JP2010095414A - Method for cutting mother glass substrate for display and brittle material substrate, and method for manufacturing display - Google Patents

Method for cutting mother glass substrate for display and brittle material substrate, and method for manufacturing display Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a number of processes on cutting laminated glass. <P>SOLUTION: A method for cutting the mother glass substrate 1 of a display panel including a first glass substrate G1 and a second glass substrate G2 laminated together by a sealing material 5 partitioning a plurality of cells arranged in a matrix form is provided. In a first process, a scheduled process line L1 is arranged in a gap between the sealing materials 5 of the adjacent cells, and a laser beam is irradiated along the scheduled process line L1 to form a scribe line on the first glass substrate G1. In a second process, a laser beam is irradiated along the scheduled process line L1 on the second glass substrate G2, and the vicinity of an area 40 to be irradiated by a laser beam is cooled to break the second glass substrate G2. Stress, generated when the second glass substrate G2 is broken, reaches the first glass substrate G1 through the sealing material 5, thereby the first glass substrate G1 is broken along the scribe line at substantially same time with the breakage of the second glass substrate G2. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガラス基板や半導体基板をはじめとする脆性材料基板の加工技術に関する。   The present invention relates to a technology for processing a brittle material substrate such as a glass substrate or a semiconductor substrate.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ、有機ELディスプレイをはじめとするFPD(フラットパネルディスプレイ)は、一枚のマザーガラス基板を所定サイズの複数の領域に切断することにより形成される。FPDのサイズは、大型液晶テレビに使用されるような数十インチから、携帯電話端末に使用される数インチの多岐にわたっており、またFPDの厚みも、大型液晶テレビに使用される数mmから、携帯電話端末に使用される数百μm程度と幅広い。   An FPD (flat panel display) including a liquid crystal display, a plasma display, and an organic EL display is formed by cutting a single mother glass substrate into a plurality of regions of a predetermined size. The size of FPD ranges from several tens of inches used for large LCD TVs to several inches used for mobile phone terminals, and the thickness of FPDs varies from several mm used for large LCD TVs. Wide range of several hundred μm used for mobile phone terminals.

ガラスなどの脆性材料基板を切断する方法として、従来よりダイヤモンドなどのカッターによってスクライブラインを形成し、スクライブラインに沿ってブレーク(割断)する技術が用いられている。この方法では、割断時にガラス粉、ガラスカレットが発生するという問題がある。近年では、スクライブラインの形成に、カッターに代えてレーザビームを用いる技術(レーザスクライブという)が開発されている。   As a method of cutting a brittle material substrate such as glass, conventionally, a technique of forming a scribe line with a cutter such as diamond and breaking (cleaving) along the scribe line has been used. This method has a problem that glass powder and glass cullet are generated at the time of cleaving. In recent years, a technique (laser scribing) that uses a laser beam instead of a cutter for forming a scribe line has been developed.

レーザスクライブでは、ガラス基板上を加工予定線に沿って移動させながら、加工予定線上に一点にレーザを照射して局所的に加熱し、しかる後に加熱領域近傍に冷却媒体を噴射して冷却する。その結果、レーザ基板上の熱分布に応じて、ガラス基板を加工予定線と垂直に引っ張る方向に熱応力が発生し、ガラス基板上に加工予定線に沿ったスクライブラインが成長していく。その後、必要に応じてブレイカ装置によってガラス基板に機械的な応力が印加され、スクライブラインに沿って割断される。   In laser scribing, while moving on a glass substrate along a planned processing line, a laser is irradiated to one point on the planned processing line to locally heat it, and then a cooling medium is injected near the heating region to cool it. As a result, according to the heat distribution on the laser substrate, thermal stress is generated in the direction of pulling the glass substrate perpendicular to the planned processing line, and a scribe line along the planned processing line grows on the glass substrate. Thereafter, mechanical stress is applied to the glass substrate by a breaker device as necessary, and the glass substrate is cut along the scribe line.

また、加熱条件、冷却条件、加工速度等を調整することによって、スクライブラインをガラス基板の厚み方向の深い箇所まで浸透させて、ブレイカ装置による割断処理を経ずに、ガラス基板を割断するフルカット(フルボディカットともいう)することも可能である。レーザを利用したフルカットは、ブレイカ装置による後処理が不要となり、単一工程でガラス基板を割断できることから、量産性の観点で非常に有用である。
国際公開第03/008168号パンフレット 特開2007−52188号公報 特開2002−153984号公報 特開2005−080032号公報
In addition, by adjusting heating conditions, cooling conditions, processing speed, etc., the scribe line is penetrated to the deep part in the thickness direction of the glass substrate, and the full cut that cleaves the glass substrate without breaking by the breaker device (Also called full body cut). A full cut using a laser is very useful from the viewpoint of mass productivity because it requires no post-processing by a breaker device and can cleave the glass substrate in a single step.
International Publication No. 03/008168 Pamphlet JP 2007-52188 A JP 2002-153984 A JP 2005-080032 A

