JP2010121081A - 回転式ゴム印用の無端印字ベルト。 - Google Patents

Abstract

【課題】
回転式ゴム印用の無端印字ベルトに関し、基布無しでベルトに弛みがなく、印字の際に、色ずれ、中抜けのないゴム組成物を提供すること、該ゴム組成物を用いた回転式ゴム印用の無端印字ベルトを提供すること及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
ゴム成分（Ａ）１００重量部、短繊維（Ｂ）０．１重量部〜５０重量部、相溶化剤（Ｃ）を含むゴム組成物および多軸加工機によって加工した金型を用いて該ゴム組成物を成形した成形品によって上記課題が解決される。
【選択図】なし

Description

本発明は、回転式ゴム印用の無端印字ベルトに関し、ベルトの弛みを防止し、色ずれや中抜けを防止可能としたゴム組成物および該組成物を含む成形品及びその製造方法に関する。

従来、回転式ゴム印用の無端印字ベルトは、所要の凹文字を形成した金型内に加硫剤、充填剤、添加剤等を混練した未加硫ゴムからなるシートを収容したうえ、その上面に補強布を重ね加圧加熱して加硫した後脱型して、金型の凹文字に相当する凸文字が表面に形成された板状の加硫ゴムを製造し、次いで接着剤を用いて両端を接着して環状帯体としている。（特許文献１、特許文献２）
回転式ゴム印用の無端印字ベルトは、低伸び時の応力が大きいこと、永久伸び率が小さいことが求められている。これは、使用中にベルトに弛みが生じると、回転がスムースに行えず外れてしまう場合がある。これを防止する方策として、補強布をゴムシートと重ね合わせる積層構造を採らざるを得なかった。したがって、帯状シートを用いてベルト状にする工程としては、（ａ）ゴムシートと補強布のシートとを重ね合わせる工程、（ｂ）加硫成形工程、（ｃ）加硫済シートを切断する工程、（ｄ）接着剤を塗布する工程（ｅ）接着剤に使用される溶剤を乾燥する工程（ｆ）両端を接着する工程の計６つの工程が必要である。
このような工程の煩雑さに加えて、接着を塗布する工程においては、通常溶剤を用いることから、これの乾燥が不可欠であり環境上も問題となっていた。
これらの問題に関し、一挙にベルト状の成形が行えれば好都合であるが,補強布を使用する代わりをどのように発現するかにある。多量のフィラーを添加、更に応力を向上させるには繊維を添加することが考えられる。しかし、これらのフィラーや繊維を単純に添加するだけでは、ゴムとの混練り加工性やプレス成型加工性を著しく悪化するという課題を有している。
さらに、回転式ゴム印用の無端印字ベルトの製造における問題は、印材の微細な凸部
に相当する金型の曲面部を凹文字に加工する技術が極めて難しいことにある。平板状の金型表面に凹文字の加工をする場合は、複雑な文字形状であっても技術的な問題は少ない。
しかしながら、曲面に凹文字加工する場合は、平板の技術がそのまま適用できない。
上記の各種諸問題を解決する方法は、未だ見出されていないのが現状である。
当業界では、早急な解決策が強く望まれていた。
特開平０９−３２７９６３ 特開平０７−０８９２０５

回転式ゴム印用の無端印字ベルトは、色ずれ、中抜けの無いこと、またベルトが、回転時の負荷に伴う弛みを生じないことが重要である。このため、従来のベルトは、ゴムと補強布との積層構造をとることで対処してきた経緯がある。したがってゴムと補強布との接着が不可欠となっていた。
本発明は、ゴムと補強布との積層構造によらず製造できること、即ちゴム組成物単独で、製品の要求特性である低伸び時の応力を大きくし、永久伸び率を小さくして色ずれや中抜けを防止することならびに従来の平板金型による方法と遜色のない精巧な文字が印字できることを課題とする。

本発明者等は、鋭意検討した結果、ゴム成分（Ａ）１００重量部、短繊維（Ｂ）０．１重量部〜５０重量部、相溶化剤（Ｃ）を含むゴム組成物が、低伸び時の応力が大きく且つ永久伸び率が小さいことを見出した。さらに、成形用の金型に関して、印材の凸文字に相当する凹文字を、同時５軸加工機によって加工した金型を使用することによって、本発明のゴム組成物を加硫成形した回転式ゴム印用の無端印字ベルトは、回転時の負荷に伴う弛みがなく、色ずれ、中抜けの無い精巧な文字が印字できることを見出した。
より具体的には、本発明は次のようなゴム組成物及び該ゴム組成物を成形した成形品及びその製造方法を提供する。

（１）ゴム成分（Ａ）１００重量部、短繊維（Ｂ）０．１重量部〜５０重量部、相溶化剤（Ｃ）を含むゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
（２）前記ゴム成分（Ａ）が、天然ゴム、ＳＢＲ、ＮＢＲ、ＣＲ、Ｕ、ＥＰＤＭから選択される一種及びまたは二種以上である（１）に記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
（３）前記短繊維（Ｂ）が、ＲＦＬ処理剤に浸漬し後、熱処理しＲＦＬを定着したもの及びまたは前記短繊維（Ｂ）が、ゴム成分（Ａ）と反応し易い有機基（アリル基、エポキシ基、アルコキシ基）を含むモノマーを含浸させて電子線を照射してグラフト化したものである（１）〜（２）のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
（４）前記短繊維（Ｂ）が、アラミド繊維及びまたはフェノール樹脂繊維である（１）〜（３）のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
（５）前記アラミド繊維が、パラアラミド繊維である（１）〜（４）のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
（６）前記フェノール樹脂繊維が、ノボラックフェノール樹脂を紡糸して得られるノボロイド繊維である（１）〜（４）のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
（７）前記相溶化剤（Ｃ）が、フタルレート系、アジペート系、セバケート系、ホスフェート系、スルホンアミド系可塑剤から選択される可塑剤及びまたはパラフィン系プロセス油、ナフテン系プロセス油、アロマ系プロセス油及び液状ゴムから選択される軟化剤である（１）〜（６）のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
（８）印材の凸文字に対応した凹文字部分を、同時５軸加工機によって加工した成形用の金型を成形機に取り付け、（１）〜（７）のいずれかに記載のゴム組成物を成形した成形品及びその製造方法。
（９）回転式ゴム印用の無端印字ベルトである（８）に記載の成形品。
（１０）（８）に記載の成形機が射出成形機であり、該射出成形機を用いて成形した回転式ゴム印用の無端印字ベルト及びその製造方法。
（１１）加硫成形品である（１）〜（１０）のいずれかに記載の成形品。

