JP2010163512A - 太陽電池基材用フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】熱可塑性樹脂からなり、120℃から200℃まで20℃/分の昇温速度で昇温したときの熱膨張率が長手方向および幅方向のいずれも50ppm/℃以下であり、
波長400〜900nmの範囲での全光線透過率が平均70%以上であり、吸水率が1%以下であることを特徴とする、太陽電池基材用フィルム。
【選択図】なし
Description
本発明の太陽電池基材用フィルムは熱可塑性樹脂からなる。この熱可塑性樹脂は、溶融押出可能な熱可塑性の樹脂であり、例えば、ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドを用いることができる。高い機械的強度と、低い吸水率のフィルムを得ることができることから、熱可塑性樹脂としてポリエステルが好ましく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートを用いることができ、中でも、高い機械強度を有し、耐熱性を備えることから、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートが特に好ましい。
本発明の太陽電池基材用フィルムは、120℃から200℃まで20℃/分の昇温速度で昇温したときの熱膨張率が長手方向および幅方向のいずれも50ppm/℃以下、好ましくは45ppm/℃以下である。なお、熱膨張率は、熱機械分析装置(以下「TMA」と称する場合がある)を用い、20℃/分の昇温速度で昇温して測定した線膨張率である。
本発明の太陽電池基材用フィルムの400〜900nmの範囲における全光線透過率はこの範囲の平均値として70%以上、好ましくは75%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは,85%以上である。平均値が70%未満であると太陽電池基材を透過する光量が少なく、スーパーストレートタイプの太陽電池の基材として用いたときに、高い発電効率を得ることができない。なお、本発明における全光線透過率とは、平行光線透過率と散乱光光線透過率の和である。
本発明の太陽電池基材用フィルムの吸水率は1%以下であり、好ましくは0.8%以下である。吸水率が1%を超えると光発電層製膜プロセス中に水蒸気が放出され変換効率の高い光発電層が積層できなくなる。また、光発電層製膜前に事前にプロセス温度での乾燥を行う場合に長い時間がかかり、太陽電池の生産性に劣ることになる。
熱可塑性樹脂には、フィルムの耐候性を向上させるために、紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。紫外線吸収剤としては、少量で効果のある吸光係数の大きい化合物が好ましく、例えば、ベンゾオキサジン系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾトリアジン系の紫外線吸収剤を用いることができる。これらのなかでも高い耐久性を持つものが好ましく、ベンゾトリアジン系、ベンゾトリアゾール系またはベンゾオキサジン系の紫外線吸収剤が好ましい。紫外線吸収剤は、一種類でも複数種類を組み合わせてもよい。
本発明の太陽電池基材用フィルムの厚みは、太陽電池の支持基材としてのスティフネスを維持し、太陽電池モジュールの可撓性を確保する観点から、好ましくは25〜250μm、さらに好ましくは50〜200μm、特に好ましくは60〜125μmである。
本発明の太陽電池基材用フィルムは、太陽電池への加工工程における加熱工程で寸法変化を抑制する観点から、200℃で10分間熱処理したときの熱収縮率が、好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.8%以下、特に好ましくは0.6%以下である。
本発明の太陽電池基材用フィルムには片面もしくは両面に塗布層を設けてもよい。この塗布層として、例えば、高分子バインダーおよび微粒子からなる層や、無機物からなる層挙げることができる。
本発明の太陽電池基材用フィルムの製造方法を、熱可塑性樹脂としてポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートを用いる場合を例に、以下説明する。
なお、各特性値は以下の方法で測定した。
フィルムから、2種類のサンプルを切り出した。一方はフィルムの長手方向に沿って長さ20mm、幅5mmの長方形のサンプルであり、他方はフィルムの幅方向に沿って長さ20mm、幅5mmの長方形のサンプルである。
これらのサンプルそれぞれについて、セイコーインスツルメンツ(株)製のTMA/SS120Cを用い、チャック間距離15mmにて140g/mm2の荷重をかけた状態で200℃で30分間前処理をして、その後、室温まで降温させ、それぞれ長手方向の熱膨張率測定用サンプルおよび幅方向の熱膨張率測定用サンプルとした。
それぞれの測定用サンプルを30℃から200℃まで20℃/分の昇温速度で昇温させて、温度とサンプル長さのチャートを得た。このチャートからL1,L2,L3を読み取り、30℃から120℃まで20℃/分の昇温速度で昇温したときの熱膨張率αt(120)および120℃から200℃まで20℃/分の昇温速度で昇温したときの熱膨張率αt(200)を、下記式で算出した。
αt(120)={〔(L2−L1)×106〕/(L1×ΔT1)}+0.5
αt(200)={〔(L3−L2)×106〕/(L2×ΔT2)}+0.5
ここで、
L1; 30℃時のサンプル長(mm)
L2; 120℃時のサンプル長(mm)
