JP2010145533A - 基板合着装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板間の間隔を調節するために上定盤と下定盤の間隔を調整するとき、微細な回転現象の発生がなく、上定盤全体が均一に移動できる基板合着装置を提供する。
【解決手段】上部チャンバー300と、上記上部チャンバー300の下方に配置されて、板形状に形成される上定盤と、上記上定盤の外側端に突出して設けられる支持ピン350と、上記上部チャンバー300に接して基板の合着空間を形成する下部チャンバー400と、上記支持ピン350を支持して、端部が上記支持ピン350を受容する溝形状のプッシュロード412と、上記下部チャンバー400の縁部に設けられ、上記プッシュロード412を昇降させるアクチュエータ411と、を包含して構成する。
【選択図】図2

Description

本発明は、基板合着装置に関するもので、より詳しくは、平板表示パネルの製造工程において基板を合着させるために設けられる平板表示パネル用の基板合着装置に関するものである。
情報化社会の発展に連れ表示装置に対する要求も様々な形態に増加してきた。最近ではLCD(Liquid Crystal Display)、PDP(Plasma Display Pannel)、ELD(Electro Luminescent Display)など多様な平板表示装置が研究され、その一部は既に実生活に広用されている。
その中でLCDの場合はCRT(Cathode Ray Tube)に比べて画質に優れ、軽量、薄型及び低消費電力の特徴を有して、移動型画像表示装置の用途として広用されている。LCDに使われる液晶表示パネルの代表的な例としてTFT−LCDパネルが挙げられる。TFT−LCDパネルは、複数のTFT(Thin Film Transistor)がマトリックス状に形成されたアレイ基板と、カラーフィルターや遮光幕などが形成されたカラーフィルター基板と、が数μm程度の間隔を有して互いに対向して合着されて、合着前、合着中または合着後に液晶が注入されて封止されることによってパネルの製造が行われる。
従って、LCDに使われる液晶表示パネルを製造するためにはアレイ基板及びカラーフィルター基板をそれぞれ製造した後、それら基板を合着し、それら間の空間に液晶物質を注入する工程が必須で、この中でも基板を合着させる工程はLCDの品質を決定する重要な工程中の一つである。
一般に基板合着工程は、内部を真空状態に形成させる上部チャンバー及び下部チャンバーにより構成される基板合着装置により行われる。一方、上部チャンバーと下部チャンバーにそれぞれ付着された基板は、上部チャンバーに付着された基板が移動しながら基板間の間隔を調節し、下部チャンバーに付着された基板を移動させて各基板の整列状態を調節するように構成される。
そして、各チャンバーから発生する構造的変形が基板に伝達されることを防止すると共に基板間の整列や間隔調節のために各チャンバーの内部には定盤、チャック及び整列装置などの部品が設けられ、各部品は各チャンバーの内側にボルトなどの結合部材により結合される。
上述したように、上部チャンバーと下部チャンバーの構造を有する基板合着装置は、上部チャンバーの下方に位置する上定盤と下部チャンバーの上面に位置する下定盤間の間隔を調整するために支持ピンを上定盤の外側端に設ける。上記支持ピンは、下部チャンバーの縁部に位置する駆動モジュール上に位置されて、駆動モジュールにより基板間の間隔が調節される。ただし、基板の水平移動を拘束するために板スプリングを支持ピンが設けられない面に設ける。
特開2004−311934
しかし、板スプリングを設けても板スプリングの製作状態によって上定盤と下定盤間の間隔調整時に微細な回転現象が発生する。また、板スプリングの弾性がそれぞれ相違に製作され、それによって上定盤と下定盤間の間隔を調整するときに、上定盤全体が均一に移動しない場合がある。即ち、基板間の間隔を調節するために上定盤と下定盤の間隔を調整する時、微細な回転現象が発生する事もあり、上定盤全体が均一に移動しないときもあるという不都合な点がある。
本発明の目的は、基板間の間隔を調節するために上定盤を下定盤側へ移動する時、上定盤全体の回転現象がなく、上定盤全体の均一な移動ができる、基板合着装置を提供するものである。
本発明は基板合着装置を提供する。基板合着装置は、上部チャンバーと、上記上部チャンバーの下方に配置されて、板形状に形成される上定盤と、上記上定盤の外側端に突出して設けられる支持ピンと、上記上部チャンバーに接して基板の合着空間を形成する下部チャンバーと、上記支持ピンを支持して、端部が上記支持ピンを受容する溝形状のプッシュロードと、上記下部チャンバーの縁部に設けられ、上記プッシュロードを昇降させるアクチュエータと、を包含して構成される。