マザーガラス基板は、シーリング材によって互いに張り合わされた2枚のガラス基板で構成される。液晶パネルの製造工程においては、4辺を封止されたセル基板を複数個有するマザーガラス基板から、各セル基板の4辺を切断し、個辺を切り出す必要がある。   The mother glass substrate is composed of two glass substrates bonded together by a sealing material. In the manufacturing process of the liquid crystal panel, it is necessary to cut the four sides of each cell substrate from the mother glass substrate having a plurality of cell substrates sealed on the four sides to cut out the individual sides.

このとき、まず表面側の基板(第1基板)に対して、縦方向および横方向にスクライブラインを形成し、続いてマザーガラス基板を反転し、裏面側の基板(第2基板)に対して、縦方向および横方向にスクライブラインを形成する(スクライブ工程)。続いて、第2基板をスクライブ線に沿って割断し、再度マザーガラス基板を反転して、第1基板をスクライブ線に沿って割断する(切断工程)。   At this time, first, scribe lines are formed in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the front surface side substrate (first substrate), and then the mother glass substrate is reversed to the back side substrate (second substrate). Then, scribe lines are formed in the vertical direction and the horizontal direction (scribing step). Subsequently, the second substrate is cleaved along the scribe line, the mother glass substrate is inverted again, and the first substrate is cleaved along the scribe line (cutting step).

したがって従来の加工では、基板を2回反転させる必要があり、そのたびにスクライブラインを形成し、あるいは切断する必要があるため、加工操作と反転操作の回数が多くなり、作業能率が低下し、生産コストが増大するという課題があった。またその操作の過程で、振動などでマザーガラス基板の割れや欠けといった欠陥が発生する可能性があり、歩留まりが低下する要因のひとつとなっていた。   Therefore, in conventional processing, it is necessary to invert the substrate twice, and it is necessary to form or cut a scribe line each time, so the number of processing operations and inversion operations increases, and work efficiency decreases, There was a problem that the production cost increased. In the course of the operation, there is a possibility that defects such as breakage or chipping of the mother glass substrate may occur due to vibration or the like, which has been one of the factors that reduce the yield.

つまり、歩留まりを高め、あるいは良好な切断面を得るためには、スクライブ工程、切断工程、それらにともなうマザーガラス基板の反転回数は少ないことが望ましい。この要求は、フラットディスプレイ用マザーガラス基板の切断に限定されず、一般的な脆性材料基板の切断にも当てはまる。   That is, in order to increase the yield or obtain a good cut surface, it is desirable that the scribing process, the cutting process, and the number of inversions of the mother glass substrate accompanying them are small. This requirement is not limited to the cutting of a mother glass substrate for a flat display, but also applies to the cutting of a general brittle material substrate.

本発明は係る課題に鑑みてなされたものであり、その目的のひとつは、工程数を削減した脆性材料基板の加工技術の提供にある。   The present invention has been made in view of such problems, and one of its purposes is to provide a technology for processing a brittle material substrate with a reduced number of steps.

本発明のある態様は、マトリクス状に配置された複数のセルを区画するシーリング材により張り合わされた第1ガラス基板と第2ガラス基板を含むディスプレイパネルのマザーガラス基板を切断する方法に関する。この方法は、以下の工程を有する。
1. 隣接するセルのシーリング材の間隙に加工予定線を配置し、当該加工予定線に沿って、第1ガラス基板にレーザを照射し、第1ガラス基板にスクライブラインを形成する。
2. 加工予定線に沿って、第2ガラス基板にレーザを照射するとともに、レーザが照射される領域の近傍を冷却し、第2ガラス基板を割断する。
3. 第2ガラス基板が割断する際に発生する応力がシーリング材を介して第1ガラス基板に伝わることにより、第2ガラス基板の割断と実質的に同時に、第1ガラス基板をスクライブラインに沿って割断する。
One embodiment of the present invention relates to a method for cutting a mother glass substrate of a display panel including a first glass substrate and a second glass substrate bonded together by a sealing material that partitions a plurality of cells arranged in a matrix. This method includes the following steps.
1. A processing line is arranged in the gap between the sealing materials of adjacent cells, and a laser is irradiated on the first glass substrate along the processing line to form a scribe line on the first glass substrate.
2. Along the processing line, the second glass substrate is irradiated with laser, the vicinity of the region irradiated with the laser is cooled, and the second glass substrate is cleaved.
3. The stress generated when the second glass substrate is cleaved is transmitted to the first glass substrate through the sealing material, so that the first glass substrate is cleaved along the scribe line substantially simultaneously with the cleaving of the second glass substrate. To do.

