JP2010109367A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シールは、コンポーネントがテーブルに対してある位置にある場合に、コンポーネントとテーブルの間のギャップにまたがる。コンポーネントは、使用時にテーブルに対して動作可能であり、実施形態ではテーブルに取り付けられる。シールは、コンポーネント又はテーブルと一体とすることができる。
【選択図】図6
Description
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
1.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する(つまり単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分Cの(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分Cの(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (15)
- テーブル、
前記テーブルに取り付けられ、使用時にそれに対して動作可能なコンポーネント、
前記コンポーネントが前記テーブルに対してある位置にある場合に、前記コンポーネントと前記テーブルの間のギャップにまたがるシール、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記シールが、前記コンポーネントと一体、又は前記テーブルと一体である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントが、前記テーブルに対して少なくとも部分的に回転状態で動作可能である、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントが、前記テーブルに対して少なくとも部分的に変位状態で動作可能であり、したがって前記位置へ又は前記位置から移動する間に、前記シールと前記テーブルの間又は前記シールと前記コンポーネントの間の滑動が実質的に回避される、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントが、前記リソグラフィ装置の前記テーブルと第二テーブルの間のギャップにまたがるブリッジである、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 流体を前記コンポーネントの上面に提供する流体ハンドリング構造をさらに備える、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記シールが、低圧によって発生した力によって変形可能である、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ギャップ内に低圧を発生させて前記シールを変形させる低圧ジェネレータをさらに備え、望ましくは前記低圧ジェネレータの動作を制御する制御システムをさらに備える、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記シールが予備的に曲げられ、したがって前記コンポーネントが前記位置にある場合で、前記シールに力が加えられていない状態にて、前記シールが前記コンポーネント又は前記テーブルの密封面に接触しない、前記請求項のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- テーブル、
使用時に前記テーブルに対して動作可能なコンポーネントであって、該コンポーネントが前記テーブルに対してある位置にある場合に、該コンポーネントと前記テーブルの間のギャップにまたがる一体シールを備えるコンポーネント、
前記ギャップ内に低圧を生成する低圧源、
を備えるリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置内のテーブルとコンポーネントの間を密封する方法であって、該コンポーネントが該テーブルに取り付けられ、且つ使用時にそれに対して動作可能であり、
前記コンポーネントが前記テーブルに対してある位置にある場合に、シールが前記コンポーネントと前記テーブルの間の前記ギャップにまたがるように、前記コンポーネントと前記テーブルの間に前記シールを配置することを含む方法。 - 前記シールの自由端を密封表面に配置し、それによって前記シールで前記ギャップを密封することをさらに含む、請求項11に記載の方法。
- 液体閉じ込め構造が前記ギャップ上に配置されている場合に、前記ギャップ内に低圧を生成することをさらに含む、請求項11又は12に記載の方法。
- リソグラフィ装置内で使用するために、基板交換中に2つのテーブル間のギャップにまたがるブリッジ体であって、該ブリッジ体と該テーブルのうち1つの間のギャップにまたがるシールを含むブリッジ体。
- 流体閉じ込め構造の底部に着脱自在に取り付け可能であるシャッタ部材であって、該シャッタ部材が基板テーブル上に配置された場合に、それぞれが該シャッタ部材と該基板テーブルの間のギャップを密封する第一及び第二シールを備え、該第一及び第二シールが該シャッタ部材の対向する表面の縁部の周囲にある、シャッタ部材。
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