本発明は、上定盤を下定盤側へ移動時、上定盤全体で回転現象が発生することを防止し、上定盤全体を均一に移動させることによって従来の基板合着装置に比べて基板間の間隔を一定に維持することができる。また、基板間の間隔を一定に維持して基板を合着させることができるので、合着される基板の不良率を低減し得るという効果がある。
図1は、本発明に係る基板合着装置を示した概略断面図である。
図1を参照すると、基板合着装置100は、フレーム200、上部チャンバー300、下部チャンバー400及び駆動部500を含む。
フレーム200は、基板合着装置100の外形を形成し各構成部を支持して固定するためのものである。フレーム200は、フレーム200の下部を形成してベース220の縁部に固定される複数の柱210と、駆動部500を固定させるベース220と、を包含して構成される。各柱210間には、それら柱210の強度を補強するための別途の梁(未図示)と支柱(未図示)が追加設けられる。
上部チャンバー300は、フレーム200の上部に固定され、下部チャンバー400と密着して合着空間を形成する。上部チャンバー300は、下部チャンバー400と密着して合着空間を形成する上部チャンバー本体310と、上部チャンバー本体310の外側方向へ突出しフレーム200の各柱210が貫通して固定される複数の支持バー320と、を含む。
上部チャンバー本体310の下側には上定盤330が配置される。上定盤330の下面には上部チャック340が付着される。上部チャック340は、板状に形成され、第1基板P1を付着する。上部チャック340は、静電力により第1基板P1を付着する静電チャック(ESC:Electrostatic Chuck)により形成されることが好ましい。上定盤330は、上部チャック340と一体に形成されることもできる。この時、上定盤330は第1基板P1を付着する。
上定盤330の外側端には支持ピン350が突出して設けられる。支持ピン350は後述するプッシュロード412により支持される。支持ピン350は円柱状に形成されることが好ましい。
上部チャンバー本体310の上面には、第1基板P1と第2基板P2の相対的位置を調節するためのカメラ部360と、上部チャック340に第1基板P1を付着または分離させるために第1基板P1を吸着または加圧する基板分離装置370と、が配置される。
カメラ部360は、上部チャンバー本体310及び上定盤330に形成された貫通孔361を通して上定盤330の上部チャック340に付着された第1基板P1及び後述する第2基板P2の整列状態を判読する。
カメラ部360は、第1基板P1と第2基板P2に形成される整列マーク(未図示)を重畳して観測できるように取り付けられ、少なくとも第1基板P1と第2基板P2の対角された二つのエッジ以上を重畳観測するように配置される。
基板分離装置370は、上部チャンバー本体310と上定盤330を貫通して配置される複数の分離ピン371と、上部チャンバー本体310の外部に配置されて分離ピン371を昇降させる分離ピン作動体372と、を含む。
分離ピン371は、中空管状に形成され、後述する排気部600に連結されて排気部600により分離ピン371の内部に真空圧が形成されると第1基板P1を吸着するように配置される。
排気部600は、上部チャンバー本体310と後述する下部チャンバー400により形成される合着空間に真空圧を形成するためのものである。排気部600は、上部チャンバー本体310と下部チャンバー400により形成される合着空間に連通される排気管610と、排気管610を通して合着空間に真空圧を形成する真空ポンプ(未図示)と、を含む。
排気管610は、合着空間に真空圧を形成するための真空ポンプが連結されて、真空圧を形成すると同時に合着時に必要なN2工程ガスを供給するか、合着空間の圧力を大気圧状態の圧力に形成するための圧力気体を供給し得るように形成される。
下部チャンバー400は、上部チャンバー300の下部に配置され、上部チャンバー300側に昇降しながら上部チャンバー本体310に密着されて合着空間を形成する。下部チャンバー400の上面には下定盤420が付着される。下定盤420の上面には下部チャック430が付着される。下部チャック430は第2基板P2を付着する。下部チャック430は静電力により第2基板P2を付着する静電チャックにより形成されることが好ましい。下定盤420は下部チャック430と一体に形成されることができる。この時、下定盤420は第2基板P2を付着する。
