JP2010163692A - 真空蒸着用アライメント装置 - Google Patents
真空蒸着用アライメント装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010163692A JP2010163692A JP2010091018A JP2010091018A JP2010163692A JP 2010163692 A JP2010163692 A JP 2010163692A JP 2010091018 A JP2010091018 A JP 2010091018A JP 2010091018 A JP2010091018 A JP 2010091018A JP 2010163692 A JP2010163692 A JP 2010163692A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- connecting plate
- mask
- vacuum
- substrate
- vacuum vessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 86
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 44
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 24
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 11
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 4
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】真空容器3内に保持されたマスクの上方に、真空容器の取付用フランジ1aに形成された貫通穴1bを挿通された吊持部材12を介して保持された基板ホルダ11と、真空容器の外部に設けられると共に吊持部材に連結された連結用板体13と、この連結用板体を移動させて基板ホルダに保持された蒸着室2内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段14と、吊持部材に外嵌されると共に取付用フランジの貫通穴の外周と連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材15と、連結用板体と取付用フランジとの間に設けられて、筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と同等の付勢力を、当該押圧力と逆方向に発生させる空気圧シリンダ61とを具備したもの。
【選択図】図4
Description
この導体パターンを形成する場合、通常、基板の表面に導体パターンが形成されたマスクを配置し、その表面に塗布されたフォトレジストが露光されることにより行われている(例えば、特許文献1参照)。
このアライメント装置は真空容器内に配置されることになるが、位置決め精度が高いアライメント装置を真空容器内に配置する場合、ガス放出が少ない特種な材料の部品、潤滑剤、放熱対策などを必要とするため、装置そのものが非常に高価なものとなる。
このように、アライメント装置を真空容器の外部に配置する場合には、アライメント装置におけるマスク保持部材の真空容器内への挿入部分における真空維持機構が必要となり、したがって特殊なシール機構、または加工が必要となり、やはり装置が高価なものとなる。
そこで、上記課題を解決するため、本発明は、装置自体の製造コストが安価で且つ高精度な位置決めを維持し得る真空蒸着用アライメント装置を提供することを目的とする。
上記真空容器内に保持されたマスクの上方に、当該真空容器の壁体部に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持された基板の保持体と、
上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板体と、
この連結用板体を移動させて保持体に保持された蒸着室内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段と、
上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体部の貫通穴の外周と上記連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、
上記連結用板体と当該連結用板体を跨ぐように壁体部上に立設された側面視が門形状の取付用フレームとの間に設けられて、上記伸縮式筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と同等の付勢力を、当該押圧力と逆方向に発生させる空気圧シリンダとを具備し、
上記位置調整手段を、上記連結用板体をマスクの表面と平行な平面内で平行移動および回転させ得る平面内移動装置と、上記連結用板体をマスクと直交する軸心方向で移動させ得る鉛直移動装置とから構成し、
さらに上記平面内移動装置を、真空容器の壁体部側に設けられる駆動用支持機構および案内用支持機構と、これら支持機構により支持されてマスクの表面と平行に移動し得る移動板とから構成するとともに、この移動板と連結用板体とを昇降用案内機構を介して鉛直方向での移動を許容し得るようになし、
且つ上記昇降用案内機構を、上記移動板に立設されたガイド軸と、上記連結用板体側に設けられて上記ガイド軸をマスクと直交する軸心方向で移動自在に案内するガイド筒とから構成したものである。
上記真空容器内に保持されたマスクの上方に、当該真空容器の壁体部に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持された基板の保持体と、
上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板体と、
この連結用板体を移動させて保持体に保持された蒸着室内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段と、