本発明によって、補強布無しで製品の要求特性である低伸び時の応力を大きくし、永久伸び率を小さくして色ずれや中抜けを防止することが可能となった。このことから回転式ゴム印用の無端印字ベルトの製造工程の接着剤塗布工程、乾燥工程の省略が可能となり、当業界のコスト低減ならびに環境改善に寄与すること大である。

まず、本発明のゴム組成物を構成する各成分について詳細に説明する。
本発明に用いられるゴム成分（Ａ）は、ゴム及びまたは熱可塑性エラストマーである。ゴムとしては、ジエン系ゴム、非ジエン系ゴムであり、ジエン系ゴムとしては、天然ゴム、ＩＲ、ＢＲ、ＳＢＲ、ＸＳＢＲ、ＣＲ、XＣＲ、ＮＢＲ、ＸＮＢＲ、ＨＮＢＲなどである。非ジエン系ゴムとしては、ＩＩＲ、ＸＩＩＲ、ＥＰＭ、ＥＰＤＭ、Ｕ、Ｑ、ＣＳＭ、ＣＭ、ＡＣＭ、ＡＥＭ、ＣＯ、ＥＣＯ、ＦＫＭ、ＦＭＱ、ＦＶＭＱ、ＭＱ、ＶＭＱ、ＡＵ、ＥＵ、ＮＯＲなどを挙げることができる。これらは単独あるいは二種以上を組み合わせて使用してもよい。これらのゴムは、要求される性能に応じて適宜選択することができる。耐油・耐溶剤性では、ＮＢＲ、ＸＮＢＲ、ＨＮＢＲ、ＡＣＭ、ＣＲ、ＣＯ、ＥＣＯなどであり、主溶剤としてエチレングリコールモノエチルエーテル、エレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル、ベンジルアルコール等の芳香族アルコールに対しては、天然ゴム、ＩＲ、ＢＲ、ＳＢＲ、ＩＩＲ、ＸＩＩＲ、ＥＰＭ、ＥＰＤＭが選択される。
一方、熱可塑性エラストマーとしては、たとえばポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状オレフィン共重合樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアミドイミド樹脂およびイミド化ポリメチルメタクリレート樹脂などがあげられる。
これらは単独あるいは二種以上を組み合わせて使用してもよい。

本発明に使用される短繊維（Ｂ）としては、有機繊維、無機繊維であり、好ましくは有機繊維である。有機繊維としては、例えば、ポリエステル繊維、ポリビニルアルコール繊維（ビニロン繊維）、ナイロン繊維、フェノール樹脂繊維、木綿繊維、絹繊維、麻繊維、羊毛繊維、セルロース繊維、Syn-1,2-ポリブタジエン微細結晶、芳香族ポリアミド繊維（アラミド繊維）、レーヨン繊維、全芳香族ポリエステル繊維（ポリアリレート繊維）、ヘテロ環含有芳香族繊維（例えばポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール繊維、ポリパラフェニレンベンズビスチアゾール繊維）などが挙げられる。

中でも、好ましくはアラミド繊維、フェノール樹脂繊維である。
アラミド繊維は、芳香族ジカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分とを反応させたパラ系アラミド又はメタ系アラミド（それぞれ共重合体でもよい）からなる短繊維である。好ましくはパラ系アラミドからなる短繊維である。ここでジカルボン酸成分及びジアミン成分の芳香族環としては、例えば１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２，５−ピリジレン基等を挙げることができるが、好ましくは１，４−フェニレン基である。また、かかる芳香族環は、例えばハロゲン基（例えば塩素、臭素、フッ素）、低級アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−プロピル基）、低級アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基）、シアノ基、アセチル基、ニトロ基などを置換基として含んでいてもよい。具体例としては、ポリパラフェニレンテレフタルアミド（デュポン社製ケブラー、帝人社製トワロンなど）、ポリメタフェニレンイソフタルアミド（帝人株式会社製コーネックスなど）、ポリパラアミノベンヅツアミド、ポリ−３，４’−オキシジフェニレンテレフタルアミド／ポリパラフェニレンテレフタルアミド共重合体（帝人株式会社製テクノーラなど）、ポリパラアミノベンズヒドラジドテレフタルアミト等からなる短繊維を挙げることができる。

フェノール樹脂繊維は、フェノール樹脂を紡糸、熱処理して得られたものであればよく、具体的には、ノボラックフェノール樹脂を紡糸して得られるノボロイド繊維（商品名：カイノール）やレゾール樹脂を紡糸して得られるレゾール繊維などを例示することができる。
また、繊維は種々の処理をしたものが好ましい。例えば

（その１）繊維とゴム成分（Ａ）との濡れ性を向上させるために、繊維をレゾルシン−ホルマリン−ラテックス系処理剤（以下「ＲＦＬ処理剤」ともいう）に浸漬した後、熱処理し、ＲＦＬを定着する。上記ＲＦＬ処理剤は、レゾルシンとホルムアルデヒドとを、レゾルシン／ホルムアルデヒドのモル比が１／３〜３／１の範囲となるように含むのが好ましく、（ラテックス固形分）／（レゾルシンとホルムアルデヒドの固形分）の重量比が１０／１〜１／３の範囲となるのが好ましい。

上記ラテックスとしては、スチレン−ブタジエン−ビニルピリジンラテックスが好ましい。上記スチレン−ブタジエン−ビニルピリジンラテックスは、スチレン−ブタジエン−ビニルピリジン三元共重合体である。上記スチレン−ブタジエン−ビニルピリジンラテックスの組成としては、例えば、スチレン１５重量％、ブタジエン７０重量％、ビニルピリジン１５重量％のものが好ましい。

