JP2010098136A - フォトニック結晶面発光レーザ素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】面発光レーザ1は、活性層13と、活性層13を挟むように配置されたn−クラッド層12およびp−クラッド層14と、p−クラッド層14の表面上に形成され、活性層13と独立したフォトニック結晶層15と、フォトニック結晶層15と接触するように形成されたp型表面電極16とを備えている。
【選択図】図1
Description
まず、本発明の一実施の形態である実施の形態1について説明する。図1は、実施の形態1におけるフォトニック結晶面発光レーザ素子である面発光レーザの構成を示す概略断面図である。また、図2は、図1の面発光レーザに含まれるフォトニック結晶層の構成の一部を示す概略斜視図である。また、図3は、図1の面発光レーザが備えるp型表面電極の構成を示す概略平面図である。
次に、本発明の他の実施の形態である実施の形態2について説明する。図13は、実施の形態2におけるフォトニック結晶面発光レーザ素子である面発光レーザの構成を示す概略断面図である。また、図14は、図13の面発光レーザに含まれるフォトニック結晶層の構成の一部を示す概略斜視図である。
次に、本発明のさらに他の実施の形態である実施の形態3について説明する。図17は、実施の形態3におけるフォトニック結晶面発光レーザ素子である面発光レーザの構成を示す概略断面図である。また、図18は、図17の面発光レーザにおけるn型裏面電極側の構成を示す概略平面図である。また、図19は、図17の面発光レーザにおけるp型表面電極側の構成を示す概略平面図である。
次に、本発明のさらに他の実施の形態である実施の形態4について説明する。図25は、実施の形態4におけるフォトニック結晶面発光レーザ素子である面発光レーザの構成を示す概略断面図である。
次に、本発明のさらに他の実施の形態である実施の形態5について説明する。図29は、実施の形態5におけるフォトニック結晶面発光レーザ素子である面発光レーザの構成を示す概略断面図である。
Claims (9)
- 活性層と、
前記活性層を挟むように配置された半導体層と、
前記半導体層の表面上に形成され、前記活性層と独立した2次元回折格子と、
前記2次元回折格子と接触するように形成された電極とを備える、フォトニック結晶面発光レーザ素子。 - 前記活性層から出射される光の波長が1.5μm以上8μm以下の範囲内となっている、請求項1に記載のフォトニック結晶面発光レーザ素子。
- 前記2次元回折格子は、低屈折率部分と、前記低屈折率部分の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率部分とを有し、
前記高屈折率部分は半導体からなり、
前記低屈折率部分は、前記高屈折率部分に形成された孔である、請求項1または2に記載のフォトニック結晶面発光レーザ素子。 - 前記2次元回折格子は、低屈折率部分と、前記低屈折率部分の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率部分とを有し、
前記高屈折率部分は半導体からなり、
前記低屈折率部分は、前記高屈折率部分に形成された孔の内部に配置される誘電体を含む、請求項1または2に記載のフォトニック結晶面発光レーザ素子。 - 前記2次元回折格子は、低屈折率部分と、前記低屈折率部分の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率部分とを有し、
前記高屈折率部分は金属からなり、
前記低屈折率部分は半導体からなる、請求項1または2に記載のフォトニック結晶面発光レーザ素子。 - 活性層を形成する工程と、
前記活性層上に半導体層を形成する工程と、
前記半導体層上に、前記活性層と独立した2次元回折格子を形成する工程と、
前記2次元回折格子に接触するように電極を形成する工程とを備える、フォトニック結晶面発光レーザ素子の製造方法。 - 前記2次元回折格子を形成する工程は、
前記半導体層上に、前記2次元回折格子を構成するベース層を形成する工程と、
前記ベース層に凹部を形成する工程とを含み、
前記電極を形成する工程は、
前記ベース層上に前記電極の一部を構成する導電体層を形成する工程と、
前記導電体層上に、前記電極を構成する他の導電体層を形成する工程とを含み、
前記凹部を形成する工程では、前記導電体層および前記ベース層がエッチングにより部分的に除去されることによって前記凹部が形成され、
前記他の導電体層を形成する工程では、めっき法を用いて前記他の導電体層を横方向に成長させることによって、前記ベース層における前記凹部の上部を前記他の導電体により閉じる、請求項6に記載のフォトニック結晶面発光レーザ素子の製造方法。 - 前記2次元回折格子を形成する工程は、
前記半導体層上に、前記2次元回折格子を構成するベース層を形成する工程と、
前記ベース層に凹部を形成する工程と、
前記凹部の内部を充填する誘電体層を形成する工程とを含み、
前記電極を形成する工程は、
前記ベース層上に前記電極の一部を構成する導電体層を形成する工程と、
前記導電体層上に、前記電極を構成する他の導電体層を形成する工程とを含み、
前記凹部を形成する工程では、前記導電体層および前記ベース層がエッチングにより部分的に除去されることによって前記凹部が形成され、
前記他の導電体層を形成する工程では、めっき法を用いて前記他の導電体層を横方向に成長させることによって、前記誘電体層が形成された前記ベース層における前記凹部の上部を前記他の導電体により閉じる、請求項6に記載のフォトニック結晶面発光レーザ素子の製造方法。 - 前記2次元回折格子を形成する工程は、
前記半導体層上に、前記2次元回折格子を構成するベース層を形成する工程と、
前記ベース層に凹部を形成する工程とを含み、
前記電極を形成する工程では、前記凹部の内部から前記ベース層の上部表面上にまで延在するように前記電極が形成される、請求項6に記載のフォトニック結晶面発光レーザ素子の製造方法。
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