JP2010097025A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】従来の電気光学装置では、表示品位を向上させることが困難である。
【解決手段】四角領域４３ごとに設けられた画素７と、対角線５１ａに沿って延在する光学素子と、Ｘ方向に隣り合う画素７間に（１−ｋ）／ｎの幅で設けられた第１遮光領域と、Ｙ方向に隣り合う画素７間に１−ｋの幅で設けられた第２遮光領域と、四角領域４３ごとに設けられた第３遮光領域４８ａ，４８ｂとを有し、四角領域４３は、Ｙ方向にｋの距離を隔ててＸ方向にｋ／ｎの長さで延びた第１辺４４ａ、４４ｂと、第１辺４４ａ、４４ｂの間を結ぶ第２辺４５ａ、４５ｂとを有し、第３遮光領域４８ａ，４８ｂは、端点５３ａ，５３ｂと、端点５３ａ，５３ｂからＸ方向に（１−ｋ）／ｎの距離だけ内側に位置する第１点５５ａ、５５ｂと、端点５３ａ，５３ｂからＹ方向に１−ｋの距離だけ内側に位置する第２点５７ａ、５７ｂと、を結んだ領域である、ことを特徴とする電気光学装置。
【選択図】図６

Description

本発明は、電気光学装置及び電子機器に関する。

従来、電気光学装置の１つとして、複数の方向から見たときに、それぞれの視方向ごとに異なる画像を表示（以下、指向性表示と呼ぶ）することができる表示装置が知られている。
指向性表示を行うことができる表示装置としては、複数のシリンドリカルレンズが配列したレンチキュラレンズを有するものがある。レンチキュラレンズでは、シリンドリカルレンズによって、各画像の視方向が規定され得る。
レンチキュラレンズが採用されている表示装置では、従来から、シリンドリカルレンズの延在方向に沿った主軸を、マトリクス状に配置された複数の画素の配列方向から傾斜させた構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特許第３９４０４５６号公報

上記特許文献１に記載された構成では、ある視点から観察される画素は、図２６に示すように、複数の画素６０１のうちで、シリンドリカルレンズ６０３の主軸６０３ａに平行な線６０５と交差する画素６０１となる。
ところで、この表示装置では、隣り合う画素６０１間に、黒いマスク材料６０７が設けられている。線６０５に対応する視点で観察される画素６０１を、Ａ行からＤ行に向かって線６０５に沿って追跡していくと、Ａ行とＢ行との間、Ｂ行とＣ行との間、及びＣ行とＤ行との間にマスク材料６０７が介在している。

線６０５において、Ａ行の画素６０１からＢ行の画素６０１に至るまでの距離と、Ｂ行の画素６０１からＣ行の画素６０１に至るまでの距離とは、互いに異なる長さになっている。つまり、線６０５に対応する視点では、マスク材料６０７が設けられている輝度の低い領域が不均一になっている。このことは、表示におけるモアレの発生要因の１つとなる。

つまり、指向性表示における視方向を規定する光学素子が画素の配列に対して傾斜した構成では、表示品位を向上させることが困難であるという課題がある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。

［適用例１］第１方向に１／ｎ（ｎは、正の実数）の間隔で配列し、且つ前記第１方向とは直交する第２方向に１の間隔で配列する複数の画素と、前記画素から射出される光の進行方向を規定する光学素子と、を有し、前記画素は、四角形で規定される四角領域によって、有効領域が規定されており、前記四角領域は、互いに前記第２方向にｋ（ｋは、１未満の実数）の距離を隔てて前記第１方向にｋ／ｎの長さで延びた２本の第１辺と、前記２本の第１辺の間を結ぶ２本の第２辺と、によって規定され、前記光学素子は、前記四角領域の対角線に沿って延在しており、前記第１方向に隣り合う前記画素間に、第１遮光領域が設けられており、前記第２方向に隣り合う前記画素間に、第２遮光領域が設けられており、前記四角領域ごとに、前記対角線の端点を覆う第３遮光領域が設けられており、前記第１遮光領域は、前記第１方向に（１−ｋ）／ｎの幅を有しており、前記第２遮光領域は、前記第２方向に１−ｋの幅を有しており、前記第３遮光領域は、前記端点と、前記端点から前記第１辺に沿って（１−ｋ）／ｎの距離だけ内側の点と、前記第２辺上に位置し、前記第１辺から前記第２方向に１−ｋの距離を隔てた点と、を結んだ領域である、ことを特徴とする電気光学装置。

この適用例の電気光学装置は、複数の画素と、光学素子と、を有している。複数の画素は、第１方向に１／ｎの間隔で配列し、且つ第１方向とは直交する第２方向に１の間隔で配列している。なお、ｎは、正の実数である。光学素子は、画素から射出される光の進行方向を規定する。この適用例では、画素から射出される光の進行方向を光学素子で規定することができるので、画素が視認される視方向を規定することができる。このため、指向性表示を行うことができる。
この適用例では、画素は、四角領域によって有効領域が規定されている。四角領域は、２本の第１辺と２本の第２辺とを有する四角形によって規定される領域である。２本の第１辺は、互いに第２方向にｋの距離を隔てて第１方向にｋ／ｎの長さで延びている。２本の第２辺は、２本の第１辺の間を結んでいる。
光学素子は、四角領域の対角線に沿って延在している。

この適用例では、第１方向に隣り合う画素間に、第１遮光領域が設けられている。第２方向に隣り合う画素間に、第２遮光領域が設けられている。四角領域ごとに、対角線の端点を覆う第３遮光領域が設けられている。
第１遮光領域は、第１方向に（１−ｋ）／ｎの幅を有している。第２遮光領域は、第２方向に１−ｋの幅を有している。第３遮光領域は、端点と、端点から第１辺に沿って（１−ｋ）／ｎの距離だけ内側の点と、第２辺上に位置し、第１辺から第２方向に１−ｋの距離を隔てた点と、を結んだ領域である。
ここで、第１方向に隣り合う２つの画素と、これらの２つの画素に対して光学素子の延在方向に隣り合う２つの画素との４つの画素に着目する。上記の構成によれば、これらの４つの画素間と、光学素子の延在方向に平行な線とが交差する長さは、４つの画素間で略同等になる。
この結果、複数の視点間で、輝度の低い領域を均一にしやすくすることができる。これにより、表示品位を向上させやすくすることができる。