ゴム成分（Ａ）と繊維との濡れ性を向上させるために、上記処理剤に、さらに界面活性剤としてβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩を含有させてもよい。上記β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩の添加量は、１０％水溶液にして、ＲＦＬ処理剤１００重量部に対して０．５〜１０重量部が好ましい。０．５重量部未満では濡れ性が向上せず、１０重量部を超えると濡れ性が悪くなるので、好ましくない。

繊維を上記処理剤に浸漬後、通常、１００〜２５０℃の温度の範囲で数分間加熱し、ＲＦＬを繊維に定着させる。この際、繊維によっては、ＲＦＬ処理の前に、通常よく用いられるポリイソシアネート化合物又はエポキシ化合物による処理を行ってもよい。

上記ポリイソシアネート化合物としては分子内に少なくとも１つのイソシアネート基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサントリイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルジイソシアネート等を挙げることができる。

上記エポキシ化合物としては分子内に少なくとも１つのエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、ペンタエリスリトール等の多価アルコール；ポリエチレングリコール等のポリアルキレングリコールと、エピクロロヒドリン等のハロゲン含有エポキシ化合物との反応生成物；レゾルシン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルエタン、フェノール−ホルムアミド樹脂、レゾルシン−ホルムアミド樹脂等の多価フェノール類又はフェノール樹脂と、エピクロロヒドリン等のハロゲン含有エポキシ化合物との反応生成物；脂肪族又は脂環族不飽和化合物の有する二重結合を過酢酸等にて酸化して得られるエポキシ化合物等を挙げることができる。また、エポキシ基を有する種々のシランカップリング剤を用いてもよい。
（その２） 予め、ゴム成分（Ａ）と反応し易い有機基（アリル基、エポキシ基、アルコキシ基）を含むモノマーを含浸させて電子線を照射してグラフト化したものが好ましい。 ここで、アリル基を含むモノマーとしては、例えば、メタクリル酸アリルなどがある。エポキシ基を含むモノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレートなどがある。アルコキシ基を含むモノマーとしては、例えば、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどがある。

電子線照射によるモノマーのグラフト重合方法に特に制限が無く、例えば、繊維に電子線を照射した後に、モノマー溶液に接触させる前照射法、あるいは、繊維とモノマーを共存させて電子線を照射させる同時照射法であってもよい。

モノマーのグラフト重合においては、モノマー溶液として用いることが好ましい。使用する溶媒は特に制限がなく、例えば、水、アルコール類や二塩化エチレンなどの有機溶媒を挙げることができる。モノマー溶液は調整後そのまま使用することもできるが、電子線照射により発生するラジカルの消滅を防ぐため、不活性ガスのバブリングなどにより脱酸素することが好ましい。モノマー溶液の濃度は特に制限はない。

繊維に電子線の照射する線量は特に制限は無いが、５〜１０００ｋＧｙであることが好ましく、１００〜７００ｋＧｙがより好ましい。電子線の線量は５ｋＧｙ未満では十分なグラフト重合が発生しない恐れがあり、１０００ｋＧｙを超えると繊維素材が硬化あるいは劣化する恐れがある。加速電圧に特に制限はなく、処理する繊維素材の厚さなどによって適宜選択することができるが、通常は１５０〜３００ｋＶであることが好ましい。また、電子線照射雰囲気は酸素濃度が低いことが好ましく、５００ｐｐｍ以下であることが好ましい。電子線照射は、窒素雰囲気下で行うことが好ましい。

短繊維（Ｂ）の平均長は０．０５ｍｍ以上５ｍｍ未満、平均繊維径は０．１μｍ以上５０μｍ未満が良い。平均長が０．０５ｍｍ未満及び又は平均繊維径が０．１μｍ未満では、低伸び時の応力が小さくなり好ましくない。平均長が５ｍｍ以上及び又は平均繊維径が５０μｍ以上では、加工性が悪く分散不良が生じやすくなり好ましくない。

なお、短繊維（Ｂ）の平均長および平均繊維径は、任意の１００本の短繊維の長さ及び繊維径を顕微鏡により計測し、これを平均することによって求めることができる。これらの短繊維（Ｂ）は、単独あるいは二種以上を用いることができる。

短繊維（Ｂ）の添加量は、ゴム成分（Ａ）１００重量部に対して０．１重量部〜５０重量部、好ましくは１重量部〜４０重量部、更に好ましくは５重量部〜２０重量部である。０．１重量部未満では、補強性が不十分で低伸び時の応力が小さくなり好ましくない。一方、５０重量部を超えると混練り加工性が悪く分散不良が生じやすくなり好ましくない。
本発明に用いられる樹脂（Ｅ）としては、例えばフェノール樹脂、熱硬化型ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、反応性モノマー等の熱硬化性樹脂、あるいはポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡ）、熱可塑性ウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。

前記樹脂のゴムに対する配合量は、ゴム１００重量部に対して１０〜１５０重量部が好ましく、３０〜１００重量部が更に好ましい。ここで、樹脂の配合量が１０重量部未満の場合、樹脂の量が少なすぎるので、加工性が良くなるが、物性値が悪くなる。一方、樹脂の配合量が１５０重量部を越えると、樹脂の特性が出すぎてゴムの特性が生かされず、割れなどが生じる。これらの樹脂は、単独あるいは二種以上を用いることができる。

本発明に用いられる充填剤（Ｆ）としては、例えばカーボンブラック、重質炭酸カルシウム、胡粉、軽微性炭酸カルシウム、極微細活性化炭酸カルシウム、特殊炭酸カルシウム、塩基性炭酸マグネシウム、カオリンクレー、焼成クレー、パイロフライトクレー、シラン処理クレー、天然ケイ酸、合成無水ケイ酸、合成含水ケイ酸、合成ケイ酸カルシウム、合成ケイ酸マグネシウム、合成ケイ酸アルミニウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、フェライト、カオリン、セリサイト、タルク、微粉タルク、ウォラスナイト、ゼオライト、ゾーノトナイト、マイカ、アスベスト、ＰＭＦ（Processed Mineral Fiber : 加工鉱物繊維）、セピオライト、チタン酸カリウム、エレスタダイト、石膏繊維、ガラスバルン、シリカバルン、ハイドロタルサイト、フライアシュバルン、シラスバルン、カーボン系バルン、フェノール樹脂、尿素樹脂、スチレン系樹脂、サラン樹脂等の有機系バルン、アルミナ、硫酸バリウム、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、二硫化モリブデン、グラファイト、ガラス繊維（チョップドストランド、ロービング、ミルドガラス繊維、ガラスフレーク）、カットファイバー、ロックファイバー、ミクロファイバー、炭酸繊維、芳香族ポリアミド繊維、チタン酸カリウム繊維、再生ゴム、ゴム粉末、エボナイト粉末、セラック、木粉等が挙げられる。これらの充填剤は、単独あるいは二種以上を用いることができる。

本発明の相溶化剤（Ｃ）としては、可塑剤、軟化剤を挙げることができる。可塑剤としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−（２−エチルヘキシル）フタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート、高級アルコールフタレート、ジイソオクチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジフェニルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ジウンデシルフタレート、ジ（ヘプチル，ノニル，ウンデシル）フタレート、ベンジルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジノニルフタレート、ジノルマルアルキルフタレート、ジ−ｎ／イソアルキルフタレート、アルキルベンジルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルシクロヘキシルフタレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートのごときフタル酸誘導体；ジメチルイソフタレート、ジ−（２−エチルヘキシル）イソフタレート、ジイソオクチルイソフタレートのごときイソフタル酸誘導体；ジ−（２−エチルヘキシル）テトラヒドロフタレート、ジ−ｎ−オクチルテトラヒドロフタレート、ジイソデシルテトラヒドロフタレート、Ｃ７〜１０アルキルテトラヒドロフタレートのごときテトラヒドロフタル酸誘導体；

ジ−ｎ−ブチルアジペート、ジ−（２−エチルヘキシル）アジペート、ジイソデシルアジペート、ジ（ｎ−オクチル，ｎ−デシル）アジペート、ジイソノニルアジペート、ベンジル−ｎ−ブチルアジペート、ベンジルオクチルアジペート、ジ−（ブトキシエトキシエチル）アジペートのごときアジピン酸誘導体；ジ−（２−エチルヘキシル）アゼレート、ジイソオクチルアゼレート、ジ−２−エチルヘキシル−４−チオアゼレート、ジ−ｎ−ヘキシルアゼレートのごときアゼライン酸誘導体；ジ−ｎ−ブチルセバケート、ジ−（２−エチルヘキシル）セバケート、ジ−Ｃ７〜９アルコールセバケートのごときセバシン酸誘導体；ジ−ｎ−ブチルマレート、ジメチルマレート、ジエチルマレート、ジ−（２−エチルヘキシル）マレート、ジアリルマレート、モノブチルマレート、モノ−２−エチルヘキシルマレートのごときマレイン酸誘導体；ジ−ｎ−ブチルフマレート、ジ−（２−エチルヘキシル）フマレート、ジメチルフマレート、ジエチルフマレートのごときフマル酸誘導体；

トリ−（２−エチルヘキシル）トリメリテート、トリ−ｎ−オクチルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテート、トリイソオクチルトリメリテート、ジイソオクチルモノイソデシルトリメリテート、トリ−ｎ−ヘキシルトリメリテート、トリカプリルトリメリテート、トリイソノニルトリメリテート、トリアルキルトリメリテートのごときトリメリット酸誘導体；トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−（２−エチルヘキシル）シトレート、アセチルトリ−ｎ−オクチル，ｎ−デシルシトレートのごときクエン酸誘導体；モノメチルイタコネート、モノブチルイタコネート、ジメチルイタコネート、ジエチルイタコネート、ジブチルイタコネート、ジ−（２−エチルヘキシル）イタコネートのごときイタコン酸誘導体；ブチルオレート、テトラヒドロフルフリルオレート、グリセリルモノオレート、ジエチレングリコールモノオレートのごときオレイン酸誘導体；

メチルアセチルリシノレート、ブチルアセチルリシノレート、グリセリンモノリシノレート、ジエチレングリコールモノリシノレート、グリセリルトリ−（アセチルリシノレート）のごときリシノール酸誘導体；ｎ−ブチルステアレート、グリセリルモノステアレート、ジエチレングリコールジステアレート、安定化ペンタクロロメチルステアレート、塩素化ステアレートのごときステアリン酸誘導体；ジエチレングリコールモノラウレート、ジエチレングリコールジベラルゴネート、トリエチレングリコールジペラルゴネート、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、オクチル脂肪酸エステル、脂肪族二塩基酸エステル、多価アルコール脂肪酸エステルのごときその他の脂肪酸エステル；

ベンゼンスルホンブチルアミド、ｏ−，ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−エチル−ｏ−，ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−シクロヘキシル−ｐ−トルエンスルホンアミド、フェノール及びクレゾールのアルキルスルホン酸エステルのごときスルホン酸誘導体；トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリ−（２−エチルヘキシル）ホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、イソデシルジフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリトリルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、混合アリルホスフェート、フェニル／イソプロピルフェニルホスフェート、混合トリアリルホスフェート、アルキルアリルホスフェート、トリス（クロロエチル）ホスフェート、ジフェニルモノ−ｏ−キセニルホスフェートのごときリン酸誘導体；テトラ−２−エチルヘキシルピロメリテート、テトラ−ｎ−オクチルピロメリテート、ジイソデシルサクシネート、ジペンタエリスリトールエステル、トリメチルペンタンジオールモノイソブチレートのエステル、脂肪族モノカルボン酸エステル、高分子量のモノメリックエステル；

ジエチレングリコールジベンゾエート、ジプロピレングリコールジベンゾエート、ポリエチレングリコールベンゾエート、ポリエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジ−（２−エチルブチレート）、トリエチレングリコールジ−（２−エチルヘキソエート）、ポリエチレングリコールジ−（２−エチルヘキソエート）ポリエチレングリコール、ジブチルメチレンビス−チオグリコレート、モノカルボン酸混合物のポリグリコールエステルのごときグリコール誘導体；グリセロールモノアセテート、グリセロールジアセテート、グリセロールトリアセテート、グリセロールトリブチレート、グリセロールエーテルアセテートのごときグリセリン誘導体；塩素化パラフィンのごときパラフィン誘導体；エポキシ化不飽和油脂類、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル類、エポキシシクロヘキサン誘導体、エピクロルヒドリン誘導体のごときエポキシ誘導体；部分水添ターフェニル、オレイルニトリル、エーテルチオエーテル、ジベンジルエーテル、フェノール誘導体、エチレンオキシド縮合物、フロロシリコーンオイル、モノクロルナフタリンなどを挙げることができる。

これら可塑剤 のうち、フタレート系、アジペート系、セバケート系、ホスフェート系、スルホンアミド系可塑剤が好ましい。

また軟化剤としては、パラフィン系プロセス油、ナフテン系プロセス油、芳香族系プロセス油、重合した高沸点強芳香族系オイル、パラフィン、流動パラフィン、ホワイトオイル、石油スルホン酸塩、ギルソナイト、石油アスファルト、ミネラルラバー、石油樹脂、コールタール、クマロンインデン樹脂のごとき鉱物油；ひまし油、綿実油、あまに油、なたね油、大豆油、パーム油、やし油、落花生油、木ろう、ロジン、パインオイル，ジペンテン、パインタール、トール油のごとき植物油；黒サブ、白サブ、飴サブのごときサブ（ファクチス）；リシノール酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛のごとき脂肪酸及び脂肪酸塩；液状ポリブタジエン、液状アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、液状スチレン−ブタジエン共重合体、液状エピクロロヒドリンゴム、アタクチックポリプロピレンなどを挙げることができる。これら軟化剤のうち、パラフィン系プロセス油、ナフテン系プロセス油、芳香族系プロセス油、液状ゴムが好ましい。

上記相溶化剤（Ｃ）の添加量は、ゴム成分（Ａ）１００重量部に対し、５重量部〜２００重量部である。５重量部未満では相溶性が不十分であり、２００重量部を超えると加工性に支障を来し好ましくない。また、相溶化剤（Ｃ）は、単独あるいは二種以上を用いることができる。

本発明の架橋剤（Ｆ）としては、用いられるゴムの種類により、硫黄系加硫剤、有機過酸化物、キノイド加硫剤、樹脂加硫剤、金属酸化物加硫剤、含硫黄有機化合物、アミン加硫剤、トリアジン系加硫剤、ポリオール加硫剤、金属石けん加硫剤、マレイミド系加硫剤、ヒドロシリル化反応用架橋剤等を適宜選択して使用される。

硫黄系加硫剤としては、例えば粉末硫黄、硫黄華、高分散性硫黄、不溶性硫黄、沈降硫黄、表面処理硫黄、コロイド硫黄、塩化硫黄、一塩化硫黄、二塩化硫黄等が挙げられる。これらの硫黄系加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。また、加硫・架橋剤として硫黄系加硫剤を使用する場合には、加硫促進剤を併用することもできる。

加硫促進剤としては、例えばヘキサメチレンテトラミン、アセトアルデヒド・アンモニア等のアルデヒドアンモニア類；ｎ−ブチルアルデヒドーアニリン縮合品、ブチルアルデヒドーモノブチルアミン縮合品、ヘプトアルデヒドーアニリン反応品、トリクロトニリデン・テトラミン等のアルデヒドアミン類；ジフェニルグアニジン、ジーｏートリルグアニジン、オルト・トリル・ビグアニド、ジカテコール・ホウ酸のジオルト・トリル・グアニジン塩等のグアニジン塩類；２−メルカプトイミダゾリン等のイミダゾリン類；２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトチアゾリン、ジベンゾチアジル・ジスルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、２−メルカプトベンゾチアゾールのナトリウム塩、２−メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、２−（２，４−ジニトロフェニルチオ）ベンゾチアゾール、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオ・カルバモイルチオ）ベンゾチアゾール、２−（４’−モルホリノ・ジチオ）ベンゾチアゾール、４−モルホニル−２−ベンゾチアジル・ジスルフィド等のチアゾール類；Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジル・スルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシル−２−ベンゾチアジル・スルフェンアミド、Ｎ−オキシジエチレン−２−ベンゾチアジル・スルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２−ベンゾチアジル・スルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアジル・スルフェンアミド等のスフェンアミド類；チオカルバニド、エチレン・チオ尿素（２−メルカプトイミダゾリン）、ジエチル・チオ尿素、ジブチル・チオ尿素、混合アルキルチオ尿素、トリメチルチオ尿素、ジラウリルチオ尿素等のチオ尿素類；ジメチル・ジチオカルバミン酸ナトリウム、ジエチル・ジチオカルバミン酸ナトリウム、ジ−ｎ−ブチル・カルバミン酸ナトリウム、ジメチル・ジチオカルバミン酸鉛、ジアミル・ジチオカルバミン酸鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジアミル・ジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチル・ジチオカルバミン酸亜鉛、ジーｎ−ブチル・ジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンジル・ジチオカルバミン酸亜鉛、Ｎ−ペンタメチレン・ジチオカルバミン酸亜鉛、エチルフェニル・ジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチル・ジチオカルバミン酸セレン、ジエチル・ジチオカルバミン酸セレン、ジエチル・ジチオカルバミン酸テルル、ジエチル・ジチオカルバミン酸カドミウム、ジメチル・ジチオカルバミン酸銅、ジメチル・ジチオカルバミン酸鉄、ジメチル・ジチオカルバミン酸ビスマス、ジメチル・ジチオカルバミン酸ピペリジン、メチルペンタメチレン・ジチオカルバミン酸ピペコリン、活性化ジチオカルバメート等のジチオカルバミン酸塩類；テトラメチルチウラム・モノスルフィド、テトラメチルチウラム・ジスルフィド、活性テトラメチルチウラム・ジスルフィド、テトラエチルチウラム・ジスルフィド、テトラブチルチウラム・ジスルフィド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルチウラム・ジスルフィド、ジペンタメチレンチウラム・ジスルフィド、ジペンタメチレンチウラム・テトラスルフィド、混合アルキル・チウラム・ジスルフィド等のチウラム類；イソプロピル・キサントゲン酸ナトリウム、イソプロピル・キサントゲン酸亜鉛、ブチル・キサントゲン酸亜鉛等のザンテート類；４，４’−ジチオジモルホリン、アミノジアルキルジチオホスフェート、亜鉛−ｏ，ｏ−ｎ−ブチル・ホスホロジチオエート、３−メルカプトイミダゾリン−チオン−２、チオグリコール酸エステル等が挙げられる。これらの加硫促進剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

