JP2010114335A - Resin sealing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin sealing method by which a semiconductor device having uniformity of quality maintained and also having high reliability can be manufactured. <P>SOLUTION: A substrate to be processed which has a plurality of semiconductor elements 110 mounted is arranged in a cavity 153 of a molding die 150 and while a first resin 131a is injected into the cavity 153 from a first gate 140, a second resin 231a is injected from a second gate 240 disposed opposite the first gate 140 across the cavity 153. Both the resins after being made to collide against each other at a center part of the cavity 153 are made to flow to a peripheral edge of the cavity 153 to seal the semiconductor elements 110. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は樹脂封止方法に関し、特に基板に搭載された複数個の半導体素子を封止用樹脂により封止する樹脂封止方法に関する。   The present invention relates to a resin sealing method, and more particularly to a resin sealing method for sealing a plurality of semiconductor elements mounted on a substrate with a sealing resin.

半導体装置の製造においては、大判の支持基板上に搭載された複数個の半導体素子を、封止用金型のキャビティ内に配置し、トランスファ成形法を用いて一括して樹脂封止した後、当該封止用樹脂と支持基板を半導体素子単位にダイシングして分離し、複数の半導体装置を得る方法(MAP(Molded Array Package)法)が行われている。   In the manufacture of semiconductor devices, a plurality of semiconductor elements mounted on a large support substrate are placed in a cavity of a sealing mold, and after resin sealing in a batch using a transfer molding method, A method (MAP (Molded Array Package) method) is performed in which the sealing resin and the support substrate are diced and separated into semiconductor elements to obtain a plurality of semiconductor devices.

この方法は、半導体装置の生産性を高めることができ、例えば、FBGA(Fine pitch Ball Grid Array)型またはFLGA(Fine pitch Land Grid Array)型の半導体装置の製造には好適である。   This method can increase the productivity of the semiconductor device, and is suitable, for example, for manufacturing a FBGA (Fine pitch Ball Grid Array) type or FLGA (Fine pitch Land Grid Array) type semiconductor device.

近年、半導体装置の更なる生産性向上のため、支持基板の寸法(平面寸法)をより大型化(大面積化)して、当該支持基板に搭載する半導体素子の数を増加させる方法が採られている。これに伴い、一括封止を行うための封止用金型のキャビティの大きさも大型化(大面積化)する傾向にある。   In recent years, in order to further improve the productivity of semiconductor devices, a method has been adopted in which the size (planar size) of the support substrate is increased (increased) to increase the number of semiconductor elements mounted on the support substrate. ing. Along with this, the size of the cavity of the mold for sealing for batch sealing tends to increase (large area).

上記支持基板は、配線基板、回路基板あるいはインターポーザーとも称される。
また、近年の電子機器の小型化、薄型化ならびに高機能化に伴い、当該電子機器に搭載される半導体装置もより高機能化、高集積化が図られつつある。
The support substrate is also referred to as a wiring substrate, a circuit substrate, or an interposer.
In addition, with recent downsizing, thinning, and high functionality of electronic devices, semiconductor devices mounted on the electronic devices are becoming more highly functional and highly integrated.

このため、前記FBGA型あるいはFLGA型の半導体装置においても、樹脂封止部の薄型化が要求され、これに対応するため、樹脂封止用金型におけるキャビティの深さもより浅くなる傾向にある。   For this reason, also in the FBGA type or FLGA type semiconductor device, it is required to reduce the thickness of the resin sealing portion. To cope with this, the depth of the cavity in the resin sealing die tends to be shallower.

一方、前記半導体装置の高集積化・高機能化に伴い、半導体素子の電極と支持基板に設けられた電極端子とを接続するボンディングワイヤの数も増加し、その配置もより高密度化されつつある。   On the other hand, with the higher integration and higher functionality of the semiconductor device, the number of bonding wires connecting the electrodes of the semiconductor element and the electrode terminals provided on the support substrate is increased, and the arrangement thereof is becoming higher density. is there.

しかしながら、前記MAP法を適用し、複数個の半導体素子が搭載された大判の支持基版を、浅くされたキャビティ内に配置して樹脂封止を行おうとすると、封止用樹脂の流動距離が長く、また流動する空間が狭いことから、キャビティ内において封止用樹脂の流動性が低下する。また、半導体素子の電極と支持基板上の電極端子とを接続するボンディングワイヤが多数且つ高密度に配設されていることによっても、充填する樹脂の流動性が阻害される。   However, when the MAP method is applied and a large-sized support base plate on which a plurality of semiconductor elements are mounted is placed in a shallow cavity and resin sealing is performed, the flow distance of the sealing resin is increased. Since it is long and the flowing space is narrow, the fluidity of the sealing resin is lowered in the cavity. In addition, the fluidity of the resin to be filled is hindered by the fact that a large number of bonding wires connecting the electrodes of the semiconductor element and the electrode terminals on the support substrate are arranged at a high density.

この結果、封止用樹脂を、キャビティ内に均一に充填させることが困難となり、樹脂封止部内にボイドなどが生成されて、半導体装置の不良の一因を生じてしまう。
前記キャビティ内の樹脂の流動性を制御するために、例えば、基板上の樹脂充填領域内において、半導体装置形成領域の周辺部に、樹脂の流入を鈍らせるための流量調整部を配置することが提案されている(特許文献1参照)。
As a result, it becomes difficult to uniformly fill the cavity with the sealing resin, and voids or the like are generated in the resin sealing portion, causing a defect in the semiconductor device.
In order to control the fluidity of the resin in the cavity, for example, in the resin filling region on the substrate, a flow rate adjusting unit for blunting the inflow of the resin may be disposed in the periphery of the semiconductor device forming region. It has been proposed (see Patent Document 1).

当該特許文献1により提案される方法によれば、半導体形成領域とその周辺部との封止樹脂の注入速度をほぼ均等にすることにより、キャビティ内に樹脂を均一に注入して、ボイドなどの生成を抑制して封止することができるとされている。
特開2005−167022号公報
According to the method proposed in Patent Document 1, the resin is uniformly injected into the cavity by substantially equalizing the injection rate of the sealing resin between the semiconductor formation region and the peripheral portion thereof. It is said that the production can be suppressed and sealed.
Japanese Patent Laying-Open No. 2005-167022

しかしながら、前記特許文献1に開示される方法にあっては、流量調整部を配置することによって、基板における半導体素子の配設領域が減じて、MAP法による生産性向上の効果が低下してしまう。   However, in the method disclosed in Patent Document 1, by disposing the flow rate adjusting unit, the area where the semiconductor elements are arranged on the substrate is reduced, and the productivity improvement effect by the MAP method is reduced. .

また、一般に、半導体素子を封止するために用いられる樹脂には、封止後の固化された樹脂の機械的強度の確保及び熱膨張係数の調整のために、フィラーが含有されている。半導体装置の生産性向上のため、また半導体装置の薄型化、高集積化に伴い、大型化(大面積化)した、あるいは浅くなった(断面積が小となった)キャビティに、上記特許文献1に示されるようにキャビティの一方から樹脂を注入すると、キャビティ内での樹脂の流動性が低下して、樹脂内のフィラーが偏在してしまう。   In general, a resin used for sealing a semiconductor element contains a filler for securing the mechanical strength of the solidified resin after sealing and adjusting the thermal expansion coefficient. In order to improve the productivity of semiconductor devices, and in the cavities that have become larger (larger area) or shallower (smaller in cross-sectional area) due to the thinning and high integration of semiconductor devices, the above-mentioned patent documents When the resin is injected from one of the cavities as shown in FIG. 1, the fluidity of the resin in the cavity is lowered, and the filler in the resin is unevenly distributed.

その結果、後のダイシング処理によって得られる個々の半導体装置は、機械的強度の低下及び/あるいは吸湿・除湿特性が変化するなどして、品質の均一性を維持できず信頼性が低下してしまう。   As a result, the individual semiconductor devices obtained by the subsequent dicing process cannot maintain the uniformity of quality due to a decrease in mechanical strength and / or a change in moisture absorption / dehumidification characteristics, resulting in a decrease in reliability. .

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、品質の均一性が保たれ、高い信頼性を有する半導体装置を製造することができる樹脂封止方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of such a point, and provides a resin sealing method capable of manufacturing a semiconductor device having high quality uniformity and high reliability.

上記目的を達成するために、本発明によれば、被処理基板上に搭載された複数個の半導体素子を、樹脂により一括して封止する樹脂封止方法において、複数個の半導体素子が搭載された被処理基板を、成形金型のキャビティに配置する工程、前記キャビティ内に、第1の樹脂注入部から第1の樹脂を注入すると共に、前記キャビティを挟み前記第1の樹脂注入部に対向して配置された第2の樹脂注入部から第2の樹脂を注入して、前記キャビティの中央部において両樹脂を衝突させた後、当該樹脂を前記キャビティの周縁部に流動させる工程、を具備することを特徴とする樹脂封止方法が提供される。   To achieve the above object, according to the present invention, a plurality of semiconductor elements are mounted in a resin sealing method in which a plurality of semiconductor elements mounted on a substrate to be processed are collectively sealed with resin. Placing the processed substrate in the cavity of the molding die, injecting the first resin from the first resin injection portion into the cavity, and sandwiching the cavity into the first resin injection portion A step of injecting a second resin from a second resin injecting portion disposed so as to collide both resins at the central portion of the cavity and then causing the resin to flow to the peripheral portion of the cavity; The resin sealing method characterized by comprising is provided.

上記の樹脂封止方法によれば、品質の均一性が保たれ、高い信頼性を有する樹脂封止型半導体装置を製造することができる。   According to said resin sealing method, the uniformity of quality is maintained and the resin-sealed semiconductor device which has high reliability can be manufactured.

以下、本発明による樹脂封止方法の実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。
<第1の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態における、樹脂封止装置100の透視的平面模式図を、図1に示す。図2は、図1のA−A'断面における模式図である。
Hereinafter, embodiments of a resin sealing method according to the present invention will be described with reference to the drawings.
<First Embodiment>
FIG. 1 shows a perspective plan view of the resin sealing device 100 in the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram in the AA ′ cross section of FIG. 1.

当該樹脂封止装置100は、対向する上部金型151及び下部金型152を備えた成形金型150を具備している。
当該樹脂封止装置100を用いての封止処理の際には、一方の主面に複数個の半導体素子110がマトリクス状に配列して搭載された配線基板120が、下部金型152と上部金型151の間に配置され、当該下部金型152と上部金型151の間に形成されたキャビティ153内に封止用樹脂が注入されることにより、前記複数個の半導体素子110の一括樹脂封止が行われる。
The resin sealing device 100 includes a molding die 150 including an upper die 151 and a lower die 152 that face each other.
In the sealing process using the resin sealing device 100, the wiring substrate 120 on which a plurality of semiconductor elements 110 are arranged in a matrix on one main surface is mounted on the lower mold 152 and the upper portion. A sealing resin is injected into a cavity 153 that is disposed between the molds 151 and formed between the lower mold 152 and the upper mold 151, so that the collective resin of the plurality of semiconductor elements 110 is collected. Sealing is performed.

