JP2010147469A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レンズ加熱のモデルは、特性への冷却の影響をモデル化する部分と、特性への加熱の影響をモデル化する部分とを有する。
【選択図】図4
Description
tは第1の露光の開始に対する時間であり、
μk、μhはスケーリング要因であり、添え字kおよびhは、前の露光および現在の露光の全応答が多数の時定数およびスケーリング要因によって記述されることを示し、
τh、τkは冷却および加熱からの時定数であり、
Pは素子を通過するパワー(1つの露光時間x内の)(すなわち、線量、フィールドサイズ、パターニングデバイス(例えばマスク)透過、および露光の回数)、
xは露光間の時間および露光時間である。本発明の一実施形態で得られた測定値を使用して様々な時定数を決定することができる。
k=0、新しいロットの開始(測定13)では、
A1(t)+A2(t)=μ1 (3)
k=1、t=x、均一の露光(測定16)では、
ここで、幾何級数を使用する。
露光前/冷却後:
Claims (11)
- 処方に従って露光を行うリソグラフィシステムの投影システムの特性への影響のモデルを較正する方法であって、
前記投影システムの前記特性の第1の測定を行って第1の測定結果を生成するステップと、
前記処方に従って基板を露光するステップと、
前記投影システムの前記特性の第2の測定を行って第2の測定結果を生成するステップと、
前記投影システムをある期間冷却できるようにするステップと、
前記投影システムの前記特性の第3の測定を行って第3の測定結果を生成するステップと
を順番に含み、
前記モデルが前記特性への前記加熱の影響をモデル化する第1の部分と、前記特性への前記冷却の影響をモデル化する第2の部分とを有し、前記第1の部分および前記第2の部分を較正するために前記第1、第2、および第3の測定結果が使用される方法。 - 前記処方に従って第2の基板を露光するステップと、
前記投影システムの前記特性の第4の測定を行って第4の測定結果を生成するステップと、
前記投影システムをある期間冷却できるようにするステップと、
前記投影システムの前記特性の第5の測定を行って第5の測定結果を生成するステップと
を順番にさらに含み、
前記第3および第4の測定結果を使用して前記第1の部分を較正し、前記第4および第5の測定値を使用して前記第2の部分を較正する、請求項1に記載の方法。 - 前記特性が、非点収差オフセット、フィールド湾曲、非点収差湾曲、拡大、3次歪み、またはゼルニケの多項式およびゼルニケの多項式の和によって記述される収差からなる群から選択された少なくとも1つの特性である、請求項1または2に記載の方法。
- 前記測定値を使用して、加熱曲線および冷却曲線の時定数を決定する、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の部分が、
前記第2の部分が、
- 前記基板が露光されたテーブルから該基板が取り出され、前記投影システムを冷却することが可能である間に第2の基板が前記テーブル上にロードされる、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記投影システムの前記特性の第2および第3の測定を行う前記ステップが、前記投影システムのそれぞれ第1および第2の開口数で行われる、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 処方に従って露光を行うリソグラフィシステムの投影システムの特性への影響のモデルを較正するステップであって、
前記投影システムの前記特性の第1の測定を行って第1の測定結果を生成するステップと、
前記処方に従って基板を露光するステップと、
前記投影システムの前記特性の第2の測定を行って第2の測定結果を生成するステップと、
前記投影システムをある期間冷却できるようにするステップと、
前記投影システムの前記特性の第3の測定を行って第3の測定結果を生成するステップと
を順番に含み、
前記モデルが前記特性への前記加熱の影響をモデル化する第1の部分と、前記特性への前記冷却の影響をモデル化する第2の部分とを有し、前記第1の部分および前記第2の部分を較正するために前記第1、第2、および第3の測定結果が使用される、較正するステップと、
修正処置を計算して第2の基板の露光においてレンズ加熱の影響を補償または改善するステップと、
前記処方に従って前記第2の基板を露光し、前記修正処置を行うステップと
を含むデバイス製造方法。 - 前記第2の基板を露光する前記ステップが少なくとも1つの他の処方による基板の露光の後に行われる、請求項8に記載の方法。
- 投影システムを使用してパターニングデバイスからのパターンを基板上に投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、
前記投影システムの特性を測定するように構成されたセンサと、
処方による基板の露光の前の第1の測定結果、前記露光の後の第2の測定結果、および前記投影システムをある期間冷却できるようにした後の第3の測定結果とを生成するために前記センサを制御するためのコントローラと、
前記処方に従って露光を行うことの前記投影システムの特性への前記影響のモデルを記憶する記憶デバイスであって、前記モデルが、前記特性への前記加熱の影響をモデル化する第1の部分と、前記特性への前記冷却の影響をモデル化する第2の部分とを有し、前記第1の部分および前記第2の部分を較正するために前記第1、第2、および第3の測定結果が使用される記憶デバイスと
をさらに含む装置。 - 前記記憶デバイスが、複数の処方に従って露光を行う前記投影システムの特性への前記影響の複数のモデルを記憶する、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
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