JP2010139555A - 液晶パネルおよび液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】歩留まりを低下させることなく、外圧に対する信頼性の低下を抑制した液晶パネルおよびそれを備えた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶層６０を介して互いに対向する一対のアレイ基板４０および対向基板５０のそれぞれの対向面４０Ａ，５０Ａに、アレイ基板４０および対向基板５０の間隙を規定するスペーサ４６以外に、柱状構造物４５，５６が設けられている。柱状構造物４５，５６は、対向面４０Ａ，５０Ａの法線方向において所定の間隙を介して互いに対向配置されている。
【選択図】図２

Description

本発明は、外圧対策の施された液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、薄型、軽量、低消費電力といった利点を有する。このため、液晶表示装置は、携帯電話、デジタルカメラなどのモバイル用途の電子機器において多く使用されている。液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層が封入された液晶パネルを有している。液晶表示装置では、その液晶パネルの背面に設けられたバックライトからの照射光を液晶パネルで変調し、その変調光を液晶パネルの正面から外部に出力することにより、画像の表示が行われる。

近年、液晶表示装置において、画面上に表示されたアイコンなどをユーザが指やペンなどでタッチすることによりデータを入力するタッチパネルと呼ばれるセンサ機能が搭載されるようになってきている。通常、タッチパネルは、液晶表示装置の画面上に示す指示内容を指やペンなどで選択できるようにするために、指やペンなどの接触面（つまり、液晶表示装置の最上面）に設置される。タッチパネルは、指やペンなどが接触した位置を検知し、接触位置に対応した指示内容を入力信号として出力する。このように、タッチパネルは、コンピュータ等で一般的に使用されるキーボードやマウスや、携帯電話などのモバイル製品で一般的に使用されるキーバッドなどを必要としないことから、その使用が拡大している傾向にある。

しかし、上述したようなタッチパネルにはいくつかの問題点があった。例えば、タッチパネルを液晶表示装置の最上面に配置した場合には、液晶表示装置自体の厚みやサイズが増大してしまう。また、屈折界面の影響により光学特性が低下したり、タッチパネルを液晶パネルとは別体で製造することより製造コストが増大したりするなどの問題もあった。そのため、最近では、液晶パネルとタッチパネルを一体に形成することが検討されている。このような一体形成は、上で例示した問題の解決の他に、いくつかのメリットも得ることが可能である。例えば、液晶パネル内の既存の配線（例えば表示用のアレイ配線）を共用することができるので、高解像度、多点検出などの付加機能も得ることができる。

一体形の液晶表示装置として、例えば、特許文献１では、指やペンなどの接触による外圧が接触面にかかったときに、対向基板の電極とアレイ基板の電極とを電気的に接触させ、それにより接触位置を検出する機構を備えた液晶表示装置が提案されている。

特開２００７−９５０４４号公報 特開２００７−５２３６８号公報 特開２００５−１２２１５０号公報

しかし、上記特許文献１の技術には大きな問題点がある。通常、対向基板とアレイ基板との間の液晶を配向させる配向膜が、対向基板およびアレイ基板のそれぞれの対向面に積層されている。従って、位置検出の際に用いられる電極の表面上にも配向膜が存在することになる。この配向膜は通常、絶縁性材料によって構成されている。そのため、外圧によって対向基板の電極とアレイ基板の電極とが接触したときに、電極間に配向膜が介在するので、接触感度が低く、指やペンなどで接触面を強く押すことが必要となる。また、指やペンなどによる接触を繰り返し行うと、電極上の配向膜が傷つき、剥がれてしまうことがある。その結果、配向不良が生じたり、剥がれた配向膜が液晶中を浮遊して表示不良が生じたりする虞があり、繰り返し使用に対する信頼性が低い。

そのような問題に対して、例えば、特許文献２では、対向基板側の配向膜およびアレイ基板側の配向膜の少なくとも一方において、位置検出の際に接触する部分を除去することが提案されている。しかし、特許文献２に記載の方法を用いるためには、配向膜の除去工程が別途必要になる。特許文献２には、配向膜の除去方法として、インクジェットにより、溶剤を塗布し、焼成する前の配向膜を溶かすことが記載されている。だが、そのような方法を用いた場合には、溶剤の滲み、位置精度の問題、製造コストの増大、スループットの低下、溶剤のハネなど、種々の問題による歩留まり低下を引き起こす。

また、通常の液晶製造プロセスにはインクジェットのような装置は無い。そのため、既存の設備を流用することができず、新規の設備投資が必要になる。また、配向膜の除去に、リソグラフィーなどの他のプロセスを選択することも考えられる。しかし、工程が増えるので、生産性の低下や、製造コストの増大を引き起こす。また、特性の面では、配向膜を除去する際のマージンが必要となるので、開口率が低下してしまう。また、信頼性の面でも、焼き付きなどの信頼性への影響や、配向膜材料の自由度の低下なども懸念される。

配向膜の外圧による擦れは、このようなセンサ内蔵型のデバイスに限られた問題ではない。従来、表示面を保護するカバーを液晶パネル上に付ける際には、カバーを、エアギャップなどを介して設置したりして、液晶パネルに外圧が直接かかりづらく、かかっても弱い力しかかからない構造が採用されていた。しかし、最近では、薄型化の要請によって、エアギャップを介さずに、カバーを液晶パネルに直接貼り合わせる構造や、カバーそのものをなくし、ウィンドウレスといわれる液晶パネルがむき出しの構造が採用されたりするようになってきた。そのため、液晶パネルに直接、大きな外圧がかかるようになってきた。更には、液晶パネルのガラス厚も薄型化が進み、外圧による液晶パネルの変形量が増えたので、液晶パネルの内部構造を強化することが必要となってきている。

そこで、例えば、特許文献３に記載されているように、従来から設けられていたスペーサとは異なる第２のスペーサの設置が行われている。しかし、そのような第２のスペーサを設けたとしても、前述と同様、外圧による配向膜へのダメージが懸念され、外圧に対する信頼性の低下が問題となる。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、歩留まりを低下させることなく、外圧に対する信頼性の低下を抑制した液晶パネルおよびそれを備えた液晶表示装置を提供することにある。

本発明の液晶パネルは、離間して互いに対向する一対の基板と、一対の基板の間隙に設けられた液晶層とを備えたものである。一対の基板のそれぞれの対向面には柱状構造物が設けられている。一方の基板側に設けられた柱状構造物と、他方の基板側に設けられた柱状構造物は、対向面の法線方向において所定の間隙を介して互いに対向配置されている。