成形金型150には、平面形状が矩形であるキャビティ153の、対向する2辺に沿って、当該キャビティ153内に封止用樹脂を注入する第1の充填部160ならびに第2の充填部260が配設されている。   In the molding die 150, a first filling portion 160 and a second filling portion 260 for injecting a sealing resin into the cavity 153 along two opposing sides of the cavity 153 having a rectangular planar shape. Is arranged.

当該第1の充填部160は、上部金型151に形成され共通の空間を形成している第1のカル部161と、下部金型152に形成された円筒状の第1のポット163−1〜163−5、及びそれぞれの第1のポット163内を上下動する第1のプランジャ162−1〜162−5を備えている。前記第1のカル部161は、それぞれ第1のゲート140を具備した第1のランナ部141−1〜141−12を介して前記キャビティ153に接続されている。   The first filling portion 160 includes a first cull portion 161 formed in the upper mold 151 and forming a common space, and a cylindrical first pot 163-1 formed in the lower mold 152. 163-5 and first plungers 162-1 to 162-5 that move up and down in the respective first pots 163. The first cull portion 161 is connected to the cavity 153 through first runner portions 141-1 to 141-12 each having a first gate 140.

一方、第2の充填部260は、第2のカル部261と、第2のポット263−1〜263−5、及びそれぞれの第2のポット263内を上下動する第2のプランジャ262−1〜262−5を備えている。そして第2のカル部261は、それぞれ第2のゲート240を設けた第2のランナ部241−1〜241−12を介してキャビティ153に接続されている。   On the other hand, the second filling unit 260 includes the second cull unit 261, the second pots 263-1 to 263-5, and the second plunger 262-1 that moves up and down in the respective second pots 263. To 262-5. The second cull portion 261 is connected to the cavity 153 via the second runner portions 241-1 to 241-12 provided with the second gate 240, respectively.

即ち、第1の充填部160からキャビティ153内へ封止用樹脂を導入する第1のゲート140、ならびに第2の充填部260からキャビティ153内へ封止用樹脂を導入する第2のゲート240は、それぞれ12個配設され、キャビティ153に接続されている。   That is, the first gate 140 that introduces the sealing resin into the cavity 153 from the first filling portion 160 and the second gate 240 that introduces the sealing resin into the cavity 153 from the second filling portion 260. 12 are respectively arranged and connected to the cavity 153.

このように、本実施の形態にあっては、前記キャビティ153内に対して、対向する2辺から封止用樹脂が注入される。
かかる構成において、第1のゲート140及び第2のゲート240は、隣りあうゲートの中心間の距離(ゲート間隔Wp)は一定とされているが、その幅は、キャビティ153の中央部に対応して位置するゲートの幅Wg1に比して、キャビティ153の端部に位置するゲート幅Wg2が狭くされている。
Thus, in the present embodiment, the sealing resin is injected into the cavity 153 from the two opposite sides.
In such a configuration, the distance between the centers of adjacent gates (gate interval Wp) of the first gate 140 and the second gate 240 is constant, but the width corresponds to the center of the cavity 153. The gate width Wg2 located at the end of the cavity 153 is narrower than the width Wg1 of the gate located at the end.

例えば、寸法が横195mm×縦70mmの配線基板120に対して封止を行う成形金型150で、そのキャビティ153の寸法が横191mm×縦60mm×高さ0.4mmである場合、ゲート間隔Wpは9.4mmとされ、中央部に位置するゲートの幅Wg1は4.8mm、端部に位置するゲートの幅Wg2は3.8mmに設定される。   For example, in the case of a molding die 150 that seals the wiring substrate 120 with dimensions of 195 mm wide × 70 mm long, and the dimensions of the cavity 153 are horizontal 191 mm × length 60 mm × height 0.4 mm, the gate interval Wp Is 9.4 mm, the width Wg1 of the gate located at the center is set to 4.8 mm, and the width Wg2 of the gate located at the end is set to 3.8 mm.

当該ゲートの幅Wgは、中央部に位置するゲートから端部に位置するゲートに向かって、漸次段階的に狭くされている。
なお、第1のゲート140及び第2のゲート240の高さHは、それぞれ例えば0.15mmとされる。
The width Wg of the gate is gradually reduced from the gate located at the center to the gate located at the end.
Note that the heights H of the first gate 140 and the second gate 240 are each 0.15 mm, for example.

また、成形金型150には、前記ゲート140,240が配設されない辺において、キャビティ153を挟んで対向する位置に、キャビティ153と連通する第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270が配設されている。前記の寸法の成形金型150の場合、第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270の幅wgは1mmから4mm、高さh(図示せず)は0.005mmから0.02mm、隣接するエアーベント間の間隔wpは4mmから10mmとされる。   The molding die 150 has a first air vent 170 and a second air vent 270 that communicate with the cavity 153 at positions facing the cavity 153 on the side where the gates 140 and 240 are not disposed. It is arranged. In the case of the molding die 150 having the above dimensions, the width wg of the first air vent 170 and the second air vent 270 is 1 mm to 4 mm, and the height h (not shown) is 0.005 mm to 0.02 mm, adjacent to each other. The interval wp between the air vents is set to 4 mm to 10 mm.

前記成形金型150を用いての樹脂封止法にあっては、まず、被処理配線基板120が下部金型152に配置される。当該配線基板120の一方の主面(上面)には、複数個の半導体素子が所定の間隔をもってマトリクス状に搭載されている。   In the resin sealing method using the molding die 150, first, the wiring substrate 120 to be processed is placed on the lower die 152. On one main surface (upper surface) of the wiring board 120, a plurality of semiconductor elements are mounted in a matrix with a predetermined interval.

しかる後、上部金型151が下部金型152上に下降する。これにより、下部金型152と上部金型151との間に形成されるキャビティ153内に、前記配線基板120が配置される。   Thereafter, the upper mold 151 is lowered onto the lower mold 152. As a result, the wiring substrate 120 is disposed in the cavity 153 formed between the lower mold 152 and the upper mold 151.

そして、第1の充填部160の第1のプランジャ162−1〜162−5のそれぞれには、固形状の第1の樹脂タブレット131がセットされ、一方、第2の充填部260の第2のプランジャ262−1〜262−5のそれぞれにも、固形状の第2の樹脂タブレット231がセットされる。   In each of the first plungers 162-1 to 162-5 of the first filling unit 160, a solid first resin tablet 131 is set, while the second filling unit 260 has a second A solid second resin tablet 231 is also set on each of the plungers 262-1 to 262-5.

成形金型150は、予め加熱されており、セットされた第1の樹脂タブレット131及び第2の樹脂タブレット231は溶融して、第1のプランジャ162及び第2のプランジャ262の上昇に伴い、配線基板120を配置したキャビティ153内に向かって注入される。   The molding die 150 is preheated, and the set first resin tablet 131 and second resin tablet 231 are melted, and as the first plunger 162 and the second plunger 262 rise, wiring is performed. It is injected into the cavity 153 in which the substrate 120 is disposed.

即ち、溶融状態にある封止用樹脂は、第1のカル部161及び第2のカル部261からそれぞれ、第1のランナ部141及び第2のランナ部241においてその流路が調整され、第1のゲート140ならびに第2のゲート240を介してキャビティ153内に注入される。   That is, the flow path of the sealing resin in the molten state is adjusted from the first cull portion 161 and the second cull portion 261 in the first runner portion 141 and the second runner portion 241, respectively. It is injected into the cavity 153 through the first gate 140 and the second gate 240.

当該封止用樹脂の流入に伴い、キャビティ153内にあったガスは、矩形状キャビティの他の2辺に配設された第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270から排出される。   Along with the inflow of the sealing resin, the gas in the cavity 153 is discharged from the first air vent 170 and the second air vent 270 disposed on the other two sides of the rectangular cavity.

ここで、当該樹脂封止装置100を用いた樹脂封止処理における樹脂の流れについて、図2ならびに図3乃至図6を参照して説明する。
前述の如く、複数の半導体素子110が搭載された配線基板120を下部金型152に配置し、上部金型151を下降させ、上部金型151と下部金型152とによって、配線基板120の縁部を挟持する。
Here, the flow of the resin in the resin sealing process using the resin sealing device 100 will be described with reference to FIG. 2 and FIGS. 3 to 6.
As described above, the wiring board 120 on which the plurality of semiconductor elements 110 are mounted is disposed in the lower mold 152, the upper mold 151 is lowered, and the upper mold 151 and the lower mold 152 are used to Hold the part.

これにより、図2に示すように、下部金型152と上部金型151との間のキャビティ153に、被処理配線基板120が配置される。
次いで、第1のポット163−1〜163−5における第1のプランジャ162−〜162−5上に第1の樹脂タブレット131を投入し、また第2のポット263−1〜263−5における第2のプランジャ262−1〜262−5上に、第2の樹脂タブレット231を投入する。
Thereby, as shown in FIG. 2, the wiring substrate 120 to be processed is disposed in the cavity 153 between the lower mold 152 and the upper mold 151.
Next, the first resin tablet 131 is put on the first plungers 162-to 162-5 in the first pots 163-1 to 163-5, and the first resin tablets 131 are placed in the second pots 263-1 to 263-5. The second resin tablet 231 is put on the second plungers 262-1 to 262-5.

当該樹脂タブレット131及び樹脂タブレット231には、キャビティ153に注入して硬化させた後の機械的強度の確保及び熱膨張係数の調整のために、予めフィラーが含有されている。   The resin tablet 131 and the resin tablet 231 contain a filler in advance in order to ensure mechanical strength and adjust the thermal expansion coefficient after being injected into the cavity 153 and cured.

フィラーとしては、一定の粒度分布をもった、例えば二酸化珪素(SiO2)、炭酸カルシウム(CaCO3)などの微細粒子が用いられる。また、フィラーの形状としては、球状または粉砕状などがあるが、フィラーを含む封止用樹脂のキャビティ153への充填率向上の観点からは球状のものがより好ましい。勿論、プロセス条件及び/あるいは形成する半導体装置の要求特性等に応じて、形状または材料が異なるフィラーを混合して用いてもよい。 As the filler, fine particles such as silicon dioxide (SiO 2 ) and calcium carbonate (CaCO 3 ) having a certain particle size distribution are used. In addition, the shape of the filler includes a spherical shape or a pulverized shape, but a spherical shape is more preferable from the viewpoint of improving the filling rate into the cavity 153 of the sealing resin containing the filler. Of course, fillers having different shapes or materials may be mixed and used in accordance with process conditions and / or required characteristics of the semiconductor device to be formed.

成形金型150は、予め所定の温度(例えば150℃〜190℃)に加熱されており、投入された前記第1の樹脂タブレット131ならびに第2の樹脂タブレット231は、加熱されて溶融する。   The molding die 150 is heated in advance to a predetermined temperature (for example, 150 ° C. to 190 ° C.), and the charged first resin tablet 131 and the second resin tablet 231 are heated and melted.