L3; 200℃時のサンプル長(mm)
ΔT1;90℃=(120℃− 30℃)
ΔT2;80℃=(200℃−120℃)
である。なお、上記中の0.5は本測定の試料管に使用している石英ガラスの熱膨張係数(ppm/℃)である。
JIS K7209−1984 A法 に準拠して測定した。すなわち、サンプルを、50℃で24hrの前処理を行い、サンプルの浸漬処理前の重量(M1)を測定し、この後、23℃×55RH%の環境下でイオン交換水に24hr浸漬する浸漬処理を行った。その後取り出し、浸漬処理後のサンプルの重量(M2)を測定し、浸漬前後でのサンプルの重量変化から、下記式でサンプルの吸水率を算出した。
吸水率(%)=(M2−M1)/M1×100
オルソクロロフェノール溶媒による溶液の粘度を35℃にて測定し求めた。
フィルムサンプルをエレクトリックマイクロメーター(アンリツ製 K−402B)にて10点厚みを測定して平均値を求めフィルム厚みとした。
フィルムサンプルに30cm間隔で標点をつけ、荷重をかけずに所定の温度のオーブンで所定時間熱処理を実施し、熱処理後の標点間隔を測定して、フィルム連続製膜方向(MD方向)と、製膜方向に垂直な方向(TD方向)において、下記式にて熱収縮率を算出した。この熱処理前の標点間距離L0と熱処理後の標点間距離Lをそれぞれ測定し、熱処理後の寸法変化率を熱収縮率S(%)として下式により算出した。
S(%)=((L0−L)/L0)×100
フィルムサンプルの表面に、スパッタリング法によって200nmの厚みのAg薄膜を形成し、さらにその上に50nmの厚みのAZO薄膜を形成した。その後、これらの薄膜が形成されたフィルムサンプルをプラズマCVD装置に入れ、基板温度を190℃とし、n、i、p型の非晶シリコン(a−Si)層の3層からなる光電変換層(3層の合計厚み0.4μm)を形成した。その後、升目上マスクを設置状態でスパッタリング法によって、190℃温度下でAZO薄膜を100nmの厚みで形成したのち、櫛状のマスクを用いてスパッタリングによってAg薄膜を300nmの厚みで形成することで、薄膜太陽電池を得た。
500Wのキセノンランプ(ウシオ電気社製)に太陽光シミュレーション用補正フィルター(オリエール社製AM1.5Global)を装着し、上記の薄膜太陽電池に対し、入射光強度が100mW/cm2の模擬太陽光を、水平面に対して垂直になるよう照射した。システムは屋内、気温25℃、湿度50%の雰囲気に静置した。電流電圧測定装置(ケースレー製ソースメジャーユニット238型)を用いて、システムに印加するDC電圧を10mV/秒の定速でスキャンし、I−Vカーブ特性測定をおこなった。この結果から得られた短絡電流(Jsc)および開放電圧(Voc)FF(フィルファクター:曲線因子)から光電変換効率ηを下記式により算出した。
η(%)=Jsc×Voc×FF
また、これらの測定の際に、ショートおよび電流のリークが起こらず発電したセル数をAとし、作成した全セル数をBとして、これらの比A/Bから動作率(%)を算出した。
動作率(%)=A/B×100
分光光度計(島津製作所製MPC3100)を用い、波長範囲400nm〜900nmの光線透過率を、2nm間隔で測定した。測定した各波長の光線透過率の平均から400〜900nmでの全光線透過率を算出した。
全光線透過率 = ΣTn /m
ここで、ΣTnは各波長の光線透過率の合計、mは測定点の数である。
ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート(非晶密度1.33、固有粘度:0.65)を、170℃で6時間乾燥させた後に押出機に供給し、溶融温度305℃でスリット状ダイより押出して、表面温度を50℃に維持した回転冷却ドラム上で急冷固化させて未延伸フィルムを得た。
次いで縦方向に140℃で4.0倍に延伸した後、横方向に145℃で4.0倍に延伸し、245℃で5秒間熱固定処理および幅方向に2%収縮させ、厚さ100μmのフィルムを得た。さらに得られたフィルムを200℃10分加熱し弛緩することで内部の歪を取り除いた。得られたフィルムの特性は表1のとおりであり、得られたフィルムを用いて作成したスーパーストレートタイプの薄膜太陽電池の特性は表1のとおりである。
延伸倍率を、縦方向3.8倍および横方向3.8倍とした以外は実施例1と同様の方法を用いてフィルムおよびスーパーストレートタイプの薄膜太陽電池を作成した。特性は表1の通りである。
弛緩後のフィルムの表面にスパッタリングにより酸化ケイ素層を両面にそれぞれ150nmの厚みで積層した以外は実施例1と同じ方法でフィルムおよびスーパーストレートタイプの薄膜太陽電池を作成した。各特性は表1の通りである。
延伸倍率を縦方向3.1倍、横方向3.3倍とした以外は実施例1と同様の方法を用いてフィルムおよびスーパーストレートタイプの薄膜太陽電池を作成した。特性は表1のとおりであり、太陽電池動作率は低かった。
Claims (3)
- 熱可塑性樹脂からなり、120℃から200℃まで20℃/分の昇温速度で昇温したときの熱膨張率が長手方向および幅方向のいずれも50ppm/℃以下であり、波長400〜900nmの範囲での全光線透過率が平均70%以上であり、吸水率が1%以下であることを特徴とする、太陽電池基材用フィルム。
- 熱可塑性樹脂がポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートである、請求項1記載の太陽電池基材用フィルム。
- スーパーストレートタイプの太陽電池基材として用いられる、請求項1記載の太陽電池基材用フィルム。
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