本発明の液晶表示装置は、液晶パネルと、液晶パネルに光を照射する面発光原とを備えたものである。ここで、液晶表示装置に搭載された液晶パネルは、上記した液晶パネルと同一の構成要素を有している。

本発明の液晶パネルおよび液晶表示装置では、液晶層を介して互いに対向する一対の基板の一方の基板側に設けられた柱状構造物と、他方の基板側に設けられた柱状構造物は、対向面の法線方向において所定の間隙を介して互いに対向配置されている。これにより、一対の基板の少なくとも一方側からの外圧によって基板が液晶層側に撓んだときに、例えば、柱状構造物の上面同士が直接もしくは間接的に接触するので、柱状構造物によって液晶パネルの外圧に対する耐性を確保することが可能となる。また、センサ内蔵型のデバイスにおいては、例えば、柱状構造物の上面同士の直接もしくは間接的な接触により位置検出を行うことが可能となる。ここで、外圧によって接触する部分（以下、単に「接触部分」と称する）は、その周囲と比べて、柱状構造物の高さの分だけ高い位置に存在している。そのため、配向膜を形成する際に、表面全体に配向膜を塗布したとしても、接触部分の濡れ性が悪いので、接触部分には、配向膜がほとんど形成されないか、または全く形成されないことになる。その結果、外圧による配向膜へのダメージがほとんどないか、または全くないので、繰り返し使用に対する信頼性が高い。また、上述のように、接触部分には、配向膜がほとんど形成されないか、または全く形成されないので、配向膜の一部をわざわざ除去する必要がない。これにより、配向膜を除去するプロセスに起因する不具合の発生をなくすることができる。

本発明の液晶パネルおよび液晶表示装置によれば、液晶層を介して互いに対向する一対の基板の一方の基板側に設けられた柱状構造物と、他方の基板側に設けられた柱状構造物を、対向面の法線方向において所定の間隙を介して互いに対向配置するようにしたので、繰り返し使用に対する信頼性が高く、かつ、配向膜を除去するプロセスに起因する不具合の発生をなくすることができる。従って、歩留まりを低下させることなく、外圧に対する信頼性の低下を抑制することができる。

以下、発明を実施するための最良の形態（以下、実施の形態とする。）について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。

１．第１の実施の形態（センサ内蔵型）
２．変形例（スペーサ）
３．第１の実施の形態（耐圧型）
４．変形例（スペーサ）

＜第１の実施の形態＞
[液晶表示装置１の構造]
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置１の概略構成の一例を表したものである。本実施の形態の液晶表示装置１は、液晶パネル１０と、液晶パネル１０の背面側に配置されたバックライト２０（面発光源）と、これらを支持する筐体３０と、液晶パネル１０を駆動して映像を表示させる駆動回路（図示せず）とを備えている。この液晶表示装置１では、液晶パネル１０の正面（バックライト２０とは反対側の表面）が観察者（図示せず）側に向けられる。

[液晶パネル１０]
液晶パネル１０は、映像を表示するためのものである。この液晶パネル１０は、いわゆるセンサ内蔵型のパネルであり、画面上に表示されたアイコンなどをユーザが指やペンなどでタッチすることによりデータを入力するセンサ機能が搭載されたものである。この液晶パネル１０は、例えば、映像信号に応じて各画素が駆動される透過型の表示パネルであり、液晶層を一対の透明基板で挟み込んだ構造となっている。具体的には、液晶パネル１０は、図２に示したように、離間して互いに対向する一対のアレイ基板４０および対向基板５０と、これらの間隙に配置された液晶層６０とを備えている。

アレイ基板４０は、バックライト２０側の透明基板であり、例えば、透明基板４１、平坦化膜４２、画素電極４３Ａおよびセンサ電極４３Ｂ（導電膜）、配向膜４４をバックライト２０側から順に有している。一方、対向基板５０は、観察者側の透明基板であり、例えば、透明基板５１、カラーフィルタ５２、平坦化膜５３、対向電極５４、配向膜５５を観察者側から順に有している。

透明基板４１，５１は、可視光に対して透明な基板、例えば板ガラスからなる。なお、バックライト２０側の透明基板４１には、図示しないが、ＴＦＴ（Thin Film Transistor；薄膜トランジスタ）や、ＴＦＴのゲートに接続されたゲート線ＧＬ、ＴＦＴのソースに接続された信号線ＤＬ、ＴＦＴのドレインと画素電極４３Ａもしくはセンサ電極４３Ｂとに接続された接続配線などを含むアクティブ型の駆動回路が形成されている。なお、ゲート線ＧＬ、信号線ＤＬおよび接続配線は、本発明の「配線層」の一具体例に相当する。

平坦化膜４２は、例えば、ＪＳＲ株式会社製のＰＣ系材料からなる。平坦化膜５３は、例えば、ＳＳ系もしくはＮＮ系材料からなる。平坦化膜４２は、ＴＦＴやゲート線ＧＬ、信号線ＤＬなどによって形成される表面の凹凸を緩和し、平坦な表面を形成するためのものである。平坦化膜４２の表面は、平坦化膜４２直下の凹凸よりも緩やかな凹凸形状となっている。例えば、大きな凹凸を形成する信号線ＤＬの厚みが１〜２μｍ程度となっている場合に、平坦化膜４２の表面は、最大でも、その半分（０．５μｍ〜１μｍ）程度の凹凸となっている。一方、平坦化膜５３は、カラーフィルタ５２の表面の凹凸を緩和し、平坦な表面を形成するためのものである。平坦化膜５３の表面は、平坦化膜５３直下（観察者側）の凹凸よりも緩やかな凹凸形状となっている。例えば、カラーフィルタ５２において、赤用フィルタの端部と緑用フィルタの端部とが互いに重なっている場合には、平坦化膜５３の表面は、最大でも、その重ね合わせによって形成された凹凸の半分程度の凹凸となっている。

画素電極４３Ａ、センサ電極４３Ｂおよび対向電極５４は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide；酸化インジウムスズ）からなる。画素電極４３Ａは、例えば、透明基板４１上に格子配列またはデルタ配列されたものであり、画素ごとの電極として機能する。センサ電極４３Ｂは、１または複数の画素ごとに設けられたものである。このセンサ電極４３Ｂは、ユーザが指やペンなどで画面上にタッチし、その外圧によって対向基板５０がアレイ基板４０側に撓んだときに、対向電極５４のうち後述の柱状構造物５４の直下に対応する部分が接触する接触端子として機能する。他方、対向電極５４は、平坦化膜５３上に一面に形成されたものであり、各画素電極４３Ａおよび各センサ電極４３Ｂに対して対向する共通電極として機能する。