第1の樹脂タブレット131が溶融した第1の樹脂131aは、第1のプランジャ162−1〜162−5により一斉に等圧で圧送されて、第1のカル部161に充填される。同様に、第2の樹脂タブレット231が溶融した第2の樹脂231aは、第2のプランジャ262−1〜262−5により、一斉に圧送されて、第2のカル部261に充填される。   The first resin 131a in which the first resin tablet 131 is melted is simultaneously pumped by the first plungers 162-1 to 162-5 with the same pressure, and is filled in the first cull portion 161. Similarly, the second resin 231a in which the second resin tablet 231 is melted is simultaneously pumped by the second plungers 262-1 to 262-5 and filled into the second cull portion 261.

第1のカル部161に充填された第1の樹脂131aは、前記複数の第1のプランジャ162によって更に圧送され、第1のランナ部141を通過して第1のゲート140からキャビティ153内へ注入される。同様に、第2のカル部261に充填された第2の樹脂231aは、複数の第2のプランジャ262によって更に圧送され、第2のランナ部241を通過して第2のゲート240からキャビティ153内へ注入される。   The first resin 131a filled in the first cull portion 161 is further pumped by the plurality of first plungers 162, passes through the first runner portion 141, and enters the cavity 153 from the first gate 140. Injected. Similarly, the second resin 231 a filled in the second cull portion 261 is further pumped by the plurality of second plungers 262, passes through the second runner portion 241, and passes from the second gate 240 to the cavity 153. It is injected into.

即ち、前記プランジャ162ならびにプランジャ262による加圧を同時に行うことにより、キャビティ153内には、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aが、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から、ほぼ同時に注入される。   That is, by simultaneously applying pressure by the plunger 162 and the plunger 262, the first resin 131a and the second resin 231a are brought into the cavity 153 from both the first gate 140 and the second gate 240. Injected at almost the same time.

この時、前記第1のゲート140−1〜140−12は、互いに等間隔Wpで配置されるも、中央部におけるゲートの幅Wg1が端部におけるゲートの幅Wg2よりも広くされ、中央部に位置するゲートから端部におけるゲートに向かい、その幅が漸次段階的に狭くされている。即ち、中央部におけるゲート部は、端部におけるゲートに比べ大きな断面積を有する。   At this time, although the first gates 140-1 to 140-12 are arranged at equal intervals Wp, the gate width Wg1 in the central portion is made wider than the gate width Wg2 in the end portion. From the gate located to the gate at the end, the width is gradually reduced step by step. That is, the gate portion at the center has a larger cross-sectional area than the gate at the end.

このため、当該第1のゲート140からキャビティ153内へ注入される第1の樹脂131aは、図3に示すように、当該キャビティ153の中央部において、端部よりも多くの量が注入される。なお、図4は、図3のA−A'断面を示す模式図である。当該図3のA−A'断面は、前記図1のA−A'断面に対応している。   Therefore, the first resin 131a injected from the first gate 140 into the cavity 153 is injected in a larger amount than the end portion at the center of the cavity 153 as shown in FIG. . FIG. 4 is a schematic diagram showing the AA ′ cross section of FIG. The AA ′ cross section in FIG. 3 corresponds to the AA ′ cross section in FIG.

この時、当該第1の樹脂131aは、半導体素子110の存在により流動が遅れる箇所が生じるため、その先端部形状が波形を有して、キャビティ153内に注入されていく。
同様に、第2のゲート240から注入される第2の樹脂231aも、当該キャビティ153の中央部において端部よりも多くの量が注入され、且つ半導体素子110の存在によりその先端部形状が波形を有して、キャビティ153内に注入されていく。
At this time, the first resin 131 a has a portion where the flow is delayed due to the presence of the semiconductor element 110, so that the shape of the tip of the first resin 131 a has a waveform and is injected into the cavity 153.
Similarly, the second resin 231a injected from the second gate 240 is also injected in a larger amount than the end portion in the central portion of the cavity 153, and the shape of the tip end portion thereof has a waveform due to the presence of the semiconductor element 110. And is injected into the cavity 153.

この様な注入状態から、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入される第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、まずキャビティ153のほぼ中央部において衝突する(かかる衝突状態は図示せず)。   From such an injection state, the first resin 131a and the second resin 231a injected from both the first gate 140 and the second gate 240 first collide at substantially the center of the cavity 153 (such collision). (The state is not shown).

衝突後、中央部の第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、一体となりつつ横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流れる。
また、より外側のゲートから注入された第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aも、衝突後同様に一体となりつつエアーベント方向に流れる。
After the collision, the first resin 131a and the second resin 231a at the center flow in the lateral direction (on the side of the first air vent 170 and the second air vent 270) while being integrated.
In addition, the first resin 131a and the second resin 231a injected from the outer gate also flow in the air vent direction while being integrated in the same manner after the collision.

即ち、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入された第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、キャビティ153のほぼ中央部において衝突後、一体となりつつキャビティ153の中央部から横方向(第1のエアーベント170方向ならびに第2のエアーベント270方向)へ流動していく(図示せず)。   That is, the first resin 131a and the second resin 231a injected from both the first gate 140 and the second gate 240 are integrated in the central portion of the cavity 153 after colliding at the substantially central portion of the cavity 153. Flow in the horizontal direction (first air vent 170 direction and second air vent 270 direction) (not shown).

このように、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aがキャビティ153内に注入されることにより、当該キャビティ153内は封止用樹脂130によって充填される。   As described above, the first resin 131a and the second resin 231a are injected into the cavity 153 from both the first gate 140 and the second gate 240, so that the cavity 153 has a sealing resin. 130 is filled.

かかる状態を図5及び図6に示す。なお、図6は、図5のA−A'断面における模式図である。当該図5のA−A'断面も、前記図1のA−A'断面に対応している。
本実施の形態にあっては、成形金型150の、キャビティ153を挟んで対向する第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から樹脂用樹脂を注入して、キャビティ153内を当該封止用樹脂130により充填する。
Such a state is shown in FIGS. FIG. 6 is a schematic diagram in the section AA ′ of FIG. The AA ′ cross section of FIG. 5 also corresponds to the AA ′ cross section of FIG.
In the present embodiment, resin for resin is injected from both the first gate 140 and the second gate 240 facing each other across the cavity 153 of the molding die 150 to seal the inside of the cavity 153. Filled with a stop resin 130.

従って、従来技術の如く、キャビティ153の片側のみから封止用樹脂を注入した場合に比べ、その流動距離を短くすることができる。また、封止用樹脂130がキャビティ153の中央部から第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270方向に向かって充填されるため、キャビティ153内のガスをその中央部から次第に押し出していくことができ、封止用樹脂130中へのボイドの混入を防止することができる。   Therefore, the flow distance can be shortened as compared with the case where the sealing resin is injected only from one side of the cavity 153 as in the prior art. Further, since the sealing resin 130 is filled from the central portion of the cavity 153 toward the first air vent 170 and the second air vent 270, the gas in the cavity 153 is gradually pushed out from the central portion. It is possible to prevent voids from being mixed into the sealing resin 130.

キャビティ153への封止用樹脂130の充填後、成形金型150における熱により当該封止用樹脂130を硬化する。
当該封止用樹脂130の硬化後、例えば上部金型151を上昇させ、被処理基板、即ち複数の半導体素子110が封止用樹脂130により一括して封止された配線基板120を、下部金型152から取り出す。
After filling the cavity 153 with the sealing resin 130, the sealing resin 130 is cured by heat in the molding die 150.
After the sealing resin 130 is cured, for example, the upper mold 151 is raised, and the substrate to be processed, that is, the wiring substrate 120 in which the plurality of semiconductor elements 110 are collectively sealed with the sealing resin 130 is transferred to the lower mold. Remove from mold 152.

しかる後、恒温槽等を用い、当該配線基板120を例えば150℃〜190℃に加熱して、封止用樹脂130を完全硬化せしめる。
ここで、前記複数の半導体素子110が封止用樹脂130により一括して封止された配線基板120を、図7に示す。同図において、半導体素子110の存在位置を点線で示している。
Thereafter, the wiring substrate 120 is heated to, for example, 150 ° C. to 190 ° C. using a thermostatic bath or the like, and the sealing resin 130 is completely cured.
Here, FIG. 7 shows a wiring substrate 120 in which the plurality of semiconductor elements 110 are collectively sealed with a sealing resin 130. In the figure, the position where the semiconductor element 110 exists is indicated by a dotted line.

そして、当該図7において破線により囲んだ領域121を拡大して図8に示す。当該図8では、封止用樹脂130の表示を省略している。
即ち、配線基板120の一方の主面上には、複数個の半導体素子110がマトリスク状に搭載され、半導体素子110のそれぞれは、配線基板120上に接着剤122により固定されている。そして当該半導体素子110の電極111と配線基板120上の電極端子112とがボンディングワイヤ113により接続されている。
And the area | region 121 enclosed with the broken line in the said FIG. 7 is expanded and shown in FIG. In FIG. 8, the display of the sealing resin 130 is omitted.
That is, a plurality of semiconductor elements 110 are mounted in a matrix form on one main surface of the wiring board 120, and each of the semiconductor elements 110 is fixed on the wiring board 120 by the adhesive 122. The electrode 111 of the semiconductor element 110 and the electrode terminal 112 on the wiring substrate 120 are connected by a bonding wire 113.

そして、複数個の半導体素子110ならびにボンディングワイヤ113は、封止用樹脂130(図示せず)により一括して封止されている。
前述の如く、封止用樹脂130が完全に硬化された後、当該配線基板120の他方の主面(裏面)に配設された電極端子には、外部接続用電極としてはんだボールが配設される(図示せず)。
The plurality of semiconductor elements 110 and bonding wires 113 are collectively sealed with a sealing resin 130 (not shown).
As described above, after the sealing resin 130 is completely cured, solder balls are provided as external connection electrodes on the electrode terminals provided on the other main surface (back surface) of the wiring board 120. (Not shown).

しかる後、当該配線基板120及び封止用樹脂130を、その厚さ方向に、個々の半導体素子110単位に切断・分離(ダイシング)することにより、図9に示す半導体装置180が形成される。なお、当該図9にあっては、半導体装置180の構成を具示するために、断面構造を開示している。   Thereafter, the wiring substrate 120 and the sealing resin 130 are cut and separated (diced) into individual semiconductor elements 110 in the thickness direction, whereby the semiconductor device 180 shown in FIG. 9 is formed. In FIG. 9, a cross-sectional structure is disclosed in order to illustrate the configuration of the semiconductor device 180.

当該半導体装置180は、配線基板120の他方の主面に形成されたはんだボール115を介して、電子機器の回路基板などに実装される。
前述の如く、本実施の形態にあっては、成形金型150において、キャビティ153を挟んで対向する第1のゲート140、及び第2のゲート240の双方から樹脂用樹脂を注入して、キャビティ153内に当該封止用樹脂130を充填する。
The semiconductor device 180 is mounted on a circuit board of an electronic device or the like via a solder ball 115 formed on the other main surface of the wiring board 120.
As described above, in the present embodiment, in the molding die 150, resin for resin is injected from both the first gate 140 and the second gate 240 that are opposed to each other with the cavity 153 interposed therebetween. 153 is filled with the sealing resin 130.