上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体部の貫通穴の外周と上記連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、
上記連結用板体と上記壁体部との間に設けられて、上記伸縮式筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と同等の付勢力を、当該押圧力と逆方向に発生させる空気圧シリンダとを具備し、
上記位置調整手段を、上記連結用板体をマスクの表面と平行な平面内で平行移動および回転させ得る平面内移動装置と、上記連結用板体をマスクと直交する軸心方向で移動させ得る鉛直移動装置とから構成し、
さらに上記平面内移動装置を、真空容器の壁体部側に設けられる駆動用支持機構および案内用支持機構と、これら支持機構により支持されてマスクの表面と平行に移動し得る移動板とから構成するとともに、この移動板と連結用板体とを昇降用案内機構を介して鉛直方向での移動を許容し得るようになし、
且つ上記昇降用案内機構を、上記移動板に立設されたガイド軸と、上記連結用板体側に設けられて上記ガイド軸をマスクと直交する軸心方向で移動自在に案内するガイド筒とから構成したものである。
この真空蒸着用アライメント装置は真空蒸着装置に設けられるもので、例えば有機ELディスプレイの表示部の製造時に、マスクを用いてガラス基板の表面に有機材料を所定のパターンでもって蒸着させて導体パターンを得る際に、ガラス基板を保持するとともにマスクに対する当該ガラス基板の位置調整(アライメント)を行うためのものである。
[実施の形態1]
以下、実施の形態1に係る真空蒸着用アライメント装置を、図1〜図6に基づき説明する。
まず、図1に示すように、真空容器3の側壁部3bに形成された搬入出用開口部9より、ロボットハンドを用いて、基板5をマスク保持体8により保持されたマスク6の上方に挿入するとともに、静電チャック部11bにて基板5を保持した後、ロボットハンドを真空容器3から出し、そして搬入出用開口部9を閉じる。なお、真空容器3内にマスク等を搬入または搬出する際には、少なくとも搬入出用開口部(正確に言えば、搬入出用開口部9に接続された空間側)9については、真空容器3内と同じ真空度に保たれた状態にされている。
このマスク6に対する基板5の位置合わせには、対角線上に配置された2台のCCDカメラ装置57が用いられる。
1.基板5を水平面内で移動させる平面内移動装置21および鉛直方向で移動させる鉛直移動装置22を真空容器3の外部(大気圧下)に配置したので、特殊な真空用機械要素や、モータの冷却装置を必要としないので、安価で且つ高精度なアライメント装置を提供することができる。
2.各移動装置21,22を真空容器3の外部(大気圧下)に配置するとともに、真空下で作用する押圧力に対向し得る付勢力を付与し得る付勢手段16を具備したので、真空により生じる各移動装置21,22に作用する力を軽減することができ、したがって移動装置におけるモータなどの駆動機器として容量の小さいものを用いることができるので、より安価な構成にし得る。
3.また、各移動装置21,22を真空容器3の外部(大気圧下)に配置するとともに、真空下で作用する押圧力に対向し得る付勢力を付与し得る付勢手段16を具備したので、装置自体に歪が発生するのを抑制し得るとともに、基板5の位置合わせ用のカメラ装置57における視野ずれを防止でき、したがって高精度な位置合わせを行うことができる。
4.静電チャック部11bにより基板5を保持するようにしているので、基板5の平面度を維持することが可能となり、したがってマスク6との距離を非常に小さくすることができるので、より高精度な位置合わせを行うことができる。
5.また、静電チャック部11bにより基板5を保持するようにしているので、基板5の平面度を維持して基板5をマスク6に均等な面圧で接触させることが可能となり、したがってより高精度な位置合わせを行うことができる。
6.基板ホルダ11を支持する吊持部材12およびホルダ本体部11a内に連通用穴12aおよび通路11cを形成するとともに、これら連通用穴12aおよび通路11c内を大気圧下としたので、基板ホルダ11の冷却を容易に行い得るとともに、静電チャック部11bへの電気配線についても容易に行うことができる。
[実施の形態2]
次に、実施の形態2に係る真空蒸着用アライメント装置を、図7に基づき説明する。
ここで、本実施の形態2に係るアライメント装置の概略構成を示すと以下のようになる。
上記真空容器内に保持されたマスクの上方に、当該真空容器の壁体部に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持された基板の保持体と、
上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板体と、
この連結用板体を移動させて保持体に保持された蒸着室内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段と、
上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体部の貫通穴の外周と上記連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、
上記連結用板体と上記壁体部との間に設けられて、上記伸縮式筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と同等の付勢力を、当該押圧力と逆方向に発生させる空気圧シリンダとを具備し、
上記位置調整手段を、上記連結用板体をマスクの表面と平行な平面内で平行移動および回転させ得る平面内移動装置と、上記連結用板体をマスクと直交する軸心方向で移動させ得る鉛直移動装置とから構成し、
さらに上記平面内移動装置を、真空容器の壁体部側に設けられる駆動用支持機構および案内用支持機構と、これら支持機構により支持されてマスクの表面と平行に移動し得る移動板とから構成するとともに、この移動板と連結用板体とを昇降用案内機構を介して鉛直方向での移動を許容し得るようになし、