配向膜４４，５５は、例えばポリイミドなどの高分子材料からなり、液晶に対して配向処理を行うものである。配向膜４４は、アレイ基板４０のうち対向基板５０との対向面４０Ａをほぼ一面覆っているが、後述する柱状構造物４５の直上部分にはほとんど形成されていないか、または全く形成されていない。同様に、配向膜５５は、対向基板５０のうちアレイ基板４０との対向面５０Ａをほぼ一面覆っているが、後述する柱状構造物５６の直下部分にはほとんど形成されていないか、または全く形成されていない。なお、上記において、「配向膜４４，５５がほとんど形成されていない」とは、配向膜４４，５５が、対向面４０Ａ，５０Ａのうち柱状構造物４５，５６の上面以外の面に設けられた部分の厚さよりも薄くなっていることを意味している。

カラーフィルタ５２は、液晶層６０を透過してきた光を、例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の三原色にそれぞれ色分離したり、または、Ｒ、Ｇ、Ｂおよび白（Ｗ）などの四色にそれぞれ色分離したりするカラーフィルタを、画素電極４３の配列と対応させて配列したものである。フィルタ配列（画素配列）としては、一般的に、ストライプ配列や、ダイアゴナル配列、デルタ配列、レクタングル配列のようなものがある。

液晶層６０は、例えば、ＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モードまたはＦＦＳ(Fringe Field Switching)モードの液晶からなり、駆動回路からの印加電圧により、バックライト２０からの射出光の偏光軸の向きを画素ごとに変える機能を有する。なお、液晶の配列を多段階で変えることにより画素ごとの透過軸の向きが多段階で調整される。

なお、図示していないが、液晶パネル１０の光入射側表面と光射出側表面には、それぞれ、偏光子が設けられている。偏光子は、光学シャッタの一種であり、ある一定の振動方向の光（偏光）のみを通過させる。光入射側の偏光子および光射出側の偏光子はそれぞれ、偏光軸が互いに９０度異なるように配置されており、これによりバックライト２０からの射出光が液晶層６０を介して透過し、あるいは遮断されるようになっている。

[スペーサ４６]
ところで、液晶パネル１０には、アレイ基板４０および対向基板５０の間隙を規定するスペーサ４６が設けられている。スペーサ４６は、製造過程においてアレイ基板４０および対向基板５０のいずれかに設けられたものである。本実施の形態では、図２に示したように、便宜的に、スペーサ４６がアレイ基板４０側に設けられたものであるとする。このスペーサ４６は、例えば、ＪＳＲ株式会社製のＮＮ系材料およびＰＣ系材料などのアクリル系の材料によって構成されている。このスペーサ４６は、例えば、図２に示したように、柱状となっており、例えば、画素電極４３上に形成されている。スペーサ層４６の上面は、対向基板５０の対向面５０Ａ（例えば配向膜５５の表面）に当接している。これにより、アレイ基板４０と対向基板５０との間隙が、例えば３μｍ程度で一定に保たれている。

[柱状構造物４５，５６]
また、液晶パネル１０には、上記したスペーサ４６の他に、スペーサ４６とは別体の柱状構造物４５，５６が設けられている。

柱状構造物４５は、アレイ基板４０の対向面４０Ａ側に設けられている。具体的には、柱状構造物４５は、平坦化膜４２に接して形成されており、柱状構造物４５の上面および側面には、センサ電極４３Ｂが設けられている。つまり、本実施の形態では、柱状構造物４５はセンサ電極４３Ｂで覆われている。ここで、上述したように、アレイ基板４０の対向面４０Ａには配向膜４４が形成されているが、センサ電極４３Ｂのうち少なくとも柱状構造物４５の上面には、配向膜４４がほとんど形成されていないか、または全く形成されていない。これは、後述するように、配向膜４４を形成する工程において、柱状構造物４５の高さによる濡れ性の悪さを利用して、センサ電極４３Ｂのうち少なくとも柱状構造物４５の上面に配向膜４４が厚く形成されないようにしているからである。

柱状構造物５６は、対向基板５０の対向面５０Ａ側に設けられている。具体的には、柱状構造物５６は、平坦化膜５３に接して形成されており、柱状構造物５６の上面および側面には、対向電極５４が設けられている。つまり、本実施の形態では、柱状構造物５６は対向電極５４で覆われている。ここで、上述したように、アレイ基板４０のケースと同様、対向基板５０の対向面５０Ａには配向膜５５が形成されているが、対向電極５４のうち少なくとも柱状構造物５６の上面には、配向膜５５がほとんど形成されていないか、または全く形成されていない。これは、後述するように、配向膜５５を形成する工程において、柱状構造物５６の高さによる濡れ性の悪さを利用して、対向電極５４のうち少なくとも柱状構造物５６の上面に配向膜５５が厚く形成されないようにしているからである。

柱状構造物４５，５６は、アレイ基板４０および対向基板５０のそれぞれの対向面４０Ａ，５０Ａの法線方向において所定の間隙を介して互いに対向配置されている。複数の柱状構造物４５，５６のうち対向面４０Ａ，５０Ａの法線方向において互いに対向する一組の柱状構造物４５，５６は、ユーザが指やペンなどで画面上にタッチし、その外圧によって対向基板５０がアレイ基板４０側に撓んだときに、柱状構造物４５，５６の上面同士が直接もしくは間接的に接触する大きさとなっている。

柱状構造物４５，５６は、例えば、ＪＳＲ株式会社製のＮＮ系材料やＰＣ系材料などのアクリル系の材料によって構成されている。柱状構造物４５，５６の高さは、平坦化膜４２の表面に形成されている凹凸の高さよりも高くなっている。例えば、平坦化膜４２の表面に０．５μｍ〜１μｍ程度の凹凸が形成されている場合には、柱状構造物４５，５６の高さは、１μｍ以上となっている。