これにより、キャビティ153内において、特定粒径のフィラー132の偏在を生ずることがなく、図10に示すように、半導体装置180において、封止用樹脂130内には粒径の異なるフィラー132を混在させることができる。   As a result, the filler 132 having a specific particle diameter is not unevenly distributed in the cavity 153, and in the semiconductor device 180, fillers 132 having different particle diameters are mixed in the sealing resin 130 as shown in FIG. Can be made.

即ち、前記第1の実施の形態における封止方法によれば、キャビティ153に対し、その対向する辺において配置された第1のゲート140ならびに第2のゲート240から、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aをそれぞれ注入するため、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aの流動距離は当該キャビティのほぼ中央部に至る距離であって短い。   That is, according to the sealing method in the first embodiment, the first resin 131a and the second resin 240a are formed from the first gate 140 and the second gate 240 disposed on the opposite sides of the cavity 153. Since the two resins 231a are respectively injected, the flow distance of the first resin 131a and the second resin 231a is a distance that reaches almost the center of the cavity and is short.

従って、当該第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aに含有されるフィラー132の偏在が防止され、当該フィラーを封止用樹脂130内に均一に分布させることができる。   Therefore, uneven distribution of the filler 132 contained in the first resin 131a and the second resin 231a is prevented, and the filler can be uniformly distributed in the sealing resin 130.

この結果、キャビティ153内の部位に関わらず、個々の半導体装置180における封止用樹脂130の品質は均一となり、当該半導体装置の信頼性を高めることができる。
更に、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aの流動距離が短いことから、キャビティ153内に封止用樹脂130を短時間で充填することができ、半導体装置180の生産性が向上する。
As a result, the quality of the sealing resin 130 in each semiconductor device 180 becomes uniform regardless of the portion in the cavity 153, and the reliability of the semiconductor device can be improved.
Further, since the flow distance of the first resin 131a and the second resin 231a is short, the sealing resin 130 can be filled in the cavity 153 in a short time, and the productivity of the semiconductor device 180 is improved.

次に、前記第1の実施の形態の変形例として、ゲートの配列間隔またはゲートの高さを変える形態を示す。
<変形例1−1>
変形例1−1における封止装置300の透視的平面を、模式的に図11に示す。
Next, as a modification of the first embodiment, a form in which the gate arrangement interval or the gate height is changed will be described.
<Modification 1-1>
FIG. 11 schematically shows a perspective plane of the sealing device 300 in Modification 1-1.

当該封止装置300においては、キャビティ153を挟んで対向するように配列された第1のゲート140−1〜140−12の、中央部に位置するゲート140−6と140−7との間隔Wp1を例えば8mm程度とし、端部に位置するゲート140−1と140−2との間隔Wp2を、例えば11mm程度として、中央部の配列間隔Wp1を端部側の配列間隔Wp2よりも狭くしている。   In the sealing device 300, the interval Wp1 between the gates 140-6 and 140-7 located at the center of the first gates 140-1 to 140-12 arranged to face each other with the cavity 153 interposed therebetween. Is set to about 8 mm, for example, and the interval Wp2 between the gates 140-1 and 140-2 located at the end is set to about 11 mm, for example, and the arrangement interval Wp1 at the center is narrower than the arrangement interval Wp2 on the end side. .

他方の端部に位置するゲート140−11と140−12との間隔Wp2も、中央部の配列間隔Wp1よりも広い。
同様に、第2のゲート240−1〜240−12の中央部に位置するゲート240−6と240−7との間隔Wp1を例えば8mm程度とし、端部に位置するゲート240−1と240−2との間隔Wp2を、例えば11mm程度として、中央部の配列間隔Wp1を端部側の配列間隔Wp2よりも狭くしている。
The interval Wp2 between the gates 140-11 and 140-12 located at the other end is also wider than the arrangement interval Wp1 at the center.
Similarly, the interval Wp1 between the gates 240-6 and 240-7 located at the center of the second gates 240-1 to 240-12 is set to about 8 mm, for example, and the gates 240-1 and 240- located at the ends are arranged. The interval Wp2 with respect to 2 is, for example, about 11 mm, and the arrangement interval Wp1 at the center is narrower than the arrangement interval Wp2 on the end side.

そして、他方の端部に位置するゲート240−11と240−12との間隔Wp2も、中央部の配列間隔Wp1よりも広い。
なお、いずれのゲートも、等しい断面積を有する。
The interval Wp2 between the gates 240-11 and 240-12 located at the other end is also wider than the arrangement interval Wp1 at the center.
All the gates have the same cross-sectional area.

このように第1のゲート140−1〜140−12ならびに第2のゲート240−1〜240−12を、それぞれ中央部から端部側に向かって、その配列間隔を漸次段階的に広くすることにより、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方からキャビティ内に注入される第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aの注入量は、当該キャビティの中央部において多く、端部に近づくに従ってその量が減じられる。   In this way, the arrangement intervals of the first gates 140-1 to 140-12 and the second gates 240-1 to 240-12 are gradually increased from the central part toward the end part. Thus, the injection amount of the first resin 131a and the second resin 231a injected into the cavity from both the first gate 140 and the second gate 240 is large in the central portion of the cavity and approaches the end portion. The amount is reduced accordingly.

従って、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入される第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、まずキャビティ153のほぼ中央部において拡がり、衝突する。   Accordingly, the first resin 131a and the second resin 231a injected from both the first gate 140 and the second gate 240 first spread and collide with each other in the substantially central portion of the cavity 153.

衝突後は、一体となりつつ横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流動する。
また、より外側のゲートから流入した第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aも衝突し、同様に一体となりつつ横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流れて、当該キャビティ153内は封止用樹脂130によって充填される。
After the collision, the fluid flows laterally (first air vent 170 and second air vent 270 side) while being integrated.
In addition, the first resin 131a and the second resin 231a that have flowed in from the outer gate also collide and flow in the lateral direction (the first air vent 170 and the second air vent 270 side) in the same manner. The cavity 153 is filled with the sealing resin 130.

<変形例1−2>
変形例1−2における封止装置400の透視的平面を、模式的に図12に示す。
また、当該封止装置400の、図12における線B−B'に沿う断面を図13(A)に示し、図12における線C−C'に沿う断面を図13(B)に示す。
<Modification 1-2>
The perspective plane of the sealing device 400 in Modification 1-2 is schematically shown in FIG.
Further, a cross section of the sealing device 400 taken along line BB ′ in FIG. 12 is shown in FIG. 13A, and a cross section taken along line CC ′ in FIG. 12 is shown in FIG.

当該封止装置400にあっては、第1のゲート140(140−1〜140−12)ならびに第2のゲート240(240−1〜240−12)の幅Wgを、例えば、4mm程度、配列間隔Wpを、例えば、9.4mm程度とする。   In the sealing device 400, the width Wg of the first gate 140 (140-1 to 140-12) and the second gate 240 (240-1 to 240-12) is arranged, for example, about 4 mm. The interval Wp is about 9.4 mm, for example.

そして、中央部に位置するゲート(140−6,140−7、240−6,240−7など)の高さH1を、例えば、0.17mm程度とする(図13(A)参照)。また、端部に位置するゲート(140−1,140−12、240−1,240−12など)の高さH2を、例えば、0.15mm程度とする(図13(B)参照)。   Then, the height H1 of the gate (140-6, 140-7, 240-6, 240-7, etc.) located at the center is set to about 0.17 mm, for example (see FIG. 13A). Further, the height H2 of the gate (140-1, 140-12, 240-1, 240-12, etc.) located at the end is set to about 0.15 mm, for example (see FIG. 13B).

すなわち、キャビティ153に配列された複数の第1のゲート140ならびに第2のゲート240において、中央部に位置するゲートの高さは、端部側にあるゲートの高さよりも高くされている。   That is, in the plurality of first gates 140 and second gates 240 arranged in the cavity 153, the height of the gate located at the center is higher than the height of the gate on the end side.

そして、第1のゲート140及び第2のゲート240においては、それぞれ中央部から端部側に向かって、その高さが漸次段階的に低くされている。
かかる構成によれば、中央部に位置するゲートは、端部に位置するゲートよりも大きな断面積を有する。
The heights of the first gate 140 and the second gate 240 are gradually reduced from the central portion toward the end portion.
According to such a configuration, the gate located at the center has a larger cross-sectional area than the gate located at the end.

従って、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入される第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、中央部に位置するゲートからより多く(多量に)注入される。   Therefore, the first resin 131a and the second resin 231a injected from both the first gate 140 and the second gate 240 are injected more (in a large amount) from the gate located in the center.

このため、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入される第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、まずキャビティ153の中央部において衝突し、衝突後、一体となりつつ横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流動する。   For this reason, the first resin 131a and the second resin 231a injected from both the first gate 140 and the second gate 240 first collide with each other at the central portion of the cavity 153, and after the collision, they are integrated into the lateral direction. It flows in the direction (first air vent 170 and second air vent 270 side).

そして、より外側のゲートから注入される第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aも順次衝突して、一体となりつつ更に横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流動する。   Then, the first resin 131a and the second resin 231a injected from the outer gate also collide sequentially and further in the lateral direction (on the side of the first air vent 170 and the second air vent 270) while being united. To flow.

このようにして、当該キャビティ153内は封止用樹脂130によって充填され、被処理配線基板120上に搭載された複数個の半導体素子は、封止用樹脂130により被覆される。   In this way, the cavity 153 is filled with the sealing resin 130, and the plurality of semiconductor elements mounted on the wiring substrate 120 to be processed are covered with the sealing resin 130.

なお、ここでは、ゲートの幅、高さ(注入面積)及び配列間隔を変えた場合を示したが、それぞれを個別に変えるに止まらず、ゲートの幅、高さ、あるいは配列間隔の何れかを相互に組み合わせることもできる。   Here, the case where the width, height (injection area) and arrangement interval of the gate are changed is shown. However, each of the gate width, height, or arrangement interval is not limited to changing each individually. They can be combined with each other.

<第2の実施の形態>
本第2の実施の形態では、半導体素子が配列して搭載される配線基板が、複数の小区画に分離されている例を挙げる。
<Second Embodiment>
In the second embodiment, an example in which a wiring board on which semiconductor elements are arranged and mounted is separated into a plurality of small sections.

当該第2の実施の形態における、半導体素子が配列して搭載された配線基板の平面形状を、模式的に図14に示す。
当該配線基板520は矩形状の平面形状を有し、その寸法は例えば縦75mm×横250mmであって、その長手方向に直交する方向に設けられた2本のスリット521によって、配線基板領域520a,520b,520cに区切られている。
FIG. 14 schematically shows a planar shape of a wiring board on which semiconductor elements are arranged and mounted in the second embodiment.
The wiring substrate 520 has a rectangular planar shape, and the dimensions thereof are, for example, 75 mm long × 250 mm wide, and the wiring substrate region 520 a, the two slits 521 provided in a direction orthogonal to the longitudinal direction. It is divided into 520b and 520c.

