JP2010127892A - 赤外線センサ - Google Patents

Abstract

【課題】簡便な構成を用いて、検出精度を充分に確保でき、部品点数を削減でき、製造工程を簡便にすることができる赤外線センサを提供する。
【解決手段】赤外線を透過する材料からなる第１基板１と、信号処理回路を有し前記第１基板１に対向配置される第２基板２と、を備え、前記第１基板１は、前記第２基板２側を向く表面に形成された凹部１１と、前記凹部１１の底面から離間して配設された感熱膜１２と、前記感熱膜１２の外周に複数形成されるとともに該感熱膜１２の面方向に沿って延び、前記感熱膜１２と前記凹部１１の開口縁とを連結する梁部１３と、を備え、前記第２基板２は、前記第１基板１側を向く表面に形成されるとともに前記感熱膜１２に対向配置される反射膜２１を備え、前記第１基板１と前記第２基板２との間には、前記感熱膜１２と前記反射膜２１との間の距離Ｄを検出対象の波長λに対してλ／４に設定するスペーサ３が配置されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、赤外線センサに関する。

従来、赤外線センサは、人体等から放射される赤外線を検出するとともに、自動照明や警備に用いられたり、人体の居場所や体温を検出し空調を制御することに用いられたりしている。このような赤外線センサのうち、熱型赤外線センサとしては、焦電材料を用いた焦電型、サーモパイル型、半導体や金属からなるボロメータ材料を用いたボロメータ型等が知られている。近年では、ＭＥＭＳ技術の発展によって、熱型赤外線センサの検出技術が大幅に向上されてきている。

熱型赤外線センサのうち、ボロメータ型の赤外線センサは、検出用画素がサーモパイル型に比べ小さく形成できることから、検出データを精細な画像に表現しやすく、温度プロファイルをエリア観察する場合等に有用である。このような理由から、高精度の赤外線カメラ用としては、ボロメータ型の赤外線センサが用いられることがある。また、近年のＭＥＭＳ技術の発展により、熱的な絶縁構造が形成でき、従来ペルチェなどで冷却しなければならないところが不要になり、低価格化が実現できることにより用途が拡大してきた。

このボロメータ型の赤外線センサとしては、例えば、特許文献１〜４及び非特許文献１等に記載されたものが知られている。非特許文献１には、赤外線センサチップをアウター（蓋部材）で真空封止してなるカンパッケージ型の赤外線センサが記載されている（非特許文献１、ｐ．７４３、図４参照）。このように、赤外線センサチップを真空封止することで、赤外線センサチップが空気に触れ熱対流や熱伝導により検出精度を低減させるようなことが防止されている。また、赤外線センサチップを搭載するベース（検出基板）の前記アウターとは反対側には、赤外線センサチップからの検出信号を増幅して処理する信号処理回路を有する回路基板が配設される。

また、一般に、ボロメータ型の赤外線センサの検出基板としては、例えば、Ｓｉからなる基板と、ボロメータ材料からなるとともに基板から離間して配設される感熱膜（温度検知部）とを有するものが知られている。また、基板の表面において、感熱膜に対向する部分には、ＡｌやＡｌ−Ｓｉ等からなる反射膜が形成され、感熱膜は、梁部（脚部）を有するとともにこの反射膜から離間して配設されている。尚、感熱膜が反射膜から離間される距離は、一般に、検出対象の赤外線の波長λに対してλ／４に設定されている。

このように感熱膜が基板から離間して配設されることで、感熱膜と基板との間の熱交換（すなわち熱の流出又は流入）が抑制されており、熱コンダクタンスの低い熱分離構造が形成されている。また、熱コンダクタンスをより低減させる理由から、感熱膜の梁部は、通常２本のみ設けられ、感熱膜と基板との間において熱交換が極力なされないように、感熱膜及び基板に対し傾斜して延びているとともに細く長く形成されて、感熱膜と基板とを連結している。

ところで、感熱膜を基板から離間して配設する手法としては、例えば、まずＳｉの基板上に犠牲層としてＳｉＯ_２を形成し、犠牲層の表面に感熱膜を形成して、感熱膜の外周に梁部を夫々形成した後、犠牲層をエッチングにより除去するものが知られている。

このように構成される赤外線センサに、検出対象から赤外線が放射されると、赤外線の多くは感熱膜に吸収されるが、その一部（例えば３割程度）が感熱膜を透過する。透過した赤外線は、反射膜で反射されて、再び感熱膜へ戻るのだが、ここで、反射膜と感熱膜との距離がλ／４に規定されているので、戻りの赤外線が検出対象から放射される赤外線の波長に共振して、感熱膜の吸収効率が向上するようにされている。尚、赤外線センサを用いて人体の検出を行う場合には、人体から放射される８μｍ〜１３μｍの波長帯の赤外線が想定されることから、例えばλ＝１０μｍとして、感熱膜と反射膜との距離がλ／４＝２．５μｍに設定される（特許文献４参照）。
米国特許第５２８６９７６号明細書 特開２００７−３１５９１６号公報 特開平７−３１８４１６号公報 特開２００８−２９１２号公報 「金属」、株式会社アグネ技術センター、２００７年、Ｖｏｌ．７７（２００７）Ｎｏ．７、ｐ．７４１−７４４

しかしながら、前述したボロメータ型の赤外線センサにおける検出基板の製造では、まず、基板の表面に反射膜を形成し、この反射膜を犠牲層で覆った後、犠牲層の表面に感熱膜を形成し、さらに犠牲層を除去することが行われているが、犠牲層を厚膜に形成すること及び厚膜に形成された犠牲層を除去することが難しく、製造工程が複雑であった。また、このように犠牲層を用いて感熱膜と反射膜との間の距離を設定することから、感熱膜と反射膜との間に除去しきれなかった犠牲層の一部が残留したり、感熱膜と反射膜との間の距離を精度よく設定できなかったりして、検出精度を確保することが難しかった。

また、赤外線センサに感熱膜と反射膜との対を複数形成する場合、これらの対毎に、梁部を介して前記距離λ／４が設定されることとなるが、梁部は、感熱膜及び基板に対し傾斜して延びて感熱膜と基板とを連結するとともに感熱膜を支持していることから、これらの対毎に前記距離がばらつきやすいという課題を有していた。
また、このような赤外線センサにおいては、従来より部品点数を削減することが望まれていた。

本発明は、前述の課題を鑑みてなされたものであって、簡便な構成を用いて、検出精度を充分に確保でき、部品点数を削減でき、製造工程を簡便にすることができる赤外線センサを提供することを目的としている。

前記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提案している。
すなわち本発明の赤外線センサは、赤外線を透過する材料からなる第１基板と、信号処理回路を有し前記第１基板に対向配置される第２基板と、を備え、前記第１基板は、前記第２基板側を向く表面に形成された凹部と、前記凹部の底面から離間して配設された感熱膜と、前記感熱膜の外周に複数形成されるとともに該感熱膜の面方向に沿って延び、前記感熱膜と前記凹部の開口縁とを連結する梁部と、を備え、前記第２基板は、前記第１基板側を向く表面に形成されるとともに前記感熱膜に対向配置される反射膜を備え、前記第１基板と前記第２基板との間には、前記感熱膜と前記反射膜との間の距離を検出対象の波長λに対してλ／４に設定するスペーサが配置されていることを特徴とする。

本発明に係る赤外線センサによれば、第１基板に感熱膜が形成され、第２基板に反射膜が形成されていて、感熱膜と反射膜とが互いに別体に形成されているので、製造工程が簡便となる。すなわち、従来のように、感熱膜と反射膜とを同一の基板に形成する場合には、基板の表面に、まず反射膜を形成し、反射膜を犠牲層で覆った後、犠牲層の表面に感熱膜を形成し、さらに犠牲層を除去することが行われていた。一方、本発明では、感熱膜と反射膜との間に犠牲層を形成する必要がないことから、製造が容易となる。尚、反射膜が形成される第２基板は、従来より回路基板として用いられていることから、部品点数を増加させることがない。

また、このような構成により、従来のように感熱膜と反射膜とを同一の基板（検出基板）に形成する場合に対比して、検出精度が充分に確保される。すなわち、従来では、犠牲層を用いて感熱膜と反射膜との間の距離を設定していたが、犠牲層を除去した際、感熱膜と反射膜との間に除去しきれなかった犠牲層の一部が残留したり、感熱膜と反射膜との間の距離を精度よく設定できなかったりして、検出精度を確保することが難しかった。一方、本発明の赤外線センサにおいては、感熱膜と反射膜との間に犠牲層を形成する必要がなく、また、感熱膜と反射膜との間の距離がスペーサにより精度よく設定されることから、検出精度が充分に確保される。

また、前記距離がスペーサにより設定されることから、精度よくλ／４に決まる。このように構成される赤外線センサにおいて、第１基板の第２基板側とは反対側の表面に向けて、外部から検出対象の赤外線が放射されると、赤外線の多くは感熱膜に吸収され、その一部が感熱膜を透過するが、透過した赤外線は、反射膜で反射されて再び感熱膜へ戻る際に、反射膜と感熱膜との距離がλ／４に精度よく設定されていることから、検出対象から放射される赤外線の波長に共振して、感熱膜に吸収されやすくされている。従って、感熱膜の赤外線吸収効率が高められ、赤外線センサの検出精度が充分に確保される。

さらに、赤外線センサに感熱膜と反射膜との対を複数形成する場合、従来のように、前記対毎に前記距離λ／４を設定するような必要がないことから、感熱膜と反射膜との間の距離λ／４が精度よく設定される。すなわち、スペーサが、複数の前記対の前記距離を同一寸法に設定するので、検出精度が充分に確保される。

また、梁部が、感熱膜の外周から感熱膜の面方向に沿って延び、感熱膜と凹部の開口縁とを連結して感熱膜を支持しているので、従来のように、梁部が感熱膜及び基板に対し傾斜して延びて、感熱膜と基板とを連結するとともに感熱膜を支持しているような構成に対比して、感熱膜の振動が確実に抑制されて、感熱膜と反射膜との間の距離λ／４がより精度よく設定される。

また、このように凹部の開口縁に梁部を介して感熱膜を形成する手法として、例えば、まず凹部に犠牲層を形成し、感熱膜及び梁部を形成した後、犠牲層を除去することが考えられるが、本発明の構成によれば、凹部の深さを前記λ／４に関係なく設定できることから比較的浅く形成することが可能であり、この場合、犠牲層の膜厚を低減でき、製造がより簡便となる。

また、本発明に係る赤外線センサにおいて、前記スペーサは、前記第１基板の前記第２基板側を向く表面の外周縁部と、前記第２基板の前記第１基板側を向く表面の外周縁部とに夫々密接されているとともに、前記第１基板と前記第２基板との間を減圧雰囲気に封止していることとしてもよい。

本発明に係る赤外線センサによれば、スペーサが、第１基板と第２基板との間を減圧雰囲気に封止しているので、この赤外線センサを構成する部品点数が削減される。すなわち、従来では、感熱膜が、第１基板において第２基板側とは反対側を向く表面に形成され、さらに第１基板の前記表面に対向するように別の基板等からなる蓋部材を配設して、感熱膜を減圧雰囲気に封止するとともに感熱膜の検出精度を確保していたが、本発明に係る赤外線センサにおいては、第１、第２基板の間がスペーサにより減圧雰囲気に封止されているとともに感熱膜が減圧雰囲気中に配設されることから、前記蓋部材を用いる必要が生じない。従って、赤外線センサの製造コストが大幅に削減される。

また、本発明に係る赤外線センサにおいて、前記第１基板には、前記感熱膜に赤外線を集光させる集光部が形成されていることとしてもよい。
本発明に係る赤外線センサによれば、第１基板には、検出対象から放射される赤外線を感熱膜に集光させる集光部が形成されているので、赤外線センサの検出感度が高められている。また、集光部を第１基板に直接形成していることから、集光部と感熱膜との間の距離を精度よく決められるとともに赤外線を感熱膜に精度よく集光させることができる。また、赤外線センサを構成する部品点数が削減される。すなわち、従来では、検出基板の回路基板とは反対側の表面に感熱膜が配設されていたので、検出基板に集光部を形成することができなかった。一方、本発明の赤外線センサによれば、感熱膜が第１基板の第２基板側を向く表面に配設されることから、第１基板の第２基板側とは反対側を向く表面に集光部を形成することができ、部品点数が削減する。

また、本発明に係る赤外線センサにおいて、前記感熱膜として、ボロメータ材料を用いていることとしてもよい。
本発明に係る赤外線センサによれば、感熱膜としてボロメータ材料を用いているので、熱抵抗を大きくでき、検出精度が充分に確保される。また、赤外線センサの製造コストをより削減できる。

また、本発明に係る赤外線センサにおいて、前記スペーサが、半田、ガラスフリット又はガラスペーストにより形成されていることとしてもよい。
本発明に係る赤外線センサによれば、スペーサが半田、ガラスフリット又はガラスペーストにより形成されているので、スペーサの形成を他の金属接合とともに行え、製造がより簡便となる。また、スペーサを用いて第１基板と第２基板との間を減圧雰囲気に気密に封止するような構成が可能であり、赤外線センサの精度が確保される。

本発明に係る赤外線センサによれば、簡便な構成を用いて、検出精度を充分に確保でき、製造工程を簡便にすることができる。

以下、図面を参照し、この発明の実施の形態について説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る赤外線センサを示す概略側断面図、図２は本発明の一実施形態に係る赤外線センサの感熱膜を拡大して示す概略部分平面図、図３は本発明の一実施形態に係る赤外線センサの第１基板の変形例を示す概略側断面図である。

本実施形態に係る赤外線センサ１０は、熱型赤外線センサであり、ボロメータ型の赤外線センサに相当するものである。また、この赤外線センサ１０は、例えば、車室や居室における人体の位置や温度情報を取得する手段として、空調の制御に用いられる。

図１に示すように、本実施形態の赤外線センサ１０は、板状をなし、互いに離間して対向配置される第１基板１及び第２基板２を有している。
第１基板１は、赤外線を透過する性質の材料からなり、例えば、Ｓｉで形成されている。第１基板１において、第２基板２側を向く表面には、略直方体穴状の凹部１１が複数形成されている。また、これらの凹部１１は、アレイ状に配列している。これらの凹部１１は、公知のナノインプリント技術やエッチング等により形成される。

また、第１基板１は、凹部１１の底面から離間して配設される感熱膜１２と、感熱膜１２の外周に複数形成されるとともに該感熱膜１２の面方向に沿って延び、感熱膜１２と凹部１１の開口縁とを連結する梁部１３と、を備えている。

感熱膜１２は、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、ポリエステル、酸化バナジウム（ＶＯ_Ｘ）又はＴｉ等のボロメータ材料からなり、内部に熱吸収体及び配線を有している。本実施形態では、感熱膜１２のボロメータ材料として、酸化バナジウムが用いられている。
また、梁部１３は、例えば、Ｐｏｌｙ−Ｓｉ、Ａｌ−Ｓｉ、Ａｌ又はＳｉ_３Ｎ_４等を用いて形成される。尚、本実施形態では、梁部１３として、Ｐｏｌｙ−Ｓｉが用いられている。

図２に示すように、本実施形態では、梁部１３が２本設けられており、これらの梁部１３が略Ｚ字状に夫々形成されているとともに、その両端部分が、感熱膜１２の外周における隅部と凹部１１の開口縁とに夫々連結されている。また、これらの梁部１３は、図２の平面視において、感熱膜１２を中心に互いに回転対称に配置されている。

このように凹部１１に感熱膜１２及び梁部１３を形成する手法としては、まず、凹部１１内に、例えば、ＳｉＯ_２からなる犠牲層を形成する。次いで、前記犠牲層において凹部１１の底面側とは反対側を向く表面に感熱膜１２を形成し、感熱膜１２の外周に梁部１３を夫々形成した後、犠牲層をエッチングにより除去する。このような工程により、凹部１１の開口縁に梁部１３を介して連結する感熱膜１２が形成される。

また、図示しないが、第１基板１の第２基板２側を向く表面において、凹部１１以外の部分には、複数の導体パターンが形成されている。これらの導体パターンは、梁部１３を介して、感熱膜１２の配線と電気的に接続されている。

また、第１基板１の第２基板２側とは反対側には、赤外線を透過する性質の、例えばＳｉからなる集光基板４が配設されている。集光基板４には、第１基板１の各感熱膜１２に対応して、これらの感熱膜１２に検出対象から放射される赤外線を集光させる凸レンズ状の集光部１４が複数形成されている。このように集光部１４を有する構成により、赤外線センサ１０の検出感度が高められている。

また、第２基板２は、例えばＳｉからなり、ＣＭＯＳＩＣ（信号処理回路）を有している。また、前記ＣＭＯＳＩＣは、図示しないフレキシブル基板等の外部配線を介して、第１基板１の前記導体パターンと電気的に接続されている。
また、第２基板２の第１基板１側を向く表面には、赤外線を反射する性質を有し、例えばＡｌからなる反射膜２１が複数形成されている。これらの反射膜２１は、第１基板１の感熱膜１２に夫々対向配置されている。

また、第１基板１と第２基板２との間には、感熱膜１２と反射膜２１との間の距離Ｄを検出対象の波長λに対してλ／４に設定するスペーサ３が配置されている。詳しくは、スペーサ３は、例えばＳｉＯ_２からなり、枠状に形成されている。また、スペーサ３は、第１基板１の第２基板２側を向く表面の外周縁部と、第２基板２の第１基板１側を向く表面の外周縁部とに夫々密接されているとともに、第１基板１と第２基板２との間を略真空の減圧雰囲気に封止している。

スペーサ３は、公知の印刷法やディスペンサによる塗布等を用いて形成される。詳しくは、例えば、スペーサ３として溶融状態のＳｉＯ_２を用意し、第１基板１又は／及び第２基板２に塗布し冷却する。次いで、略真空の減圧雰囲気中において、第１基板１と第２基板２とを対向して近接させるとともにスペーサ３を介し陽極接合させることで、図１に示すような赤外線センサ１０が製造される。尚、スペーサ３は、半田、ガラスフリット又はガラスペーストにより形成されていてもよい。

また、スペーサ３において、第１、第２基板１，２の各表面に垂直な方向の厚さは、感熱膜１２と反射膜２１との間の距離Ｄを、検出対象の波長λに対してλ／４に決めるように設定されている。また、複数の感熱膜１２及び反射膜２１の対における夫々の距離Ｄが、スペーサ３の前記厚みにより設定されている。尚、本実施形態の赤外線センサ１０においては、検出対象として人体を想定していることから、人体から放射される赤外線の波長λ（約１０μｍ）より、距離Ｄ（＝λ／４）＝２．５μｍに設定している。

以上説明したように、本実施形態の赤外線センサ１０によれば、第１基板１に感熱膜１２が形成され、第２基板２に反射膜２１が形成されていて、感熱膜１２と反射膜２１とが互いに別体に形成されているので、製造工程が簡便となる。すなわち、従来のように、感熱膜１２と反射膜２１とを同一の基板に形成する場合には、基板の表面に、まず反射膜２１を形成し、反射膜２１を犠牲層で覆った後、犠牲層の表面に感熱膜１２を形成し、さらに犠牲層を除去することが行われていたが、本実施形態の赤外線センサ１０では、感熱膜１２と反射膜２１との間に犠牲層を形成する必要がないことから、製造が容易となる。尚、反射膜２１が形成される第２基板２は、従来より回路基板として用いられていることから、部品点数を増加させることがない。

また、このような構成により、従来のように感熱膜１２と反射膜２１とを同一の基板に形成する場合に対比して、検出精度が充分に確保される。すなわち、従来では、犠牲層を用いて感熱膜１２と反射膜２１との間の距離Ｄを設定していたが、犠牲層を除去した際、感熱膜１２と反射膜２１との間に除去しきれなかった犠牲層の一部が残留したり、感熱膜１２と反射膜２１との間の距離Ｄを精度よく設定できなかったりして、検出精度を確保することが難しかった。一方、本実施形態の赤外線センサ１０においては、感熱膜１２と反射膜２１との間に犠牲層を形成する必要がなく、また、感熱膜１２と反射膜２１との間の距離Ｄがスペーサ３により精度よく設定されることから、検出精度が充分に確保される。

また、距離Ｄがスペーサ３により設定されることから、精度よくλ／４に決まる。このように構成される赤外線センサ１０において、第１基板１の第２基板２側とは反対側の表面に向けて、外部から検出対象の赤外線が放射されると、赤外線の多くは感熱膜１２に吸収され、その一部が感熱膜１２を透過するが、透過した赤外線は、反射膜２１で反射されて再び感熱膜１２へ戻る際に、反射膜２１と感熱膜１２との距離Ｄがλ／４に精度よく設定されていることから、検出対象から放射される赤外線の波長λに共振して、感熱膜１２に吸収されやすくされている。従って、感熱膜１２の赤外線吸収効率が高められ、赤外線センサ１０の検出精度が充分に確保される。

さらに、前述したように、赤外線センサ１０に感熱膜１２と反射膜２１との対を複数形成する場合においては、従来のように、前記対毎に距離Ｄを設定するような必要がないことから、感熱膜１２と反射膜２１との間の距離Ｄが精度よく設定される。すなわち、スペーサ３が、複数の前記対の距離Ｄを同一寸法に設定するので、検出精度が充分に確保される。

また、梁部１３が、感熱膜１２の外周から感熱膜１２の面方向に沿って延び、感熱膜１２と凹部１１の開口縁とを連結して感熱膜１２を支持しているので、従来のように、梁部が感熱膜及び基板に対し傾斜して延びて、感熱膜と基板とを連結するとともに感熱膜を支持しているような構成に対比して、感熱膜１２の振動が確実に抑制されて、感熱膜１２と反射膜２１との間の距離Ｄ（＝λ／４）がより精度よく設定される。すなわち、従来では、傾斜して形成された梁部がばね材のように作用して、感熱膜１２が振動して検出精度が確保できないことがあったが、本実施形態の赤外線センサ１０によれば、梁部１３が感熱膜１２の面方向に沿って延びていることから感熱膜１２の振動が抑制されて、検出精度が充分に確保される。

また、スペーサ３が、第１基板１と第２基板２との間を減圧雰囲気に封止しているので、この赤外線センサ１０を構成する部品点数が削減される。すなわち、従来では、感熱膜１２が、第１基板１において第２基板２側とは反対側を向く表面に形成され、さらに第１基板１の前記表面に対向するように集光基板４等からなる蓋部材を配設して、第１基板１と集光基板４との間の感熱膜１２を減圧雰囲気に封止するとともに感熱膜１２の検出精度を確保していたが、本実施形態に係る赤外線センサ１０においては、第１、第２基板１，２の間がスペーサ３により減圧雰囲気に封止されているとともに感熱膜１２が減圧雰囲気中に配設されることから、第１基板１と集光基板４との間を減圧雰囲気に封止する必要が生じず、また、集光基板４を用いなくともよい。従って、赤外線センサ１０の製造コストが大幅に削減される。

尚、集光基板４を用いない場合には、図３に示すように、第１基板１における第２基板２側とは反対側を向く表面に、凸レンズ状の集光部２４を複数形成することとしてもよい。これらの集光部２４は各感熱膜１２に対応して配置され、検出対象から放射される赤外線を感熱膜１２に夫々集光させるように形成されている。このように集光部２４を第１基板１に直接形成することとした場合、集光部２４と感熱膜１２との間の距離をより精度よく決められるとともに赤外線を感熱膜１２に精度よく集光させることができる。また、検出精度を確保できるとともに、赤外線センサ１０を構成する部品点数が削減される。

すなわち、従来では、検出基板の回路基板とは反対側の表面に感熱膜１２が配設されていたので、検出基板に集光部２４を形成することができなかった。一方、図３における赤外線センサ１０によれば、感熱膜１２が第１基板１の第２基板２側を向く表面に配設されることから、第１基板１の第２基板２側とは反対側を向く表面に集光部２４を形成することができ、部品点数が削減する。

また、感熱膜１２として、ボロメータ材料の酸化バナジウムを用いているので、感熱膜１２の熱抵抗を大きくでき、検出精度を充分に確保できる。また、赤外線センサ１０の製造コストをより削減できる。

また、スペーサ３を、半田、ガラスフリット又はガラスペーストにより形成した場合には、スペーサ３が第１基板１と第２基板２との間を減圧雰囲気に気密に封止し、赤外線センサ１０の精度が充分に確保される。また、スペーサ３の形成が、他の金属接合とともに行えることから、製造がより簡便となる。

また、第１基板１の凹部１１を用いて犠牲層を形成し、この犠牲層の表面に感熱膜１２及び梁部１３を形成していることから、感熱膜１２及び梁部１３の形成が簡便に行える。すなわち、従来のように、平坦面からなる基板の表面に反射膜１２を形成し、該反射膜１２の表面に犠牲層を形成する場合には、犠牲層の膜厚を確保しつつ該膜厚を精度よく設定することが難しく、また製造工程が煩雑となっていたが、本実施形態によれば、凹部１１に犠牲層を充填するのみの簡便な作業により、犠牲層の膜厚を確保できるとともに該膜厚を精度よく設定できる。

また、前述のように凹部１１の開口縁に梁部１３を介して感熱膜１２を形成するにあたり、凹部１１の深さを前記距離Ｄに関係なく設定できることから比較的浅く形成することが可能であり、この場合、犠牲層の膜厚を低減でき、製造がより簡便となる。

尚、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変更を加えることが可能である。
例えば、本実施形態では、第１基板１がＳｉからなることとして説明したが、第１基板１は赤外線を透過する性質を有していればよく、それ以外のポリエステル等の樹脂により形成されていても構わない。このように第１基板１をポリエステルで形成した場合には、材料費がより削減される。

また、本実施形態では、感熱膜１２を構成するボロメータ材料として、酸化バナジウムを用いることとして説明したが、他のボロメータ材料を用いることとしても構わない。また、感熱膜１２として、ボロメータ材料以外の材料を用いても構わない。

また、本実施形態では、感熱膜１２に酸化バナジウムを用い、梁部１３にＰｏｌｙ−Ｓｉを用いることとして説明したが、感熱膜１２及び梁部１３を同一材料により一体成形することとしても構わない。この場合、製造工程が削減されるとともに、生産性が向上する。

また、本実施形態では、検出対象として主に人体を想定し、人体から放射される赤外線の波長λ（約１０μｍ）より、感熱膜１２と反射膜２１との間の距離Ｄ（＝λ／４）＝２．５μｍに設定することとして説明したが、距離Ｄは、本実施形態に限定されるものではない。すなわち、距離Ｄは、検出対象から放射される赤外線の波長λに合わせて、適宜設定可能である。

また、本実施形態では、反射膜２１がＡｌで形成されていることとして説明したが、反射膜２１は、赤外線を反射する性質のものであればよく、それ以外のＡｌ−Ｓｉ等であっても構わない。

また、本実施形態では、凹部１１が、略直方体穴状に形成されていることとして説明したが、凹部１１の形状はそれ以外の略円柱穴状や略多角柱穴状であっても構わない。また、凹部１１が、アレイ状に配列していることとして説明したが、凹部１１の配列は、本実施形態に限定されない。

また、本実施形態では、梁部１３が２本設けられており、これらの梁部１３が略Ｚ字状に夫々形成されていることとして説明したが、梁部１３の数量や形状は、本実施形態に限定されない。
また、第２基板２が、ＣＭＯＳＩＣを有することとして説明したが、第２基板２は、ＣＭＯＳＩＣ以外の信号処理回路を有していることとしても構わない。

また、本実施形態では、第１基板１の前記導体パターンと第２基板２の前記ＣＭＯＳＩＣが、フレキシブル基板等の外部配線を介して電気的に接続されていることとして説明したが、これに限定されるものではない。すなわち、例えば、スペーサ３として、導電性粒子を含有した感光性硬化樹脂材料等を用い、スペーサ３を介して、前記導体パターンと前記ＣＭＯＳＩＣとを導通することとしても構わない。

本発明の一実施形態に係る赤外線センサを示す概略側断面図である。 本発明の一実施形態に係る赤外線センサの感熱膜を拡大して示す概略部分平面図である。 本発明の一実施形態に係る赤外線センサの第１基板の変形例を示す概略側断面図である。

符号の説明

１ 第１基板
２ 第２基板
３ スペーサ
１０ 赤外線センサ
１１ 凹部
１２ 感熱膜
１３ 梁部
２１ 反射膜
２４ 集光部
Ｄ 感熱膜と反射膜との間の距離

Claims (5)

1. 赤外線を透過する材料からなる第１基板と、信号処理回路を有し前記第１基板に対向配置される第２基板と、を備え、
   前記第１基板は、前記第２基板側を向く表面に形成された凹部と、前記凹部の底面から離間して配設された感熱膜と、前記感熱膜の外周に複数形成されるとともに該感熱膜の面方向に沿って延び、前記感熱膜と前記凹部の開口縁とを連結する梁部と、を備え、
   前記第２基板は、前記第１基板側を向く表面に形成されるとともに前記感熱膜に対向配置される反射膜を備え、
   前記第１基板と前記第２基板との間には、前記感熱膜と前記反射膜との間の距離を検出対象の波長λに対してλ／４に設定するスペーサが配置されていることを特徴とする赤外線センサ。
2. 請求項１に記載の赤外線センサであって、
   前記スペーサは、前記第１基板の前記第２基板側を向く表面の外周縁部と、前記第２基板の前記第１基板側を向く表面の外周縁部とに夫々密接されているとともに、前記第１基板と前記第２基板との間を減圧雰囲気に封止していることを特徴とする赤外線センサ。
3. 請求項１又は２に記載の赤外線センサであって、
   前記第１基板には、前記感熱膜に赤外線を集光させる集光部が形成されていることを特徴とする赤外線センサ。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の赤外線センサであって、
   前記感熱膜として、ボロメータ材料を用いていることを特徴とする赤外線センサ。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の赤外線センサであって、
   前記スペーサが、半田、ガラスフリット又はガラスペーストにより形成されていることを特徴とする赤外線センサ。

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