且つ上記昇降用案内機構を、上記移動板に立設されたガイド軸と、上記連結用板体側に設けられて上記ガイド軸をマスクと直交する軸心方向で移動自在に案内するガイド筒とから構成したものである。
1a 取付用フランジ
1b 貫通穴
2 蒸着室
3 真空容器
5 ガラス基板
6 マスク
11 基板ホルダ
12 吊持部材
12a 連通用穴
13 連結用板体
14 位置調整手段
15 筒状遮断部材
16 付勢手段
18 上部環状取付座
21 平面内移動装置
22 鉛直移動装置
32 駆動用支持機構
33 案内用支持機構
35 移動板
36 昇降用案内機構
42 ガイド軸
43 ガイド筒
51 取付用フレーム
61 空気圧シリンダ
Claims (3)
- 真空容器内に保持された基板の表面に蒸着材料を所定パターンでもって蒸着させる際に用いられるマスクに対して当該基板の位置決めを行うアライメント装置であって、
上記真空容器内に保持されたマスクの上方に、当該真空容器の壁体部に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持された基板の保持体と、
上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板体と、
この連結用板体を移動させて保持体に保持された蒸着室内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段と、
上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体部の貫通穴の外周と上記連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、
上記連結用板体と当該連結用板体を跨ぐように壁体部上に立設された側面視が門形状の取付用フレームとの間に設けられて、上記伸縮式筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と同等の付勢力を、当該押圧力と逆方向に発生させる空気圧シリンダとを具備し、
上記位置調整手段を、上記連結用板体をマスクの表面と平行な平面内で平行移動および回転させ得る平面内移動装置と、上記連結用板体をマスクと直交する軸心方向で移動させ得る鉛直移動装置とから構成し、
さらに上記平面内移動装置を、真空容器の壁体部側に設けられる駆動用支持機構および案内用支持機構と、これら支持機構により支持されてマスクの表面と平行に移動し得る移動板とから構成するとともに、この移動板と連結用板体とを昇降用案内機構を介して鉛直方向での移動を許容し得るようになし、
且つ上記昇降用案内機構を、上記移動板に立設されたガイド軸と、上記連結用板体側に設けられて上記ガイド軸をマスクと直交する軸心方向で移動自在に案内するガイド筒とから構成したことを特徴とする真空蒸着用アライメント装置。 - 真空容器内に保持された基板の表面に蒸着材料を所定パターンでもって蒸着させる際に用いられるマスクに対して当該基板の位置決めを行うアライメント装置であって、
上記真空容器内に保持されたマスクの上方に、当該真空容器の壁体部に形成された貫通穴を挿通された吊持部材を介して保持された基板の保持体と、
上記真空容器の外方に設けられるとともに上記吊持部材に連結された連結用板体と、
この連結用板体を移動させて保持体に保持された蒸着室内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段と、
上記吊持部材に外嵌されるとともに壁体部の貫通穴の外周と上記連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材と、
上記連結用板体と上記壁体部との間に設けられて、上記伸縮式筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と同等の付勢力を、当該押圧力と逆方向に発生させる空気圧シリンダとを具備し、
上記位置調整手段を、上記連結用板体をマスクの表面と平行な平面内で平行移動および回転させ得る平面内移動装置と、上記連結用板体をマスクと直交する軸心方向で移動させ得る鉛直移動装置とから構成し、
さらに上記平面内移動装置を、真空容器の壁体部側に設けられる駆動用支持機構および案内用支持機構と、これら支持機構により支持されてマスクの表面と平行に移動し得る移動板とから構成するとともに、この移動板と連結用板体とを昇降用案内機構を介して鉛直方向での移動を許容し得るようになし、
且つ上記昇降用案内機構を、上記移動板に立設されたガイド軸と、上記連結用板体側に設けられて上記ガイド軸をマスクと直交する軸心方向で移動自在に案内するガイド筒とから構成したことを特徴とする真空蒸着用アライメント装置。 - 空気圧シリンダによる付勢力を調整可能に構成したことを特徴とする請求項1または2に記載の真空蒸着用アライメント装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010091018A JP5153813B2 (ja) | 2010-04-12 | 2010-04-12 | 真空蒸着用アライメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010091018A JP5153813B2 (ja) | 2010-04-12 | 2010-04-12 | 真空蒸着用アライメント装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004052575A Division JP4596794B2 (ja) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | 真空蒸着用アライメント装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010163692A true JP2010163692A (ja) | 2010-07-29 |
JP5153813B2 JP5153813B2 (ja) | 2013-02-27 |
Family
