hole penetratingly formed in the work table. 請求項4ないし8のいずれかに記載のギャップ調整装置に備えることを特徴とするキャリブレーション用治具。   A calibration jig provided in the gap adjusting device according to claim 4. 請求項1ないし8のいずれかに記載のギャップ調整装置を、備えたことを特徴とする液滴吐出装置。   A liquid droplet ejection apparatus comprising the gap adjusting apparatus according to claim 1. 前記機能液滴吐出ヘッドを保守するための保守装置と、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記保守装置に対して上下方向に移動させ、かつ、前記保守装置と前記ノズル面との上下方向の距離を調整するZ軸移動手段と、をさらに備え、
前記昇降手段は、前記キャリッジに搭載されると共に、前記Z軸移動手段を兼ねていることを特徴とする請求項10に記載の液滴吐出装置。
A maintenance device for maintaining the functional liquid droplet ejection head;
A Z-axis moving means for moving the functional liquid droplet ejection head in the vertical direction with respect to the maintenance device and adjusting the vertical distance between the maintenance device and the nozzle surface;
11. The liquid droplet ejection apparatus according to claim 10, wherein the elevating means is mounted on the carriage and also serves as the Z-axis moving means.
前記ワークに対し前記機能液滴吐出ヘッドから機能液を吐出させて描画を行う描画動作時において、前記機能液滴吐出ヘッドをワークに対して互いに直交する方向に相対的に移動させるX軸テーブルおよびY軸テーブルを、さらに備え、
前記ギャップ測定系移動機構は、前記キャリッジを介して前記機能液滴吐出ヘッドを前記ワークの表面に平行な一方向に移動させる移動手段と、前記キャリッジに搭載されると共に、前記キャリッジをその軸心を中心に回転させることにより前記機能液滴吐出ヘッドを前記ワークの表面に平行な平面内において回転させる回転手段と、を有し、
前記移動手段は、前記Y軸テーブルを兼ねていることを特徴とする請求項10または11に記載の液滴吐出装置。
An X-axis table that relatively moves the functional liquid droplet ejection head in a direction orthogonal to the work during a drawing operation in which the functional liquid is ejected from the functional liquid droplet ejection head onto the work; A Y-axis table,
The gap measuring system moving mechanism is mounted on the carriage and moving means for moving the functional liquid droplet ejection head in one direction parallel to the surface of the workpiece via the carriage, and the carriage has an axis thereof. Rotation means for rotating the functional liquid droplet ejection head in a plane parallel to the surface of the workpiece by
The liquid droplet ejection apparatus according to claim 10, wherein the moving unit also serves as the Y-axis table.
請求項10ないし12のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。   13. A method for manufacturing an electro-optical device, wherein the droplet discharge device according to claim 10 is used to form a film forming portion with functional droplets on a workpiece. 請求項10ないし12のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device using the droplet discharge device according to claim 10, wherein a film forming portion is formed by functional droplets on a workpiece. 請求項13に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項14に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。   15. An electronic apparatus comprising the electro-optical device manufactured by the method for manufacturing the electro-optical device according to claim 13 or the electro-optical device according to claim 14.
JP2010003457A 2010-01-09 2010-01-09 Droplet discharge device Expired - Fee Related JP5304660B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010003457A JP5304660B2 (en) 2010-01-09 2010-01-09 Droplet discharge device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010003457A JP5304660B2 (en) 2010-01-09 2010-01-09 Droplet discharge device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003192981A Division JP4474858B2 (en) 2003-07-07 2003-07-07 GAP ADJUSTMENT DEVICE, CALIBRATION JIG USED FOR THE SAME, DROPLET DISCHARGE DEVICE EQUIPPED WITH GAP ADJUSTMENT DEVICE, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010179299A true JP2010179299A (en) 2010-08-19
JP5304660B2 JP5304660B2 (en) 2013-10-02

Family

ID=42761251

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010003457A Expired - Fee Related JP5304660B2 (en) 2010-01-09 2010-01-09 Droplet discharge device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5304660B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013234069A (en) * 2012-05-04 2013-11-21 Xerox Corp Air bearing substrate medium transportation