当該配線基板領域520a,520b,520cのそれぞれには、半導体素子510が複数個、マトリクス状に搭載されている。
このように配線基板に対しスリットを配して当該配線基板を小区画に分割し、それぞれの区画単位で封止樹脂部を形成することによって、樹脂封止後、当該配線基板に発生する反りの量を低減することができるが、当該スリットは必要に応じて適用されればよい。
A plurality of semiconductor elements 510 are mounted in a matrix in each of the wiring board regions 520a, 520b, and 520c.
In this way, by arranging slits on the wiring board to divide the wiring board into small sections and to form a sealing resin portion for each section, warping that occurs in the wiring board after resin sealing is formed. Although the amount can be reduced, the slit may be applied as necessary.

このように矩形状を有し、その小区画毎に複数個の半導体素子が搭載された配線基板に対して樹脂封止処理を行うために、図15に示される封止装置500が適用される。
図15は、当該封止装置500の透視的平面形態を、模式的に示し、また図16は、図15におけるD−D'断面を示す。
A sealing device 500 shown in FIG. 15 is applied to perform a resin sealing process on a wiring board having a rectangular shape and mounting a plurality of semiconductor elements for each small section. .
FIG. 15 schematically shows a perspective planar form of the sealing device 500, and FIG. 16 shows a DD ′ cross section in FIG.

封止装置500は、対向する上部金型151及び下部金型152を有する成形金型150を備えている。
図15に示される如く、成形金型150には、前記配線基板領域520a,520b,520cに対応して、矩形状を有する3つのキャビティ153a,153b,153cが配設されている。
The sealing device 500 includes a molding die 150 having an upper die 151 and a lower die 152 facing each other.
As shown in FIG. 15, the molding die 150 is provided with three cavities 153a, 153b, 153c having a rectangular shape corresponding to the wiring board regions 520a, 520b, 520c.

そして、それぞれのキャビティにおいては、対向する辺に位置して、第1の充填部160及び第2の充填部260が配設されている。
キャビティ153aに配設された第1の充填部160は、上部金型151に形成され共通の空間を形成している第1のカル部161−1と、下部金型152に形成された円筒状の第1のポット163−1,163−2、及びそれぞれの第1のポット163内を上下動する第1のプランジャ162−1,162−2を備えている。前記第1のカル部161は、第1のランナ部141−1〜141−6からライン状ゲート140を介して前記キャビティ153に接続されている。
And in each cavity, the 1st filling part 160 and the 2nd filling part 260 are arrange | positioned in the side which opposes.
The first filling portion 160 disposed in the cavity 153 a is formed in the upper mold 151 and has a cylindrical shape formed in the first mold portion 161-1 forming a common space and the lower mold 152. First pots 163-1 and 163-2, and first plungers 162-1 and 162-2 that move up and down in the respective first pots 163. The first cull portion 161 is connected to the cavity 153 via the line-shaped gate 140 from the first runner portions 141-1 to 141-6.

一方、第2の充填部260は、第2のカル部261と、第2のポット263−1,263−2、及びそれぞれの第2のポット263内を上下動する第2のプランジャ262−1,262−2を備えている。そして第2のカル部261は、第2のランナ部241−1〜241−6からライン状ゲート240を介してキャビティ153aに接続されている。   On the other hand, the second filling unit 260 includes the second cull unit 261, the second pots 263-1 and 263-2, and the second plungers 262-1 that move up and down in the respective second pots 263. , 262-2. The second cull portion 261 is connected to the cavity 153a via the line-shaped gate 240 from the second runner portions 241-1 to 241-6.

また、上部金型151において、第1のゲート140と第1のランナ部141との間には第1のダミーキャビティ142が、また第2のゲート240と第2のランナ部241との間に第2のダミーキャビティ242が、それぞれ前記キャビティ153a,153b,153cの辺に沿ってライン状に配置されている(図16参照)。   Further, in the upper mold 151, a first dummy cavity 142 is provided between the first gate 140 and the first runner part 141, and between the second gate 240 and the second runner part 241. Second dummy cavities 242 are arranged in a line along the sides of the cavities 153a, 153b, and 153c, respectively (see FIG. 16).

なお、第1のダミーキャビティ142、第2のダミーキャビティ242、ならびに第1のライン状ゲート140、第2のライン状ゲート240の長さは、キャビティの樹脂注入辺(第1のゲート140及び第2のゲートが設けられる辺)の長さよりも短く設定され、前記キャビティの樹脂注入辺の両端近傍にはゲートは配置されない。   Note that the lengths of the first dummy cavity 142, the second dummy cavity 242, the first line-shaped gate 140, and the second line-shaped gate 240 are the resin injection sides of the cavity (the first gate 140 and the first gate 140). 2 is set shorter than the length of the side where the gate of 2 is provided, and no gate is arranged near both ends of the resin injection side of the cavity.

例えば、配線基板520の1つ小区画に対応するキャビティ153aの寸法を、縦65mm、横78mm、高さ0.33mmとする場合、当該小区画の縦辺に対応する第1のダミーキャビティ142、第2のダミーキャビティ242、及び第1のライン状ゲート140、第2のライン状ゲート240の長さはそれぞれ62mmとされる。   For example, when the dimensions of the cavity 153a corresponding to one small section of the wiring board 520 are 65 mm in length, 78 mm in width, and 0.33 mm in height, the first dummy cavity 142 corresponding to the vertical side of the small section, The lengths of the second dummy cavities 242, the first line-shaped gate 140, and the second line-shaped gate 240 are 62 mm, respectively.

そして、前記キャビティ153a,153b,153cには、それぞれにおいて、前記ライン状ゲートが配置されない辺、即ち、前記スリットに平行な辺には、エアーベントが配設されている(図示せず)。   In the cavities 153a, 153b, and 153c, air vents (not shown) are provided on the sides where the line gates are not arranged, that is, on the sides parallel to the slits.

当該成形金型150を用いての樹脂封止処理にあっては、まず、下部金型152に被処理配線基板520が配置され、例えば上部金型151がその下部金型152側に下降される。   In the resin sealing process using the molding die 150, first, the wiring substrate 520 to be processed is disposed in the lower die 152, and for example, the upper die 151 is lowered to the lower die 152 side. .

これにより、下部金型152と上部金型151との間に配線基板520が挟まれる。
この時、配線基板520における小区画の配線基板領域520a,520b,520cは、キャビティ153a,153b,153c内にそれぞれ配置される。
As a result, the wiring board 520 is sandwiched between the lower mold 152 and the upper mold 151.
At this time, the small-sized wiring board regions 520a, 520b, and 520c in the wiring board 520 are disposed in the cavities 153a, 153b, and 153c, respectively.

そして、第1のプランジャ162及び第2のプランジャ262により圧送された第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、それぞれ第1のダミーキャビティ142内及び第2のダミーキャビティ242内に一旦充填され、第1のライン状のゲート140及び第2のライン状のゲート240を介して、それぞれのキャビティ153a,153b,153cに注入される。   Then, the first resin 131a and the second resin 231a pumped by the first plunger 162 and the second plunger 262 are once filled in the first dummy cavity 142 and the second dummy cavity 242, respectively. Injected into the cavities 153a, 153b, and 153c through the first line-shaped gate 140 and the second line-shaped gate 240, respectively.

即ち、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、配線基板領域520a,520b,520cが配置されたそれぞれのキャビティ153a,153b,153cに向かって、第1のライン状ゲート140及び第2のライン状ゲート240の双方から圧送され、それぞれのキャビティ153は封止用樹脂130によって充填される。   That is, the first resin 131a and the second resin 231a are supplied to the first linear gate 140 and the second resin 153a, 153b, and 153c in which the wiring board regions 520a, 520b, and 520c are disposed. The cavities 153 are filled with the sealing resin 130 by being pumped from both of the line-shaped gates 240.

かかる樹脂の注入の際、第1のダミーキャビティ142、第2のダミーキャビティ242及び第1のライン状のゲート140、第2のライン状のゲート240が、キャビティ153の樹脂注入辺の長さよりも短く設定されていることから、当該樹脂は、まず各小区画におけるキャビティの中央部に対して注入されて扇状に拡がり、当該キャビティの中央部において衝突する。   When the resin is injected, the first dummy cavity 142, the second dummy cavity 242, the first line-shaped gate 140, and the second line-shaped gate 240 are longer than the length of the resin injection side of the cavity 153. Since the length is set short, the resin is first injected into the central portion of the cavity in each small section, spreads in a fan shape, and collides with the central portion of the cavity.

そして、当該樹脂は、一体となりつつ前記エアーベントが配置された方向に流動して、キャビティの周縁部にまで至り、配線基板上の複数の半導体素子を被覆する。
次に、第2の実施の形態の変形例として、樹脂の充填部の変形例を示す。
The resin flows in the direction in which the air vent is arranged while being integrated, reaches the peripheral edge of the cavity, and covers a plurality of semiconductor elements on the wiring board.
Next, as a modification of the second embodiment, a modification of the resin filling portion will be described.

<変形例2−1>
本変形例2−1における封止装置500aは、上部金型及び下部金型を有する成形金型550aを具備している。
<Modification 2-1>
The sealing device 500a in Modification 2-1 includes a molding die 550a having an upper die and a lower die.

当該成形金型550aは、図17に示す如く、3つのキャビティ553a,553b,553cを具備している。
そして、それぞれのキャビティには、当該キャビティの対向する2辺に、第1のライン状ゲート540及び第2のライン状ゲート640が配設されている。
The molding die 550a includes three cavities 553a, 553b, and 553c as shown in FIG.
In each cavity, a first line-shaped gate 540 and a second line-shaped gate 640 are disposed on two opposite sides of the cavity.

即ち、キャビティ553a,553b,553cのそれぞれにあっては、第1の充填部560が、第1のランナ部541、第1のダミーキャビティ542、及び第1のライン状ゲート540を介して当該キャビティに連通し、また第2の充填部660が、第2のランナ部641、第2のダミーキャビティ642、及び第2のライン状ゲート640を介してキャビティに連通している。   That is, in each of the cavities 553a, 553b, and 553c, the first filling portion 560 is connected to the cavities via the first runner portion 541, the first dummy cavity 542, and the first line-shaped gate 540. The second filling portion 660 communicates with the cavity via the second runner portion 641, the second dummy cavity 642, and the second line-shaped gate 640.

ここで、第1の充填部560は、上部金型に形成された空間である第1のカル部、下部金型に形成された円筒状の第1のポット563、及び第1のポット563内を上下動する第1のプランジャを備えている。また上部金型の第1のカル部は、第1のライン状ゲート540を設けた第1のランナ部541を介してキャビティ553a,553b,553cに連通している。   Here, the first filling portion 560 includes a first cull portion that is a space formed in the upper die, a cylindrical first pot 563 formed in the lower die, and a first pot 563. A first plunger that moves up and down is provided. Further, the first cull portion of the upper mold communicates with the cavities 553a, 553b, and 553c via the first runner portion 541 provided with the first line-shaped gate 540.

同じく、第2の充填部660は、第2のカル部、第2のポット663、及び第2のポット663内を上下動する第2のプランジャを備えており、一方、第2のカル部は第2のライン状ゲート640を設けた第2のランナ部641を介してキャビティ553a,553b,553cに連通している。   Similarly, the second filling portion 660 includes a second cull portion, a second pot 663, and a second plunger that moves up and down in the second pot 663, while the second cull portion includes It communicates with the cavities 553a, 553b, and 553c via the second runner portion 641 provided with the second line-shaped gate 640.

そして、前記キャビティ553a,553b,553cには、それぞれにおいて、前記ゲートが配置されない辺、即ち、前記スリットとは直交する方向の2辺に、エアーベントが配設されている(図示せず)。   In each of the cavities 553a, 553b, and 553c, air vents (not shown) are provided on the sides where the gate is not arranged, that is, on the two sides perpendicular to the slits.

かかる構成によれば、第1の充填部560及び第2の充填部660の全てが、キャビティ553a,553b,553cに対して同一の側(図17では紙面の左側)に一列状に配置される。   According to such a configuration, all of the first filling portion 560 and the second filling portion 660 are arranged in a line on the same side (the left side of the paper surface in FIG. 17) with respect to the cavities 553a, 553b, and 553c. .

従って、成形金型550aはより小型化されて、封止装置500aは、前記封止装置500に比べ、小型化が可能となる。
当該封止装置500aを用いての樹脂封止処理にあっては、まず、第1のポット563の第1のプランジャ上に第1の樹脂タブレットを投入し、また第2のポット663の第2のプランジャ上に第2の樹脂タブレットを投入する。
Therefore, the molding die 550a is further downsized, and the sealing device 500a can be downsized as compared with the sealing device 500.
In the resin sealing process using the sealing device 500a, first, the first resin tablet is put on the first plunger of the first pot 563, and the second resin in the second pot 663 is second. A second resin tablet is put on the plunger.

第1の樹脂タブレット及び第2の樹脂タブレットには、フィラーが含まれている。
第1の樹脂タブレット及び第2の樹脂タブレットの投入後、成形金型550aによって加熱が行われ、第1の樹脂タブレットが溶融した第1の樹脂は、第1のプランジャによって圧送されて、第1のカル部に充填される。同様に、第2の樹脂タブレットが溶融した第2の樹脂は、第2のプランジャによって圧送されて、第2のカル部に充填される。
The first resin tablet and the second resin tablet contain a filler.
After charging the first resin tablet and the second resin tablet, heating is performed by the molding die 550a, and the first resin in which the first resin tablet is melted is pumped by the first plunger, The cull part is filled. Similarly, the second resin in which the second resin tablet is melted is pumped by the second plunger and filled in the second cull portion.

第1のカル部に充填された第1の樹脂は、第1のプランジャによって更に圧送され、第1のランナ部541を通過して第1のダミーキャビティ542内に充填され、更に第1のライン状ゲート540からキャビティ553a内へ注入される。同様に、第2のプランジャにより、第2のカル部に充填された第2の樹脂は、第2のプランジャによって更に圧送され、第2のランナ部641を通過して第2のダミーキャビティ642内に充填され、更に第2のライン状ゲート640からキャビティ553a内へ注入される。   The first resin filled in the first cull portion is further pumped by the first plunger, passes through the first runner portion 541 and is filled into the first dummy cavity 542, and further the first line. It is injected from the gate 540 into the cavity 553a. Similarly, the second resin filled in the second cull portion by the second plunger is further pumped by the second plunger, passes through the second runner portion 641, and enters the second dummy cavity 642. And is injected from the second line-shaped gate 640 into the cavity 553a.

キャビティ553b,553cに対しても、同様に樹脂の注入がなされる。
即ち、キャビティ553a,553b,553cには、それぞれ独立して、第1の樹脂及び第2の樹脂が、第1のライン状ゲート540及び第2のライン状ゲート640の双方から注入される。
The resin is similarly injected into the cavities 553b and 553c.
That is, the first resin and the second resin are independently injected into the cavities 553a, 553b, and 553c from both the first line-shaped gate 540 and the second line-shaped gate 640, respectively.

かかる樹脂の注入の際、第1のダミーキャビティ542、第2のダミーキャビティ642及び第1のライン状のゲート540、第2のライン状のゲート640が、キャビティ553aの樹脂注入辺の長さよりも短く設定されていることから、当該樹脂は、まず各小区画におけるキャビティの中央部に対して注入されて扇状に拡がり、当該キャビティの中央部において衝突する。   When the resin is injected, the first dummy cavity 542, the second dummy cavity 642, the first line-shaped gate 540, and the second line-shaped gate 640 are longer than the length of the resin injection side of the cavity 553a. Since the length is set short, the resin is first injected into the central portion of the cavity in each small section, spreads in a fan shape, and collides with the central portion of the cavity.

そして、当該樹脂は、一体となりつつ前記エアーベントが配置された方向に流動して、キャビティの周縁部にまで至り、配線基板上の複数の半導体素子を被覆する。
そして、キャビティ553a,553b,553c内に配置された被処理基板は、封止用樹脂によって封止される。
The resin flows in the direction in which the air vent is arranged while being integrated, reaches the peripheral edge of the cavity, and covers a plurality of semiconductor elements on the wiring board.
And the to-be-processed substrate arrange | positioned in cavity 553a, 553b, 553c is sealed with sealing resin.

<変形例2−2>
本変形例2−2における封止装置500bは、図18に示す如く、上部金型及び下部金型を有する成形金型550bを備えている。
<Modification 2-2>
The sealing device 500b according to the modification 2-2 includes a molding die 550b having an upper die and a lower die as shown in FIG.

そして、当該成形金型550bは、3つのキャビティ553a,553b,553cを具備している。
それぞれのキャビティには、当該キャビティの対向する2辺に、第1のライン状ゲート540及び第2のライン状ゲート640が配設されている。
The molding die 550b includes three cavities 553a, 553b, and 553c.
In each cavity, a first line-shaped gate 540 and a second line-shaped gate 640 are disposed on two opposite sides of the cavity.

そして、前記キャビティ553a,553b,553cには、それぞれにおいて、前記ゲートが配置されない辺、即ち、前記スリットとは直交する方向の辺には、エアーベントが配設されている(図示せず)。   In each of the cavities 553a, 553b, and 553c, air vents (not shown) are provided on the sides where the gates are not arranged, that is, the sides perpendicular to the slits.

そして、第1の第1のランナ部541及び第2のランナ部641は、隣接するキャビティ553a,553b間、ならびにキャビティ553b,553c間に配設される場合、一体化されて、共用ランナ部741が構成されている。   When the first first runner portion 541 and the second runner portion 641 are disposed between the adjacent cavities 553a and 553b and between the cavities 553b and 553c, they are integrated into a common runner portion 741. Is configured.

当該共用ランナ部741を配設することにより、隣りあうキャビティ間の距離を小さくすることができ、封止装置500bは前記封止装置500aに比較して更に小型化することが可能となる。   By disposing the shared runner portion 741, the distance between adjacent cavities can be reduced, and the sealing device 500b can be further downsized as compared with the sealing device 500a.

すなわち、第1のプランジャ(図示を省略)によって圧送された第1の樹脂(図示を省略)は、第1のポット563から共用ランナ部741に流動する。同じくして、第2のプランジャ(図示を省略)によって第2のポット663から第2の樹脂(図示を省略)も共用ランナ部741に流動する。第1の樹脂及び第2の樹脂は共用ランナ部741で合流する。   That is, the first resin (not shown) pumped by the first plunger (not shown) flows from the first pot 563 to the shared runner portion 741. Similarly, the second resin (not shown) also flows from the second pot 663 to the common runner portion 741 by the second plunger (not shown). The first resin and the second resin merge at the shared runner portion 741.

共用ランナ部741で合流した樹脂は更に圧送され、第1のダミーキャビティ及び第2のダミーキャビティにそれぞれ分岐して流入して、第1のダミーキャビティ及び第2のダミーキャビティを充填し、更には第1のライン状ゲート540ならびに第2のライン状ゲート640からキャビティ553a,553b,553cに注入される。   The resin merged in the shared runner portion 741 is further pumped, branched into the first dummy cavity and the second dummy cavity, and filled into the first dummy cavity and the second dummy cavity. The cavities 553a, 553b, and 553c are injected from the first line-shaped gate 540 and the second line-shaped gate 640.

かかる樹脂の注入の際、第1のダミーキャビティ542、第2のダミーキャビティ642及び第1のライン状のゲート540、第2のライン状のゲート640が、キャビティ553aの樹脂注入辺の長さよりも短く設定されていることから、当該樹脂は、まず各小区画におけるキャビティの中央部に対して注入されて扇状に拡がり、当該キャビティの中央部において衝突する。   When the resin is injected, the first dummy cavity 542, the second dummy cavity 642, the first line-shaped gate 540, and the second line-shaped gate 640 are longer than the length of the resin injection side of the cavity 553a. Since the length is set short, the resin is first injected into the central portion of the cavity in each small section, spreads in a fan shape, and collides with the central portion of the cavity.

そして、当該樹脂は、一体となりつつ前記エアーベントが配置された方向に流動して、キャビティの周縁部にまで至り、配線基板上の複数の半導体素子を被覆する。
そして、キャビティ553a,553b,553c内に配置された被処理基板は、封止用樹脂によって封止される。
The resin flows in the direction in which the air vent is arranged while being integrated, reaches the peripheral edge of the cavity, and covers a plurality of semiconductor elements on the wiring board.
And the to-be-processed substrate arrange | positioned in cavity 553a, 553b, 553c is sealed with sealing resin.

<第3の実施の形態>
本第3の実施の形態にあっては、キャビティに配された複数個のプランジャを独立して制御し、動作させる。
<Third Embodiment>
In the third embodiment, a plurality of plungers arranged in the cavity are independently controlled and operated.

当該第3の実施の形態における封止装置600の透視的平面形態を、模式的に図19に示す。
封止装置600は、上部金型151及び下部金型152を有する成形金型150を具備している。
FIG. 19 schematically shows a perspective planar form of the sealing device 600 according to the third embodiment.
The sealing device 600 includes a molding die 150 having an upper die 151 and a lower die 152.

成形金型150には、キャビティ153を挟んで対向する位置に、当該キャビティ153に封止樹脂を注入する第1の充填部160ならびに第2の充填部260が、それぞれ5個ずつ分離して、且つ列状に配設されている。   In the molding die 150, five first filling portions 160 and two second filling portions 260 for injecting the sealing resin into the cavities 153 are separated from each other at positions opposite to each other with the cavity 153 interposed therebetween. And it is arranged in a row.

封止処理時には、複数個の半導体素子110が搭載された配線基板120が下部金型152と上部金型151の間にセットされ、それらの間のキャビティ153に封止用樹脂が注入されることにより、当該配線基板120上に搭載された複数個の半導体素子110は一括して樹脂封止される。   During the sealing process, the wiring substrate 120 on which a plurality of semiconductor elements 110 are mounted is set between the lower mold 152 and the upper mold 151, and a sealing resin is injected into the cavity 153 between them. Thus, the plurality of semiconductor elements 110 mounted on the wiring board 120 are collectively sealed with resin.