下部チャンバー400の縁部には上部チャンバー本体310の下面に接触して合着空間の気密を維持するためのシーリング部材440が設けられる。
下部チャンバー400の縁部には、上部チャンバー本体310を貫通して上定盤330から突出される支持ピン350を支持して、上定盤330と下定盤420間の間隔を調節するための間隔調節部410が配置される。
下部チャンバー400の下面には、第2基板P2を下部チャック430に付着するか、または、下部チャック430に付着された第2基板P2を下部チャック430から分離するための基板昇降装置450が配置される。
基板昇降装置450は、下部チャンバー400を貫通して配置される複数の昇降ピン451と、下部チャンバー400の外部に位置されて複数の昇降ピン451を昇降させる昇降ピン作動体452と、を含む。
下部チャンバー400の下面には、後述する駆動部500により支持され、下部チャンバー400の位置を調節して上部チャンバー本体310及び下部チャンバー400を整列する位置調節ステージ460が設けられる。
駆動部500は、フレーム200の下部に配置されて、下部チャンバー400と上部チャンバー300が合着空間を形成するように下部チャンバー400を上部チャンバー300側に昇降させる。駆動部500は、フレーム200のベース220の縁部に設けられる複数の昇降装置510と、昇降装置510により支持される昇降板520と、を含む。
そして、昇降装置510は、昇降板520を支持する昇降柱511と、昇降柱511を昇降させる昇降体512と、を含む。
このような昇降体512は、昇降板520を昇降させるための動力を直接発生させる油圧シリンダー(未図示)により構成されるか、モータ(未図示)と、モータにより発生される動力の方向を転換すると同時に減速させる減速機(未図示)と、減速機の回転運動を直線運動に転換させるためのスクリュー結合体(未図示)と、の組合せにより構成される。このような昇降体512の構造は様々な実施例により具現することが可能で、上述した構造に限定されるものではない。
図2は、本発明の一実施例に係る間隔調節部の内部構造を正面から見た断面図である。図3は、本発明の一実施例に係る間隔調節部を示した部分切開斜視図である。図4は、本発明の一実施例に係る間隔調節部を示した側断面図である。図5は、本発明の一実施例に係る上定盤及び支持ピンを示した平面図である。
図2〜図4を参照して本発明の一実施例に係る間隔調節部410を説明する。間隔調節部410は、上定盤330に形成される複数の支持ピン350を支持するように配置される。間隔調節部410は、アクチュエータ411及びプッシュロード412を含む。
アクチュエータ411は、下部チャンバー400の縁部に設けられて、プッシュロード412を昇降させる役割をする。プッシュロード412は、支持ピン350を支持して、アクチュエータ411により昇降される。
プッシュロード412の端部は、上定盤330に配置された支持ピン350を受容できる溝の形状である。例えば、プッシュロード412の端部は凹溝形状になる。従って、プッシュロード412は、支持ピン350の長手方向を横切る方向への移動を拘束する。ここでは、プッシュロード412の端部の形状を溝形状に説明したが、これに限定されるものではない。従って、支持ピン350の長手方向を横切る方向への移動を拘束する形態であれば、プッシュロード412の端部の形状には制限がない。
図5を参照すれば、支持ピン350は複数個であり、上定盤330の各外側端に設けられる。上定盤330の一側端と、上記一側端と対向する他側端にだけ支持ピン350が設けられると、上定盤330の昇降による各基板P1、P2間の間隔調整時に水平移動を拘束することができない。従って、支持ピン350が上定盤330の各外側端に設けられると、上定盤330の昇降による各基板P1、P2間の間隔調整時に水平移動を拘束することができるので、各基板P1、P2間の間隔を一定に維持しながら上定盤330が昇降する。
支持ピン350及びプッシュロード412の数量は一つまたはそれ以上である。従って、支持ピン350及びプッシュロード412の数量には制限がない。但し、支持ピン350は、上定盤330の各外側端に設けられる。
図6は、本発明の他の実施例に係る間隔調節部の内部構造を正面から示した断面図である。図7は、本発明の他の実施例に係る間隔調節部を示した側断面図である。図8(a)および図8(b)は、本発明の他の実施例に係る上定盤及び支持ピンを示した平面図である。