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH078879A (en) * 1993-06-23 1995-01-13 Hirata Corp Fluid-coating device
JPH0731168U (en) * 1993-05-31 1995-06-13 平田機工株式会社 Fluid coating device
JPH09206652A (en) * 1996-01-30 1997-08-12 Toray Ind Inc Equipment and method for coating, and device and method for manufacturing color filter
JP2002273974A (en) * 2001-03-19 2002-09-25 Seiko Epson Corp Controlling method for printer head and ink-jet printer
JP2003181352A (en) * 2001-12-20 2003-07-02 Seiko Epson Corp Head unit, its setting method and plotting apparatus, methods of manufacturing liquid-crystal display unit, organic el apparatus, electron discharge apparatus, pdp apparatus, electrophoresis display apparatus, color filter and organic el, and methods of forming spacer, metal wiring, lens, resist and light diffusion body
JP4474858B2 (en) * 2003-07-07 2010-06-09 セイコーエプソン株式会社 GAP ADJUSTMENT DEVICE, CALIBRATION JIG USED FOR THE SAME, DROPLET DISCHARGE DEVICE EQUIPPED WITH GAP ADJUSTMENT DEVICE, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0731168U (en) * 1993-05-31 1995-06-13 平田機工株式会社 Fluid coating device
JPH078879A (en) * 1993-06-23 1995-01-13 Hirata Corp Fluid-coating device
JPH09206652A (en) * 1996-01-30 1997-08-12 Toray Ind Inc Equipment and method for coating, and device and method for manufacturing color filter
JP2002273974A (en) * 2001-03-19 2002-09-25 Seiko Epson Corp Controlling method for printer head and ink-jet printer
JP2003181352A (en) * 2001-12-20 2003-07-02 Seiko Epson Corp Head unit, its setting method and plotting apparatus, methods of manufacturing liquid-crystal display unit, organic el apparatus, electron discharge apparatus, pdp apparatus, electrophoresis display apparatus, color filter and organic el, and methods of forming spacer, metal wiring, lens, resist and light diffusion body
JP4474858B2 (en) * 2003-07-07 2010-06-09 セイコーエプソン株式会社 GAP ADJUSTMENT DEVICE, CALIBRATION JIG USED FOR THE SAME, DROPLET DISCHARGE DEVICE EQUIPPED WITH GAP ADJUSTMENT DEVICE, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013234069A (en) * 2012-05-04 2013-11-21 Xerox Corp Air bearing substrate medium transportation

Also Published As

Publication number Publication date
JP5304660B2 (en) 2013-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4474858B2 (en) GAP ADJUSTMENT DEVICE, CALIBRATION JIG USED FOR THE SAME, DROPLET DISCHARGE DEVICE EQUIPPED WITH GAP ADJUSTMENT DEVICE, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP4400656B2 (en) Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method
JP4442620B2 (en) Landing dot measurement method, landing dot measurement device, droplet discharge device, and electro-optical device manufacturing method
KR100597018B1 (en) Droplet discharge apparatus, manufacturing method of electric optical apparatus, electric optical apparatus and electronic equipment
JP4691975B2 (en) Work gap adjustment method, work gap adjustment device, droplet discharge device, and electro-optical device manufacturing method
KR100897877B1 (en) Liquid droplet discharging device and method of manufacturing electro-optical device
JP5359973B2 (en) Droplet discharge device
JP2005119139A (en) Method and device for measuring discharge amount of functional liquid droplet jet head, method of controlling driving of functional liquid droplet jet head, liquid droplet jet device, method of manufacturing electrooptical device, electrooptical device, and electronic device
JP5671975B2 (en) Drawing method for droplet discharge device
JP4075883B2 (en) Droplet ejection device, electro-optical device manufacturing method, and electro-optical device
JP2008233833A (en) Liquid droplet dischare apparatus, method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic equipment
JP4396732B2 (en) Droplet discharge head arrangement method, head unit, droplet discharge device, and electro-optical device manufacturing method
JP2009006212A (en) Liquid drop discharger, manufacturing method of electro-optic device, and electro-optic device
JP4539316B2 (en) Head position correction method, head position correction apparatus, droplet discharge apparatus, and electro-optical device manufacturing method
JP2006167544A (en) Method for measuring discharge amount from functional liquid droplet discharging head, method for controlling drive of the same head, apparatus for measuring discharge amount from the same head, apparatus for discharging liquid droplet, method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device and electronic equipment
JP4765278B2 (en) Method for correcting droplet landing position of droplet discharge device, droplet discharge device, and electro-optical device manufacturing method
JP5304660B2 (en) Droplet discharge device
JP2006239621A (en) Wiping unit, liquid droplet ejecting device including the same, method for manufacturing elctro-optic apparatus, elctro-optic apparatus and electronic equipment
JP2006248655A (en) Work transferring method, work transferring system, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device, manufacturing method of circuit board, circuit board, and electronic equipment
JP4852989B2 (en) Droplet landing position correction method for droplet discharge device, droplet discharge device, and electro-optical device manufacturing method
JP2006248654A (en) Work transferring device, work processing system, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device, manufacturing method of circuit board, circuit board, and electronic equipment
JP2007130597A (en) Method and apparatus for inspecting landing position from liquid droplet ejection head, method of manufacturing electro-optical device, electro-optical device and electronic equipment
JP2008221184A (en) Liquid droplet discharge apparatus, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus
JP5251796B2 (en) Head unit, droplet discharge device, and method of manufacturing electro-optical device
JP4670848B2 (en) Droplet discharge device and method of manufacturing electro-optical device

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120605

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120802

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130312

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130513

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130528

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130610

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5304660

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees