JP2010177121A - イオンビーム加工装置及び試料加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェーハ31を保持する試料ステージ33と、イオン源11で発生したイオンビーム12をマスク15によってプロジェクションビームに成形するプロジェクション光学系を有し、イオンビーム12を試料面に斜めに照射可能な第1イオンビームカラム10と、第1イオンビームカラム10よりもイオンビーム22を細く絞ることが可能なイオンビーム光学系を有し、第1イオンビームカラム10と同時にイオンビーム22を試料面に垂直に照射可能な第2イオンビームカラム20と、イオンビーム12,22の照射により加工した試料片50をウェーハ31から摘出するマニピュレータ42と、摘出した試料片50を保持するカートリッジ51とを備える。
【選択図】図1
Description
11 イオン源
12 イオンビーム
13 引出し電極
14 集束レンズ
15 マスク
16 偏向器
17 対物レンズ
18 第1イオンビームカラム制御部
20 第2イオンビームカラム
21 イオン源
22 イオンビーム
23 引出し電極
24 集束レンズ
25 絞り
26 偏向器
27 対物レンズ
28 第2イオンビームカラム制御部
30 試料室
31 ウェーハ
32 ウェーハホールダ
33 試料ステージ
42 マニピュレータ
43 マニピュレータ移動機構
44 スイッチ
45 電源
46 ワイヤー
50 試料片
51 カートリッジ
52 サンプルキャリア
53 カートリッジ保持機構
54 試料ホールダ
55 保持穴
57 ソケット
58 加熱ヒータ
74 全体制御部
80 第2イオンビームカラム
81 イオン源
82 イオンビーム
83 引出し電極
84 集束レンズ
85 絞り
86 偏向器
87 対物レンズ
88 第2イオンビームカラム制御部
90 電子ビームカラム
91 電子源
92 電子ビーム
93 引出し電極
94 集束レンズ
95 絞り
96 偏向器
97 対物レンズ
98 電子ビームカラム制御部
Claims (8)
- 試料を保持する試料ステージと、
イオン源で発生したイオンビームをマスクによってプロジェクションビームに成形するプロジェクション光学系を有し、イオンビームを試料面に斜めに照射可能な第1のイオンビームカラムと、
前記第1のイオンビームカラムよりもイオンビームを細く絞ることが可能なイオンビーム光学系を有し、前記第1のイオンビームカラムと同時にイオンビームを試料面に垂直に照射可能な第2のイオンビームカラムと、
イオンビームの照射により加工した試料片を試料から摘出するマニピュレータ機構と、
摘出した試料片を保持するカートリッジと
を備えたことを特徴とするイオンビーム加工装置。 - 試料を保持する試料ステージと、
イオン源で発生したイオンビームをマスクによってプロジェクションビームに成形するプロジェクション光学系を有し、イオンビームを試料面に斜めに照射可能な第1のイオンビームカラムと、
イオン源で発生したイオンビームをマスクによってプロジェクションビームに成形するプロジェクション光学系を有し、前記第1のイオンビームカラムと同時にイオンビームを試料面に斜めに照射可能な第2のイオンビームカラムと、
電子ビームを試料面に垂直に照射する電子ビームカラムと、
イオンビームの照射により加工した試料片を試料から摘出するマニピュレータ機構と、
摘出した試料片を保持するカートリッジと
を備えたことを特徴とするイオンビーム加工装置。 - 試料を保持する試料ステージと、
イオン源で発生したイオンビームをマスクによってプロジェクションビームに成形するプロジェクション光学系を有し、イオンビームを試料面に斜めに照射可能な第1のイオンビームカラムと、
前記第1のイオンビームカラムよりもイオンビームを細く絞ることが可能なイオンビーム光学系を有し、前記第1のイオンビームカラムと同時にイオンビームを試料面に斜めに照射可能な第2のイオンビームカラムと、
電子ビームを試料面に垂直に照射する電子ビームカラムと、
イオンビームの照射により加工した試料片を試料から摘出するマニピュレータ機構と、
摘出した試料片を保持するカートリッジと
を備えたことを特徴とするイオンビーム加工装置。 - 請求項1又は3のイオンビーム加工装置において、前記第2のイオンビームカラムによる加工時間が前記第1のイオンビームカラムによる加工時間以下となるように、前記第2のイオンビームカラムのイオンビームの走査範囲を制御する制御手段を有することを特徴とするイオンビーム加工装置。
- 請求項1−3のいずれかのイオンビーム加工装置において、前記マニピュレータ機構は、試料片を挟持して把持する機構を有していることを特徴とするイオンビーム加工装置。
- 請求項1−3のいずれかのイオンビーム加工装置において、前記カートリッジは、試料片を挟持して保持する機構を有していることを特徴とするイオンビーム加工装置。
- 第1のイオンビームカラムにおいてイオン源で発生したイオンビームをマスクによってプロジェクションビームに成形して試料面に照射し、
これと同時に第2のイオンビームカラムにおいて前記成形したイオンビームよりも細く絞ったイオンビームを試料面に走査し、
前記プロジェクションビーム及び前記走査イオンビームで加工した試料片を試料から摘出してカートリッジに搭載する
ことを特徴とする試料加工方法。 - 第1のイオンビームカラムにおいてイオン源で発生したイオンビームをマスクによってプロジェクションビームに成形して試料面に照射し、
これと同時に第2のイオンビームカラムにおいてイオン源で発生したイオンビームをマスクによってプロジェクションビームに成形して試料面に照射し、
2本のプロジェクションビームで加工した試料片を試料から摘出してカートリッジに搭載する
ことを特徴とする試料加工方法。
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JP2009020338A JP5192411B2 (ja) | 2009-01-30 | 2009-01-30 | イオンビーム加工装置及び試料加工方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103543283A (zh) * | 2013-10-14 | 2014-01-29 | 广东电网公司电力科学研究院 | 一种氟化氢气体检测装置及方法 |
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2009
- 2009-01-30 JP JP2009020338A patent/JP5192411B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP5192411B2 (ja) | 2013-05-08 |
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