図6及び図7を参照して本発明の他の実施例に係る間隔調節部410を説明する。間隔調節部410は、上定盤330に設けられる複数の支持ピン350を支持するように配置される。間隔調節部410は、アクチュエータ411、プッシュロード412及び弾性部材413を含む。
アクチュエータ411は、下部チャンバー400の縁部に設けられて、プッシュロード412を昇降させる役割をする。プッシュロード412は、支持ピン350を支持してアクチュエータ411により昇降される。
プッシュロード412の端部は、上定盤330に配置された支持ピン350を受容できる溝の形状である。例えば、プッシュロード412の端部は凹溝形状になる。従って、プッシュロード412は、支持ピン350の長手方向を横切る方向への移動を拘束する。ここでは、プッシュロード412の端部の形状を溝形状に説明したが、これに限定されるものではない。従って、支持ピン350の長手方向を横切る方向への移動を拘束する形態であれば、プッシュロード412の端部の形状には制限がない。
弾性部材413は、支持ピン350終端を上部チャンバー300に対して弾力支持する。
例えば、弾性部材413はボールプランジャー413である。ボールプランジャー413は、支持ピン350の長手方向への移動を拘束する役割をする。即ち、アクチュエータ411により支持ピン350が昇降される時、支持ピン350はボールプランジャー413のボールと接触して上下へ移動するので支持ピン350は長手方向へ移動しない。
図8(a)及び図8(b)を参照すると、支持ピン350は複数個で、上定盤330の外側端に沿って互いに対向する位置にそれぞれ設けられる。支持ピン350は、プッシュロード412により支持されて水平移動が拘束され、また、支持ピン350は、ボールプランジャー413により水平移動が拘束される。従って、支持ピン350は、プッシュロード412及びボールプランジャー413により水平移動が拘束されるので、支持ピン350を上定盤330の全ての外側端に設ける必要がなく、上定盤330の外側端に沿って互いに対向する位置にだけそれぞれ設ける。
同様に、支持ピン350、プッシュロード412及びボールプランジャー413の数量は一つまたはそれ以上である。従って、支持ピン350、プッシュロード412及びボールプランジャー413の数量には制限がない。但し、支持ピン350は上定盤330の外側端に沿って互いに対向する位置にそれぞれ設ける。
図9は、本発明の実施例に係る基板合着装置の作動を示したフローチャートである。
図9を参照すると、先ず、第1基板P1及び第2基板P2は基板供給装置(未図示)により上部チャンバー300と下部チャンバー400間に供給される(S110)。
第1基板P1が先に供給される場合は、第1基板P1が上部チャンバー300と下部チャンバー400間に進入されて、上部チャンバー本体310に配置された上定盤330の上部チャック340により付着される。
第2基板P2が供給されると、下部チャンバー400に配置された昇降ピン451が昇降ピン作動体452により下部チャンバー400の上部に上昇し、上昇する昇降ピン451により上部チャンバー300と下部チャンバー400間に位置する第2基板P2が支持される。昇降ピン451が昇降ピン作動体452により下降されると、昇降ピン451により支持された第2基板P2が一緒に下降され、第2基板P2の下部に位置する下定盤420の下部チャック430の付着力により下部チャック430に付着される。
第1基板P1及び第2基板P2の付着が終了すると、駆動部500により下部チャンバー400が上部チャンバー300側へ上昇しながら整列される(S120)。
下部チャンバー400が支持される昇降板520は、独立的に作動可能な複数の昇降装置510により支持される。各昇降装置510に配置された昇降体512を独立的に作動させて、各昇降体512により昇降される昇降柱511により昇降板520の垂直位置状態が調節される。この時、カメラ部360は、第1基板P1及び第2基板P2の整列マーク(未図示)を撮影して第1基板P1及び第2基板P2の整列状態を確認する。そして、駆動部500により下部チャンバー400が昇降されると、下部チャンバー400と駆動部500の昇降板520間に設けられた位置調節ステージ460により下部チャンバー400及び上部チャンバー本体310の水平位置整列が行われる。
下部チャンバー400及び上部チャンバー本体310の位置整列が終了すると、下部チャンバー400の上面が上部チャンバー本体310の下面に密着しながら第1基板P1と第2基板P2の合着のための合着空間が形成される(S130)。上部チャンバー本体310と下部チャンバー400は、下部チャンバー本体310の縁部に配置されたシーリング部材440により気密が維持される。
合着空間が形成されると、間隔調節部410は、上部チャンバー300と下部チャンバー400にそれぞれ付着された第1基板P1と第2基板P2間の間隔を調節する(S140)。即ち、第1基板P1と第2基板P2間の間隔を一定に維持するために間隔調節部410のアクチュエータ411が作動すると、アクチュエータ411により第1基板P1が付着された上部チャック340及び上定盤330が下降する。
第1基板P1と第2基板P2が一定距離を維持すると上定盤330の下降が停止して、排気部600は上部チャンバー300と下部チャンバー400により形成された合着空間に真空圧を形成する(S150)。この時、合着空間に真空圧を形成する過程でも間隔調節部410により第1基板P1と第2基板P2間の間隔が一定に維持される。
合着空間の真空圧形成が終了すると、上部チャック340に付着された第1基板P1を下部チャック430に付着された第2基板P2の上部に自由落下させて、第1基板P1と第2基板P2を仮接合させる(S160)。
仮接合された第1基板P1と第2基板P2の外部にN2工程ガスを供給して圧力を加えることによって、第1基板P1と第2基板P2は堅固に接着されて合着される(S170)。即ち、合着空間の圧力を上昇させると、仮接合された第1基板P1と第2基板P2の内部と外部間の圧力差によって第1基板P1と第2基板P2は合着される。
第1基板P1と第2基板P2の合着が終了すると、合着空間の圧力を大気圧状態に復元して、合着された基板を基板合着装置100の外部へ搬出する(S180)。この時、大気圧状態に復元する理由は、圧力の制御が容易で、その後の基板搬出作業が大気圧状態で行われるので、それ以上の工程が不必要であるからである。
以上、本発明の好ましい実施例に関して詳細に説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、添付された特許請求の範囲に定義された本発明の精神及び範囲を外れずに本発明を様々に変形して実施することができる。従って、本発明の今後の実施例の変更は本発明の技術を外れることができない。
例えば、本発明に他の付加的な機能を有する構成要素を追加したり、または、他の構成要素に交替して実施することができる。然し、変形された他の実施例が本発明の必須構成要素を含むなら本発明の技術的範囲に含まれると見なければならない。
本発明に係る基板合着装置を示した概略断面図である。 本発明の一実施例に係る間隔調節部の内部構造を示した正面断面図である。 本発明の一実施例に係る間隔調節部を示した部分切開斜視図である。 本発明の一実施例に係る間隔調節部を示した側断面図である。 本発明の一実施例に係る上定盤と支持ピンを示した平面図である。 本発明の他の実施例に係る間隔調節部の内部構造を示した正面断面図である。 本発明の他の実施例に係る間隔調節部を示した側断面図である。 本発明の他の実施例に係る上定盤と支持ピンを示した平面図である。 本発明の他の実施例に係る上定盤と支持ピンを示した平面図である。 本発明の実施例に係る基板合着装置の作動を示したフローチャートである。
符号の説明
100:基板合着装置
200:フレーム
300:上部チャンバー
330:上定盤
350:支持ピン
400:下部チャンバー
410:間隔調節部
411:アクチュエータ
412:プッシュロード
413:弾性部材
500:駆動部
600:排気部

Claims (5)

  1. 上部チャンバーと、
    上記上部チャンバーの下方に配置されて、板形状に形成される上定盤と、
    上記上定盤の外側端に突出して設けられる支持ピンと、
    上記上部チャンバーに接して基板の合着空間を形成する下部チャンバーと、
    上記支持ピンを支持して、端部が上記支持ピンを受容する溝形状のプッシュロードと、
    上記下部チャンバーの縁部に設けられ、上記プッシュロードを昇降させるアクチュエータと、
    を包含して構成されることを特徴とする基板合着装置。
  2. 上記支持ピンは複数個で、上記上定盤の各外側端に設けられることを特徴とする請求項1記載の基板合着装置。
  3. 上記支持ピンの終端を上記上部チャンバーに対して弾力支持する弾性部材を更に包含して構成されることを特徴とする請求項1記載の基板合着装置。
  4. 上記弾性部材は、ボールプランジャーであることを特徴とする請求項3記載の基板合着装置。
  5. 上記支持ピンは一対で、上記上定盤の外側端に沿って相互対向する位置にそれぞれ設けられることを特徴とする請求項3または4に記載の基板合着装置。
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