かかる封止装置600においては、第1のランナ部141ならびに第2のランナ部241は、一体的に形成されていない。
即ち、図19に示されるように、第1のランナ部141ならびに第2のランナ部241は、第1のポット163−1〜163−5毎、ならびに第2のポット263−1〜263−5毎に、互いに分離して配設されている。
In the sealing device 600, the first runner portion 141 and the second runner portion 241 are not integrally formed.
That is, as shown in FIG. 19, the first runner portion 141 and the second runner portion 241 include the first pots 163-1 to 163-5 and the second pots 263-1 to 263-5. They are arranged separately from each other.

従って、第1の充填部160及び第2の充填部260における加圧は、加圧圧力及び/または加圧タイミングをそれぞれ異ならせることができる。
このような封止装置600を用いた樹脂封止方法について、図20並びに図21を参照して説明する。図20は、図19におけるE−E'断面を示し、図21は、配線基板上に搭載した複数個の半導体素子の封止状態を、透視的平面をもって模式的に示す。
Therefore, the pressurization in the 1st filling part 160 and the 2nd filling part 260 can change pressurization pressure and / or pressurization timing, respectively.
A resin sealing method using such a sealing device 600 will be described with reference to FIGS. 20 shows a cross section taken along the line EE ′ of FIG. 19, and FIG. 21 schematically shows a sealing state of a plurality of semiconductor elements mounted on the wiring board with a perspective plane.

まず、下部金型152に、複数の半導体素子110を搭載した配線基板120を設置し、上部金型151を下降させ、上部金型151と下部金型152とによって、配線基板120の縁部を挟持する。   First, the wiring board 120 on which the plurality of semiconductor elements 110 are mounted is installed in the lower mold 152, the upper mold 151 is lowered, and the edge of the wiring board 120 is moved by the upper mold 151 and the lower mold 152. Hold it.

これにより、下部金型152と上部金型151との間のキャビティ153に、配線基板120が配置される。
次いで、第1のポット163−1〜163−5の第1のプランジャ162−1〜162−5上に、それぞれ第1の樹脂タブレット131を投入し、また第2のポット263−1〜263−5の第2のプランジャ262−1〜262−5上に、それぞれ第2の樹脂タブレット231を投入する。当該成型金型150が予め加熱されていることから、第1の樹脂タブレット131及び第2の樹脂タブレット231は溶融する。
As a result, the wiring substrate 120 is disposed in the cavity 153 between the lower mold 152 and the upper mold 151.
Next, the first resin tablet 131 is loaded on the first plungers 162-1 to 162-5 of the first pots 163-1 to 163-5, respectively, and the second pots 263-1 to 263- The second resin tablets 231 are put on the second plungers 262-1 to 262-5, respectively. Since the molding die 150 is preheated, the first resin tablet 131 and the second resin tablet 231 are melted.

第1の樹脂タブレット131が溶融した第1の樹脂131aは、第1のプランジャ162のそれぞれによって圧送されて、第1のカル部161−1〜161−5に充填される。同様に、第2の樹脂タブレット231が溶融した第2の樹脂231aは、第2のプランジャ262のそれぞれによって圧送されて、第2のカル部261−1〜261−5に充填される。   The first resin 131a in which the first resin tablet 131 is melted is pumped by each of the first plungers 162 to fill the first cull parts 161-1 to 161-5. Similarly, the second resin 231a in which the second resin tablet 231 is melted is pumped by each of the second plungers 262 and filled in the second cull portions 261-1 to 261-5.

この時、5個の第1のプランジャ162、ならびに5個の第2のプランジャ262における加圧力は、中央部のプランジャ(162−3,262−3)における加圧力が縁部におけるプランジャ(162−1,162−5、262−1,262−5)における加圧力よりも大とされている。   At this time, the pressing force in the five first plungers 162 and the five second plungers 262 is the same as the pressing force in the central plungers (162-3, 262-3). 1, 162-5, 262-1, 262-5).

中央部のプランジャと縁部のプランジャとの間に位置するプランジャ(162−2,162−4、262−2,262−4)は、両加圧力の中間の加圧力とされる(図20参照)。   Plungers (162-2, 162-4, 262-2, 262-4) positioned between the central plunger and the edge plunger are set to an intermediate pressurizing force (see FIG. 20). ).

第1のカル部161に充填された第1の樹脂131aは、第1のプランジャ162によって更に圧送され、第1のランナ部141を通過して第1のゲート140からキャビティ153へ注入される。   The first resin 131 a filled in the first cull portion 161 is further pumped by the first plunger 162, passes through the first runner portion 141, and is injected from the first gate 140 into the cavity 153.

同様に、第2のプランジャ262により、第2のカル部261に充填された第2の樹脂231aは、第2のプランジャ262によって更に圧送され、第2のランナ部241を通過して第2のゲート240からキャビティ153へ注入される。   Similarly, the second resin 231a filled in the second cull portion 261 by the second plunger 262 is further pumped by the second plunger 262, passes through the second runner portion 241 and passes through the second resin 231a. It is injected from the gate 240 into the cavity 153.

即ち、キャビティ153には、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aが第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入される。
前述の如く、プランジャの位置に対応して、当該プランジャにおける加圧力を変えることにより、第1のプランジャ162配列及び第2のプランジャ262配列の中央部に位置するプランジャの加圧力が、縁部に位置するプランジャの加圧力よりも大きいため、図21に示されるように、中央部における樹脂の注入速度は縁部側よりも速い。
That is, the first resin 131 a and the second resin 231 a are injected into the cavity 153 from both the first gate 140 and the second gate 240.
As described above, by changing the pressurizing force in the plunger according to the position of the plunger, the pressurizing force of the plunger located at the center of the first plunger 162 array and the second plunger 262 array is changed to the edge. Since it is larger than the applied pressure of the plunger located, as shown in FIG. 21, the injection rate of the resin at the center is faster than that at the edge.

同様に、第2のゲート240から注入される第2の樹脂231aも、中央部における注入速度が縁部側よりも速い。
従って、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入される第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、まずキャビティの中央部に位置する配線基板部分上において衝突し、衝突後は一体となりつつ横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流れる。
Similarly, the second resin 231a injected from the second gate 240 also has a higher injection speed at the center than at the edge.
Therefore, the first resin 131a and the second resin 231a injected from both the first gate 140 and the second gate 240 first collide with each other on the wiring board portion located at the center of the cavity, and after the collision. Flow in the lateral direction (first air vent 170 and second air vent 270 side) while being integrated.

更に、より外側のゲートから注入される第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aも衝突して、同様に横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流れる。   Further, the first resin 131a and the second resin 231a injected from the outer gate also collide and flow in the horizontal direction (the first air vent 170 and the second air vent 270 side) in the same manner.

このように、第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入された第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、キャビティ153の中央部から横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に向かって注入され、当該キャビティに収容された配線基板120上に搭載された半導体素子110を被覆する。   As described above, the first resin 131a and the second resin 231a injected from both the first gate 140 and the second gate 240 are laterally (from the central portion of the cavity 153 (first air vent 170 and The semiconductor element 110 is injected toward the second air vent 270 side) and covers the semiconductor element 110 mounted on the wiring substrate 120 accommodated in the cavity.

かかる第3の実施の形態の変形例として、封止用成形金型の第1の充填部及び第2の充填部における樹脂に対する加圧タイミング及び/あるいは加圧力を異ならしめることができる。   As a modification of the third embodiment, the pressurization timing and / or the applied pressure to the resin in the first filling portion and the second filling portion of the sealing mold can be made different.

<変形例3−1>
ここでは、第1の充填部160及び第2の充填部260の配置された位置により、樹脂への加圧タイミングを異ならせる。
<Modification 3-1>
Here, the timing of pressurizing the resin is varied depending on the positions where the first filling unit 160 and the second filling unit 260 are arranged.

封止装置600における成形金型150においては、第1のプランジャ162−1〜162−5、ならびに第2のプランジャ262−1〜262−5における加圧圧力を全て等しくする。   In the molding die 150 in the sealing device 600, the pressurizing pressures in the first plungers 162-1 to 162-5 and the second plungers 262-1 to 262-5 are all made equal.

一方、当該第1のプランジャ162及び第2のプランジャ262の加圧を開始する加圧タイミングを、中央部に位置するプランジャ162−3,262−3と、縁部に位置するプランジャ162−1,162−5、262−1,262−5と異ならしめ、中央部に位置するプランジャ162−3,262−3における加圧を早めるよう制御する。   On the other hand, the pressurization timings for starting pressurization of the first plunger 162 and the second plunger 262 are set to the plungers 162-3 and 262-3 located at the center and the plungers 162-1 and 162-1 located at the edges. Different from 162-5, 262-1, 262-5, control is performed so as to accelerate the pressurization of the plungers 162-3, 262-3 located in the center.

即ち、5個の第1のプランジャ162のうち、まずその中央に位置するプランジャ162−3、また5個の第1のプランジャ262のうち、その中央に位置するプランジャ262−3において加圧を開始し、次いでその両隣に位置するプランジャ(162−2,162−4、262−2,262−4)において加圧を開始し、更にその後両端に位置するプランジャ(162−1,162−5、262−1,262−5)において加圧を開始する。   That is, of the five first plungers 162, pressurization is first started at the plunger 162-3 located at the center thereof, and among the five first plungers 262, the plunger 262-3 located at the center thereof is started. Then, pressurization is started at the plungers (162-2, 162-4, 262-2, 262-4) located on both sides thereof, and then the plungers (162-1, 162-5, 262) located at both ends thereafter. Pressurization is started at -1,262-5).

このような樹脂注入方法によっても、図21に示される如く、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aが第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入され、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、キャビティ153内において、まずその中央部において衝突し、一体となりつつ中央部から側端部に向かい流動を開始する。   Also by such a resin injection method, as shown in FIG. 21, the first resin 131a and the second resin 231a are injected from both the first gate 140 and the second gate 240, and the first resin 131a. In the cavity 153, the second resin 231a first collides with the central portion thereof, and starts flowing from the central portion toward the side end portion while being integrated.

そして当該樹脂は、横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流れ、キャビティ153内は当該封止用樹脂130によって充填される。
<変形例3−2>
ここでは、第1の充填部160及び第2の充填部260の配置位置によって注入のための加圧力、ならびに加圧タイミングを異ならしめる。
The resin flows in the lateral direction (the first air vent 170 and the second air vent 270 side), and the inside of the cavity 153 is filled with the sealing resin 130.
<Modification 3-2>
Here, the pressure for injection and the pressurizing timing are made different depending on the arrangement positions of the first filling unit 160 and the second filling unit 260.

封止装置600における成形金型150においては、第1のプランジャ162−1〜162−5、ならびに第2のプランジャ262−1〜262−5の加圧圧力をその配置位置に対応して異ならしめると共に、当該第1のプランジャ162−1〜162−5及び第2のプランジャ262−1〜262−5に対する加圧開始タイミングを、中央部に位置するプランジャ162−3,262−3と、縁部に位置するプランジャ162−1,162−5、262−1,262−5と異ならしめ、中央部に位置するプランジャ162−3,262−3における加圧を早めるよう制御する。   In the molding die 150 in the sealing device 600, the pressurizing pressures of the first plungers 162-1 to 162-5 and the second plungers 262-1 to 262-5 are made different according to the arrangement positions. In addition, the pressurization start timing for the first plungers 162-1 to 162-5 and the second plungers 262-1 to 262-5 is changed to the plungers 162-3 and 262-3 located at the center portion and the edge portion. The plungers 162-1, 162-5, 262-1, and 262-5 located at the center are controlled so as to accelerate the pressurization of the plungers 162-3 and 262-3 located at the center.