有機過酸化物としては、例えば１，１−ジ第三ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ジ第三ブチルパーオキサイド、第三ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（第三ブチルパーオキシ）ヘキサン）、２，５−ジメチル−２，５−ジ（第三ブチルパーオキシ）ヘキシン、１，３−ビス（第三ブチルパーオキシ−イソプロピル）ベンゼン、第三ブチルパーオキシ−イソプロピルカーボネート、アセチルシクロヘキシルスルフォニルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジアリルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ジ（メトキシイソプロピル）パーオキシジカーボネート、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、第三ヘキシルパーオキシネオヘキサネート、ジ（３−メチル−３−メチロキシブチル）パーオキシジカーボネート、第三ブチルパーオキシネオデカネート、第三ヘキシルパーオキシネオデカネート、第三ブチルパーオキシネオヘキサネート、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド、第三ヘキシルパーキシピバレート、第三ブチルパーヘキシピバレート、３，３，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、クミルパーオキシオクテート、アセチルパーオキサイド、第三ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサネート）、ベンゾイルパーオキサイド、第三ブチルパーオキシイソイソブチレート、１，１−ビス（第三ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、第三ブチルパーオキシマレイックアシッド、第三ブチルパーオキシラウレート、第三ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルヘキサネート、シクロヘキサノンパーオキサイド、第三ブチルパーオキシアリルカーボネート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、２，２−ビス（第三ブチルパーオキシ）オクタン、第三ブチルパーオキシアセテート、２，２−ビス（第三ブチルパーオキシ）ブタン、第三ブチルパーオキシベンゾエート、ブチル−４，４−ビス（第三ブチルパーオキシ）バレレート、ジ第三ブチルジパーオキシイソフタレート、メチルエチルケトンパーオキサイド、α，α’−ビス（第三ブチルパーオキシーｍーイソプロピル）シクロヘキサン、ジイソプロピルベンゼン−ヒドロパーオキサイド、ｐーメンタンヒドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、第三ブチルヒドロパーオキサイド等が挙げられる。これらの有機過酸化物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

また、加硫・架橋剤として有機過酸化物を使用する場合には、共架橋剤を併用することもできる。共架橋剤としては、例えば硫黄、ｐーキノンジオキシム、ｐ−ベンゾキノンジオキシム、ｐ，ｐ’ージベンゾイルキノンジオキシム、ＮーメチルーＮ’ー４ージニトロソアニリン、Ｎ，Ｎ−ｍ−フェニレンビスマレイミド、ジペンタメチレンチウラムペンタスルフィド、ジニトロソベンゼン、ジビニルベンゼン、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアジンチオール、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメトロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジアリルメラミン、ジビニルアジペート、ビニルブチラート、ビニルステアレート、液状ポリブタジエンゴム、液状ポリイソプレンゴム、液状スチレンーブタジエンゴム、液状アクリロニトリルーブタジエンゴム、（メタ）アクリル酸マグネシウム、（メタ）アクリル酸カルシウム、（メタ）アクリル酸アルミニウム、（メタ）アクリル酸亜鉛、（メタ）アクリル酸第一錫、（メタ）アクリル酸マグネシウム等が挙げられる。これらの共架橋剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

キノイド加硫剤としては、例えばｐ−キノンジオキシム、ｐ，ｐ’−ジベンゾイルキノンジオキシム、テトラクロロ−ｐ−ベンゾキノン、ポリ−ｐ−ジニトロベンゼン等が挙げられる。これらのキノイド加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。樹脂加硫剤としては、例えばアルキルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、メラミンーホルムアルデヒド縮合物、トリアジン−ホルムアルデヒド縮合物、オクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール・スルフィド樹脂、ヘキサメトキシメチル・メラミン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。金属酸化物加硫剤としては、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、一酸化鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

含硫黄有機加硫剤としては、例えばモルホリンジスルフィド、アルキルフェノールジスルフィド、Ｎ、Ｎ’−ジチオ−ビス（ヘキサヒドロ−２Ｈ−アゼピノン−２）、チウラムポリスルフィド、２ー（４’ーモルホリノ・ジチオ）ベンゾチアゾール等が挙げられる。これらの含硫黄有機加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

ポリアミン系加硫剤としては、例えばヘキサメチレンジアミンカルバメ−ト、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレン・テトラミン、テトラエチレン・ペンタミン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）カルバメ−ト、Ｎ，Ｎ’−ジシンナミリデン−１，６−ヘキサンジアミン、アンモニウムベンゾエ−ト等が挙げられる。これらのポリアミン系加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。トリアジン系加硫剤としては、例えば２，４，６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン、２−ジ−ｎ−ブチルアミノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン等が挙げられる。これらのトリアジン系加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

ポリオ−ル加硫剤としては、例えばビスフェノ−ルＡ、ビスフェノ−ルＡＦ、ハイドロキノン、ペンタエリトリト−ル等が挙げられる。これらのポリオール系加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。金属石けん加硫剤としては、例えばステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、オレイン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム等が挙げられる。これらの金属石けん加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。マレイミド系加硫剤としては、例えばＮ，Ｎ’−ｍ−フェニレンジマレイミド等が挙げられる。

ヒドロシリル化反応用架橋剤としては、一分子中に平均２個以上のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンである。該オルガノポリシロキサンの分子構造は特に限定されないが、例えば、直鎖状、分岐状、環状、または三次元網状構造の樹脂状物のいずれでもよい。ケイ素原子に結合している有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；３−クロロプロピル基、３,３,３−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基が例示され、好ましくは、メチル基である。

このようなオルガノポリシロキサンとしては、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、およびこれらのオルガノポリシロキサンの２種以上の混合物が例示される。

ヒドロシリル化反応を促進させるためのヒドロシリル化反応用触媒としては、白金 系触媒、ロジウム系触媒、イリジウム系触媒、パラジウム系触媒、ルテニウム系触媒が例示され、好ましくは、白金系触媒である。具体的には、白金微粉末、白金黒、塩化白金酸、四塩化白金、アルコール変性塩化白金酸、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体、白金のカルボニル錯体、これらの白金系触媒を含むメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコーン樹脂等の熱可塑性有機樹脂粉末等の白金系触媒である

さらに、本発明のゴム組成物には、通常のゴム組成物で使用されている各種の添加剤を配合することができる。このような添加剤としては、老化防止剤、酸化防止剤、加工助剤、活性剤、紫外線吸収剤、粘着付与剤、滑剤、奪水剤、ワックス、活性剤、光安定剤、カップリング剤、内部離型剤、スコーチ防止剤、発泡剤、発泡助剤、抗菌剤、難燃剤、素練り促進剤、蓄熱剤、電子導電付与剤、イオン導電付与剤、熱伝導付与剤、放熱剤、蓄光剤、着色剤、増粘剤、熱可塑性樹脂、熱可塑性架橋エラストマー、等を配合することもできる。
次に本発明のゴム組成物を含む成形品について詳述する。
本発明のゴム組成物を含む成形品は、非多孔質ゴム単独あるいは多孔質ゴム単独のいずれの形態でもよい。さらにこれらの積層体であってもよい。また、本発明のゴム組成物を含む成形品は、加硫剤（Ｄ）を用いて加硫した成形品も含まれる。

次に、本発明の成形品の成形に用いる金型は、印字の精度を上げるために、印材の凸文字に対応した凹文字を多軸加工機によって加工したものが好ましい。更に好ましくは同時多軸加工機によって加工したもの、最も好ましくは同時５軸加工機によって加工したものである。同時５軸加工機による加工は、特に高品質な加工面を得られること及び加工効率をアップできる。５軸加工機の種類としては、（一）テーブル＆テーブル型（テーブルに付加２軸がある５軸加工機）、（二）ヘッド＆ヘッド型（主軸に付加２軸がある５軸加工機、（三）ヘッド＆テーブル型（主軸に付加１軸、テーブルに付加１軸がある５軸加工機）の計３つがある。このうち（三）が特に好ましい。

さらに５軸加工の３軸加工に対する利点について詳述すると、左右，前後，上下の3軸に加えて傾く2軸も制御して，ワークを加工する5軸加工は，自由曲面形状とアンダーカットを伴うインペラに代表されるような，3軸制御では加工できない複雑形状の部品の加工に使用されてきた。最近，金型加工にも5軸加工が注目されている。金型は，二つの型を上下，もしくは左右に開いて製品を取り出す。このため，基本的に型にはアンダーカット部がないため，製品形状部の加工は3軸加工でも対応できるが「加工リードタイムの短縮」「自動化」「高精度化」という金型加工における要求を満たすため、5軸加工では，傾きの軸を利用することで，取り付け面を除いた5面を加工できる。金型の製品形状部以外の面の穴開けなども，段取り換えなしで可能である。
さらに重要なのは，製品形状部の加工面の高精度化を実現すること。製品形状部に深堀り加工を必要とする場合，3軸加工ではホルダとの干渉などを考慮して，工具の突き出し量を長く取らざるを得ない。突き出し量を長くするほど工具の剛性は低くなるため，精度は維持しにくくなる。また，限界まで突き出したとしても，形状によっては工具が届かず切削できないこともあり，放電加工に頼らざるを得ない。
5軸加工では，工具もしくはワークを傾ければ，ホルダとワークの干渉を回避できる余地が大きい。短い突き出し量で加工できるので放電加工の出番が減り，高精度の加工が可能である。本発明のような高度な印字精度を求められる印材に対しては、５軸加工したものが特に好ましい。
次に本発明のゴム組成物及び該ゴム組成物を用いた加硫成形品の製造方法について示した。
＜ゴム組成物の調製＞

本発明のゴム組成物を作製する方法としては、混練り前に、予め短繊維と相溶化剤とを容器に入れて予備ブレンドしておく。（ゴム成分と短繊維との混練性を向上させるため。）
次にゴム成分（Ａ）、短繊維（Ｂ）と相溶化剤（Ｃ）との予備ブレンド物、樹脂（Ｅ）、充填剤（Ｆ）をバンバリミキサーのような密閉式混練機に投入して混練し、十分に分散した時点で混練物を排出する。次に排出した混練物をオープンロール機に巻き付けシート出しする。ゴム成分（Ａ）が熱可塑性エラストマーである場合は、この段階で調整完了する。一方、ゴム成分（Ａ）が加硫を伴う場合ゴムの場合は、加硫剤（Ｄ）を添加する際に混練物の温度が高いとスコーチする恐れがあるからシート出しの後、混練物が、十分に冷えるまで室温で放冷する。次に、ロール機あるいは密閉式混練機を用いて加硫剤（Ｄ）を混練分散させる。十分に分散させた後、シート出しする。
〈ゴム組成物の成形〉

ゴム成分（Ａ）が熱可塑性エラストマーの場合は、本発明のゴム組成物の成形は、
射出成形が好ましい。
ゴム成分（Ａ）がゴムの場合は、本発明のゴム組成物の成形は、加硫成形であり、プレス加硫、ＵＨＦ加硫、電子線加硫、ＨＡＶ加硫、紫外線加硫等があり、特にプレス加硫が好ましい。中でも射出成形加硫が特に好ましい。
本発明に使用する金型としては、印材の凸文字に対応した凹文字を同時５軸加工機によって加工したものである。当該金型は、割型の金型を型締めして形成されるキャビティの中央部に、中芯を貫通させ、この中芯の外周とキャビティで形成される筒状空間に同筒状空間の片端から本発明のゴム組成物を射出成形して加圧加熱加硫する構造を有する。加硫条件としては、１４０℃〜２２０℃好ましくは１６０℃〜１８０℃である。１４０℃未満では加硫時間が長すぎ、２２０を超えるとゴム組成物が十分に金型内に投入されるまでに加硫が進行してしまう恐れがあり好ましくない。
本発明のゴム組成物を含む成形品としては、各種ベルトであり、特には回転式ゴム印用の無端ベルトである。