柱状構造物４５，５６の断面形状は、例えば、図２に示したような台形であってもよいし、四角形や半円形などの形状となっていてもよい。柱状構造物４５，５６の上面形状（積層面内方向の断面形状）は、例えば、真円形となっていてもよいし、四角形や六角形などの多角形となっていてもよいし、長方形や楕円形など、長軸を持つ扁平形状となっていてもよい。さらに、柱状構造物４５，５６の上面形状（積層面内方向の断面形状）は、例えば、細長い線形状となっていてもよいし、複数の細長い線が互いに交差するマトリックス形状となっていてもよい。

柱状構造物４５，５６の上面（上面の面内形状）は、例えば、積層面と平行な平坦面や、凸形状（曲面形状）となっている。ただし、配向膜４４，５５の濡れ性を悪くさせる観点からは、柱状構造物４５，５６の上面は、凸形状（曲面形状）となっていることが好ましい。なお、柱状構造物４５，５６の上面の面内形状に拘らず、柱状構造物４５，５６を高くすることによっても、配向膜４４，５５の濡れ性を悪くさせることが可能である。また、柱状構造物４５，５６の上面は、柱状構造物４５と柱状構造物５６とのあわせ精度を考慮すると、積層面と平行な平坦面となっていることが好ましい。なお、柱状構造物４５，５６の上面の面内形状に拘らず、柱状構造物４５，５６のいずれか一方の上面の面積を大きくすることによっても、柱状構造物４５と柱状構造物５６とのあわせ精度を向上させることが可能である。

例えば、アレイ基板４０と対向基板５０とを互いに貼り合わせる際の精度とパターニングの際に必要なアライメント精度などの工程精度を併せたものを±ａとし、柱状構造物４５，５６のうち一方の上面の直径をｂとする。このとき、柱状構造物４５，５６のうち他方の上面の直径は、最低でも、２ａ＋ｂであることが必要となる。

ただし、柱状構造物４５，５６の上面の面積をあまり大きくすると、柱状構造物４５，５６の上面形状が極端に扁平な形状となっていない限り、配向膜４４，５５の濡れ性が良くなってしまう。そのため、柱状構造物４５，５６の高さが低い場合には、柱状構造物４５，５６の高さが高い場合と比べて、上面の面積をある程度小さくすることが好ましい。従って、柱状構造物４５，５６の上面形状が極端に扁平な形状となっていない場合であって、かつ、配向膜４４，５５の濡れ性を悪くさせると共に、柱状構造物４５と柱状構造物５６とのあわせ精度も担保したいときには、以下のようにすることが好ましい。なお、以下では、複数の柱状構造物４４，５５のうち対向面４０Ａ，５０Ａの法線方向において互いに対向する一組の柱状構造物４４，５５について説明する。

例えば、柱状構造物４５，５６を互いに異なる高さにし、かつ柱状構造物４５，５６のうち背の低い方の上面の面積を、柱状構造物４５，５６のうち背の高い方の上面の面積よりも小さくすることが好ましい。また、例えば、柱状構造物４５，５６を互いに異なる高さにし、かつ柱状構造物４５，５６のうち背の高い方の上面を積層面と平行な平坦面にすると共に、柱状構造物４５，５６のうち背の低い方の上面を凸形状（曲面形状）にすることが好ましい。また、例えば、柱状構造物４５，５６の双方が互いに真円形とは異なる形状の上面を有している場合には、柱状構造物４５，５６を互いに異なる高さにし、かつ柱状構造物４５，５６のうち背の低い方の上面の、短手方向の幅を、柱状構造物４５，５６のうち背の高い方の、短手方向の幅よりも狭くすることが好ましい。

なお、柱状構造物４５，５６の上面形状が極端に扁平な形状となっている場合、すなわち、上面の短手方向の幅が狭い場合には、上面の面積を大きくしても、配向膜４４，５５の濡れ性を悪いままにしておくことが可能である。従って、柱状構造物４５，５６のいずれか一方の上面形状が極端に扁平な形状となっている場合、例えば、細長い楕円形状や多角形状となっていたり、細長い線形状となっていたりする場合には、柱状構造物４５，５６のうち、上面形状が極端に扁平な形状となっている方の上面については、高さが低い場合に、積層面と平行な平坦面にしたときであっても、配向膜４４，５５の濡れ性を悪いままにしておくことが可能である。

また、柱状構造物４５，５６の双方の上面が真円形およびそれに近い円形となっていない場合、つまり、面内方向に長軸を持っている場合には、複数の柱状構造物４５，５６のうち対向面４０Ａ，５０Ａの法線方向において互いに対向する一組の柱状構造物４５，５６のそれぞれの上面の長軸方向が互いに交差（直交）していることが好ましい。これにより、柱状構造物４５，５６の上面の面内形状に拘らず、柱状構造物４５と柱状構造物５６とのあわせ精度を向上させることが可能である。

柱状構造物４５，５６は、液晶パネル１０のうちバックライト２０からの照射光が透過しない領域（いわゆる遮光領域）に設けられていることが好ましい。遮光領域は、例えば、図３において、画素電極４３Ａとの非対向領域に相当する。柱状構造物４５，５６は、例えば、図３に示したように、アレイ基板４０のゲート線ＧＬの上方に設けられていてもよいし、図示しないが、信号線ＤＬの上方に設けられていてもよい。また、柱状構造物４５，５６が、長軸方向の互いに異なる、真円形とは異なる形状の上面を有している場合には、これらの柱状構造物４５，５６による開口率の低下を抑える観点から、液晶パネル１０の遮光領域に設けられていることが好ましい。例えば、図４に示したように、柱状構造物４５が、ゲート線ＧＬの上方に設けられると共に、ゲート線ＧＬの延在方向に延在する楕円形状もしくは多角形状の上面を有し、かつ柱状構造物５６が、柱状構造物４５の延在方向と交差(直交)する方向に延在する楕円形状の上面を有していることが好ましい。また、例えば、図５に示したように、柱状構造物４５が、ゲート線ＧＬの上方に設けられると共に、ゲート線ＧＬの延在方向に延在する線形状の上面を有し、かつ柱状構造物５６が、柱状構造物４５の延在方向と交差(直交)する方向に延在する楕円形状もしくは多角形状の上面を有していることが好ましい。

[バックライト２０]
バックライト２０は、例えば、複数の線状光源が等間隔（例えば２０ｍｍ間隔）で並列配置された直下型の光源を有している。線状光源は、典型的には、冷陰極管（ＣＣＦＬ；Cold Cathode Fluorescent Lamp）と呼ばれる冷陰極蛍光ランプであるが、発光ダイオード（ＬＥＤ；Light Emitting Diode）などの点状光源を直線状に配置したものであってもよい。また、バックライト２０は、光源の直上に、例えば、拡散板、拡散シート、プリズムシート、反射型偏光素子などが光源側から順に配置された光学シートを有している。なお、バックライト２０は、導光板を使用するサイドエッジ型となっていてもよい。

[液晶表示装置１の作用および効果]
次に、本実施の形態の液晶表示装置１の作用および効果について説明する。

バックライト２０から射出された光は、液晶パネル１０の背面に入射したのち、液晶パネル１０において画素ごとに印加された電圧の大きさ応じて変調される。変調光は、カラーフィルタ５２によって色分離されたのち、観察者側に射出され、パネル正面に画像が形成される。このようにして、液晶表示装置１において画像が表示される。

ところで、従来のセンサ内蔵型の液晶パネルでは、例えば、特許文献１に記載されているように、対向基板上に、スペーサよりも高さの低い突起を設け、その上に電極を被せ、上下の電極同士が電気的に接続されることによって位置検出が行われる。しかし、位置検出の際に用いられる電極の表面上にも配向膜が存在する。この配向膜は通常、絶縁性材料によって構成されている。そのため、外圧によって上下の電極同士が接触したときに、電極間に配向膜が介在するので、接触感度が低く、指やペンなどで接触面を強く押すことが必要となる。また、指やペンなどによる接触を繰り返し行うと、電極上の配向膜が傷つき、剥がれてしまうことがある。その結果、配向不良が生じたり、剥がれた配向膜が液晶中を浮遊して表示不良が生じたりする虞があり、繰り返し使用に対する信頼性が低い。

そのような問題に対して、例えば、特許文献２では、対向基板側の配向膜およびアレイ基板側の配向膜の少なくとも一方において、位置検出の際に接触する部分を除去することが提案されている。しかし、特許文献２に記載の方法を用いるためには、配向膜の除去工程が別途必要になる。特許文献２には、配向膜の除去方法として、インクジェットにより、溶剤を塗布し、焼成する前の配向膜を溶かすことが記載されている。だが、そのような方法を用いた場合には、溶剤の滲み、位置精度の問題、製造コストの増大、スループットの低下、溶剤のハネなど、種々の問題による歩留まり低下を引き起こす。

また、通常の液晶製造プロセスにはインクジェットのような装置は無い。そのため、既存の設備を流用することができず、新規の設備投資が必要になる。また、配向膜の除去に、リソグラフィーなどの他のプロセスを選択することも考えられる。しかし、工程が増えるので、生産性の低下や、製造コストの増大を引き起こす。また、特性の面では、配向膜を除去する際のマージンが必要となるので、開口率が低下してしまう。また、信頼性の面でも、焼き付きなどの信頼性への影響や、配向膜材料の自由度の低下なども懸念される。

一方、本実施の形態の液晶表示装置１では、液晶層６０を介して互いに対向する一対のアレイ基板４０および対向基板５０のそれぞれの対向面４０Ａ，５０Ａに、アレイ基板４０および対向基板５０の間隙を規定するスペーサ４６以外に、柱状構造物４５，５６を含むセンサ構造物が設けられている。柱状構造物４５，５６は、対向面４０Ａ，５０Ａの法線方向において所定の間隙を介して互いに対向配置されている。これにより、外圧によって対向基板５０が液晶層６０側に撓んだときに、センサ電極４３Ａのうち柱状構造物４５の直上部分４３Ｃと、対向電極５５のうち柱状構造物５６の直下部分５５Ａとが互いに接触する。これにより、液晶パネル１０の外圧に対する耐性を確保することが可能となり、それと同時に、位置検出を行うことが可能となる。

ここで、外圧によって接触する部分（直上部分４３Ｃ、直下部分５５Ａ）は、センサ電極４３Ａおよび対向電極５５のその他の部分よりも、柱状構造物４５，５６の高さの分だけ高い位置に設けられている。そのため、配向膜４４，５５を形成する際に、表面全体に配向膜４４，５５を塗布したとしても、直上部分４３Ｃおよび直下部分５５Ａの濡れ性が悪い。その結果、直上部分４３Ｃおよび直下部分５５Ａには、配向膜４４，５５がほとんど形成されないか、または全く形成されないことになる。従って、外圧による配向膜へのダメージがほとんどないか、または全くないので、繰り返し使用に対する信頼性が高い。また、上述のように、接触部分には、配向膜４４，５５がほとんど形成されないか、または全く形成されないので、配向膜４４，５５の一部をわざわざ除去する必要がない。これにより、配向膜４４，５５を除去するプロセスに起因する不具合の発生をなくすることができる。

このように、本実施の形態では、繰り返し使用に対する信頼性が高く、かつ、配向膜４４，５５を除去するプロセスに起因する不具合の発生をなくすることができる。従って、歩留まりを低下させることなく、外圧に対する信頼性の低下を抑制することができる。

また、接触部分に、配向膜４４，５５がほとんど形成されないか、または全く形成されないことから、センサ電極４３Ａと対向電極５５との接触抵抗が低く、センサとしての感度がよい。なお、繰り返し使用による配向膜の削れや、接触抵抗の大きさは、程度の問題である。従って、接触部分に配向膜４４，５５がわずかに残っていたとしても、配向膜４４，５５の剥がれによる不具合や抵抗の増大が、無視できる程に小さくなっていればよい。

[変形例]
上記実施の形態では、スペーサ４６が単一の構造物によって構成されていたが、複数の構造物によって構成されていてもよい。例えば、図６に示したように、アレイ基板４０側に設けられたスペーサ４７（第２柱状構造物）と、対向基板５０側に設けられたスペーサ５７（第２柱状構造物）とを互いに重ね合わせた構造となっていてもよい。このとき、スペーサ４７の上面とスペーサ５７の上面とが互いに間接的に接している。また、スペーサ４６のうちアレイ基板４０側のスペーサ４７を平坦化膜４２に接して形成し、スペーサ４７の表面に画素電極４４を設けることが好ましい。また、スペーサ４６のうち対向基板５０側のスペーサ５７を平坦化膜５３に接して形成し、スペーサ５７の表面に対向電極５５を設けることが好ましい。つまり、アレイ基板４０と対向基板５０との間隙を規定する構造物の構成を、センサ構造物の構成と同様の構成とすることが好ましい。このようにした場合には、スペーサ４７を柱状構造物４５の形成工程と同一の工程で形成すると共に、スペーサ５７を柱状構造物５６の形成工程と同一の工程で形成することが可能となり、生産性を向上させることができる。また、スペーサ４７と柱状構造物４５とを同一工程で形成し、スペーサ５７と柱状構造物５６とを同一工程で形成した場合には、それぞれの相対的な高さの制御が容易となり、柱状構造物４５と柱状構造物５６との間隙を狭くしても、センサ感度の低下やばらつきをなくすることが可能となる。

ところで、図６には、柱状構造物４５の高さとスペーサ４７の高さとに差がある場合が例示されているが、そのように高さに差がある場合には、例えば、高さの低い方（図６では柱状構造物４５）を形成する際に、高さを調整（低減）する工程を設けることが必要となる。そこで、例えば、その工程をなくしたい場合には、例えば、図７に示したように、柱状構造物４５およびスペーサ４７を同一高さで形成し、画素電極４３Ａおよびセンサ電極４３Ｂを形成したのち、スペーサ４７の上方に、高さ調整用の調整層４８を形成するようにしてもよい。また、例えば、図８に示したように、平坦化膜４２を作成する際に、スペーサ４７を形成することとなる部分を、他の部分よりも若干、高く作成し、その若干高くなった部分（４２Ａ）に、スペーサ４７を、柱状構造物４５と同一高さで形成するようにしてもよい。また、例えば、図９に示したように、スペーサ５７を形成することとなる部分に、高さ調整用の調整層５８を形成したのち、表面全体に平坦化膜５３を作成して、平坦化膜５３を、調整層５８の直上の部分で盛り上がらせ、その盛り上がった部分の上に、スペーサ５７を、柱状構造物５６と同一高さで形成するようにしてもよい。

また、上記実施の形態では、柱状構造物４５およびスペーサ４７が下地の平坦化膜４３とは別体で形成されている場合が例示されていたが、例えば、図１０に示したように、平坦化膜４３と同一の材料で平坦化膜４３と一体に形成されていてもよい。この場合に、柱状構造物４５は、平坦化膜４３を厚く形成した後で、平坦化膜４３の表面を削ることにより形成することが可能である。また、柱状構造物４５をゲート線ＧＬや信号線ＤＬの直上に形成する場合には、例えば、ゲート線ＧＬもしくは信号線ＤＬを高くしたり、平坦化膜４３の材料として平坦性の若干悪いものを用いたりすることによって柱状構造物４５を形成することも可能である。

＜第２の実施の形態＞
図１１は、本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置２の概略構成の一例を表したものである。この液晶表示装置２は、上記実施の形態の液晶パネル１０の代わりに液晶パネル７０を備えている点で、上記実施の形態の液晶表示装置１の構成と相違する。そこで、以下では、上記実施の形態との相違点について主に説明し、上記実施の形態との共通点についての説明を適宜省略するものとする。

液晶パネル７０は、上記実施の形態の液晶パネル１０と同様、柱状構造物４５，５６と、スペーサ４６とを有している。スペーサ４６は、上記実施の形態と同様、アレイ基板４０と対向基板５０との間隙を規定するものである。一方、柱状構造物４５，５６の直上には、センサ電極４３Ｂ，対向電極５４が設けられておらず、柱状構造物４５，５６を含む部分がセンサ構造物を構成していない。つまり、本実施の形態の液晶パネル７０は、センサ内蔵型のパネルではなく、単純に耐圧型のパネルである。

近年、液晶表示装置のデザインの多様性や薄型、光学特性などの理由から、エアギャップを介さずに、カバーを液晶パネルに直接貼り合わせる構造や、カバーそのものをなくし、ウィンドウレスといわれる液晶パネルがむき出しの構造が採用されたりするようになってきた。そのため、液晶パネルに直接、大きな外圧がかかるようになってきた。更には、液晶パネルのガラス厚も薄型化が進み、外圧による液晶パネルの変形量が増えたので、液晶パネルの内部構造を強化することが必要となってきている。そのため、本実施の形態のような耐圧型の液晶パネル７０を液晶表示装置２に用いることが重要となってきている。

本実施の形態では、柱状構造物４５，５６のそれぞれの上面は、センサ電極４３Ｂ、対向電極５４で覆われておらず、液晶層６０と接している。また、柱状構造物４５，５６のそれぞれの上面には、配向膜４４，５５はほとんど形成されていないか、または全く形成されていない。つまり、柱状構造物４５の上面と柱状構造物５６の上面との間には、液晶層６０だけが存在しているか、または、液晶層６０の他に、わずかに配向膜４４，５５が存在しているだけである。これは、上記第１の実施の形態と同様、配向膜４４，５５を形成する工程において、柱状構造物４５，５６の高さによる濡れ性の悪さを利用して、センサ電極４３Ｂ、対向電極５４のうち少なくとも柱状構造物４５，５６の上面に配向膜４４，５５が厚く形成されないようにしているからである。

センサ電極４３Ｂ，対向電極５４は、例えば、図１２に示したように、柱状構造物４５，５６の直下に形成されている。これにより、外圧に起因する柱状構造物４５，５６の弾性変形によって、弾性変形の少ないセンサ電極４３Ｂ，対向電極５４に割れが生じる虞をなくすることができる。なお、センサ電極４３Ｂ，対向電極５４に生じる割れが特に問題とならない場合には、センサ電極４３Ｂ，対向電極５４のいずれか一方が柱状構造物４５，５６の上面に形成されていてもよい。また、センサ電極４３Ｂ，対向電極５４が柱状構造物４５，５６の上面を含む表面に形成されていない場合には、柱状構造物４５，５６は、配向膜４４，５５に用いられる材料に対する濡れ性の悪い材料によって形成されていることが好ましい。

ところで、本実施の形態の液晶表示装置２では、液晶層６０を介して互いに対向する一対のアレイ基板４０および対向基板５０のそれぞれの対向面４０Ａ，５０Ａに、アレイ基板４０および対向基板５０の間隙を規定するスペーサ４６以外に、柱状構造物４５，５６を含む耐圧構造物が設けられている。柱状構造物４５，５６は、対向面４０Ａ，５０Ａの法線方向において所定の間隙を介して互いに対向配置されている。これにより、外圧によって対向基板５０が液晶層６０側に撓んだときに、センサ電極４３Ａのうち柱状構造物４５の直上部分４３Ｃと、対向電極５５のうち柱状構造物５６の直下部分５５Ａとが互いに接触する。これにより、液晶パネル１０の外圧に対する耐性を確保することが可能となる。

ここで、柱状構造物４５，５６の上面もしくは柱状構造物４５，５６の直上部分、すなわち、外圧によって接触する部分（以下、単に接触部分と称する。）は、他の部分よりも、柱状構造物４５，５６の高さの分だけ高い位置に設けられている。そのため、配向膜４４，５５を形成する際に、表面全体に配向膜４４，５５を塗布したとしても、接触部分の濡れ性が悪い。その結果、接触部分には、配向膜４４，５５がほとんど形成されないか、または全く形成されないことになる。従って、外圧による配向膜へのダメージがほとんどないか、または全くないので、繰り返し使用に対する信頼性が高い。また、上述のように、接触部分には、配向膜４４，５５がほとんど形成されないか、または全く形成されないので、配向膜４４，５５の一部をわざわざ除去する必要がない。これにより、配向膜４４，５５を除去するプロセスに起因する不具合の発生をなくすることができる。

このように、本実施の形態では、繰り返し使用に対する信頼性が高く、かつ、配向膜４４，５５を除去するプロセスに起因する不具合の発生をなくすることができる。従って、歩留まりを低下させることなく、外圧に対する信頼性の低下を抑制することができる。

[変形例]
上記第２の実施の形態では、スペーサ４６が単一の構造物によって構成されていたが、複数の構造物によって構成されていてもよい。例えば、図１３に示したように、アレイ基板４０側に設けられたスペーサ４７と、対向基板５０側に設けられたスペーサ５７とを互いに重ね合わせた構造となっていてもよい。このとき、スペーサ４７の上面とスペーサ５７の上面とが互いに直接もしくは間接的に接している。また、スペーサ４６のうちアレイ基板４０側のスペーサ４７を画素電極４７に接して形成する（つまり、柱状構造物４５と同一面上に形成する）ことが好ましい。また、スペーサ４６のうち対向基板５０側のスペーサ５７を対向電極５５に接して形成する（つまり、柱状構造物５６と同一面上に形成する）ことが好ましい。つまり、アレイ基板４０と対向基板５０との間隙を規定する構造物の構成を、耐圧構造物の構成と同様の構成とすることが好ましい。このようにした場合には、スペーサ４７を柱状構造物４５の形成工程と同一の工程で形成すると共に、スペーサ５７を柱状構造物５６の形成工程と同一の工程で形成することが可能となり、生産性を向上させることができる。また、スペーサ４７と柱状構造物４５とを同一工程で形成し、スペーサ５７と柱状構造物５６とを同一工程で形成した場合には、それぞれの相対的な高さの制御が容易となり、耐圧性能のばらつきをなくすることが可能となる。

ところで、図１３には、柱状構造物４５の高さとスペーサ４７の高さとに差がある場合が例示されているが、そのように高さに差がある場合には、例えば、高さの低い方（図１３では柱状構造物４５）を形成する際に、高さを調整（低減）する工程を設けることが必要となる。そこで、例えば、その工程をなくしたい場合には、例えば、図１４に示したように、柱状構造物４５およびスペーサ４７を同一高さで形成したのち、スペーサ４７の上方に、高さ調整用の調整層４８を形成するようにしてもよい。また、例えば、図１５に示したように、平坦化膜４２を作成する際に、スペーサ４７を形成することとなる部分を、他の部分よりも若干、高く作成し、その若干高くなった部分（４２Ａ）に、例えば、画素電極４３を形成し、その上に、スペーサ４７を、柱状構造物４５と同一高さで形成するようにしてもよい。また、例えば、図１６に示したように、スペーサ５７を形成することとなる部分に、高さ調整用の調整層５８を形成したのち、表面全体に平坦化膜５３を作成して、平坦化膜５３を、調整層５８の直上の部分で盛り上がらせ、その盛り上がった部分の上に、例えば、対向電極５４を形成し、その上に、スペーサ５７を、柱状構造物５６と同一高さで形成するようにしてもよい。

また、上記第２の実施の形態では、柱状構造物４５およびスペーサ４７が下地の平坦化膜４３とは別体で形成されている場合が例示されていたが、例えば、図１７に示したように、平坦化膜４３と同一の材料で平坦化膜４３と一体に形成されていてもよい。この場合に、柱状構造物４５は、平坦化膜４３を厚く形成した後で、平坦化膜４３の表面を削ることにより形成することが可能である。また、柱状構造物４５をゲート線ＧＬや信号線ＤＬの直上に形成する場合には、例えば、ゲート線ＧＬもしくは信号線ＤＬを高くしたり、平坦化膜４３の材料として平坦性の若干悪いものを用いたりすることによって柱状構造物４５を形成することも可能である。

以上、実施の形態および変形例を挙げて本発明を説明したが、本発明は実施の形態等に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。

例えば、上記実施の形態等では、液晶表示パネル１０の上面が外部に露出している場合を例示して説明したが、液晶表示パネル１０の上面に何らかのシートなどが設けられていてもよい。

また、上記実施の形態等では、柱状構造物４５，５６は、対向面４０Ａ，５０Ａの法線方向において所定の間隙を介して互いに対向配置されていたが、例えば、図１８に示したように、センサ電極４３Ｂおよび対向電極５４を介して互いに接触していてもよい。このようにした場合でも、外圧によって対向基板５０がアレイ基板４０側に撓んだときに、センサ電極４３Ｂと対向電極５４との接触面積が変化し、それに伴って抵抗値も変化するので、その変化を検出することにより、位置検出を行うことが可能である。

なお、接触面積の変化は、柱状構造物４５，５６の弾性変形によって生じる。そのため、接触面積の変化を利用した位置検出を行う場合には、センサ電極４３Ｂおよび対向電極５４の少なくとも一方が、外圧による接触面積の変化量が大きくなるような構成となっていることが好ましい。例えば、柱状構造物４５，５６の少なくとも一方が弾性変形し易い材料によって構成されていたり、凸状の曲面を有していたりすることが好ましい。なお、凸状の曲面は、柱状構造物４５，５６を、熱リフローし易い材料によって構成したり、柱状構造物４５，５６を小さく形成したりすることによって作製可能である。また、接触面積の変化を利用した位置検出を行う場合には、変形のし易さや耐久性の観点から、センサ電極４３Ｂおよび対向電極５４の少なくとも一方が導電性の樹脂で形成されていることが好ましい。センサ電極４３Ｂおよび対向電極５４のうちいずれか一方が導電性の樹脂で形成されている場合には、導電性の樹脂で形成した方の上面の面積を、導電性の樹脂以外の材料で形成した方の上面の面積よりも大きくすることが好ましい。それにより、外圧による接触面積の変化量を大きくすることができる。