即ち、第1のプランジャ162のうち、まずその中央に位置するプランジャ162−3、また第2のプランジャ262のうち、その中央に位置するプランジャ262−3において第1の圧力をもって加圧を開始し、次いでその両隣に位置するプランジャ162−2,162−4、262−2,262−4)において前記第1の圧力の例えば90%の圧力をもって加圧を開始する。   That is, pressurization is started with the first pressure at the plunger 162-3 located at the center of the first plunger 162 and at the plunger 262-3 located at the center of the second plunger 262. Then, pressurization is started at a pressure of, for example, 90% of the first pressure at the plungers 162-2, 162-4, 262-2, and 262-4) located on both sides thereof.

更にその後、両端に位置するプランジャ(162−1,162−5、262−1,262−5)において、前記第1の圧力の例えば75%の圧力をもって加圧を開始する。
このような樹脂注入方法によっても、前記図21に示される如く、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aが第1のゲート140及び第2のゲート240の双方から注入されると、第1の樹脂131a及び第2の樹脂231aは、キャビティ153内において、まずその中央部において衝突し、一体となりつつ中央部から側端部に向かい流動を開始する。
After that, pressurization is started with a pressure of, for example, 75% of the first pressure in the plungers (162-1, 162-5, 262-1, 262-5) located at both ends.
Also in such a resin injection method, as shown in FIG. 21, when the first resin 131a and the second resin 231a are injected from both the first gate 140 and the second gate 240, the first resin 131a and the second resin 231a are injected. In the cavity 153, the resin 131a and the second resin 231a first collide at the central portion thereof, and start to flow from the central portion toward the side end portion while being integrated.

そして当該樹脂は、横方向(第1のエアーベント170及び第2のエアーベント270側)に流れ、キャビティ153内は当該封止用樹脂130によって充填される。
なお、当該第3の実施の形態においても、第1のゲート140及び第2のゲート240の幅、配列間隔、配列間隔と高さ、幅と高さ、または幅、配列間隔及び高さを変えることを実施してもよい。
The resin flows in the lateral direction (the first air vent 170 and the second air vent 270 side), and the inside of the cavity 153 is filled with the sealing resin 130.
Also in the third embodiment, the width, arrangement interval, arrangement interval and height, width and height, or width, arrangement interval and height of the first gate 140 and the second gate 240 are changed. You may do that.

本発明の第1の実施の形態における、封止装置の構成を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the 1st Embodiment of this invention. 前記第1の実施の形態における、封止装置の構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the said 1st Embodiment. 前記第1の実施の形態における、半導体素子の封止工程を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the sealing process of the semiconductor element in the said 1st Embodiment. 前記第1の実施の形態における、半導体素子の封止工程を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the sealing process of the semiconductor element in the said 1st Embodiment. 前記第1の実施の形態において、封止装置内における半導体素子の封止形態を示す透視的平面模式図である。In the said 1st Embodiment, it is a perspective plane schematic diagram which shows the sealing form of the semiconductor element in a sealing device. 前記第1の実施の形態において、封止装置内における半導体素子の封止形態を示す断面模式図である。In the said 1st Embodiment, it is a cross-sectional schematic diagram which shows the sealing form of the semiconductor element in a sealing device. 前記第1の実施の形態における、配線基板上の半導体素子の形態を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the form of the semiconductor element on a wiring board in the said 1st Embodiment. 前記第1の実施の形態における、配線基板上の半導体素子の要部平面拡大模式図である。FIG. 3 is an enlarged schematic plan view of a main part of a semiconductor element on a wiring board in the first embodiment. 前記第1の実施の形態における、個片化された半導体装置の断面模式図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a separated semiconductor device in the first embodiment. 前記第1の実施の形態における、個片化された半導体装置の拡大断面模式図である。FIG. 4 is an enlarged schematic cross-sectional view of an individualized semiconductor device in the first embodiment. 前記第1の実施の形態の変形例1−1における、封止装置の構成を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the modification 1-1 of the said 1st Embodiment. 前記第1の実施の形態の変形例1−2における、封止装置の構成を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the modification 1-2 of the said 1st Embodiment. 前記第1の実施の形態の変形例1−2における、封止装置の構成を示す要部断面模式図である。It is a principal part cross-section schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the modification 1-2 of the said 1st Embodiment. 本発明の第2の実施の形態における、配線基板の構成を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the structure of the wiring board in the 2nd Embodiment of this invention. 前記第2の実施の形態における、封止装置の構成を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the said 2nd Embodiment. 前記第2の実施の形態における、封止装置の構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the said 2nd Embodiment. 前記第2の実施の形態の変形例2−1における、封止装置の構成を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the modification 2-1 of the said 2nd Embodiment. 前記第2の実施の形態の変形例2−2における、封止装置の構成を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the modification 2-2 of the said 2nd Embodiment. 本発明の第3の実施の形態における、封止装置の構成を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the structure of the sealing device in the 3rd Embodiment of this invention. 前記第3の実施の形態における、封止装置の充填部の構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the filling part of the sealing device in the said 3rd Embodiment. 前記第3の実施の形態における、封止装置内における半導体素子の封止形態を示す透視的平面模式図である。It is a perspective plane schematic diagram which shows the sealing form of the semiconductor element in the sealing device in the said 3rd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

100 樹脂封止装置
110 半導体素子
120 配線基板
140 第1のゲート
141 第1のランナ部
150 成形金型
153 キャビティ
160 第1の充填部
161 第1のカル部
163 第1のポット
170 第1のエアーベント
240 第2のゲート
241 第2のランナ部
260 第2の充填部
261 第2のカル部
263 第2のポット
270 第2のエアーベント
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Resin sealing apparatus 110 Semiconductor element 120 Wiring board 140 1st gate 141 1st runner part 150 Molding die 153 Cavity 160 1st filling part 161 1st cull part 163 1st pot 170 1st air Vent 240 Second gate 241 Second runner portion 260 Second filling portion 261 Second cull portion 263 Second pot 270 Second air vent

Claims (8)

被処理基板上に搭載された複数個の半導体素子を、樹脂により一括して封止する樹脂封止方法において、
複数個の半導体素子が搭載された被処理基板を、成形金型のキャビティに配置する工程と、
前記キャビティ内に、第1の樹脂注入部から第1の樹脂を注入すると共に、前記キャビティを挟み前記第1の樹脂注入部に対向して配置された第2の樹脂注入部から第2の樹脂を注入して、前記キャビティの中央部において前記第1の樹脂と前記第2の樹脂を衝突させ、当該樹脂を前記キャビティの周縁部に流動させる工程と、
を具備することを特徴とする樹脂封止方法。
In a resin sealing method in which a plurality of semiconductor elements mounted on a substrate to be processed are collectively sealed with a resin,
Arranging a substrate to be processed on which a plurality of semiconductor elements are mounted in a cavity of a molding die;
A first resin is injected from the first resin injection portion into the cavity, and a second resin is injected from the second resin injection portion disposed opposite the first resin injection portion with the cavity interposed therebetween. Injecting the first resin and the second resin at the center of the cavity, and flowing the resin to the peripheral edge of the cavity;
A resin sealing method comprising:
前記樹脂がフィラーを含有していることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止方法。   The resin sealing method according to claim 1, wherein the resin contains a filler. 複数の前記第1,前記第2の樹脂注入部がそれぞれ配列され、
前記第1,前記第2の樹脂をそれぞれ保持し、前記第1,前記第2の樹脂注入部にそれぞれ連通して配置された第1,第2の樹脂保持部から、前記第1,前記第2の樹脂を、複数の前記第1,前記第2の樹脂注入部を介して、前記キャビティ内に注入することを特徴とする請求項1記載の樹脂封止方法。
A plurality of the first and second resin injection portions are arranged,
From the first and second resin holding portions that respectively hold the first and second resins and are arranged in communication with the first and second resin injection portions, respectively. 2. The resin sealing method according to claim 1, wherein two resins are injected into the cavity through the plurality of first and second resin injection portions.
前記第1,前記第2の樹脂注入部の配置間隔を前記配列の中央部から端部に向かうに連れて漸次段階的に狭くすることを特徴とする請求項3記載の樹脂封止方法。   4. The resin sealing method according to claim 3, wherein an arrangement interval of the first and second resin injection portions is gradually reduced in a stepwise manner from a central portion to an end portion of the array. 前記第1,前記第2の樹脂注入部の前記キャビティ内への注入面積を前記配列の中央部から端部に向かうに連れて漸次段階的に小さくすることを特徴とする請求項3記載の樹脂封止方法。   4. The resin according to claim 3, wherein an injection area of the first and second resin injection portions into the cavity is gradually reduced from a center portion to an end portion of the array. Sealing method. 複数の前記第1,前記第2の樹脂注入部に連通された前記第1,前記第2の樹脂保持部が複数配置され、
複数の前記第1,前記第2の樹脂保持部からの、前記第1,前記第2の樹脂注入部を介した前記キャビティ内への前記第1,前記第2の樹脂の注入時期を前記配列の中央部から端部に向かうに連れて漸次段階的に遅くすることを特徴とする請求項3記載の樹脂封止方法。
A plurality of the first and second resin holding portions communicated with the plurality of first and second resin injection portions;
The arrangement timing of injection of the first and second resins from the plurality of first and second resin holding portions into the cavity through the first and second resin injection portions The resin sealing method according to claim 3, wherein the resin sealing method gradually slows stepwise from the center to the end.
複数の前記第1,前記第2の樹脂注入部に連通された前記第1,前記第2の樹脂保持部が複数配置され、
複数の前記第1,前記第2の樹脂保持部からの、前記第1,前記第2の樹脂注入部を介した前記キャビティ内への前記第1,前記第2の樹脂の注入圧力を前記配列の中央部から端部に向かうに連れて漸次段階的に小さくすることを特徴とする請求項3記載の樹脂封止方法。
A plurality of the first and second resin holding portions communicated with the plurality of first and second resin injection portions;
The injection pressures of the first and second resins from the plurality of first and second resin holding portions into the cavity through the first and second resin injection portions are arranged as described above. The resin sealing method according to claim 3, wherein the resin sealing method gradually decreases in a stepwise manner from the center to the end.
前記第1,前記第2の樹脂注入部にダミーキャビティを配置して、前記第1,前記第2の樹脂を、前記ダミーキャビティを通過させて前記第1,前記第2の樹脂注入部から前記キャビティ内に注入することを特徴とする請求項1記載の樹脂封止方法。   A dummy cavity is disposed in the first and second resin injection portions, and the first and second resins are passed through the dummy cavity from the first and second resin injection portions. The resin sealing method according to claim 1, wherein the resin sealing is performed in the cavity.
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