［適用例２］上記の電気光学装置であって、前記四角領域を規定する前記四角形は、矩形であることを特徴とする電気光学装置。

この適用例では、四角領域を規定する四角形が矩形であるので、矩形の四角領域ごとに画素を設定することができる。

［適用例３］上記の電気光学装置であって、前記四角領域を規定する前記四角形は、平行四辺形であることを特徴とする電気光学装置。

この適用例では、四角領域を規定する四角形が平行四辺形であるので、画素の配列に対する光学素子の傾斜の設定における自由度を高めやすくすることができる。

［適用例４］上記の電気光学装置であって、前記光学素子は、シリンドリカルレンズを有していることを特徴とする電気光学装置。

この適用例では、光学素子がシリンドリカルレンズを有しているので、画素からの光を屈折させることによって、画素からの光の進行方向を規定することができる。

［適用例５］上記の電気光学装置であって、印加される電圧の変化によって、前記画素からの前記光の射出と前記光の遮断とを切り替える電気光学物質と、前記画素ごとに設けられ、前記電圧を保持する容量素子と、前記容量素子ごとに設けられ、前記電圧が印加される容量電極と、を有し、前記第３遮光領域は、前記容量電極によって遮光されていることを特徴とする電気光学装置。

この適用例の電気光学装置は、電気光学物質と、容量素子と、容量電極と、を有している。電気光学物質は、印加される電圧の変化によって、画素からの光の射出と光の遮断とを切り替える。容量素子は、画素ごとに設けられており、電圧を保持する。容量電極は、容量素子ごとに設けられており、電圧が印加される。
この適用例では、第３遮光領域が容量電極によって遮光されている。このため、容量電極に、容量素子の構成要素と、第３遮光領域を遮光する機能とを兼用させることができる。

［適用例６］上記の電気光学装置を表示部として有することを特徴とする電子機器。

この適用例の電子機器は、表示部としての電気光学装置が、複数の画素と、光学素子と、を有している。複数の画素は、第１方向に１／ｎの間隔で配列し、且つ第１方向とは直交する第２方向に１の間隔で配列している。なお、ｎは、正の実数である。光学素子は、画素から射出される光の進行方向を規定する。この電気光学装置では、画素から射出される光の進行方向を光学素子で規定することができるので、画素が視認される視方向を規定することができる。このため、指向性表示を行うことができる。
この電気光学装置では、画素は、四角領域によって有効領域が規定されている。四角領域は、２本の第１辺と２本の第２辺とを有する四角形によって規定される領域である。２本の第１辺は、互いに第２方向にｋの距離を隔てて第１方向にｋ／ｎの長さで延びている。２本の第２辺は、２本の第１辺の間を結んでいる。
光学素子は、四角領域の対角線に沿って延在している。

この電気光学装置では、第１方向に隣り合う画素間に、第１遮光領域が設けられている。第２方向に隣り合う画素間に、第２遮光領域が設けられている。四角領域ごとに、対角線の端点を覆う第３遮光領域が設けられている。
第１遮光領域は、第１方向に（１−ｋ）／ｎの幅を有している。第２遮光領域は、第２方向に１−ｋの幅を有している。第３遮光領域は、端点と、端点から第１辺に沿って（１−ｋ）／ｎの距離だけ内側の点と、第２辺上に位置し、第１辺から第２方向に１−ｋの距離を隔てた点と、を結んだ領域である。
ここで、第１方向に隣り合う２つの画素と、これらの２つの画素に対して光学素子の延在方向に隣り合う２つの画素との４つの画素に着目する。上記の構成によれば、これらの４つの画素間と、光学素子の延在方向に平行な線とが交差する長さは、４つの画素間で略同等になる。
この結果、複数の視点間で、輝度の低い領域を均一にしやすくすることができる。これにより、表示品位を向上させやすくすることができる。
この適用例では、表示品位を向上させやすい電気光学装置が表示部として適用されているので、表示部における表示品位を向上させやすくすることができる。

実施形態について、電気光学装置の１つである液晶装置を利用した表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
第１実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示パネル３と、照明装置４と、レンズアレイ基板５と、を有している。

表示パネル３には、複数の画素７が設定されている。複数の画素７は、表示領域８内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。なお、Ｘ方向及びＹ方向は、平面視で互いに直交する方向である。
表示装置１は、照明装置４から表示パネル３に入射された光を、表示パネル３に設定されている複数の画素７から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に画像を表示することができる。なお、表示領域８とは、画像が表示され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すため、画素７が誇張され、且つ画素７の個数が減じられている。

表示パネル３は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、液晶パネル１１と、偏光板１３ａと、偏光板１３ｂと、を有している。
液晶パネル１１は、素子基板１５と、対向基板１７と、液晶１９と、シール材２１と、を有している。
素子基板１５には、表示面９側すなわち液晶１９側に、複数の画素７のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。

対向基板１７は、素子基板１５よりも表示面９側で素子基板１５に対向し、且つ素子基板１５との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板１７には、液晶パネル１１における表示面９の裏面に相当する面である底面２７側すなわち液晶１９側に、後述する対向電極などが設けられている。

液晶１９は、素子基板１５及び対向基板１７の間に介在しており、表示パネル３の周縁よりも内側で表示領域８を囲むシール材２１によって、素子基板１５及び対向基板１７の間に封止されている。なお、本実施形態では、液晶１９として、ＴＮ（Twisted Nematic）型が採用されている。

偏光板１３ａは、素子基板１５よりも底面２７側に設けられている。偏光板１３ｂは、対向基板１７よりも表示面９側に設けられている。
本実施形態では、偏光板１３ａ及び偏光板１３ｂは、偏光板１３ａにおける光の透過軸の方向と、偏光板１３ｂにおける光の透過軸の方向とが、平面視で互いに直交する方向に設定されている。これらの偏光板１３ａ及び１３ｂは、それぞれ、透過軸の方向に偏光軸を有する光を透過させることができる。