ID=42580073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010091018A Expired - Fee Related JP5153813B2 (ja) | 2010-04-12 | 2010-04-12 | 真空蒸着用アライメント装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5153813B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130104139A (ko) * | 2012-03-13 | 2013-09-25 | 주식회사 아츠 | 글래스기판 회전 장치 |
JP2020147774A (ja) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109321886B (zh) * | 2018-10-29 | 2021-05-07 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种蒸镀腔体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004027291A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Tokki Corp | 蒸着装置 |
JP2004176124A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Ulvac Japan Ltd | アライメント装置、成膜装置及びアライメント方法 |
-
2010
- 2010-04-12 JP JP2010091018A patent/JP5153813B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004027291A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Tokki Corp | 蒸着装置 |
JP2004176124A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Ulvac Japan Ltd | アライメント装置、成膜装置及びアライメント方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130104139A (ko) * | 2012-03-13 | 2013-09-25 | 주식회사 아츠 | 글래스기판 회전 장치 |
JP2020147774A (ja) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
JP7223604B2 (ja) | 2019-03-12 | 2023-02-16 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5153813B2 (ja) | 2013-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4785856B2 (ja) | 真空蒸着用アライメント装置 | |
JP4624236B2 (ja) | 真空蒸着用アライメント装置 | |
JP5639431B2 (ja) | 成膜装置 | |
JP5277059B2 (ja) | 成膜装置及び成膜システム | |
KR101968801B1 (ko) | 성막 장치 | |
JP4596794B2 (ja) | 真空蒸着用アライメント装置 | |
KR101190106B1 (ko) | 진공 증착용 얼라인먼트 장치 | |
JP5153813B2 (ja) | 真空蒸着用アライメント装置 | |
KR20200012825A (ko) | 진공 챔버에서 캐리어 또는 컴포넌트를 홀딩하기 위한 홀딩 디바이스, 진공 챔버에서 캐리어 또는 컴포넌트를 홀딩하기 위한 홀딩 디바이스의 이용, 진공 챔버에서 캐리어를 핸들링하기 위한 장치, 및 진공 증착 시스템 | |
JP7048696B2 (ja) | 成膜装置 | |
TWI678421B (zh) | 真空腔室內加工基板之設備和系統及真空腔室內運輸載體之方法 | |
JP2021066952A (ja) | 成膜装置、電子デバイスの製造装置、成膜方法、および電子デバイスの製造方法 | |
JP2020111821A (ja) | 成膜装置、電子デバイスの製造装置、成膜方法および電子デバイスの製造方法 | |
KR101623203B1 (ko) | 진공척 장치 | |
KR20200059517A (ko) | 레이저 가공장치 | |
CN111434797B (zh) | 成膜装置以及电子器件的制造装置 | |
JP7051969B2 (ja) | 成膜装置 | |
JP7379072B2 (ja) | 成膜装置、電子デバイスの製造装置、成膜方法及び電子デバイスの製造装置 | |
KR102721443B1 (ko) | 얼라인먼트 기구, 얼라인먼트 방법, 성막 장치 및 성막 방법 | |
JP2020518122A (ja) | 真空チャンバ内でキャリアを操作するための装置、真空堆積システム、および真空チャンバ内でキャリアを操作する方法 | |
JP2020518123A (ja) | 真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置および真空システム、ならびにキャリアを位置合わせする方法 | |
KR20240152736A (ko) | 마스크 지지 장치 및 성막 장치 | |
KR20220075620A (ko) | 증착 시스템 | |
JP2020111823A (ja) | 成膜装置及び電子デバイスの製造装置 | |
TWI377259B (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121204 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5153813 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |