JP2010122298A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】印刷法、フォトリソグラフ法等による厚いブラックマトリクス層を有するにも拘らず、前記ブラックマトリクス層で区画された各領域内に気泡が生じるおそれがないカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】ブラックマトリクス層３上にカラーフィルタ層１２を構成するインキ層９を重ねて転写後、前記インキ層９を、転写に用いたブランケット層１４、またはプレス層１８の圧接によりプレスする。
【選択図】図８

Description

本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等のフラットパネルディスプレイに用いるカラーフィルタの製造方法に関するものである。

前記ＬＣＤ等に使用するカラーフィルタは、透明な基板の表面をブラックマトリクス層によって複数の領域に区画し、区画された各領域内を赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色に交互に着色して、隣り合うＲＧＢ各色に着色された１つずつ計３つの領域を１つの表示単位（画素）として構成される。前記カラーフィルタは、例えば前記基板の表面にまずブラックマトリクス層を形成し、次いでその上に重ねて、バインダ樹脂を含みかつ前記３色のいずれかに着色された透明インキからなるインキ層を各色ごとに順に配列させて印刷してカラーフィルタ層を形成すること等により製造される。

ブラックマトリクス層として、従来はクロム等の金属からなる蒸着膜が用いられてきた。しかし蒸着法では昨今のＬＣＤ等の大画面化に対応するのが困難になりつつあり、対策としてブラックマトリクス層を、バインダ樹脂を含みかつ黒色に着色されたインキを用いて、カラーフィルタ層と同様に印刷法によって形成したり、あるいはフォトリソグラフ法により、基板の表面に感光性樹脂膜を形成したのち露光、現像してブラックマトリクス層をパターン形成したりすることが検討されている。

ところが印刷法、フォトリグラフ法等によって、蒸着法による厚み０．１μｍ程度の蒸着膜と同等程度の遮光性能を有するブラックマトリクス層を形成するためには、その厚みが１〜２μｍ程度は必要であり、かかる厚みの大きいブラックマトリクス層が形成された基板の表面は平坦でない。そのため、前記ブラックマトリクス層上に重ねるようにインキ層を印刷してカラーフィルタ層を形成した際に気泡が生じやすく、気泡が生じるとカラーフィルタ層の透明度が低下したり色濃度が低下したりするという問題がある。

すなわちインキ層の印刷法としては、例えば円筒状のブランケット胴の外周に、少なくともその表面がゴム等で形成されたブランケット層を円筒状に巻き付けて保持させる等した状態で、前記ブランケット層の表面に所定の平面形状を有するインキ層をパターン形成した後、前記ブランケット胴を基板上で転動させることによって、前記インキ層を基板の表面に順次転写させる凹版オフセット印刷法、反転印刷法、平版オフセット印刷法等が一般的である。

ところがこれらの印刷法では、ブラックマトリクス層のうち印刷方向（ブランケット胴の転動方向）と交差する部位と基板の表面との段差をブランケット胴が乗り越える際に、特に前記部位の印刷方向の上流側（前記転動方向の手前側）に面する側端面と基板の表面との間の凹入した角部の内奥までインキを十分に行き渡らせることができない。そのため前記角部に空間が残りやすく、残った空間がインキによって封じ込められて気泡が生じやすい。

特許文献１には、基板上にＲＧＢの３色のストライプパターンが順に配列された、ブラックマトリクス層を有しない簡易型のカラーフィルタを、印刷法ではなくスピンコート法やカラードフィルム法（ドライフィルムラミネーション法）を利用して製造する際に気泡が生じるのを防止する方法が記載されている。前記方法では、まず基板の表面に、スピンコート法またはカラードフィルム法によってＲＧＢ３色のうちいずれか１色に着色された感光性樹脂膜を形成したのち露光、現像して１色目のストライプパターンを形成する。

次いで別の１色に着色された感光性樹脂膜を、同様にスピンコート法またはカラードフィルム法によって形成したのち露光、現像して、ストライプの一方の側縁が先の１色目のストライプパターンの一方の側縁と接する２色目のストライプパターンを形成し、さらに先の２色のストライプパターン間の領域にインクジェット印刷法、オフセット印刷法等の印刷法によって３色目のストライプパターンを形成することでカラーフィルタ層が形成される。

先に２色のストライプパターンが形成された間のごく狭い隙間に、前記２色のストライプパターンと同様にスピンコート法やカラードフィルム法によって３色目のストライプパターンを形成すると、前記３色目のストライプパターンと基板との間に気泡が生じやすいため、このような対策が考えられたのである。しかしこの製造方法を、先に説明したように基板の表面に厚いブラックマトリクス層を有するカラーフィルタの製造に適用しても気泡が生じるのを防止することは不可能である。

すなわちブラックマトリクス層を有するため平滑でない基板の表面には、スピンコート法では、そもそも均一な厚みを有する感光性樹脂膜を形成できないので、１色目と２色目の感光性樹脂膜の形成方法は、あらかじめ形成した感光性樹脂膜（ドライフィルム）を前記表面にラミネートするカラードフィルム法に限られることになる。ところがドライフィルムは、通常のラミネート操作では、先に説明した各種印刷法によるインキ層と同様に、あるいはそれ以上に、ブラックマトリクス層の側端面と基板の表面との角部の内奥まで十分に行き渡らせることができないため、前記角部に気泡が生じやすい。

また前記基板の表面に、インクジェット印刷法によって３色目のストライプパターンを印刷しても、特にブラックマトリクス層の陰になって、前記角部までインキを十分に行き渡らせることができず、厚みが均一なストライプパターンを形成できないため、３色目の印刷法は、凹版オフセット印刷法等のオフセット印刷法に限られることになる。ところがオフセット印刷法では、先に説明したようにブラックマトリクス層のうち印刷方向と交差する部位の、前記印刷方向の上流側に面する側端面と基板の表面との角部に気泡が生じやすい。そのため特許文献１の製造方法では、厚いブラックマトリクス層を有するカラーフィルタの製造において、前記ブラックマトリクス層によって区画された各領域内に気泡が生じるのを防止することは困難である。

特許文献２には、ドライフィルムが基板の表面とブラックマトリクス層との間の段差を乗り越える際に、前記角部に気泡が生じるのを極力抑制するために、前記ブラックマトリクス層の側端面を少なくとも２段の階段状に形成することが記載されている。しかし階段状としても依然として段差とそれに伴う凹入した角部が存在している以上、気泡が生じるのを完全に防止することは実質的に不可能である。
特開２００２−７１９２９号公報 特開２００４−３１８０７９号公報

本発明の目的は、印刷法、フォトリソグラフ法等による厚いブラックマトリクス層を有するにも拘らず、前記ブラックマトリクス層で区画された各領域内に気泡が生じるおそれがないカラーフィルタの製造方法を提供することにある。

本発明は、基板上に、前記基板の表面を複数の領域に区画するブラックマトリクス層をパターン形成する工程と、外周にブランケット層を設けたブランケット胴の、前記ブランケット層の表面にインキ層をパターン形成した後、前記ブランケット胴を基板上で転動させることにより、前記インキ層をブラックマトリクス層上に重ねて基板上に転写して、前記ブラックマトリクス層によって区画された各領域を着色するカラーフィルタ層を形成する工程とを含むカラーフィルタの製造方法であって、
(1) 転写したインキ層上に前記ブランケット層を圧接させながらブランケット胴を基板上で転動させることにより、前記インキ層を厚み方向にプレスする工程、
(2) ブランケット胴として、外周の略半周にブランケット層、残りの略半周にインキ層をプレスするためのプレス層を設けたものを用い、転写したインキ層上に前記プレス層を圧接させながらブランケット胴を基板上で転動させることにより、前記インキ層を厚み方向にプレスする工程、
(3) ブランケット胴とは別に、外周にプレス層を設けたプレス胴を設け、転写したインキ層上に前記プレス層を圧接させながらプレス胴を基板上で転動させることにより、前記インキ層を厚み方向にプレスする工程、
のうちのいずれか１つの工程を含むことを特徴とするものである。

本発明によれば、インキ層を転写後に上記(1)〜(3)の何れかの工程を実施することにより、前記インキ層からなるカラーフィルタ層の、ブラックマトリクス層で区画された各領域内に気泡が生じるのを防止することができる。すなわち(1)(2)のように印刷に使用したブランケット胴それ自体を基板上で転動させるか、または(3)のようにブランケット胴とは別に設けたプレス胴を基板上で転動させて、基板上に転写したインキ層を厚み方向にプレスすることにより、前記インキ層を形成するインキを、例えばブラックマトリクス層の側端面と基板の表面との角部の内奥等まで十分に行き渡らせることができる。そのため前記角部等に空間が残ったり、残った空間がインキによって封じ込められて気泡が生じたりするのを防止することができる。

本発明によれば、印刷法、フォトリソグラフ法等による厚いブラックマトリクス層を有するにも拘らず、前記ブラックマトリクス層で区画された各領域内に気泡が生じるおそれがないカラーフィルタの製造方法を提供することができる。

図１は、本発明のカラーフィルタの製造方法の一例の一工程を拡大して説明する部分切欠斜視図である。図２は、図１の工程の次の工程を拡大して説明する部分切欠斜視図である。図３は、図２の工程の次の工程を拡大して説明する部分切欠斜視図である。図４は、図３の工程の次の工程と、それによって製造されるカラーフィルタの構造を拡大して説明する部分切欠斜視図である。

図１を参照して、この例の製造方法では、まずガラス基板等の透明な基板１を用意し、前記基板１の一方側の表面２上に、前記表面２を複数の領域に区画するブラックマトリクス層３をパターン形成する。基板１の表面２の全体は、図示していないがＬＣＤ等の画面形状に合わせた矩形状とされている。
図の例では、ブラックマトリクス層３は、前記表面２上に等間隔に配列された複数本の横桟４と、前記横桟４と交差させて等間隔に配列された複数本の縦桟５とを有する格子状に形成されている。横桟４の形成間隔は縦桟５の形成間隔より広く設定されている。横桟４は直線状とされ、前記表面２の矩形の互いに平行な２辺間に、前記２辺と平行で、かつ互いに平行に設けられている。

また縦桟５は、横桟４との交差点、および隣り合う横桟４間の中点で交互に逆方向に屈曲する屈曲形状とされている。縦桟５の、交差点と中点との間の部分は、それぞれ直線状とされている。前記交差点、中点での縦桟５の屈曲角度は一定とされている。また縦桟５を構成する直線状の部分の長さ、および前記直線状の部分の、横桟４との交差角度はいずれも一定とされている。

隣り合う縦桟５は、前記直線状の部分が互いに平行となるように、交差点、中点での屈曲角度と屈曲方向、ならびに直線状の部分と横桟４との交差角度と交差方向が揃えられている。各縦桟５の、複数本の横桟４との交差点は、基板１の表面２の矩形の、前記横桟４と直交する互いに平行な２辺と平行な直線状に配列されている。また各縦桟５の、隣り合う横桟４間の中点は、基板１の表面２の矩形の、前記横桟４と直交する互いに平行な２辺、および複数本の横桟４との交差点の直線状の配列と平行な直線状に配列されている。

それぞれ２本ずつの横桟４および縦桟５で区画されて形成された、縦桟５を挟んで隣り合う３つの領域６、７、８は、次工程以降でそれぞれＲＧＢの各色に着色されて１つの表示単位（画素）を構成する。
ブラックマトリクス層３は、先に説明したように印刷法、フォトリソグラフ法等によって形成するのが好ましい。これらの形成方法によれば、蒸着法では対応することが困難な大画面のＬＣＤ用等の、大面積のカラーフィルタを製造することができる。印刷法では、バインダ樹脂を含みかつ黒色に着色されたインキを用いて、オフセット印刷法、反転印刷法、スクリーン印刷法等の印刷法によってブラックマトリクス層３が形成される。

オフセット印刷法としては、前記ブラックマトリクス層３の平面形状に対応した格子状の凹部がパターン形成された凹版を用いる凹版オフセット印刷法が好適に採用される。凹版オフセット印刷法では、前記凹版の凹部にインキを充填すると共に、円筒状のブランケット胴の外周に、少なくともその表面がゴム等で形成されたブランケット層を円筒状に巻き付けて保持させる等した状態で、前記ブランケット胴を凹版上で転動させることによって、前記インキをブランケット層の表面に順次転写させる。

これにより、前記ブランケット層の表面に、前記ブラックマトリクス層３のパターンに対応させてインキ層が格子状にパターン形成される。次いで、前記ブランケット胴を基板１上で転動させることによって、前記インキ層を基板１の表面２に順次転写させた後、乾燥させ、さらに必要に応じて焼成すると、前記表面２上にブラックマトリクス層３が形成される。

また反転印刷法では、円筒状のブランケット胴の外周に、少なくともその表面がゴム等で形成されたブランケット層を円筒状に巻き付けて保持させる等した状態で、前記ブランケット層の表面のほぼ全面に、厚みが均一になるようにインキを塗布する。そして前記ブランケット胴を、ブラックマトリクス層３の平面形状に対応した格子状の凹部がパターン形成された凹版上で転動させることによって、前記ブランケット層の表面のインキのうち凹版の凹部以外の表面と接触したインキを前記凹版の表面に転写させてブランケット層の表面から除去する。

これにより、前記ブランケット層の表面に、前記ブラックマトリクス層３のパターンに対応させてインキ層が格子状にパターン形成される。このあとは凹版オフセット印刷法の場合と同様に、前記ブランケット胴を基板１上で転動させることによって、前記インキ層を基板１の表面２に順次転写させた後、乾燥させ、さらに必要に応じて焼成すると、前記表面２上にブラックマトリクス層３が形成される。

さらにスクリーン印刷法では、前記ブラックマトリクス層３の平面形状に対応する格子状の部分のみインキを透過しうるように目が残された紗等からなるスクリーン上にインキを供給し、前記スクリーンを端から順に、スキージを用いて基板１の表面２に圧接させながら、前記目の部分においてのみ選択的にインキを透過させて基板１の表面２に印刷し、乾燥させた後、さらに必要に応じて焼成すると、前記表面２上にブラックマトリクス層３が形成される。またフォトリソグラフ法では、例えば基板１の表面２のほぼ全面に感光性樹脂を含みかつ黒色に着色された感光性樹脂膜を形成したのち露光、現像してブラックマトリクス層３が形成される。

次に図２を参照して、前記基板１の表面２上に、前記ブラックマトリクス層３と重ねてまず１色目のインキ層９を、バインダ樹脂を含みかつＲＧＢのいずれか１色、例えばＲに着色された透明インキを用いて、印刷法によって形成する。すなわち、前記透明インキからなり、所定の平面形状にパターン形成されたインキ層を、先に説明した凹版オフセット印刷法、反転印刷法、あるいは平版オフセット印刷法等の印刷法によって、基板１の表面２上に前記ブラックマトリクス層３と重ねて印刷した後、乾燥させ、さらに必要に応じて焼成すると、前記表面２上のブラックマトリクス層３上に重ねて、１色目のインキ層９が形成される。

図１、図２を参照して、前記１色目のインキ層９は、ブラックマトリクス層３で区画された領域６と、前記領域６の、縦桟５の長さ方向に連なる複数の連続する領域とを繋いで、基板１の表面２の、前記長さと直交する２辺間を繋ぐ長さを有している。インキ層９は、前記長さと、領域６を区画する２本の縦桟５のうち一方の幅方向の中点から他方の幅方向の中点までの幅とを有する細長い帯状に形成されている。インキ層９の帯の両側縁は、縦桟５の屈曲形状に合わせて、横桟４との交差点、および隣り合う横桟４間の中点で交互に逆方向に屈曲する屈曲形状とされている。インキ層９は、前記基板１の表面２の矩形の、前記長さ方向と平行な２辺間に亘って、縦桟５で区画された複数の領域の列の２列おきに繰り返し配列されている。

前記複数のインキ層９を凹版オフセット印刷法によって形成するには、各インキ層９の平面形状と配列とに対応した複数の凹部がパターン形成された凹版を用いる。そして、前記凹版の凹部にインキを充填すると共に、円筒状のブランケット胴の外周に、少なくともその表面がゴム等で形成されたブランケット層を円筒状に巻き付けて保持させる等した状態で、前記ブランケット胴を凹版上で転動させることによって、前記インキをブランケット層の表面に順次転写させる。

これにより、前記ブランケット層の表面に、インキ層がパターン形成される。次いで、前記ブランケット胴を基板１上で転動させることによって、前記インキ層を基板１の表面２に順次転写させて、図２に示す複数のインキ層９が形成される。
また複数のインキ層９を反転印刷法によって形成するには、円筒状のブランケット胴の外周に、少なくともその表面がゴム等で形成されたブランケット層を円筒状に巻き付けて保持させる等した状態で、前記ブランケット層の表面のほぼ全面に、厚みが均一になるようにインキを塗布する。そして前記ブランケット胴を、各インキ層９の平面形状と配列とに対応した複数の凹部がパターン形成された凹版上で転動させることによって、前記ブランケット層の表面のインキのうち凹版の凹部以外の表面と接触したインキを前記凹版の表面に転写させてブランケット層の表面から除去する。

これにより、前記ブランケット層の表面に、インキ層がパターン形成される。このあとは凹版オフセット印刷法の場合と同様に、前記ブランケット胴を基板１上で転動させることによって、前記インキ層を基板１の表面２に順次転写させて、図２に示す複数のインキ層９が形成される。
さらに複数のインキ層９を平版オフセット印刷法によって形成するには、各インキ層９の平面形状と配列とに対応した複数のストライプ状の領域が撥水面（親油面）、その他の領域が親水面とされた平版を用意する。前記平版は、例えば親水性の基材の表面の全面を撥水性（親油性）の感光層で被覆したのち露光、現像するフォトリソグラフ法等によって形成される。そして前記平版のほぼ全面に、厚みが均一になるようにインキを塗布すると共に、円筒状のブランケット胴の外周に、少なくともその表面がゴム等で形成されたブランケット層を円筒状に巻き付けて保持させる等した状態で、前記ブランケット胴を平版上で転動させることによって、前記平版のうち撥水面上のインキのみ選択的に、ブランケット層の表面に順次転写させる。

これにより、前記ブランケット層の表面に、インキ層がパターン形成される。このあとは凹版オフセット印刷法の場合と同様に、前記ブランケット胴を基板１上で転動させることによって、前記インキ層を基板１の表面２に順次転写させて、図２に示す複数のインキ層９が形成される。
次に図３を参照して、前記基板１の表面２上に、ブラックマトリクス層３と重ねて２色目のインキ層１０を、バインダ樹脂を含みかつＲＧＢのいずれか１色、例えばＢに着色された透明インキを用いて印刷法によって形成する。すなわち、前記透明インキからなり、所定の平面形状にパターン形成されたインキ層を、先に説明した凹版オフセット印刷法、反転印刷法、あるいは平版オフセット印刷法等の印刷法によって、基板１の表面２上に前記ブラックマトリクス層３と重ねて印刷した後、乾燥させ、さらに必要に応じて焼成すると、前記表面２上のブラックマトリクス層３上に重ねて、かつ先に形成した隣接するインキ層９と沿わせて２色目のインキ層１０が形成される。

２色目のインキ層１０は、１色目と同形状に形成される。すなわち２色目のインキ層１０は、ブラックマトリクス層３で区画された領域８と、前記領域８の、縦桟５の長さ方向に連なる複数の連続する領域とを繋いで、基板１の表面２の、前記長さと直交する２辺間を繋ぐ長さを有している。インキ層１０は、前記長さと、領域８を区画する２本の縦桟５のうち一方の幅方向の中点から他方の幅方向の中点までの幅とを有する細長い帯状に形成されている。インキ層１０の帯の両側縁は、縦桟５の屈曲形状に合わせると共に、隣接するインキ層９、１１の帯の側縁の屈曲形状に沿わせて、横桟４との交差点、および隣り合う横桟４間の中点で交互に逆方向に屈曲する屈曲形状とされている。インキ層１０は、前記基板１の表面２の矩形の、前記長さ方向と平行な２辺間に亘って、縦桟５で区画された複数の領域の列の２列おきに繰り返し配列されている。

次に図４を参照して、前記基板１の表面２上に、ブラックマトリクス層３と重ねて３色目のインキ層１１を、バインダ樹脂を含みかつＲＧＢのいずれか１色、例えばＧに着色された透明インキを用いて印刷法によって形成する。すなわち、前記透明インキからなり、所定の平面形状にパターン形成されたインキ層を、先に説明した凹版オフセット印刷法、反転印刷法、あるいは平版オフセット印刷法等の印刷法によって、基板１の表面２上に前記ブラックマトリクス層３と重ねて印刷した後、乾燥させ、さらに必要に応じて焼成すると、前記表面２上のブラックマトリクス層３上に重ねて、かつ先に形成した隣接するインキ層９、１０と沿わせて、両インキ層９、１０間に３色目のインキ層１１が形成される。

３色目のインキ層１１は、１色目、２色目と同形状に形成される。すなわち３色目のインキ層１１は、ブラックマトリクス層３で区画された領域７と、前記領域７の、縦桟５の長さ方向に連なる複数の連続する領域とを繋いで、基板１の表面２の、前記長さと直交する２辺間を繋ぐ長さを有している。インキ層１１は、前記長さと、領域７を区画する２本の縦桟５のうち一方の幅方向の中点から他方の幅方向の中点までの幅とを有する細長い帯状に形成されている。インキ層１１の帯の両側縁は、縦桟５の屈曲形状に合わせると共に、隣接するインキ層９、１０の帯の側縁の屈曲形状に沿わせて、横桟４との交差点、および隣り合う横桟４間の中点で交互に逆方向に屈曲する屈曲形状とされている。インキ層１１は、前記基板１の表面２の矩形の、前記長さ方向と平行な２辺間に亘って、縦桟５で区画された複数の領域の列の２列おきに繰り返し配列されている。

そして前記３色のインキ層９〜１１をブラックマトリクス層３上に重ねてパターン形成することでカラーフィルタ層１２が構成され、それによってカラーフィルタ１３が製造される。なおカラーフィルタ層１２を構成する３色のインキ層９〜１１を乾燥後に焼成する場合は、各インキ層９〜１１を乾燥後にその都度焼成してもよいし、焼成は１度にまとめて行なってもよい。

前記ブラックマトリクス層３、およびインキ層９〜１１を印刷法によって形成するためのインキとしては従来同様のものを用いることができる。すなわちブラックマトリクス層用のインキとしては、少なくともバインダ樹脂を含み、黒色不透明に着色されたインキが用いられる。またインキ層９〜１１用のインキとしては、少なくともバインダ樹脂を含み、ＲＧＢのいずれか１色に着色された透明インキが用いられる。

本発明においては、前記の手順で基板１の表面２上の、ブラックマトリクス層３上に重ねて転写したインキ層９〜１１を、それぞれ乾燥、焼成に先立って、好ましくは印刷直後に厚み方向にプレスする。これにより、前記インキ層９〜１１を形成するインキを、例えばブラックマトリクス層３の側端面と基板１の表面２との角部の内奥等まで十分に行き渡らせることができるため、前記角部等に空間が残り、残った空間がインキによって封じ込められて気泡が生じるのを防止することができる。

インキ層９〜１１を厚み方向にプレスするためには、
(1) 転写したインキ層９〜１１上に前記ブランケット層を圧接させながらブランケット胴を基板１上で転動させることにより、前記インキ層９〜１１を厚み方向にプレスする工程、
(2) ブランケット胴として、外周の略半周にブランケット層、残りの略半周にインキ層９〜１１をプレスするためのプレス層を設けたものを用い、転写したインキ層９〜１１上に前記プレス層を圧接させながらブランケット胴を基板１上で転動させることにより、前記インキ層９〜１１を厚み方向にプレスする工程、
(3) ブランケット胴とは別に、外周にプレス層を設けたプレス胴を設け、転写したインキ層９〜１１上に前記プレス層を圧接させながらプレス胴を基板１上で転動させることにより、前記インキ層９〜１１を厚み方向にプレスする工程、
のうちのいずれかが採用される。

図５〜図８は、前記(1)のプレス工程を経てインキ層９〜１１を形成する本発明の製造方法の一例を説明する概略断面図である。各図では、代表的にインキ層９を形成する場合について説明するが、インキ層１０、１１の形成についても同様であることは言うまでもない。
図５を参照して、この例では、まず先に説明したように凹版オフセット印刷法、反転印刷法、または平版オフセット印刷法等により、外周にブランケット層１４を設けたブランケット胴１５の、前記ブランケット層１４の表面に、所定の平面形状と配列とを有するインキ層９のもとになるインキ層１６を形成する。また、先の工程で表面２にブラックマトリクス層３を形成した基板１を定盤１７上にセットする。

次に図６を参照して、図中に白抜きの矢印および実線の矢印で示すようにブランケット胴１５を基板１上で転動させることにより、ブランケット層１４上のインキ層１６をブラックマトリクス層３上に重ねて基板１上に転写して、図６、図７に示すように、前記ブラックマトリクス層３によって区画された所定の領域（図１の領域６等）を着色するインキ層９を形成する（転写工程）。

この際、図６ではインキ層１６の転写の様子がわかりやすいように、基板１とブランケット層１４との間をあけて記載しているが、実際には、インキ層１６をブランケット層１４から基板１に良好に転写させるために、ブランケット層１４の表面を基板１の表面２に所定の圧力で圧接させた状態で、ブランケット胴１５を基板１上で転動させる。
ブランケット胴１５を基板１上で転動させるためには、ブランケット胴１５を固定した状態で定盤１７を図６の左方向に移動させるか、定盤１７を固定した状態でブランケット胴１５を逆に右方向に移動させるか、もしくはブランケット胴１５を右方向、定盤１７を左方向に移動させることにより、前記両者を相対移動させながら、ブランケット胴１５を自転させればよい。

またブランケット胴１５は、ブランケット層１４と基板１との摩擦による連れ回りによって自転させてもよい。しかしブランケット層１４上のインキ層１６をできるだけ正確に基板１上に転写させて、インキ層９の平面形状をできるだけ正確に再現することを考慮すると、ブランケット胴１５は、前記相対移動と同期させて何らかの動力によって自転させるのが好ましい。

従来の製造方法であれば、このあと転写工程が終了した基板１を定盤１７上から取り外して次工程（例えば乾燥、焼成工程）に送り、かつブランケット胴１５を図７の転写終了位置から図５の初期位置まで復帰させると共に、定盤１７上に新たな基板１をセットして図５ないし図７の転写工程を繰り返すことになる。
しかしこの例では、前記転写終了位置から初期位置までブランケット胴１５を復帰させる間を利用してプレス工程が実施される。すなわち図８を参照して、転写工程が終了したブランケット層１４を図中に黒矢印で示すようにインキ層９上に圧接させながら、ブランケット胴１５を、図中に白抜きの矢印および実線の矢印で示すように転写工程のときとは反対方向（転写終了位置→初期位置）に基板１上で転動させることにより、前記インキ層９を厚み方向にプレスする（プレス工程）。

これにより、インキ層９を形成するインキを、例えばブラックマトリクス層３の側端面と基板１の表面２との角部の内奥等まで十分に行き渡らせることができるため、前記角部等に空間が残り、残った空間がインキによって封じ込められて気泡が生じるのを防止することができる。
なお図８でも、インキ層９の圧接の様子がわかりやすいように、基板１とブランケット層１４との間をあけて記載しているが、実際には、インキ層９の全体を良好にプレスするために、ブランケット層１４の表面を基板１の表面２に所定の圧力で圧接させた状態で、ブランケット胴１５を基板１上で転動させる。

かかるプレス工程においては、例えば転写工程よりもブランケット層１４の圧接力を高めることにより、前記プレスの効果（気泡を除去する効果）を向上できる。そのためには、例えば転写工程よりも基板１の位置をブランケット胴１５の方向に近づけたりすればよい。圧接力をどの程度まで高めるかについては特に限定されないが、例えば転写工程での標準の圧接力（印圧）が０．０５ＭＰａ程度である場合、プレス工程での圧接力（プレス圧）をおよそ０．１ＭＰａ以上、５ＭＰａ以下、特に０．２ＭＰａ以上、２．５ＭＰａ以下程度に設定するのが好ましい。

またプレス圧を高めることに代えて、あるいは同時に、プレス工程におけるブランケット胴１５の転動速度を転写工程より遅くすることも、プレスの効果を向上するために有効である。転動速度をどの程度まで遅くするかについては特に限定されないが、例えば転写工程での標準の転動速度が８ｍ／ｍｉｎ程度である場合、プレス工程での転動速度をおよそ４ｍ／ｍｉｎ以上、８ｍ／ｍｉｎ未満、特に５ｍ／ｍｉｎ以上、６ｍ／ｍｉｎ以下程度に設定するのが好ましい。

また図の例では、先に説明したように、転写工程において図５の初期位置から図７の転写終了位置まで移動させたブランケット胴１５を、前記転写終了位置から初期位置まで復帰させる間にプレス工程を実施してインキ層９をプレスしている。そのため、ブランケット胴１５の移動量と移動に要する時間とを減らして、プレス工程が増加しているにも拘らず、１枚の基板１の処理に要する時間（タクトタイム）が大幅に増加するのを抑制して、カラーフィルタの生産効率が低下するのを防止できる。

ブランケット層１４としては、少なくとも表面がゴム等で形成された通常のブランケットが、いずれも使用可能である。ただし転写工程において、インキ層１６を、ブランケット層１４の表面に残留させずに基板１上に良好に転写させることや、プレス工程において、インキ層９を、ブランケット層１４の表面に逆転写させることなく良好にプレスすること等を考慮すると、前記ブランケット層１４としては、少なくとも表面がシリコーンゴム等で形成されたシリコーンブランケットが好適に使用される。

またシリコーンブランケットとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等からなる基材の片面に、各種ゴムや軟質ポリウレタン樹脂等からなる発泡もしくは非発泡のクッション層を介して、前記シリコーンゴム等からなる表面層が積層された積層構造を有するもの等が使用可能である。前記基材の厚みは０．１ｍｍ以上、０．７ｍｍ以下、特に０．１８８ｍｍ以上、０．５ｍｍ以下程度であるのが好ましい。またクッション層の厚みは０．３ｍｍ以上、２．０ｍｍ以下、特に０．４ｍｍ以上、１．５ｍｍ以下程度であるのが好ましい。さらに表面層の厚みは０．１ｍｍ以上、２．０ｍｍ以下、特に０．３ｍｍ以上、１．５ｍｍ以下程度であるのが好ましい。

ブランケット胴１５としては、略一周で基板１の全幅をカバーしうる直径を有するものを用いる。
プレス工程が終了したあとは、従来同様に基板１を定盤１７上から取り外して次工程（例えば乾燥、焼成工程）に送り、かつ定盤１７上に新たな基板１をセットして図５ないし図７の転写工程、および図８のプレス工程を繰り返すことになる。この際、ブランケット胴１５は、先に説明したようにプレス工程において既に図５の初期位置に復帰しているため、直ちにブランケット層１４の表面にインキ層１６をパターン形成して、次の転写工程に使用できる。

図９〜図１２は、前記(2)のプレス工程を経てインキ層９〜１１を形成する本発明の製造方法の一例を説明する概略断面図である。各図では、代表的にインキ層９を形成する場合について説明するが、インキ層１０、１１の形成についても同様であることは言うまでもない。
図９を参照して、この例ではブランケット胴１５として、外周の略半周にブランケット層１４、残りの略半周にインキ層９をプレスするためのプレス層１８を設けたものを用いる点が、先の(1)の例と相違している。このうちブランケット層１４としては、転写工程において、インキ層１６を表面に残留させずに基板１上に良好に転写させること等を考慮すると、少なくとも表面がシリコーンゴム等で形成されたシリコーンブランケットが好適に使用される。またシリコーンブランケットとしては、先に(1)の例で説明したのと同じ積層構造を有するもの等が使用可能である。

一方のプレス層１８としては、プレス工程において、インキ層９を、ブランケット層１４の表面に逆転写させることなく良好にプレスすること等を考慮すると、少なくとも表面がシリコーン樹脂やフッ素樹脂等で形成されたものが好適に使用される。
またプレス層１８としては、例えばＰＥＴフィルム等からなる基材の片面に、各種ゴムや軟質ポリウレタン樹脂等からなる発泡もしくは非発泡のクッション層を介して、前記シリコーン樹脂やフッ素樹脂等からなる表面層が積層された積層構造を有するもの等が使用可能である。前記基材の厚みは０．０７５ｍｍ以上、０．５ｍｍ以下、特に０．１ｍｍ以上、０．２５ｍｍ以下程度であるのが好ましい。またクッション層の厚みは０．３ｍｍ以上、５ｍｍ以下、特に０．５ｍｍ以上、２．５ｍｍ以下程度であるのが好ましい。さらに表面層の厚みは０．５μｍ以上、５００μｍ以下、特に１μｍ以上、２５０μｍ以下程度であるのが好ましい。

ブランケット胴１５としては、略半周で基板１の全幅をカバーするため、先の(1)の印刷工程、およびプレス工程で使用したブランケット胴１５の倍の直径を有するものを用いる。
図９を参照して、この例のプレス工程では、まず先に説明したように凹版オフセット印刷法、反転印刷法、または平版オフセット印刷法等により、前記ブランケット胴１５の、ブランケット層１４の表面に、所定の平面形状と配列とを有するインキ層９のもとになるインキ層１６を形成する。また、先の工程で表面２にブラックマトリクス層３を形成した基板１を定盤１７上にセットする。

次に図１０を参照して、図中に白抜きの矢印および実線の矢印で示すようにブランケット胴１５を基板１上で転動させることにより、ブランケット層１４上のインキ層１６をブラックマトリクス層３上に重ねて基板１上に転写して、図１０、図１１に示すように、前記ブラックマトリクス層３によって区画された所定の領域（図１の領域６等）を着色するインキ層９を形成する（転写工程）。

この際、図１０ではインキ層１６の転写の様子がわかりやすいように、基板１とブランケット層１４との間をあけて記載しているが、実際には、インキ層１６をブランケット層１４から基板１に良好に転写させるために、ブランケット層１４の表面を基板１の表面２に所定の圧力で圧接させた状態で、ブランケット胴１５を基板１上で転動させる。
ブランケット胴１５を基板１上で転動させるためには、ブランケット胴１５を固定した状態で定盤１７を図１０の左方向に移動させるか、定盤１７を固定した状態でブランケット胴１５を逆に右方向に移動させるか、もしくはブランケット胴１５を右方向、定盤１７を左方向に移動させることにより、前記両者を相対移動させながら、ブランケット胴１５を自転させればよい。

またブランケット胴１５は、ブランケット層１４と基板１との摩擦による連れ回りによって自転させてもよい。しかしブランケット層１４上のインキ層１６をできるだけ正確に基板１上に転写させて、インキ層９の平面形状をできるだけ正確に再現することを考慮すると、ブランケット胴１５は、前記相対移動と同期させて何らかの動力によって自転させるのが好ましい。

次に、図１１中に一点鎖線の矢印で示したようにブランケット胴１５を１８０°反転させて、図示していないがプレス層１８を基板１と対峙させた後、前記プレス層１８を用いてプレス工程が実施される。すなわち図１２を参照して、前記プレス層１８を図中に黒矢印で示すようにインキ層９上に圧接させながら、ブランケット胴１５を、図中に白抜きの矢印および実線の矢印で示すように転写工程のときとは反対方向に基板１上で転動させることにより、前記インキ層９を厚み方向にプレスする（プレス工程）。

これにより、インキ層９を形成するインキを、例えばブラックマトリクス層３の側端面と基板１の表面２との角部の内奥等まで十分に行き渡らせることができるため、前記角部等に空間が残り、残った空間がインキによって封じ込められて気泡が生じるのを防止することができる。
なお図１２でも、インキ層９の圧接の様子がわかりやすいように、基板１とプレス層１８との間をあけて記載しているが、実際には、インキ層９の全体を良好にプレスするために、プレス層１８の表面を基板１の表面２に所定の圧力で圧接させた状態で、ブランケット胴１５を基板１上で転動させる。

かかるプレス工程においては、例えば転写工程におけるブランケット層１４の印圧よりも、プレス層１８のプレス圧を高めることにより、前記プレスの効果（気泡を除去する効果）を向上できる。そのためには、例えば転写工程よりも基板１の位置をブランケット胴１５の方向に近づけたりすればよい。
印圧に対してプレス圧をどの程度まで高めるかについては特に限定されないが、プレス層１８として、例えば先に説明した層構成を有しプレス用として特化されたものを用いる場合は、プレス工程にもブランケット層１４を用いる(1)の場合に比べて、その条件を緩和することができる。例えば転写工程での標準の印圧が０．０５ＭＰａ程度である場合、プレス工程でのプレス圧をおよそ０．０５ＭＰａを超え、５ＭＰａ以下、特に０．１ＭＰａ以上、２．５ＭＰａ以下程度に設定するのが好ましい。

またプレス圧を高めることに代えて、あるいは同時に、プレス工程におけるブランケット胴１５の転動速度を転写工程より遅くすることも、プレスの効果を向上するために有効である。ただしプレス層１８として、例えば先に説明した層構成を有しプレス用として特化されたものを用いる場合は、(1)の場合に比べて条件を緩和することができ、転動速度を転写工程より速くしてタクトタイムの短縮を図ることも可能である。転動速度をどの程度の範囲とするかについては特に限定されないが、例えば転写工程での標準の転動速度が８ｍ／ｍｉｎ程度である場合には、プレス工程での転動速度をおよそ４ｍ／ｍｉｎ以上、２０ｍ／ｍｉｎ以下、特に５ｍ／ｍｉｎ以上、１２ｍ／ｍｉｎ以下程度に設定するのが好ましい。

また図の例では、先に説明したように、転写工程において図９の初期位置から図１１の転写終了位置まで移動させたブランケット胴１５を、前記転写終了位置から初期位置まで復帰させる間にプレス工程を実施してインキ層９をプレスしている。そのため、ブランケット胴１５の移動量と移動に要する時間とを減らして、プレス工程が増加しているにも拘らず、１枚の基板１の処理に要する時間（タクトタイム）が大幅に増加するのを抑制して、カラーフィルタの生産効率が低下するのを防止できる。

プレス工程が終了したあとは、従来同様に基板１を定盤１７上から取り外して次工程（例えば乾燥、焼成工程）に送り、かつ定盤１７上に新たな基板１をセットして図９ないし図１１の転写工程、および図１２のプレス工程を繰り返すことになる。この際、ブランケット胴１５は、先に説明したようにプレス工程において既に図９の初期位置に復帰しているため、直ちにブランケット層１４の表面にインキ層１６をパターン形成して、次の転写工程に使用できる。

図１３〜図１２は、前記(3)のプレス工程を経てインキ層９〜１１を形成する本発明の製造方法の一例を説明する概略断面図である。各図では、代表的にインキ層９を形成する場合について説明するが、インキ層１０、１１の形成についても同様であることは言うまでもない。
図１３を参照して、この例では(1)で使用したのと同様の、外周にブランケット層１４を設けたブランケット胴１５に加えて、外周にプレス層１８を設けたプレス胴１９を用いる点が、先の(1)の例と相違している。このうちブランケット層１４としては、転写工程において、インキ層１６を表面に残留させずに基板１上に良好に転写させること等を考慮すると、少なくとも表面がシリコーンゴム等で形成されたシリコーンブランケットが好適に使用される。またシリコーンブランケットとしては、先に(1)の例で説明したのと同じ積層構造を有するもの等が使用可能である。

一方のプレス層１８としては、プレス工程において、インキ層９を、ブランケット層１４の表面に逆転写させることなく良好にプレスすること等を考慮すると、少なくとも表面がシリコーン樹脂やフッ素樹脂等で形成されたものが好適に使用される。前記プレス層１８としては、先に(2)の例で説明したのと同じ積層構造を有するもの等が使用可能である。

ブランケット胴１５、およびプレス胴１９としては、いずれも略一周で基板１の全幅をカバーしうる直径を有するものを用いる。
図１３を参照して、この例のプレス工程では、まず先に説明したように凹版オフセット印刷法、反転印刷法、または平版オフセット印刷法等により、前記ブランケット胴１５の、ブランケット層１４の表面に、所定の平面形状と配列とを有するインキ層９のもとになるインキ層１６を形成する。また、先の工程で表面２にブラックマトリクス層３を形成した基板１を定盤１７上にセットする。

次に図１４を参照して、図中に白抜きの矢印および実線の矢印で示すようにブランケット胴１５を基板１上で転動させることにより、ブランケット層１４上のインキ層１６をブラックマトリクス層３上に重ねて基板１上に転写して、図１４、図１５に示すように、前記ブラックマトリクス層３によって区画された所定の領域（図１の領域６等）を着色するインキ層９を形成する（転写工程）。

それと共に図１５、図１６を参照して、プレス層１８を、図中に黒矢印で示すようにインキ層９上に圧接させながら、プレス胴１９を、図中に白抜きの矢印および実線の矢印で示すようにブランケット胴１５のあとから連続的に基板１上で転動させることにより、前記インキ層９を厚み方向にプレスする（プレス工程）。
これにより、インキ層９を形成するインキを、例えばブラックマトリクス層３の側端面と基板１の表面２との角部の内奥等まで十分に行き渡らせることができるため、前記角部等に空間が残り、残った空間がインキによって封じ込められて気泡が生じるのを防止することができる。

なお図１４ではインキ層１６の転写の様子がわかりやすいように、基板１とブランケット層１４との間をあけて記載しているが、実際には、インキ層１６をブランケット層１４から基板１に良好に転写させるために、ブランケット層１４の表面を基板１の表面２に所定の圧力で圧接させた状態で、ブランケット胴１５を基板１上で転動させる。
また図１５でも、インキ層９の圧接の様子がわかりやすいように、基板１とプレス層１８との間をあけて記載しているが、実際には、インキ層９の全体を良好にプレスするために、プレス層１８の表面を基板１の表面２に所定の圧力で圧接させた状態で、プレス胴１９を基板１上で転動させる。

ブランケット胴１５、プレス胴１９を、それぞれ基板１上で転動させるためには、前記ブランケット胴１５およびプレス胴１９を固定した状態で定盤１７を図６の左方向に移動させるか、定盤１７を固定した状態でブランケット胴１５とプレス胴１９を逆に右方向に移動させるか、もしくはブランケット胴１５およびプレス胴１９を右方向、定盤１７を左方向に移動させることにより、前記両者を相対移動させながら、ブランケット胴１５とプレス胴１９とを自転させればよい。ブランケット胴１５とプレス胴１９とは同一間隔を維持しながら、定盤１７に対して相対移動させることができる他、別個に任意の移動速度で、定盤１７に対して相対移動させることもできる。

またブランケット胴１５、プレス胴１９は、ブランケット層１４と基板１、プレス層１８と基板１の摩擦による連れ回りによって自転させてもよい。しかしブランケット層１４上のインキ層１６をできるだけ正確に基板１上に転写させて、インキ層９の平面形状をできるだけ正確に再現すること、インキ層９を、ずれを生じさせることなくその位置で正確にプレスすることを考慮すると、ブランケット胴１５、プレス胴１９は、前記相対移動と同期させて、それぞれ何らかの動力によって自転させるのが好ましい。

前記プレス工程においては、例えば転写工程におけるブランケット層１４の印圧よりも、プレス層１８のプレス圧を高めることにより、前記プレスの効果（気泡を除去する効果）を向上できる。そのためには、例えばプレス胴１９を、ブランケット胴１５より基板１の近くに設けたりすればよい。
印圧に対してプレス圧をどの程度まで高めるかについては特に限定されないが、プレス層１８として、例えば先に説明した層構成を有しプレス用として特化されたものを用いる場合は、プレス工程にもブランケット層１４を用いる(1)の場合に比べて、その条件を緩和することができる。例えば転写工程での標準の印圧が０．０５ＭＰａ程度である場合、プレス工程でのプレス圧をおよそ０．０５ＭＰａを超え、５ＭＰａ以下、特に０．１ＭＰａ以上、２．５ＭＰａ以下程度に設定するのが好ましい。

また、ブランケット胴１５とプレス胴１９を別個に任意の移動速度で、定盤１７に対して相対移動させる場合は、プレス圧を高めることに代えて、あるいは同時に、プレス工程におけるブランケット胴１５の転動速度を転写工程より遅くすることも、プレスの効果を向上するために有効である。ただしプレス層１８として、例えば先に説明した層構成を有しプレス用として特化されたものを用いる場合は、(1)の場合に比べて条件を緩和することができ、転動速度を転写工程より速くしてタクトタイムの短縮を図ることも可能である。転動速度をどの程度の範囲とするかについては特に限定されないが、例えば転写工程でのブランケット胴１５の標準の転動速度が８ｍ／ｍｉｎ程度である場合には、プレス工程でのプレス胴１９の転動速度をおよそ４ｍ／ｍｉｎ以上、２０ｍ／ｍｉｎ以下、特に５ｍ／ｍｉｎ以上、１２ｍ／ｍｉｎ以下程度に設定するのが好ましい。

また図の例では、先に説明したように、転写工程においてブランケット胴１５を図１３９の初期位置から図１６の転写終了位置まで移動させるのと引き続いて連続的に、プレス工程においてプレス胴１９を図１３９の初期位置から図１６の転写終了位置まで移動させている。そのためプレス工程が増加しているにも拘らず、１枚の基板１の処理に要する時間（タクトタイム）が大幅に増加するのを抑制して、カラーフィルタの生産効率が低下するのを防止できる。

プレス工程が終了したあとは、従来同様に基板１を定盤１７上から取り外して次工程（例えば乾燥、焼成工程）に送り、かつブランケット胴１５、プレス胴１９を図１６の転写終了位置から図１３の初期位置まで復帰させると共に、定盤１７上に新たな基板１をセットして転写工程、プレス工程を繰り返すことになる。
本発明の構成は、以上で説明した各図の例には限定されない。例えばプレス工程は、カラーフィルタの生産効率等を考慮すると、以上で説明した各図の例のように転写工程後に引き続いて実施するのが好ましい。ただし転写工程で基板１上に形成したインキ層９が、プレス工程で、プレスに使用したブランケット層１４やプレス層１８の表面に逆転写されるのを防止することを考慮すると、転写工程終了後に一定のインターバルタイムをおいてインキ層９を半乾燥させた後、(1)〜(3)のいずれかのプレス工程を実施するようにしてもよい。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を施すことができる。

《実施例１》
〈ブラックマトリクス層の形成〉
図１を参照して、ガラス基板１の表面２に、黒顔料としてのカーボンブラックを含むブラックマトリクス用感光材料〔富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)のＣＯＬＯＲ ＭＯＳＡＩＣ ＣＫ〕をスピンコート法によって厚み２．０μｍとなるように塗布し、１５０℃で２分間プリベークし、次いで先に説明した直線状の横桟４と屈曲形状の縦桟５とが格子状に配列されたブラックマトリクス層３の平面形状に対応したフォトマスクを重ねて露光し、エッチングした後、２３０℃で３０分間アフターベークしてブラックマトリクス層３を形成した。

前記ブラックマトリクス層３の仕上がり厚みは１．５μｍ、横桟４の線幅は４５μｍ、縦桟５の線幅は２５μｍ、隣り合う横桟４間の形成ピッチは３００μｍ、隣り合う縦桟５間の形成ピッチは１００μｍであった。また、前記ブラックマトリクス層３で区画された隣り合う３つの領域６〜８を１つの単位とする画素の、横桟４の長さ方向（画面の縦方向）に配列された数（画素数）は６４０画素、縦桟５の長さ方向（画面の横方向）に配列された数（画素数）は４８０画素、総画素数は３０７２００画素であった。

〈インキ〉
図２に示すＲに着色されたインキ層９を形成するために、下記の各成分を配合して反転印刷用のインキを調製した。

表中の各成分の詳細は下記のとおり。
ポリエステル樹脂：東洋紡績(株)製のバイロナール（登録商標）
メラミン樹脂：住友化学(株)製のスミマール（登録商標）
ブチルカルビトールアセテート：キシダ化学(株)製、沸点２４８℃
メチルエチルケトン：キシダ化学(株)製、沸点８０℃
Ｃ．Ｉ． Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７：アンスラキノン系顔料、長瀬産業(株)製
〈凹版〉
凹版としては、先にブラックマトリクス層３で区画された領域６と、前記領域６の、縦桟５の長さ方向に連なる複数の連続する領域とを繋いで、ガラス基板１の表面２の、前記長さと直交する２辺間を繋ぐ長さを有する複数のインキ層９に対応する凹部（深さ：８μｍ）が配列されたガラス凹版を用意した。

各凹部は、前記長さと、領域６を区画する２本の縦桟５のうち一方の幅方向の中点から他方の幅方向の中点までの幅（＝１００μｍ）とを有する細長い帯状に形成した。凹部の帯の両側縁は、縦桟５の屈曲形状に合わせて屈曲形状とした。また前記凹部を、前記ガラス基板１の表面２の矩形の、前記長さ方向と平行な２辺間に亘って、縦桟５で区画された複数の領域の列の２列おきに繰り返し配列（形成ピッチ：３００μｍ）した。

〈ブランケット層〉
ブランケット層としては住友ゴム工業(株)製のシリコーンブランケットを用意した。前記シリコーンブランケットは、厚み０．３５ｍｍのＰＥＴフィルムの片面に、厚み０．６５ｍｍのクッション層を介して、シリコーンゴムからなる厚み０．６ｍｍの表面層が積層された積層構造（総厚み１．６ｍｍ）を有するものである。

〈インキ層の形成〉
前記シリコーンブランケットを反転印刷用の印刷機〔オリジナル・プリンティング・マシン(株)製のオフセット印刷機ＯＰＭ−２００を反転印刷用でかつ(1)のプレス工程を実施できるように改造したもの〕のブランケット胴に装着し、かつ先の工程でブラックマトリクス層を形成したガラス基板と前記ガラス凹版とを前記印刷機の定盤上にセットすると共に、前記インキを前記印刷機のインキ補給機構に供給し、反転印刷法によってシリコーンブランケットの表面にインキ層をパターン形成した。

パターン形成の条件は、環境温度：２３℃、シリコーンブランケットの表面へのインキの塗布速度：８ｍ／ｍｉｎ、シリコーンブランケットの表面からガラス凹版の表面への不要なインキの転写速度（ブランケット胴の転動速度）：８ｍ／ｍｉｎ、前記転写時のシリコーンブランケットの圧接力（印圧）：０．０５ＭＰａとした。
次に、図５ないし図７に示すように転動方向がブラックマトリクス層３の横桟４の長さ方向と平行になるようにブランケット胴１５をガラス基板１上を転動させることで、前記インキ層を、前記ブラックマトリクス層３上に重ねてガラス基板１上に転写して、図２に示すＲのインキ層９を形成した後（転写工程）、引き続いて、ブランケット胴１５を初期位置まで復帰させる動作を兼ねて、図８に示すように前記と反対方向にガラス基板１上を転動させることで前記インキ層９をプレスした（プレス工程）。

なおプレス工程では、プレス圧を高めるため、転写工程よりも定盤１７をわずかに上昇させて、ガラス基板１の位置をブランケット胴１５の方向に近づけた。転写工程、プレス工程の条件は下記のとおりとした。
（転写工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケットの表面からガラス基板の表面へのインキの転写速度（ブランケット胴の転動速度）：８ｍ／ｍｉｎ
・ 印圧：０．０５ＭＰａ
（プレス工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケット胴の転動速度：８ｍ／ｍｉｎ
・ プレス圧：０．４ＭＰａ
そしてガラス基板上に転写されたインキ層を乾燥させた後、さらに２３０℃で３０分間焼成して図２に示すＲのインキ層９を形成した。

〈評価〉
前記インキ層９を観察したところ、ブラックマトリクス層３で区画された各領域内には気泡が生じていないことが確認された。
また、ガラス基板１の表面２のうち、横桟４の長さ方向の転写開始位置におけるインキ層９とブラックマトリクス層３との位置ずれがないことを確認したうえで、前記表面２のうち横桟４の長さ方向の転写終了位置における前記インキ層９とブラックマトリクス層３との、前記横桟４の長さ方向の位置ずれの量を測定したところ、許容範囲とされる±５μｍ以内であって位置ずれは生じておらず、印刷精度は良好であることが確認された。

さらに、印刷機の定盤上にガラス基板１をセットし、転写工程、プレス工程を経て次工程へ送った後、新たなガラス基板１をセットするまでに要するタクトタイムを測定したところ１００秒であった。この数値は、後述するようにプレス工程を含まない従来のインキ層９の形成（比較例１）におけるタクトタイム（＝９５秒）と殆ど変わらなかった。
《実施例２》
〈プレス層〉
プレス層としては、厚み０．１ｍｍのＰＥＴフィルムの片面に、厚み０．５ｍｍのクッション層を介して、シリコーン樹脂からなる厚み２μｍの表面層が積層された積層構造（総厚み０．６ｍｍ）を有するものを用意した。

〈インキ層の形成〉
前記プレス層と、実施例１で使用したのと同じシリコーンブランケットとを反転印刷用の印刷機〔オリジナル・プリンティング・マシン(株)製のオフセット印刷機ＯＰＭ−２００を反転印刷用でかつ(2)のプレス工程を実施できるように改造したもの〕のブランケット胴に装着し、かつ実施例１と同様にしてブラックマトリクス層を形成したガラス基板と、実施例１で使用したのと同じガラス凹版とを前記印刷機の定盤上にセットすると共に、実施例１で使用したのと同じインキを前記印刷機のインキ補給機構に供給し、反転印刷法によってシリコーンブランケットの表面にインキ層をパターン形成した。パターン形成の条件は実施例１と同じとした。

次に、図９ないし図１１に示すように転動方向がブラックマトリクス層３の横桟４の長さ方向と平行になるようにブランケット胴１５をガラス基板１上を転動させることで、前記インキ層を、前記ブラックマトリクス層３上に重ねてガラス基板１上に転写して、図２に示すＲのインキ層９を形成し（転写工程）、次いでブランケット胴１５を１８０°反転させた後、引き続いて、前記ブランケット胴１５を初期位置まで復帰させる動作を兼ねて、図１２に示すように前記と反対方向にガラス基板１上を転動させることで前記インキ層９をプレスした（プレス工程）。転写工程、プレス工程の条件は下記のとおりとした。

（転写工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケットの表面からガラス基板の表面へのインキの転写速度（ブランケット胴の転動速度）：８ｍ／ｍｉｎ
・ 印圧：０．０５ＭＰａ
（プレス工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケット胴の転動速度：１２ｍ／ｍｉｎ
・ プレス圧：０．０５ＭＰａ
そしてガラス基板上に転写されたインキ層を乾燥させた後、さらに２３０℃で３０分間焼成して図２に示すＲのインキ層９を形成した。

〈評価〉
前記インキ層９を観察したところ、ブラックマトリクス層３で区画された各領域内には気泡が生じていないことが確認された。また実施例１と同様にしてインキ層９とブラックマトリクス層３との位置ずれの量を測定したところ、許容範囲とされる±５μｍ以内であって位置ずれは生じておらず、印刷精度は良好であることが確認された。さらに実施例１と同様にしてタクトタイムを測定したところ９５秒であった。この数値は、後述するようにプレス工程を含まない従来のインキ層９の形成（比較例１）におけるタクトタイム（＝９５秒）と同じであった。

《実施例３》
〈インキ層の形成〉
実施例１で使用したのと同じシリコーンブランケットを反転印刷用の印刷機〔オリジナル・プリンティング・マシン(株)製のオフセット印刷機ＯＰＭ−２００を反転印刷用でかつ(3)のプレス工程を実施できるように改造したもの〕のブランケット胴に装着し、実施例２で使用したのと同じプレス層を前記印刷機のプレス胴に装着し、かつ実施例１と同様にしてブラックマトリクス層を形成したガラス基板と、実施例１で使用したのと同じガラス凹版とを前記印刷機の定盤上にセットすると共に、実施例１で使用したのと同じインキを前記印刷機のインキ補給機構に供給し、反転印刷法によってシリコーンブランケットの表面にインキ層をパターン形成した。パターン形成の条件は実施例１と同じとした。

次に、図１３ないし図１４に示すように転動方向がブラックマトリクス層３の横桟４の長さ方向と平行になるようにブランケット胴１５をガラス基板１上を転動させることで、前記インキ層を、前記ブラックマトリクス層３上に重ねてガラス基板１上に転写して、図２に示すＲのインキ層９を形成し（転写工程）、次いで図１５ないし図１６に示すようにプレス胴１９を同方向にガラス基板１上を転動させることで前記インキ層９をプレスした（プレス工程）。転写工程、プレス工程の条件は下記のとおりとした。

（転写工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケットの表面からガラス基板の表面へのインキの転写速度（ブランケット胴の転動速度）：８ｍ／ｍｉｎ
・ 印圧：０．０５ＭＰａ
（プレス工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケット胴の転動速度：１２ｍ／ｍｉｎ
・ プレス圧：０．０５ＭＰａ
そしてガラス基板上に転写されたインキ層を乾燥させた後、さらに２３０℃で３０分間焼成して図２に示すＲのインキ層９を形成した。

〈評価〉
前記インキ層９を観察したところ、ブラックマトリクス層３で区画された各領域内には気泡が生じていないことが確認された。また実施例１と同様にしてインキ層９とブラックマトリクス層３との位置ずれの量を測定したところ、許容範囲とされる±５μｍ以内であって位置ずれは生じておらず、印刷精度は良好であることが確認された。さらに実施例１と同様にしてタクトタイムを測定したところ１００秒であった。この数値は、後述するようにプレス工程を含まない従来のインキ層９の形成（比較例１）におけるタクトタイム（＝９５秒）と殆ど変わらなかった。

《比較例１》
実施例１で使用したのと同じシリコーンブランケットを反転印刷用の印刷機〔オリジナル・プリンティング・マシン(株)製のオフセット印刷機ＯＰＭ−２００をプレス工程を含まない通常の反転印刷用に改造したもの〕のブランケット胴に装着し、かつ実施例１と同様にしてブラックマトリクス層を形成したガラス基板と、実施例１で使用したのと同じガラス凹版とを前記印刷機の定盤上にセットすると共に、実施例１で使用したのと同じインキを前記印刷機のインキ補給機構に供給し、反転印刷法によってシリコーンブランケットの表面にインキ層をパターン形成した。パターン形成の条件は実施例１と同じとした。

次に、図５ないし図７に示すように転動方向がブラックマトリクス層３の横桟４の長さ方向と平行になるようにブランケット胴１５をガラス基板１上を転動させることで、前記インキ層を、前記ブラックマトリクス層３上に重ねてガラス基板１上に転写して、図２に示すＲのインキ層９を形成した（転写工程）。プレス工程は、印刷機の機能に含まれないため実施しなかった。転写工程の条件は下記のとおりとした。

（転写工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケットの表面からガラス基板の表面へのインキの転写速度（ブランケット胴の転動速度）：８ｍ／ｍｉｎ
・ 印圧：０．０５ＭＰａ
そしてガラス基板上に転写されたインキ層を乾燥させた後、さらに２３０℃で３０分間焼成して図２に示すＲのインキ層９を形成した。

〈評価〉
前記インキ層９を観察したところ、ブラックマトリクス層３で区画された各領域内に気泡が生じていることが確認された。また実施例１と同様にしてインキ層９とブラックマトリクス層３との位置ずれの量を測定したところ、許容範囲とされる±５μｍ以内であって位置ずれは生じておらず、印刷精度は良好であることが確認された。さらに実施例１と同様にしてタクトタイムを測定したところ、先に説明したように９５秒であった。

《比較例２》
比較例１の従来の印刷方法で気泡の発生を防止するため、転写工程における転写速度を通常よりも遅い０．５ｍ／ｍｉｎに設定したところ気泡は生じなくなったものの、タクトタイムが１３５秒と大幅に長くなってしまった。転写工程の条件は下記のとおりとした。
（転写工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケットの表面からガラス基板の表面へのインキの転写速度（ブランケット胴の転動速度）：０．５ｍ／ｍｉｎ
・ 印圧：０．０５ＭＰａ
《比較例３》
比較例１の従来の印刷方法で気泡の発生を防止するため、転写工程における印圧を通常よりも高い０．４ＭＰａに設定したところ気泡は生じなくなったものの、インキ層９とブラックマトリクス層３との位置ずれの量が許容範囲とされる±５μｍを超える＋４０μｍと大幅に大きくなってしまった（印刷精度不良）。転写工程の条件は下記のとおりとした。

（転写工程）
・ 環境温度：２３℃
・ ブランケットの表面からガラス基板の表面へのインキの転写速度（ブランケット胴の転動速度）：８ｍ／ｍｉｎ
・ 印圧：０．４ＭＰａ
以上の結果を表２にまとめた。

本発明のカラーフィルタの製造方法の一例の一工程を拡大して説明する部分切欠斜視図である。 図１の工程の次の工程を拡大して説明する部分切欠斜視図である。 図２の工程の次の工程を拡大して説明する部分切欠斜視図である。 図３の工程の次の工程と、それによって製造されるカラーフィルタの構造を拡大して説明する部分切欠斜視図である。 本発明の製造方法のうち(1)のプレス工程を経てインキ層を形成する一例の一工程を説明する概略断面図である。 図５の工程の次の工程を説明する概略断面図である。 図６の工程の次の工程を説明する概略断面図である。 図７の工程の次の工程を説明する概略断面図である。 本発明の製造方法のうち(2)のプレス工程を経てインキ層を形成する一例の一工程を説明する概略断面図である。 図９の工程の次の工程を説明する概略断面図である。 図１０の工程の次の工程を説明する概略断面図である。 図１１の工程の次の工程を説明する概略断面図である。 本発明の製造方法のうち(3)のプレス工程を経てインキ層を形成する一例の一工程を説明する概略断面図である。 図１３の工程の次の工程を説明する概略断面図である。 図１４の工程の次の工程を説明する概略断面図である。 図１５の工程の次の工程を説明する概略断面図である。

符号の説明

１ 基板
２ 表面
３ ブラックマトリクス層
４ 横桟
５ 縦桟
６〜８ 領域
９〜１１ インキ層
１２ カラーフィルタ層
１３ カラーフィルタ
１４ ブランケット層
１５ ブランケット胴
１６ インキ層
１７ 定盤
１８ プレス層
１９ プレス胴

Claims (1)

1. 基板上に、前記基板の表面を複数の領域に区画するブラックマトリクス層をパターン形成する工程と、
   外周にブランケット層を設けたブランケット胴の、前記ブランケット層の表面にインキ層をパターン形成した後、前記ブランケット胴を基板上で転動させることにより、前記インキ層をブラックマトリクス層上に重ねて基板上に転写して、前記ブラックマトリクス層によって区画された各領域を着色するカラーフィルタ層を形成する工程と
   を含むカラーフィルタの製造方法であって、
   (1) 転写したインキ層上に前記ブランケット層を圧接させながらブランケット胴を基板上で転動させることにより、前記インキ層を厚み方向にプレスする工程、
   (2) ブランケット胴として、外周の略半周にブランケット層、残りの略半周にインキ層をプレスするためのプレス層を設けたものを用い、転写したインキ層上に前記プレス層を圧接させながらブランケット胴を基板上で転動させることにより、前記インキ層を厚み方向にプレスする工程、
   (3) ブランケット胴とは別に、外周にプレス層を設けたプレス胴を設け、転写したインキ層上に前記プレス層を圧接させながらプレス胴を基板上で転動させることにより、前記インキ層を厚み方向にプレスする工程、
   のうちのいずれか１つの工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。

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