次に、本発明を実施例によって説明するが、本発明はそれら実施例によって何ら限定されるものではない。

（実施例１）
〈ゴム組成物の作製〉
ゴム成分（Ａ）；Ｎ２３０Ｓ １００重量部、短繊維（Ｂ）；トワロンＤＣＦ ５重量部及びＫＦ０２０６ ５重量部、樹脂（Ｅ）；スミライトレジンＰＲ１９９００ ５重量部、充填剤（Ｆ）；ニップシールＶＮ３ ２０重量部及びバーゲスＫＥ ５重量部、相溶化剤（Ｃ）；ＤＯＰ ２０重量部及びｐ−トルエンスルホンアミド １０重量部、加硫剤（Ｄ）；サンセラーＣＭ ２重量部、サンセラーＴＴ １．５重量部、硫黄 ０．５重量部、その他の成分；亜鉛華１号 ５重量部、ステアリン酸 １重量部、ＰＥＧ＃４０００ ２重量部、ノンフレックスＲＤ １重量部、ＴＳＬ８３８０ １重量部の割合で用いた。
ゴム組成物を作製するために、予め短繊維（Ｂ）と相溶化剤（Ｃ）とを容器（１リットルのポリ容器）に入れて予備ブレンド物を作製し３時間熟成した。次に混練機として３Ｌニーダ（６０℃、３０ｒｐｍ）を用いて、ゴム成分（Ａ）を投入し、予備ブレンド物、充填剤（Ｆ）及びその他の成分を順次投入して混練りした。十分に各成分が分散するまで２０分を要した。その後、混練物を排出し、室温になるまで放冷した。次に混練物を１０インチロール機に巻き付けて加硫剤（Ｄ）を添加し、５分間混練後ロールから３ｍｍシートで分出しして、ゴム組成物を得た。
〈回転ゴム印用の無端 印字ベルトの加硫成形〉
同時５軸加工機によって所要の凹文字を加工した金型を取り付けた射出成形機（２００℃設定、加圧力 １５０ｋｇ／ｃｍ２）内に上記ゴム組成物を射出し３分間加硫した。次に脱型して、金型の凹文字に相当する凸文字が表面に形成された筒状の加硫成形品を得た。
次にこの筒状の加硫成形品の特性を評価した。
［１］引張試験；筒状成形品を輪切りにして幅５ｍｍ、長さ６０ｍｍの短冊状としてこれを試験片とした。この試験片の両端を引張試験機にセット（チャック間距離；４０ｍｍ）し、引張試験を行った。（島津製作所製の引張試験機、引張速度；５０ｍｍ／ｍｉｎ）
［２］永久伸び試験；[１]と同形状の短冊状試験片を用いた。この試験片の両端を引張試験機セット（チャック間距離；４０ｍｍ）し、先の引張試験で得た伸びの５０％伸長を与えた後１０分間その状態を保持する。１０分経過後試験片を取り外し室温で１０分間放置した後、回復後の試験片の長から４０を引いた値を４０で除し、１００を乗じて永久伸び率を算出した。
結果を表１に示した。
５％伸長応力；１０ＭＰa、伸び３５％であった。永久伸び率は０．５％となった。低伸長時の応力が大きくまた永久伸び率も極めて小さいことが確認され、印材として好適であることが証明された。

（実施例２）
表１に示した組成物の内容で実施例１と同様にしてゴム組成物及び筒状の加硫成形品を得た。またこれの評価結果を表１に示した。
５％伸長応力；９ＭＰa、伸び４０％であり、永久伸び率は1％であった。実施例１と同様に印材として好適であることが証明された。

（実施例３）
表１に示した組成物の内容で実施例１と同様にしてゴム組成物及び筒状の加硫成形品を得た。またこれの評価結果を表１に示した。
５％伸長応力；１１ＭＰa、伸び４０％であり、永久伸び率は０．５％となり、実施例１と同様に印材として好適であることが証明された。

（比較例１）
短繊維（Ｂ）を用いない他は、実施例１と同様にしてゴム組成物及び筒状の加硫成形品を得た。またこれの評価結果を表１に示した。
５％伸長時の応力；１ＭＰa、伸び３００％であり、永久伸び率は5％となり印材として不適であることが判った。

Claims (11)

1. ゴム成分（Ａ）１００重量部、短繊維（Ｂ）０．１重量部〜５０重量部、相溶化剤（Ｃ）を含むゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
2. 前記ゴム成分（Ａ）が、天然ゴム、ＳＢＲ、ＮＢＲ、ＣＲ、Ｕ、ＥＰＤＭから選択される一種及びまたは二種以上である請求項１記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
3. 前記短繊維（Ｂ）が、ＲＦＬ処理剤に浸漬し後、熱処理しＲＦＬを定着したもの及びまたは前記短繊維（Ｂ）が、ゴム成分（Ａ）と反応し易い有機基（アリル基、エポキシ基、アルコキシ基）を含むモノマーを含浸させて電子線を照射してグラフト化したものである請求項１〜請求項２のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
4. 前記短繊維（Ｂ）が、アラミド繊維及びまたはフェノール樹脂繊維である請求項１〜請求項３のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
5. 前記アラミド繊維が、パラアラミド繊維である請求項１〜請求項４のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
6. 前記フェノール樹脂繊維が、ノボラックフェノール樹脂を紡糸して得られるノボロイド繊維である請求項１〜請求項４のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
7. 前記相溶化剤（Ｃ）が、フタルレート系、アジペート系、セバケート系、ホスフェート系、スルホンアミド系可塑剤から選択される可塑剤及びまたはパラフィン系プロセス油、ナフテン系プロセス油、アロマ系プロセス油及び液状ゴムから選択される軟化剤である請求項１〜請求項６のいずれかに記載のゴム組成物及び該ゴム組成物を含む成形品。
8. 印材の凸文字に対応した凹文字部分を、同時５軸加工機によって加工した成形用の金型を成形機に取り付け、請求項１〜請求項７のいずれかに記載のゴム組成物を成形した成形品及びその製造方法。
9. 回転式ゴム印用の無端印字ベルトである請求項８に記載の成形品。
10. 請求項８に記載の成形機が射出成形機であり、該射出成形機を用いて成形した回転式ゴム印用の無端印字ベルト及びその製造方法。
11. 加硫成形品である請求項１〜請求項１０のいずれかに記載の成形品。