照明装置４は、液晶パネル１１の底面２７側に設けられている。照明装置４は、導光板３１と、光源３３とを有している。
導光板３１は、液晶パネル１１よりも底面２７側で偏光板１３ａを挟んで素子基板１５に対向する位置に設けられている。導光板３１は、光射出面３５ａと、底面３５ｂと、側面３５ｃと、を有している。光射出面３５ａは、液晶パネル１１側に向けられている。底面３５ｂは、光射出面３５ａとは反対側の面である。
光源３３は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などが採用され、導光板３１の側面３５ｃに対向する位置に設けられている。

光源３３からの光は、導光板３１の側面３５ｃに入射される。導光板３１に入射された光は、導光板３１の中で反射しながら光射出面３５ａから射出される。光射出面３５ａから射出された光は、偏光板１３ａを介して液晶パネル１１に入射される。なお、導光板３１には、必要に応じて、光射出面３５ａに拡散板が設けられ、底面３５ｂに反射板が設けられる。

レンズアレイ基板５は、液晶パネル１１の表示面９側に設けられている。レンズアレイ基板５は、外向面５ａと、対向面５ｂと、複数のシリンドリカルレンズ６と、を有している。外向面５ａは、液晶パネル１１側とは反対側に向けられている。対向面５ｂは、液晶パネル１１側に向けられており、偏光板１３ｂを挟んで対向基板１７に対向している。複数のシリンドリカルレンズ６は、外向面５ａに設けられている。シリンドリカルレンズ６は、液晶パネル１１側とは反対側に向かって凸となる凸レンズを構成している。
なお、図２では、構成をわかりやすく示すため、シリンドリカルレンズ６が誇張され、且つシリンドリカルレンズ６の個数が減じられている。

なお、偏光板１３ｂの表示面９側や、偏光板１３ｂと対向基板１７との間に、光学補償フィルムを設けた構成も採用され得る。光学補償フィルムを設けることで、液晶１９を表示面９の法線方向から見たときや、法線方向から傾斜した方向から見たときなどの液晶１９の位相差を補償することができる。これにより、光漏れを低減することができ、コントラストの向上が図られる。

光学補償フィルムとしては、屈折率異方性が負のディスコティック液晶分子等をハイブリッド配向させた負の一軸性媒体（例えば、富士フィルム製のＷＶフィルム）などが採用され得る。また、屈折率異方性が正のネマチック液晶分子等をハイブリッド配向させた正の一軸性媒体（例えば、日本石油製のＮＨフィルム）なども採用され得る。さらに、負の一軸性媒体と正の一軸性媒体とを組み合わせた構成も採用され得る。その他、各方向の屈折率がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとなる二軸性媒体や、負のＣ−Ｐｌａｔｅ等も採用され得る。

表示パネル３に設定されている複数の画素７は、それぞれ、表示面９から射出する光の色が、図３に示すように、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、Ｒの光を射出する画素７Ｒと、Ｇの光を射出する画素７Ｇと、Ｂの光を射出する画素７Ｂとを含んでいる。

ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑等を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。

マトリクスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７が、１つの画素列４１を構成している。また、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素７が、１つの画素行４２を構成している。１つの画素列４１内の各画素７は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素７ＲがＹ方向に配列した画素列４１Ｒと、複数の画素７ＧがＹ方向に配列した画素列４１Ｇと、複数の画素７ＢがＹ方向に配列した画素列４１Ｂとを有している。そして、マトリクスＭでは、画素列４１Ｒ、画素列４１Ｇ及び画素列４１Ｂが、この順でＸ方向に沿って反復して並んでいる。

さて、表示パネル３では、表示領域８は、複数の四角領域４３に仮想的に区画されている。画素７は、四角領域４３によって有効領域が規定されている。
複数の四角領域４３は、図３中のＤ部の拡大図である図４に示すように、Ｙ方向に１の間隔で並び、Ｘ方向に１／ｎの間隔で並んでいる。ｎは、正の実数である。このため、複数の画素７は、Ｙ方向に１の間隔で並び、Ｘ方向に１／ｎの間隔で並んでいる。
本実施形態では、各四角領域４３は、Ｘ方向にｋ／ｎの長さで延在する第１辺４４ａ及び第１辺４４ｂと、Ｙ方向にｋの長さで延在する第２辺４５ａ及び第２辺４５ｂとによって規定される矩形の領域である。ｋは、正の実数である。

Ｘ方向に隣り合う四角領域４３間には、図５に示すように、第１遮光領域４６が設けられている。第１遮光領域４６は、Ｘ方向に、（１−ｋ）／ｎの幅寸法を有している。第１遮光領域４６は、Ｙ方向に沿って延在している。
Ｙ方向に隣り合う四角領域４３間には、第２遮光領域４７が設けられている。第２遮光領域４７は、Ｙ方向に、（１−ｋ）の幅寸法を有している。第２遮光領域４７は、Ｘ方向に沿って延在している。
第１遮光領域４６と第２遮光領域４７とは、互いに重畳する領域４９を含んでいる。

また、四角領域４３内には、第３遮光領域４８ａと、第３遮光領域４８ｂとが設けられている。第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂは、四角領域４３の対角部に設けられている。
本実施形態では、第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂは、図６に示すように、四角領域４３における対角線５１ａ及び対角線５１ｂのうちの対角線５１ａが延びる方向であるＶ方向において、互いに対峙する位置に設けられている。

第３遮光領域４８ａは、対角線５１ａの端点５３ａに重なっている。第３遮光領域４８ｂは、対角線５１ａの端点５３ｂに重なっている。
端点５３ａは、第１辺４４ａと第２辺４５ａとの交点である。端点５３ｂは、第１辺４４ｂと第２辺４５ｂとの交点である。

第３遮光領域４８ａは、端点５３ａと、第１点５５ａと、第２点５７ａとを結んだ三角形によって規定される。
第３遮光領域４８ｂは、端点５３ｂと、第１点５５ｂと、第２点５７ｂとを結んだ三角形によって規定される。

第１点５５ａは、端点５３ａから第１辺４４ａに沿って（１−ｋ）／ｎの距離だけ内側の点である。同様に、第１点５５ｂは、端点５３ｂから第１辺４４ｂに沿って（１−ｋ）／ｎの距離だけ内側の点である。
第２点５７ａは、端点５３ａから第２辺４５ａに沿って（１−ｋ）の距離だけ内側の点である。同様に、第２点５７ｂは、端点５３ｂから第２辺４５ｂに沿って（１−ｋ）の距離だけ内側の点である。