また、例えば、図１９に示したように、柱状構造物４５，５６の上面同士が直接、接触するようにしてもよい。このようにした場合でも、外圧によって対向基板５０がアレイ基板４０側に撓んだときに、柱状構造物４５，５６が弾性変形するので、液晶パネル１０の外圧に対する耐性を確保することができる。なお、外圧に対する耐性を確保する観点からは、柱状構造物４５，５６が導電性材料によって構成されていてもよいし、非導電性材料によって構成されていてよい。

本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の構成の一例を表す断面図である。 図１の液晶パネルの構成の一例を表す断面図である。 図１のアレイ基板の構成の一例を表す上面図である。 図１のアレイ基板の構成の他の例を表す上面図である。 図１のアレイ基板の構成のその他の例を表す上面図である。 図１の液晶パネルの構成の他の例を表す断面図である。 図１の液晶パネルの構成のその他の例を表す断面図である。 図１の液晶パネルの構成の更にその他の例を表す断面図である。 図１の液晶パネルの構成の更にその他の例を表す断面図である。 図１の液晶パネルの構成の更にその他の例を表す断面図である。 本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置の構成の一例を表す断面図である。 図１１の液晶パネルの構成の一例を表す断面図である。 図１１の液晶パネルの構成の他の例を表す断面図である。 図１１の液晶パネルの構成のその他の例を表す断面図である。 図１１の液晶パネルの構成の更にその他の例を表す断面図である。 図１１の液晶パネルの構成の更にその他の例を表す断面図である。 図１１の液晶パネルの構成の更にその他の例を表す断面図である。 図１の液晶パネルの構成の更にその他の例を表す断面図である。 図１１の液晶パネルの構成の更にその他の例を表す断面図である。

符号の説明

１，２…液晶表示装置、１０，７０…液晶パネル、２０…バックライト、３０…筐体、４０…アレイ基板、４１，５１…透明基板、４２，５３…平坦化膜、４３Ａ…画素電極、４３Ｂ…センサ電極、４４，５５…配向膜、４５，５６…柱状構造物、４６，４７，５７…スペーサ、５０…対向基板、５２…カラーフィルタ、６０…液晶層。

Claims (18)

1. 離間して互いに対向する一対の基板と、
   前記一対の基板の間隙に設けられた液晶層と、
   前記一対の基板のそれぞれの対向面に設けられ、かつ当該対向面の法線方向において互いに対向する柱状構造物と
   を備えた液晶パネル。
2. 前記柱状構造物は、所定の間隙を介して互いに対向配置されている
   請求項１に記載の液晶パネル。
3. 前記柱状構造物は、互いに接触して対向配置されている
   請求項１に記載の液晶パネル。
4. 前記間隙は、前記一対の基板の少なくとも一方側からの外圧によって前記基板が前記液晶層側に撓んだときに、前記柱状構造物の上面同士が直接もしくは間接的に接触する大きさとなっている
   請求項２に記載の液晶パネル。
5. 前記柱状構造物の上面に導電膜を備える
   請求項１に記載の液晶パネル。
6. 前記柱状構造物は、当該柱状構造物の直下に設けられた層と一体に形成されている
   請求項１に記載の液晶パネル。
7. 前記柱状構造物は、液晶の配向膜に用いられる材料に対する濡れ性の悪い材料によって形成されている
   請求項１に記載の液晶パネル。
8. 前記柱状構造物のうち前記対向面の法線方向において互いに対向する一組の柱状構造物は、長軸方向の互いに異なる上面形状となっている
   請求項１に記載の液晶パネル。
9. 前記柱状構造物は、線形状、もしくはマトリックス形状となっている
   請求項１に記載の液晶パネル。
10. 前記一対の基板のうち少なくとも一方は配線層を有し、
    前記配線層を有する基板側の柱状構造物は、前記配線層の上方に形成されている
    請求項１に記載の液晶パネル。
11. 前記柱状構造物は、当該液晶パネルの遮光領域に形成されている
    請求項１に記載の液晶パネル。
12. 前記それぞれの対向面に配向膜を備え、
    前記配向膜は、前記対向面のうち、前記柱状構造物の上面以外の面に設けられているか、または、前記柱状構造物の上面において、前記対向面のうち前記柱状構造物の上面以外の面に設けられた部分の厚さよりも薄くなっている
    請求項１ないし請求項１１のいずれか一項に記載の液晶パネル。
13. 前記柱状構造物のうち前記対向面の法線方向において互いに対向する一組の柱状構造物は、互いに異なる高さとなっており、
    前記一対の柱状構造物のうち背の低い方の上面の面積は、前記一対の柱状構造物のうち背の高い方の上面の面積よりも小さくなっている
    請求項１２に記載の液晶パネル。
14. 前記柱状構造物のうち前記対向面の法線方向において互いに対向する一組の柱状構造物は、互いに異なる高さとなっており、かつ真円形とは異なる形状の上面を有し、
    前記一対の柱状構造物のうち背の低い方の上面の、短手方向の幅は、前記一対の柱状構造物のうち背の高い方の上面の、短手方向の幅よりも狭くなっている
    請求項１２に記載の液晶パネル。
15. 前記一対の基板の間隙を規定するスペーサを前記柱状構造物とは別体で備える
    請求項１に記載の液晶パネル。
16. 前記スペーサは、前記一対の基板のそれぞれの対向面に設けられ第２柱状構造物の上面同士を接触させることにより形成されたものである
    請求項１５に記載の液晶パネル。
17. 前記スペーサのうち一方の基板側の第２柱状構造物は、同一基板側の柱状構造物と同一材料によって形成されたものである
    請求項１６に記載の液晶パネル。
18. 液晶パネルと、
    前記液晶パネルに光を照射する面発光源と
    を備え、
    前記液晶パネルは、
    離間して互いに対向する一対の基板と、
    前記一対の基板の間隙に設けられた液晶層と、
    前記一対の基板のそれぞれの対向面に設けられ、かつ当該対向面の法線方向において互いに対向する柱状構造物と
    を有する液晶表示装置。

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