JP2010165870A - 半導体レーザ素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】活性層に引張り歪を印加した量子井戸型半導体レーザであって、光導波路領域の外側をエッチングにより切り出し、その両側を、絶縁性のパッシベーション膜で成膜することによって形成される量子井戸型半導体レーザ。
【選択図】図2
Description
第1の実施形態に係る半導体レーザ素子100は、n型InP基板9上に、n型InPバッファ層8、n型(Al0.70Ga0.30)0.47In0.53Pガイド層7、量子井戸層に引張り歪を印加した多重量子井戸活性層6、p型(Al0.70Ga0.30)0.47In0.53Asガイド層5、p型Al0.47In0.53Asガイド層4、p型InPクラッド層3、p型InGaAsコンタクト層2を積層させる。その後、光導波路領域となる領域の両側を、エッチングにより、上方よりn型InP基板9の一部にまで切り出しを行い、メサストライプ状の光導波路領域を形成する。埋込型構造の場合、光導波路領域の両側を、別の半導体層によって埋め込み成長させるところ、本発明においては、光導波路領域の両側を、例えば、SiO2等による絶縁性のパッシベーション膜11を成膜させる。
本発明に係る第2の実施形態に係る半導体レーザ素子100について図3を用いて説明する。
Claims (6)
- 活性層が引張り歪を有する量子井戸型半導体レーザであって、
該活性層が単一横モードの光を発振する幅を有し、
該活性層の両側に、該活性層とは異なる絶縁性の物質の膜で覆われることを特徴とする量子井戸型半導体レーザ。 - 請求項1に記載の量子井戸型半導体レーザであって、
前記絶縁性の物質の膜が、圧縮歪を有することを特徴とする量子井戸型半導体レーザ。 - 請求項1に記載の量子井戸型半導体レーザであって、
前記絶縁性の物質の膜の屈折率が、前記活性層の屈折率より低いことを特徴とする量子井戸型半導体レーザ。 - 請求項1に記載の量子井戸型半導体レーザであって、
前記絶縁性の物質の膜が、2以上の異なる物質の層を含み、前記活性層の屈折率よりも屈折率が低い物質の層が、前記活性層に接し、その外側に、前記屈折率が低い物質の層の屈折率より屈折率が高い物質の層が位置することを特徴とする量子井戸型半導体レーザ。 - 請求項4に記載の量子井戸型半導体レーザであって、
前記2以上の異なる物質の層は、非晶質シリコンの層を含むことを特徴とする量子井戸型半導体レーザ。 - 請求項4に記載の量子井戸型半導体レーザであって、
前記絶縁性の物質の膜全体の屈折率が、前記活性層の屈折率より、低いことを特徴とする量子井戸型半導体レーザ。
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