本実施形態では、各画素７の有効領域は、第１辺４４ａと、第３遮光領域４８ａと、第２辺４５ａと、第１辺４４ｂと、第３遮光領域４８ｂと、第２辺４５ｂと、によって囲まれた領域であると定義され得る。
他の観点から、画素７の有効領域は、四角領域４３から第３遮光領域４８ａと第３遮光領域４８ｂとを除いた領域であるとも定義され得る。

ところで、表示装置１では、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、図７に示すように、複数の第１の画素７₁と、複数の第２の画素７₂とにわけられている。表示装置１は、照明装置４から表示パネル３に入射された光を、複数の第１の画素７₁から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に第１の画像を表示することができる。また、表示装置１は、照明装置４から表示パネル３に入射された光を、複数の第２の画素７₂から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に第２の画像を表示することができる。

なお、第１の画像と第２の画像とは、互いに異なる画像であることと、互いに同じ画像であることとが問われない。また、以下においては、画素７という表記と、画素７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂという表記と、第１の画素７₁及び第２の画素７₂という表記とが、適宜、使いわけられる。また、第１の画素７₁及び第２の画素７₂のそれぞれに対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合、第１の画素７Ｒ₁、７Ｇ₁及び７Ｂ₁、並びに、第２の画素７Ｒ₂、７Ｇ₂及び７Ｂ₂という表記が用いられる。

マトリクスＭにおいて、複数の第１の画素７₁は、Ｖ方向に沿って並んでいる。また、複数の第２の画素７₂も、Ｖ方向に沿って並んでいる。Ｖ方向に沿って並ぶ複数の第１の画素７₁は、１つの画素配列６１₁を構成している。同様に、Ｖ方向に沿って並ぶ複数の第２の画素７₂は、１つの画素配列６１₂を構成している。

表示装置１では、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、Ｘ方向に隣り合う第１の画素７₁及び第２の画素７₂の２つの画素７ごとに、これらの２つの画素７を１組とする複数組の画素群６３にわけられている。各画素群６３での第１の画素７₁及び第２の画素７₂の並び順は、複数組の画素群６３間で統一している。本実施形態では、第１の画素７₁と第２の画素７₂とが、図７で見て、Ｘ方向に左側から右側に向かってこの順で並んでいる。なお、第１の画素７₁及び第２の画素７₂の並び順は、複数組の画素群６３間で統一していれば、いずれが左側でも右側でもよい。

マトリクスＭにおいて、複数組の画素群６３は、図８に示すように、Ｘ方向及びＶ方向のそれぞれの方向に沿って並んでいる。別の観点から、複数組の画素群６３は、Ｙ方向に対してジグザグに並んでいるとみなされ得る。
なお、本実施形態では、Ｖ方向に沿って並ぶ複数組の画素群６３は、１つの画素群配列６５を構成している。

レンズアレイ基板５において、シリンドリカルレンズ６は、図９に示すように、Ｖ方向に沿って延在している。本実施形態では、シリンドリカルレンズ６は、シリンドリカルレンズ６の主軸（中心線）６７がＶ方向に沿った状態で設けられている。
なお、レンズアレイ基板５としては、画素群６３ごとにシリンドリカルレンズ６を個別に設けた構成も採用され得る。
前述したように、本実施形態では、複数組の画素群６３がＶ方向に並んでいる。Ｖ方向に並ぶ複数組の画素群６３が１つの画素群配列６５（図８）を構成している。このため、本実施形態では、シリンドリカルレンズ６は、Ｖ方向に延在する画素群配列６５に対応して設けられている。本実施形態では、シリンドリカルレンズ６は、画素群配列６５を構成する複数組の画素群６３にわたって一連した状態で設けられている。

ここで、液晶パネル１１の構成について、詳細を説明する。
素子基板１５は、図７中のＥ−Ｅ線における断面図である図１０に示すように、第１基板７１と、素子層７２と、を有している。
第１基板７１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた第１面７１ａと、底面２７側に向けられた第２面７１ｂとを有している。

素子層７２は、第１基板７１の第１面７１ａに設けられている。素子層７２には、ゲート絶縁膜７３と、絶縁膜７４と、配向膜７５と、が含まれている。
また、素子層７２には、図１１に示すように、画素７ごとに、容量素子７６と、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子７７と、画素電極７９と、が含まれている。
容量素子７６は、画素電極７９と容量線Ｃとの間に介在している。

ゲート絶縁膜７３は、図１０に示すように、第１基板７１の第１面７１ａに設けられている。絶縁膜７４は、ゲート絶縁膜７３の表示面９側に設けられている。画素電極７９は、絶縁膜７４の表示面９側に設けられている。配向膜７５は、絶縁膜７４の表示面９側に設けられている。
なお、ゲート絶縁膜７３の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの無機材料が採用され得る。本実施形態では、ゲート絶縁膜７３の材料として、酸化シリコンが採用されている。また、絶縁膜７４の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの無機材料の他に、アクリル系の樹脂やエポキシ系の樹脂などの光透過性を有する有機材料も採用され得る。本実施形態では、絶縁膜７４の材料として、アクリル系の樹脂が採用されている。

容量線Ｃは、第１基板７１の第１面７１ａに設けられており、ゲート絶縁膜７３によって表示面９側から覆われている。容量線Ｃの材料としては、例えば、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。
ＴＦＴ素子７７は、ゲート電極８１と、半導体層８２と、ソース電極８３と、ドレイン電極８４とを有している。
ゲート電極８１は、第１基板７１の第１面７１ａに設けられており、ゲート絶縁膜７３によって表示面９側から覆われている。
なお、ゲート電極８１と、容量線Ｃとは、Ｙ方向に隙間をあけた状態で並んでいる。

ゲート電極８１の材料としては、例えば、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。
また、ゲート絶縁膜７３の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
半導体層８２は、例えばアモルファスシリコンで構成されており、ゲート絶縁膜７３を挟んでゲート電極８１に対向する位置に設けられている。

ソース電極８３は、ゲート絶縁膜７３の表示面９側に設けられており、一部が半導体層８２に重なっている。ドレイン電極８４は、ゲート絶縁膜７３の表示面９側に設けられており、一部が半導体層８２に重なっている。なお、ソース電極８３やドレイン電極８４の材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。
上記の構成を有するＴＦＴ素子７７は、半導体層８２がゲート電極８１と、ソース電極８３及びドレイン電極８４との間に位置する所謂ボトムゲート型である。このＴＦＴ素子７７は、絶縁膜７４によって表示面９側から覆われている。

画素電極７９は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やインジウム亜鉛酸化物等の光透過性を有する材料や、マグネシウムと銀とを含む合金等を薄膜化して光透過性を付与したものなどで構成され得る。画素電極７９は、絶縁膜７４に設けられたコンタクトホール８５を介してドレイン電極８４につながっている。
配向膜７５は、絶縁膜７４及び画素電極７９の表示面９側に設けられている。絶縁膜７４及び画素電極７９は、配向膜７５によって表示面９側から覆われている。配向膜７５の材料としては、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料が採用され得る。本実施形態では、配向膜７５の材料として、ポリイミドが採用されている。配向膜７５には、表示面９側に配向処理が施されている。

対向基板１７は、第２基板９１と、対向層９２と、を有している。第２基板９１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた外向面９１ａと、底面２７側に向けられた対向面９１ｂとを有している。
対向層９２は、第２基板９１の対向面９１ｂに設けられている。対向層９２には、光吸収層９３と、カラーフィルタ９５と、オーバーコート層９６と、対向電極９７と、配向膜９８と、が含まれている。

光吸収層９３は、対向面９１ｂに設けられている。光吸収層９３は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有する樹脂などで構成され得る。光吸収層９３は、第１遮光領域４６及び第２遮光領域４７（図５）にわたって、平面視で格子状に設けられている。
カラーフィルタ９５は、図１０に示すように、対向面９１ｂに設けられている。カラーフィルタ９５は、対向面９１ｂにおいて、光吸収層９３によって囲まれた各領域内に設けられている。カラーフィルタ９５は、光吸収層９３によって囲まれる領域を底面２７側から覆っている。

ここで、カラーフィルタ９５は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルタ９５は、画素７Ｒ、画素７Ｇ及び画素７Ｂごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。画素７Ｒに対応するカラーフィルタ９５は、Ｒの光を透過させることができる。画素７Ｇに対応するカラーフィルタ９５はＧの光を透過させ、画素７Ｂに対応するカラーフィルタ９５はＢの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルタ９５に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラーフィルタ９５Ｒ、カラーフィルタ９５Ｇ、及びカラーフィルタ９５Ｂという表記が用いられる。

オーバーコート層９６は、光吸収層９３及びカラーフィルタ９５の底面２７側に設けられている。オーバーコート層９６は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、光吸収層９３及びカラーフィルタ９５を底面２７側から覆っている。
対向電極９７は、オーバーコート層９６の底面２７側に設けられている。対向電極９７は、例えばＩＴＯやインジウム亜鉛酸化物等の光透過性を有する材料や、マグネシウムと銀とを含む合金等を薄膜化して光透過性を付与したものなどで構成され得る。

対向電極９７は、マトリクスＭを構成する複数の画素７間にわたって一連した状態で設けられている。つまり、対向電極９７は、マトリクスＭを構成する複数の画素７に平面視で重なる領域に設けられており、複数の画素７間にわたって共通して機能する。
配向膜９８は、対向電極９７の底面２７側に設けられている。対向電極９７は、配向膜９８によって底面２７側から覆われている。配向膜９８の材料としては、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料が採用され得る。本実施形態では、配向膜９８の材料として、ポリイミドが採用されている。配向膜９８には、底面２７側に配向処理が施されている。

ここで、Ｙ方向に並ぶ複数のソース電極８３は、図１２に示すように、信号線Ｓを介して、画素列４１（図３）単位で相互に電気的につながっている。
また、Ｘ方向に並ぶ複数のゲート電極８１は、図１２に示すように、走査線Ｔを介して、画素行４２（図３）単位で相互に電気的につながっている。
複数の信号線Ｓは、それぞれＹ方向に延びており、Ｘ方向に並んでいる。Ｘ方向に隣り合う信号線Ｓ同士の間には、隙間が設けられている。
複数の走査線Ｔは、それぞれＸ方向に延びており、Ｙ方向に並んでいる。Ｙ方向に隣り合う走査線Ｔ同士の間には、隙間が設けられている。
本実施形態では、四角領域４３は、複数の信号線Ｓと、複数の走査線Ｔとの各交差に対応して設定されている。
なお、図１０における断面は、図１２中のＦ−Ｆ線における断面に相当している。

容量線Ｃは、図１３に示すように、Ｙ方向に隣り合う走査線Ｔ同士の間に設けられており、Ｘ方向に沿って延在している。本実施形態では、容量線Ｃは、走査線Ｔに対応して、すなわち画素行４２（図３）ごとに設けられている。
容量線Ｃには、四角領域４３ごとに、容量電極９９ａと、容量電極９９ｂとが設けられている。
この構成により、液晶パネル１１では、容量電極９９ａと画素電極７９との間、及び容量電極９９ｂと画素電極７９との間のそれぞれにおいて、図１１に示す容量素子７６が形成される。

容量電極９９ａは、第３遮光領域４８ａに重なる領域に設けられている。容量電極９９ｂは、第３遮光領域４８ｂに重なる領域に設けられている。本実施形態では、第３遮光領域４８ａは、容量電極９９ａによって遮光されている。また、第３遮光領域４８ｂは、容量電極９９ｂによって遮光されている。

画素電極７９は、図１４に示すように、四角領域４３ごとに設けられている。
本実施形態では、画素電極７９は、四角領域４３を覆う領域にわたって設けられており、周縁部が第１遮光領域４６及び第２遮光領域４７に重なっている。

さて、素子基板１５及び対向基板１７の間に介在する液晶１９は、図１０に示すように、配向膜７５と配向膜９８との間に介在している。表示装置１では、図２に示すシール材２１は、図１０に示す第１基板７１の第１面７１ａと、第２基板９１の対向面９１ｂとによって挟持されている。つまり、表示装置１では、液晶１９は、第１基板７１及び第２基板９１によって保持されている。なお、シール材２１は、配向膜７５及び配向膜９８の間に設けられていてもよい。この場合、液晶１９は、素子基板１５及び対向基板１７に保持されているとみなされ得る。

上記の構成を有する表示装置１では、照明装置４から表示パネル３に光を照射した状態で液晶１９の配向状態を画素７ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶１９の配向状態は、ＴＦＴ素子７７のＯＦＦ状態及びＯＮ状態を切り替えることによって変化し得る。

図１５（ａ）は、ＴＦＴ素子７７がＯＦＦ状態のときの表示パネル３における偏光状態を示す図であり、図１５（ｂ）は、ＴＦＴ素子７７がＯＮ状態のときの表示パネル３における偏光状態を示す図である。
表示装置１では、偏光板１３ａの透過軸の方向１０１ａは、図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に示すように、偏光板１３ｂの透過軸の方向１０１ｂに平面視で直交している。配向膜７５の配向方向１０３は、平面視で透過軸の方向１０１ｂに直交している。配向膜９８の配向方向１０４は、平面視で透過軸の方向１０１ｂに沿っている。
なお、図１５（ａ）及び図１５（ｂ）において、Ｘ'方向及びＹ'方向は、Ｘ'方向が平面視で偏光板１３ａの透過軸の方向１０１ａに沿った方向を示し、Ｙ'方向が平面視でＸ'方向と直交する方向を示している。Ｘ'方向及びＹ'方向は、ＸＹ平面内で互いに直交する任意の２方向である。

照明装置４から偏光板１３ａに入射された入射光は、偏光板１３ａの透過軸の方向１０１ａすなわちＸ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１０５として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された直線偏光１０５は、ＴＦＴ素子７７がＯＦＦ状態のときに、図１５（ａ）に示すように、液晶１９の旋光性によってＹ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１０６として偏光板１３ｂに向けて射出される。偏光板１３ｂに向けて射出された直線偏光１０６は、偏光軸の方向が偏光板１３ｂの透過軸の方向１０１ｂに沿っているため、偏光板１３ｂを透過する。

他方で、ＴＦＴ素子７７がＯＮ状態のときに、直線偏光１０５は、図１５（ｂ）に示すように、偏光状態が維持されたまま直線偏光１０５として偏光板１３ｂに向けて射出される。偏光板１３ｂに向けて射出された直線偏光１０５は、偏光軸の方向が偏光板１３ｂの透過軸の方向１０１ｂに対して直交しているため、偏光板１３ｂによって吸収される。

表示装置１では、ＴＦＴ素子７７がＯＦＦ状態のときに表示面９から光が射出され、ＴＦＴ素子７７がＯＮ状態のときに表示面９からの光の射出が遮断される所謂ノーマリホワイトの表示モードが採用されている。しかしながら、表示モードは、ノーマリホワイトに限定されず、ノーマリブラックも採用され得る。

ここで、表示装置１は、前述したように、レンズアレイ基板５を有している。表示パネル３の表示面９から射出された光は、レンズアレイ基板５に入射される。レンズアレイ基板５に入射された光は、シリンドリカルレンズ６から射出するときに屈折する。つまり、表示パネル３の表示面９から射出された光は、シリンドリカルレンズ６によって進行方向が規定される。
本実施形態では、シリンドリカルレンズ６は、図９中のＨ−Ｈ線における断面図である図１６に示すように、画素群６３ごとに設けられている。

第１の画素７₁からシリンドリカルレンズ６に入射された光１１１₁は、シリンドリカルレンズ６によって屈折して、第１の範囲１１３₁に及ぶ。
第２の画素７₂からシリンドリカルレンズ６に入射された光１１１₂は、シリンドリカルレンズ６によって屈折して、第２の範囲１１３₂に及ぶ。

この結果、第１の範囲１１３₁からは、複数の第１の画素７₁からの光１１１₁によって形成される第１の画像が視認され得る。第２の範囲１１３₂からは、複数の第２の画素７₂からの光１１１₂によって形成される第２の画像が視認され得る。
このため、表示装置１では、第１の画像を第１の範囲１１３₁に表示し、第２の画像を、第１の範囲１１３₁とは異なる第２の範囲１１３₂に表示する所謂指向性表示を行うことができる。

なお、表示装置１では、Ｘ方向において、隣り合うシリンドリカルレンズ６同士間の間隔Ｐａが、図１７に示すように、隣り合う画素群６３同士間の間隔Ｐｂよりも小さく設定され得る。これにより、Ｘ方向に隣り合う画素群６３間で、第１の範囲１１３₁同士を重ねることができ、第２の範囲１１３₂同士を重ねることができる。
本実施形態では、間隔Ｐａが間隔Ｐｂよりも小さく設定されている。

本実施形態において、シリンドリカルレンズ６が光学素子に対応し、液晶１９が電気光学物質に対応し、Ｘ方向が第１方向に対応し、Ｙ方向が第２方向に対応している。
本実施形態では、四角領域４３ごとに第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂ（図６）が設けられている。四角領域４３において、第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂは、Ｖ方向に互いに対峙する位置に設けられている。また、シリンドリカルレンズ６の主軸６７（図９）は、Ｖ方向に沿って延在している。

ここで、主軸６７に平行な線を考える。
主軸６７に平行な線は、図５中のＪ部の拡大図である図１８に示すように、第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂを交差する線１２１と、第１遮光領域４６及び第２遮光領域４７だけを交差する線１２３と、を含んでいる。
線１２３において、第１遮光領域４６に重なる線分を線分１２５ａとし、第２遮光領域４７に重なる線分を線分１２５ｂとする。また、線１２１において、第３遮光領域４８ａと第３遮光領域４８ｂとの間に位置する線分を線分１２５ｃとする。

線分１２５ｃは、領域４９を挟んでＶ方向に隣り合う第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂにおいて、第１点５５ａと、第２点５７ａと、第１点５５ｂと、第２点５７ｂと、を結んだ四辺形の領域１２７に重なっている。
線１２１は、領域１２７を交差する線であるとも定義され得る。なお、領域１２７を交差する複数の線１２１において、線分１２５ｃは、相互に同等の長さを有している。

本実施形態では、線分１２５ａと線分１２５ｂとの長さの合計は、線分１２５ｃの長さに等しい。つまり、本実施形態によれば、主軸６７に平行な線が第１遮光領域４６及び第２遮光領域４７、並びに第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂの遮光領域を交差する長さを、線１２１と線１２３とで同等にすることができる。
このため、第１の範囲１１３₁及び第２の範囲１１３₂間で、遮光領域に起因する輝度の低い領域を均一にしやすくすることができる。これにより、表示におけるモアレの発生を軽減することができ、表示品位を向上させやすくすることができる。

また、本実施形態では、容量素子７６を構成する容量電極９９ａ及び容量電極９９ｂが、それぞれ、第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂに重なる領域に設けられている。このため、容量電極９９ａで第３遮光領域４８ａを遮光することができ、容量電極９９ｂで第３遮光領域４８ｂを遮光することができる。換言すれば、容量電極９９ａ及び容量電極９９ｂのそれぞれに、容量素子７６の構成としての機能と、遮光機能とを兼用させることができる。

なお、本実施形態では、四角領域４３を規定する四角形が矩形である場合が例示されているが、四角領域４３を規定する四角形は矩形に限定されない。四角領域４３を規定する四角形としては、平行四辺形も採用され得る。

平行四辺形によって規定される四角領域１３１が適用された表示装置１を第２実施形態として説明する。
第２実施形態における表示装置１は、四角領域１３１が平行四辺形によって規定されることを除いては、第１実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。従って、以下においては、重複した説明を避けるため、第１実施形態と同一の構成については、第１実施形態と同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。

第２実施形態では、四角領域１３１は、図１９に示すように、平行四辺形によって規定されている。
四角領域１３１では、第１辺４４ａと第１辺４４ｂとは、図２０に示すように、互いにＹ方向にｋの距離を隔てた状態で、Ｘ方向に延在している。第２辺４５ａ及び第２辺４５ｂは、第１辺４４ａと第１辺４４ｂとの間を結んでいる。

また、四角領域１３１では、第２点５７ａは、図２１に示すように、第２辺４５ａ上に位置しており、第１辺４４ａから（１−ｋ）の距離を隔てた点である。同様に、第２点５７ｂは、第２辺４５ｂ上に位置しており、第１辺４４ｂから（１−ｋ）の距離を隔てた点である。

第２実施形態では、複数の第１の画素７₁は、図２２に示すように、Ｖ方向に沿って並んでいるとともに、Ｙ方向に沿って並んでいる。同様に、複数の第２の画素７₂も、Ｖ方向及びＹ方向のそれぞれの方向に沿って並んでいる。このため、第２実施形態では、Ｙ方向に並ぶ複数の第１の画素７₁によって画素列４１₁が構成され、Ｙ方向に並ぶ複数の第２の画素７₂によって画素列４１₂が構成されている。

また、第２実施形態では、複数組の画素群６３は、図２３に示すように、Ｘ方向、Ｙ方向及びＶ方向のそれぞれの方向に沿って並んでいる。
第２実施形態においても、シリンドリカルレンズ６は、図２４に示すように、Ｖ方向に沿って延在している。
上記の構成を有する第２実施形態の表示装置１においても、第１実施形態と同様の効果が得られる。

さらに、第２実施形態では、画素列４１₁と画素列４１₂とがＸ方向に交互に並んでいる。このため、シリンドリカルレンズ６がＹ方向に沿って延在する構成も採用され得る。第２実施形態では、シリンドリカルレンズ６をＹ方向に延在させても指向性表示を行うことができる。
つまり、第２実施形態では、シリンドリカルレンズ６の延在方向を、Ｙ方向及びＶ方向のいずれの方向にもすることができる。このため、画素７の配列に対するシリンドリカルレンズ６の傾きの設定における自由度を高めやすくすることができる。

なお、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、容量電極９９ａ及び容量電極９９ｂで第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂを遮光するようにしたが、第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂを遮光する方法はこれに限定されない。第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂを遮光する方法としては、光吸収層９３で遮光する方法も採用され得る。
また、第３遮光領域４８ａ及び第３遮光領域４８ｂを遮光する方法としては、容量電極９９ａ及び容量電極９９ｂと、光吸収層９３とを併用する方法も採用され得る。容量電極９９ａ及び容量電極９９ｂと、光吸収層９３とを併用すれば、遮光性能を向上させることができ、表示におけるコントラストを向上させやすくすることができる。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、表示装置１の構成として、電気光学物質である液晶１９を有する液晶装置が採用されているが、表示装置１の構成はこれに限定されない。表示装置１の構成としては、電気光学物質として発光層を含む有機層が設けられた有機ＥＬ装置も採用され得る。有機ＥＬ装置では、印加した電圧に基づいて発光層が発光し、電圧の印加を解除することによって発光層の発光が停止する。
このため、有機ＥＬ装置では、印加される電圧の変化によって、画素からの光の射出と光の遮断とを切り替えることができる。これにより、有機ＥＬ装置で画像を表示することができる。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、画素群６３を構成する画素７の種類を、第１の画素７₁及び第２の画素７₂の２つの種類としたが、画素群６３を構成する画素７の種類は２つに限定されない。画素群６３を構成する画素７の種類は、３以上の任意の数の種類も採用され得る。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、カラーフィルタ９５によってカラー表示を行うことができる表示装置１を例に説明したが、表示装置１の構成は、これに限定されない。表示装置１の構成としては、カラーフィルタ９５を省略した構成も採用され得る。この場合、表示装置１は、モノクローム表示を行うことができる。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、画素７からの光をシリンドリカルレンズ６で屈折させることによって指向性表示を行う構成を例示したが、表示装置１の構成はこれに限定されない。表示装置１の構成としては、レンズアレイ基板５に替えて、視差バリアを設けた構成も採用され得る。視差バリアは、画素７からの光を遮光する遮光膜に開口部を設けた構成を有している。開口部は、画素群６３ごとに設けられる。
レンズアレイ基板５に替えて、視差バリアを設けた構成においても、第１実施形態及び第２実施形態のそれぞれと同様の効果が得られる。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、ＴＮ型の液晶１９を例に説明したが、液晶１９はこれに限定されない。液晶１９としては、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＶＡ（Vertical Alignment）型等の種々の型が採用され得る。

上述した表示装置１は、例えば、図２５に示す電子機器５００の表示部５１０に適用され得る。この電子機器５００は、カーナビゲーションシステム用の表示機器である。電子機器５００では、表示装置１が適用された表示部５１０によって、例えば、運転席側から第１の画像として地図などの画像が視認され、助手席側から第２の画像として映画などの画像が視認され得る。

また、電子機器５００では、表示部５１０として表示装置１が適用されているので、表示におけるモアレの発生を軽減することができ、表示品位を向上させやすくすることができる。
なお、電子機器５００としては、カーナビゲーションシステム用の表示機器に限られず、携帯電話機、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。
また、液晶パネル１１としては、適用される電子機器は、これらに限定されず、ヘッドアップディスプレイなどの電子機器にも適用され得る。

本実施形態における表示装置の主要構成を示す分解斜視図。 図１中のＡ−Ａ線における断面図。 第１実施形態での複数の画素の一部を示す平面図。 図３中のＤ部の拡大図。 第１実施形態での第１遮光領域、第２遮光領域及び第３遮光領域を示す平面図。 第１実施形態での四角領域を示す平面図。 第１実施形態での複数の画素の一部を示す平面図。 第１実施形態における複数組の画素群の配列を説明する平面図。 第１実施形態でのレンズアレイ基板の一部を示す平面図。 図７中のＥ−Ｅ線における断面図。 本実施形態での素子基板における等価回路図。 本実施形態での信号線及び走査線並びにＴＦＴ素子の配置を示す平面図。 本実施形態での容量線及び容量電極の配置を示す平面図。 本実施形態での画素電極の配置を示す平面図。 本実施形態での表示パネルにおける偏光状態を説明する図。 図９中のＨ−Ｈ線における断面図。 本実施形態での液晶パネルとレンズアレイ基板とを模式的に示す断面図。 図５中のＪ部の拡大図。 第２実施形態での複数の画素の一部を示す平面図。 第２実施形態での複数の四角領域の一部を示す平面図。 第２実施形態での四角領域を示す平面図。 第２実施形態での複数の画素の配列を説明する平面図。 第２実施形態における複数組の画素群の配列を説明する平面図。 第２実施形態でのレンズアレイ基板の一部を示す平面図。 本実施形態における表示装置が適用された電子機器の斜視図。 従来の表示装置における画素とシリンドリカルレンズとの配置を説明する平面図。

符号の説明

１…表示装置、３…表示パネル、５…レンズアレイ基板、６…シリンドリカルレンズ、７…画素、７₁…第１の画素、７₂…第２の画素、８…表示領域、９…表示面、１１…液晶パネル、１３ａ，１３ｂ…偏光板、１５…素子基板、１７…対向基板、１９…液晶、２７…底面、４１…画素列、４２…画素行、４３…四角領域、４４ａ，４４ｂ…第１辺、４５ａ，４５ｂ…第２辺、４６…第１遮光領域、４７…第２遮光領域、４８ａ，４８ｂ…第３遮光領域、５１ａ，５１ｂ…対角線、５３ａ，５３ｂ…端点、５５ａ，５５ｂ…第１点、５７ａ，５７ｂ…第２点、６１₁，６１₂…画素配列、６３…画素群、６５…画素群配列、６７…主軸、７１…第１基板、７２…素子層、７３…ゲート絶縁膜、７４…絶縁膜、７５…配向膜、７６…容量素子、７７…ＴＦＴ素子、７９…画素電極、９１…第２基板、９２…対向層、９３…光吸収層、９５…カラーフィルタ、９６…オーバーコート層、９７…対向電極、９８…配向膜、９９ａ，９９ｂ…容量電極、１１１₁，１１１₂…光、１１３₁…第１の範囲、１１３₂…第２の範囲、１２１…線、１２３…線、１２５ａ…線分、１２５ｂ…線分、１２５ｃ…線分、１３１…四角領域、５００…電子機器、５１０…表示部、Ｃ…容量線、Ｓ…信号線、Ｔ…走査線。

Claims (6)

1. 第１方向に１／ｎ（ｎは、正の実数）の間隔で配列し、且つ前記第１方向とは直交する第２方向に１の間隔で配列する複数の画素と、
   前記画素から射出される光の進行方向を規定する光学素子と、を有し、
   前記画素は、四角形で規定される四角領域によって、有効領域が規定されており、
   前記四角領域は、互いに前記第２方向にｋ（ｋは、１未満の実数）の距離を隔てて前記第１方向にｋ／ｎの長さで延びた２本の第１辺と、前記２本の第１辺の間を結ぶ２本の第２辺と、によって規定され、
   前記光学素子は、前記四角領域の対角線に沿って延在しており、
   前記第１方向に隣り合う前記画素間に、第１遮光領域が設けられており、
   前記第２方向に隣り合う前記画素間に、第２遮光領域が設けられており、
   前記四角領域ごとに、前記対角線の端点を覆う第３遮光領域が設けられており、
   前記第１遮光領域は、前記第１方向に（１−ｋ）／ｎの幅を有しており、
   前記第２遮光領域は、前記第２方向に１−ｋの幅を有しており、
   前記第３遮光領域は、前記端点と、前記端点から前記第１辺に沿って（１−ｋ）／ｎの距離だけ内側の点と、前記第２辺上に位置し、前記第１辺から前記第２方向に１−ｋの距離を隔てた点と、を結んだ領域である、
   ことを特徴とする電気光学装置。
2. 前記四角領域を規定する前記四角形は、矩形であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記四角領域を規定する前記四角形は、平行四辺形であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
4. 前記光学素子は、シリンドリカルレンズを有していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 印加される電圧の変化によって、前記画素からの前記光の射出と前記光の遮断とを切り替える電気光学物質と、
   前記画素ごとに設けられ、前記電圧を保持する容量素子と、
   前記容量素子ごとに設けられ、前記電圧が印加される容量電極と、を有し、
   前記第３遮光領域は、前記容量電極によって遮光されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として有することを特徴とする電子機器。

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