この態様によると、1回のスクライブ処理と1回のブレーク(割断)処理によって、2枚の合わせガラスを切断することができ、処理工程を簡素化し、歩留まりや加工品質の向上を図ることができる。   According to this aspect, two laminated glasses can be cut by one scribing process and one break (breaking) process, the processing process can be simplified, and the yield and processing quality can be improved. .

第1ガラス基板に形成されるスクライブラインの深さは、第1ガラス基板の厚みの1/3〜1/2の範囲であってもよい。スクライブラインの深さをこの範囲とすることにより、第2ガラス基板からの応力によって、第1ガラス基板を好適に割断することができる。   The depth of the scribe line formed on the first glass substrate may be in the range of 1/3 to 1/2 of the thickness of the first glass substrate. By setting the depth of the scribe line within this range, the first glass substrate can be suitably cleaved by the stress from the second glass substrate.

なお、以上の構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を、方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。   It should be noted that any combination of the above-described constituent elements, and those in which constituent elements and expressions of the present invention are mutually replaced between methods, apparatuses, systems, and the like are also effective as an aspect of the present invention.

本発明のある態様によれば、工程数を削減できる。   According to an aspect of the present invention, the number of steps can be reduced.

以下、本発明を好適な実施の形態をもとに図面を参照しながら説明する。各図面に示される同一または同等の構成要素、部材、処理には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、実施の形態は、発明を限定するものではなく例示であって、実施の形態に記述されるすべての特徴やその組み合わせは、必ずしも発明の本質的なものであるとは限らない。   The present invention will be described below based on preferred embodiments with reference to the drawings. The same or equivalent components, members, and processes shown in the drawings are denoted by the same reference numerals, and repeated descriptions are omitted as appropriate. The embodiments do not limit the invention but are exemplifications, and all features and combinations thereof described in the embodiments are not necessarily essential to the invention.

本実施の形態は、液晶パネルの切断方法に関する。図1(a)、(b)は、切断の対象とするマザーガラス基板の構成を示す図である。マザーガラス基板1の構成は一般的なものであるから、ここでは簡単に説明するにとどめる。図1(a)は、マザーガラス基板の平面図を、同図(b)は断面図を示す。マザーガラス基板1は、マトリクス状に配置された複数のセル3を含んでいる。図1(b)に示されるように、マザーガラス基板1は、シーリング材5によって張り合わされた第1ガラス基板G1と第2ガラス基板G2を備える。シーリング材5はセル3の周辺を規定しており、シーリング材5によって囲まれる発光領域には、液晶材料11が充填される。   The present embodiment relates to a method for cutting a liquid crystal panel. FIGS. 1A and 1B are diagrams showing a configuration of a mother glass substrate to be cut. Since the structure of the mother glass substrate 1 is general, only a brief description will be given here. 1A is a plan view of the mother glass substrate, and FIG. 1B is a cross-sectional view. The mother glass substrate 1 includes a plurality of cells 3 arranged in a matrix. As shown in FIG. 1B, the mother glass substrate 1 includes a first glass substrate G1 and a second glass substrate G2 bonded together by a sealing material 5. The sealing material 5 defines the periphery of the cell 3, and a light emitting region surrounded by the sealing material 5 is filled with a liquid crystal material 11.

隣接するセル3のシーリング材5の間隙に、マトリクスの列方向、行方向それぞれの加工予定線L1、L2が配置される。加工予定線L1、L2は仮想的なものである。加工予定線L1、L2に沿ってマザーガラス基板1を切断することにより、セル3が個辺に分断される。   Processed lines L1 and L2 in the column direction and the row direction of the matrix are arranged in the gaps between the sealing materials 5 of the adjacent cells 3, respectively. The processing lines L1 and L2 are virtual. The cell 3 is divided into individual sides by cutting the mother glass substrate 1 along the planned processing lines L1 and L2.

以上が加工対象となるマザーガラス基板1の概要である。続いて、実施の形態に係るマザーガラス基板1の切断方法を説明する。   The above is the outline of the mother glass substrate 1 to be processed. Next, a method for cutting the mother glass substrate 1 according to the embodiment will be described.

図2(a)、(b)は、実施の形態に係る切断方法のフローを示す図である。切断方法は、実質的な工程として第1工程(図2(a))および第2工程(図2(b))を含み、さらにそれらの付随的な工程として第3工程を含む。   2A and 2B are diagrams illustrating a flow of the cutting method according to the embodiment. The cutting method includes a first step (FIG. 2A) and a second step (FIG. 2B) as substantial steps, and further includes a third step as an additional step thereof.

1. 第1工程
図2(a)に示すように、第1ガラス基板G1にレーザビームLBを照射し、マザーガラス基板1とレーザビームLBを、加工予定線L1(L2)の方向に相対移動させる。その結果、第1ガラス基板G1の表面には、スクライブラインSLが形成される。図2(a)において、レーザビームLBが照射される領域40の形状は、加工予定線L1(L2)方向に長径を有する縦長であることが望ましい。
1. First Step As shown in FIG. 2A, the first glass substrate G1 is irradiated with the laser beam LB, and the mother glass substrate 1 and the laser beam LB are relatively moved in the direction of the planned processing line L1 (L2). As a result, a scribe line SL is formed on the surface of the first glass substrate G1. In FIG. 2A, the shape of the region 40 irradiated with the laser beam LB is desirably a vertically long shape having a major axis in the direction of the planned processing line L1 (L2).

2. 第2工程
図2(b)は、図2(a)の状態からマザーガラス基板1の上下を反転した図を示す。この状態において、加工予定線L1(L2)に沿って、第2ガラス基板G2にレーザビームLBを照射して加熱膨張させ、その後、レーザビームLBが照射される領域40の近傍(冷却領域44)に冷媒を噴射することにより冷却し、第2ガラス基板G2を割断する。なお、マザーガラス基板1の上面と下面の2方向からレーザビームLBを照射可能な加工装置を用いる場合、第1工程と第2工程の間で、マザーガラス基板1を反転する必要はない。なお、図2(b)において、レーザビームLBが照射される領域40の形状は、加工予定線L1(L2)方向に長径を有しているが、後述するように、加工予定線L1(L2)方向に短径を有してもよい。
2. 2nd process FIG.2 (b) shows the figure which reversed the upper and lower sides of the mother glass substrate 1 from the state of Fig.2 (a). In this state, along the planned processing line L1 (L2), the second glass substrate G2 is irradiated with the laser beam LB to be heated and expanded, and then the vicinity of the region 40 irradiated with the laser beam LB (cooling region 44). The second glass substrate G2 is cleaved by cooling by injecting the refrigerant into the glass substrate G2. In addition, when using the processing apparatus which can irradiate the laser beam LB from two directions of the upper surface and lower surface of the mother glass substrate 1, it is not necessary to invert the mother glass substrate 1 between a 1st process and a 2nd process. In FIG. 2B, the shape of the region 40 irradiated with the laser beam LB has a major axis in the direction of the planned machining line L1 (L2), but as will be described later, the planned machining line L1 (L2). ) May have a minor axis.

なお、第2工程、すなわち第2ガラス基板G2を割断するステップに先立ち、加工予定線に沿って、第2ガラス基板G2にレーザを照射してスクライブラインを形成してもよい。この前処理を行うことにより、工程数が増加するというデメリットと引き替えに、第2ガラス基板G2を切断しやすくでき、さらに、加工品質、すなわち直線性や切断面の平坦性を高めることができる。   Prior to the second step, that is, the step of cleaving the second glass substrate G2, a scribe line may be formed by irradiating the second glass substrate G2 with a laser along the planned processing line. By performing this pretreatment, the second glass substrate G2 can be easily cut in exchange for the demerit that the number of steps increases, and further, the processing quality, that is, the linearity and the flatness of the cut surface can be improved.

3. 第3工程
第2工程において、第2ガラス基板G2が割断する際に発生する応力がシーリング材5および液晶材料11を介して第1ガラス基板G1に伝わる。この応力は、加工予定線L1(L2)と垂直方向に第1ガラス基板G1を引き裂くように作用する。第1工程において第1ガラス基板G1にはスクライブラインSLが形成されているため、この応力によって第2ガラス基板G2と実質的に同時に割断される。
3. Third Step In the second step, the stress generated when the second glass substrate G2 is cleaved is transmitted to the first glass substrate G1 through the sealing material 5 and the liquid crystal material 11. This stress acts so as to tear the first glass substrate G1 in the direction perpendicular to the planned processing line L1 (L2). Since the scribe line SL is formed on the first glass substrate G1 in the first step, the stress is cleaved substantially simultaneously with the second glass substrate G2.

マザーガラス基板1を良好に切断するためには、第1工程で形成するスクライブラインSLの深さdが、極めて重要なパラメータである。スクライブラインSLの深さdは、第1ガラス基板G1の厚みd1の1/3〜1/2の範囲であることが望ましい。   In order to cut the mother glass substrate 1 satisfactorily, the depth d of the scribe line SL formed in the first process is an extremely important parameter. The depth d of the scribe line SL is preferably in the range of 1/3 to 1/2 of the thickness d1 of the first glass substrate G1.

本発明者の実験では、第1ガラス基板G1、第2ガラス基板G2の厚みがそれぞれd1=0.18mmのマザーガラス基板1を切断する場合、スクライブラインSLの深さが0.09mm、つまり基板厚みの1/2を超えると、スクライブによる亀裂が自ら伸長し第1ガラス基板G1のみを破断せしめて同時に両ガラス基板を割断することが不可能になるかあるいは亀裂進展の制御が不可能になるといった不都合を生じた。また、スクライブラインSLの深さが0.06mm、つまり基板厚みの1/3に満たない場合、第1ガラス基板G1の強度が高すぎるため、第3工程において第1ガラス基板G1を割断することができない。   In the experiments of the present inventors, when the mother glass substrate 1 having the thicknesses d1 = 0.18 mm of the first glass substrate G1 and the second glass substrate G2 is cut, the depth of the scribe line SL is 0.09 mm, that is, the substrate If the thickness exceeds 1/2 of the thickness, the crack caused by the scribing itself grows, and it becomes impossible to break only the first glass substrate G1 and simultaneously cleave both glass substrates or to control the crack propagation. Caused inconvenience. Moreover, when the depth of the scribe line SL is 0.06 mm, that is, less than 1/3 of the substrate thickness, the strength of the first glass substrate G1 is too high, so that the first glass substrate G1 is cleaved in the third step. I can't.

スクライブラインSLの深さを第1ガラス基板G1の厚みの1/3〜1/2の範囲とした場合、第3工程において第2ガラス基板G2と同時に、第1ガラス基板G1を割断することができる。その他の基板厚みに対しても同様の知見が得られている。   When the depth of the scribe line SL is in the range of 1/3 to 1/2 of the thickness of the first glass substrate G1, the first glass substrate G1 may be cleaved simultaneously with the second glass substrate G2 in the third step. it can. Similar findings have been obtained for other substrate thicknesses.

実施の形態に係る切断方法の効果は、従来の切断方法との対比によってより明確となろう。従来の切断方法は、以下の工程を経てなされるのが一般的であった。
第1工程 1a. 第1ガラス基板G1に対して、縦方向および横方向にスクライブラインSLを形成する。
第2工程 2a. 続いてマザーガラス基板1を反転し、裏面側の第2ガラス基板G2に対して、縦方向および横方向にスクライブラインを形成する。
第3工程 3a. 続いて、第2ガラス基板G2をスクライブ線に沿って割断する。
第4工程 4a. 再度マザーガラス基板1を反転して、第1ガラス基板G1をスクライブ線に沿って割断する。
したがって従来の加工では、2回のスクライブ工程と、2回の切断工程が必要であった。
The effect of the cutting method according to the embodiment will become clearer by comparison with the conventional cutting method. Conventional cutting methods are generally performed through the following steps.
First step 1a. A scribe line SL is formed in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the first glass substrate G1.
Second step 2a. Subsequently, the mother glass substrate 1 is reversed, and scribe lines are formed in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the second glass substrate G2 on the back side.
Third step 3a. Subsequently, the second glass substrate G2 is cleaved along the scribe line.
Fourth step 4a. The mother glass substrate 1 is inverted again, and the first glass substrate G1 is cut along the scribe lines.
Therefore, the conventional processing requires two scribing steps and two cutting steps.

これに対して、実施の形態に係る切断方法では、1回のスクライブ工程と、1回の切断工程で、マザーガラス基板1を切断することができる。工程数の削減は、歩留まりや信頼性の向上につながり、液晶パネルの低コスト化にも資することになる。   On the other hand, in the cutting method according to the embodiment, the mother glass substrate 1 can be cut by one scribing process and one cutting process. Reduction in the number of processes leads to improvement in yield and reliability, and contributes to cost reduction of the liquid crystal panel.

またマザーガラス基板1の反転回数に着目すると、従来は2回であったのに対して、実施の形態では、1回となっている。マザーガラス基板1を反転させると、振動などによってマザーガラス基板1に割れや欠けといった欠陥が発生する可能性が高まるところ、実施の形態に係る切断方法では反転回数が低減されるため、欠陥の発生を抑制できる。   Further, when attention is paid to the number of inversions of the mother glass substrate 1, the number of times of reversal is one in the embodiment, compared with the number of times in the past. When the mother glass substrate 1 is inverted, there is a higher possibility that defects such as cracks and chips will occur in the mother glass substrate 1 due to vibrations, etc. However, since the number of inversions is reduced in the cutting method according to the embodiment, the occurrence of defects Can be suppressed.

変形例として、実施の形態に係る切断方法において、マザーガラス基板1の反転工程そのものを省略することも可能である。この変形例は、マザーガラス基板1(ステージ)に対して、上面および下面の両方からレーザビームを照射可能であり、少なくとも一方の面側(通常はステージの上方である)に冷却機構が設けられる加工装置を利用して実現できる。この場合、ステージ上にマザーガラス基板1を、第1ガラス基板G1が冷却機構が設けられる上側となる向きにて配置する。そして第1工程において、マザーガラス基板1の第1ガラス基板G1の面側(下側)からのレーザビームを利用して、スクライブラインを形成し、第2工程において、第1ガラス基板G1を反転することなく、マザーガラス基板1の第2ガラス基板G2の面側(上側)からのレーザビームおよび冷却機構を利用して、第2ガラス基板G2を切断する。   As a modification, in the cutting method according to the embodiment, the reversing process itself of the mother glass substrate 1 can be omitted. In this modification, the mother glass substrate 1 (stage) can be irradiated with a laser beam from both the upper surface and the lower surface, and a cooling mechanism is provided on at least one surface side (usually above the stage). This can be realized by using a processing device. In this case, the mother glass substrate 1 is arranged on the stage so that the first glass substrate G1 is on the upper side where the cooling mechanism is provided. In the first step, a scribe line is formed using a laser beam from the surface side (lower side) of the first glass substrate G1 of the mother glass substrate 1, and in the second step, the first glass substrate G1 is inverted. Without doing so, the second glass substrate G2 is cut using the laser beam from the surface side (upper side) of the second glass substrate G2 of the mother glass substrate 1 and the cooling mechanism.

この変形例によれば、マザーガラス基板1の反転工程が不要となるため、マザーガラス基板1に欠陥が発生する可能性をより一層低下させることができる。   According to this modified example, since the reversal process of the mother glass substrate 1 is not necessary, the possibility of defects occurring in the mother glass substrate 1 can be further reduced.

続いて、第2工程におけるレーザビームLBの好適なプロファイルを説明する。
第2ガラス基板G2を割断する第2工程において、レーザビームLBのプロファイルは、加工予定線L1(L2)方向に短径を、加工予定線と垂直方向に長径を有する略楕円もしくは略矩形状であることが望ましい。より具体的には、長径と短径の比は、3:2以上5:1以下である。
Subsequently, a suitable profile of the laser beam LB in the second step will be described.
In the second step of cleaving the second glass substrate G2, the profile of the laser beam LB is substantially oval or rectangular having a minor axis in the direction of the planned processing line L1 (L2) and a major axis in the direction perpendicular to the planned processing line. It is desirable to be. More specifically, the ratio of the major axis to the minor axis is from 3: 2 to 5: 1.

図3(a)〜(c)は、横長のレーザビームLBを照射したときの、切断のメカニズムを示す図である。図3(a)は、レーザビームLBの加熱直後の温度分布を示す。加工予定線L1(L2)と垂直方向に長径を有するレーザビームLBを照射すると、広範囲が加熱される。   3A to 3C are diagrams showing a cutting mechanism when a horizontally long laser beam LB is irradiated. FIG. 3A shows a temperature distribution immediately after heating the laser beam LB. When a laser beam LB having a major axis in a direction perpendicular to the processing line L1 (L2) is irradiated, a wide range is heated.

続いて加工予定線L1(L2)上に冷却媒体を噴射すると、図3(b)に示すように、加工予定線L1(L2)を中心として温度が下がり、衝撃力が発生し、亀裂45が発生する。加工予定線L1から垂直方向に離れた領域には熱が残っているが、亀裂45の直下には熱は溜まっておらず、したがって第2ガラス基板G2の亀裂45の直下の領域47は力学的にニュートラルな状態となっている。   Subsequently, when the cooling medium is sprayed onto the planned processing line L1 (L2), as shown in FIG. 3B, the temperature decreases around the planned processing line L1 (L2), an impact force is generated, and the crack 45 is generated. appear. Although heat remains in a region away from the processing line L1 in the vertical direction, heat does not accumulate immediately below the crack 45. Therefore, the region 47 immediately below the crack 45 in the second glass substrate G2 is mechanical. It is in a neutral state.

図3(c)に示すように、亀裂45が第2ガラス基板G2の下方向に成長することにより第2ガラス基板G2が割断される。   As shown in FIG. 3C, the second glass substrate G2 is cleaved as the crack 45 grows downward in the second glass substrate G2.

もし領域47に熱が残っていると、そこに圧縮加重が発生するため、亀裂45の成長を妨げることになってしまう。かかる状況は縦長のビームプロファイルで高い強度で加熱した場合に発生しうる。なぜならこの場合、第2ガラス基板G2が図3(a)よりも深い領域まで加熱されるからである。これに対して横長のレーザビームで加熱した場合、領域47に圧縮加重が発生するのを抑制でき、亀裂45の成長を妨げることなく、第2ガラス基板G2を良好に切断できる。   If heat remains in the region 47, a compressive load is generated in the region 47, which prevents the crack 45 from growing. Such a situation can occur when heated at high intensity with a longitudinal beam profile. This is because in this case, the second glass substrate G2 is heated to a region deeper than that shown in FIG. On the other hand, when heated with a horizontally long laser beam, it is possible to suppress the generation of compressive load in the region 47, and the second glass substrate G2 can be cut well without hindering the growth of the crack 45.

図4は、レーザビームLBを横長にパターニングするための照射光学系16の構成を示す図である。
照射光学系16は、第1シリンドリカルレンズCL1、第2シリンドリカルレンズCL2を含む。第1シリンドリカルレンズCL1と第2シリンドリカルレンズCL2は、曲率を有する断面が、互いに垂直となるよう配置される。
FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the irradiation optical system 16 for patterning the laser beam LB horizontally.
The irradiation optical system 16 includes a first cylindrical lens CL1 and a second cylindrical lens CL2. The first cylindrical lens CL1 and the second cylindrical lens CL2 are arranged such that the cross sections having curvatures are perpendicular to each other.

第1シリンドリカルレンズCL1は、レーザビームLBを、その伝搬方向(Z軸反対方向)と垂直な第1方向(Y軸方向)に集光する光学素子である。具体的には、第1シリンドリカルレンズCL1は平凸型のシリンドリカルレンズであり、レーザビームLBをY軸方向に縮小する。第1シリンドリカルレンズCL1の曲率は、もとのレーザビームLBの径、レーザ照射領域のサイズに応じて決定される。第1シリンドリカルレンズCL1の代替として、凹型のシリンドリカルミラーを用いてもよい。   The first cylindrical lens CL1 is an optical element that condenses the laser beam LB in a first direction (Y-axis direction) perpendicular to the propagation direction (Z-axis opposite direction). Specifically, the first cylindrical lens CL1 is a plano-convex cylindrical lens, and reduces the laser beam LB in the Y-axis direction. The curvature of the first cylindrical lens CL1 is determined according to the diameter of the original laser beam LB and the size of the laser irradiation region. As an alternative to the first cylindrical lens CL1, a concave cylindrical mirror may be used.

第2シリンドリカルレンズCL2は、レーザビームLBを、伝搬方向(Z軸反対方向)および第1方向(Y軸方向)とに対して垂直な第2方向(X軸方向)に発散させる光学素子である。Y軸は加工予定線L1方向と一致する。具体的には第2シリンドリカルレンズCL2は平凹型のシリンドリカルレンズであり、レーザビームLBをX軸方向に拡大させる。第1シリンドリカルレンズCL1と同様、第2シリンドリカルレンズCL2の曲率もまた、もとのレーザビームLBの径、レーザ照射領域のサイズに応じて決定される。第2シリンドリカルレンズCL2の代替として、凸型のシリンドリカルミラーを用いてもよい。   The second cylindrical lens CL2 is an optical element that diverges the laser beam LB in a second direction (X-axis direction) perpendicular to the propagation direction (Z-axis opposite direction) and the first direction (Y-axis direction). . The Y axis coincides with the planned machining line L1 direction. Specifically, the second cylindrical lens CL2 is a plano-concave cylindrical lens and expands the laser beam LB in the X-axis direction. Similar to the first cylindrical lens CL1, the curvature of the second cylindrical lens CL2 is also determined according to the diameter of the original laser beam LB and the size of the laser irradiation region. As an alternative to the second cylindrical lens CL2, a convex cylindrical mirror may be used.

第1シリンドリカルレンズCL1および第2シリンドリカルレンズCL2は、マザーガラス基板1側が平面となるよう配置されるが、反対向きであってもよく、また第1シリンドリカルレンズCL1と第2シリンドリカルレンズCL2の位置は入れ換えても良い。   The first cylindrical lens CL1 and the second cylindrical lens CL2 are arranged so that the mother glass substrate 1 side is a plane, but may be in opposite directions, and the positions of the first cylindrical lens CL1 and the second cylindrical lens CL2 are It may be replaced.

第1シリンドリカルレンズCL1および第2シリンドリカルレンズCL2は可動マウンタにマウントされており、独立にレーザビームLBの経路方向に移動可能となっている。つまり第1シリンドリカルレンズCL1とマザーガラス基板1の距離、第2シリンドリカルレンズCL2とマザーガラス基板1の距離は独立に調節可能である。その結果、図3(a)に示すレーザ照射領域40のX軸方向の長さ、Y軸方向の幅が、独立に調整できる。   The first cylindrical lens CL1 and the second cylindrical lens CL2 are mounted on a movable mounter, and can be moved independently in the path direction of the laser beam LB. That is, the distance between the first cylindrical lens CL1 and the mother glass substrate 1 and the distance between the second cylindrical lens CL2 and the mother glass substrate 1 can be adjusted independently. As a result, the length in the X-axis direction and the width in the Y-axis direction of the laser irradiation region 40 shown in FIG. 3A can be adjusted independently.

図2(b)または図4(特に図4)に示されるレーザビームLBを用いて第2ガラス基板G2を割断する際、レーザ照射領域40がシーリング材5とオーバーラップすると、レーザビームLBの強度が高すぎる場合、あるいはシーリング材5の耐熱性が低い場合に、シーリング材5にダメージを与えるおそれがある。この場合、レーザビームLBのプロファイルを決定する際に、レーザ照射領域40の加工予定線L1(L2)と垂直方向の長さを、シーリング材5の間隔よりも短くして、レーザ照射領域40がシーリング材5とオーバーラップしないように配慮することが望ましい。   When the second glass substrate G2 is cleaved using the laser beam LB shown in FIG. 2B or FIG. 4 (particularly FIG. 4), if the laser irradiation region 40 overlaps the sealing material 5, the intensity of the laser beam LB. Is too high, or when the heat resistance of the sealing material 5 is low, the sealing material 5 may be damaged. In this case, when determining the profile of the laser beam LB, the length of the laser irradiation region 40 in the direction perpendicular to the planned processing line L1 (L2) is made shorter than the interval of the sealing material 5 so that the laser irradiation region 40 It is desirable to take care not to overlap the sealant 5.

上述の切断方法により切断されたセルは、ゲートドライバ(スキャンドライバ)、ソースドライバ(データドライバ)、メモリ、コントロールIC、インタフェース回路などとともに、ディスプレイ装置の筐体にアッセンブリされ、ディスプレイ装置が完成する。   The cells cut by the cutting method described above are assembled together with a gate driver (scan driver), a source driver (data driver), a memory, a control IC, an interface circuit, and the like into the housing of the display device to complete the display device.

以上、実施の形態に係る切断方法について、ディスプレイ装置のマザーガラス基板1の切断を例に説明した。しかしながら本発明の適用範囲は、マザーガラス基板1の切断に限定されるものではなく、その他の用途で使用されるさまざまな貼り合わせガラスの切断に適用できる。さらにガラス基板に限定されるものでなく、その他の脆性材料基板にも適用しうる。   The cutting method according to the embodiment has been described above by taking the cutting of the mother glass substrate 1 of the display device as an example. However, the application range of the present invention is not limited to the cutting of the mother glass substrate 1, and can be applied to cutting of various laminated glasses used for other purposes. Furthermore, it is not limited to a glass substrate, but can be applied to other brittle material substrates.

当業者には、本実施の形態に開示される技術には、以下の技術思想が含まれていることが理解されよう。すなわち、本発明のある態様では、固着材により張り合わされた第1の脆性材料基板と第2の脆性材料基板を含む加工対象の基板を切断する方法が提供される。   It will be understood by those skilled in the art that the technology disclosed in the present embodiment includes the following technical idea. That is, according to an aspect of the present invention, a method for cutting a substrate to be processed including a first brittle material substrate and a second brittle material substrate bonded together by a fixing material is provided.

この方法では、第1工程として、離間して配置される2箇所の固着材の間に配置される加工予定線に沿って、第1の脆性材料基板にレーザを照射し、第1の脆性材料基板にスクライブラインを形成する。続いて第2工程として、加工予定線に沿って、第2の脆性材料基板にレーザを照射するとともに、レーザが照射される領域の近傍を冷却し、第2の脆性材料基板を割断する。第2工程において第2の脆性材料基板が割断する際に発生する応力が固着材を介して第1の脆性材料基板に伝わることにより、第2の脆性材料基板の割断と実質的に同時に、第1の脆性材料基板がスクライブラインに沿って割断される。   In this method, as a first step, the first brittle material substrate is irradiated with a laser along a planned processing line arranged between two fixing materials arranged apart from each other, and the first brittle material is obtained. A scribe line is formed on the substrate. Subsequently, as a second step, the second brittle material substrate is irradiated with the laser along the planned processing line, and the vicinity of the region irradiated with the laser is cooled to cleave the second brittle material substrate. The stress generated when the second brittle material substrate is cleaved in the second step is transmitted to the first brittle material substrate through the fixing material, so that the second brittle material substrate is cut substantially simultaneously with the cleaving of the second brittle material substrate. One brittle material substrate is cleaved along the scribe line.

つまり、実施の形態では、固着材としてシーリング材5および液晶材料11が例示されている。これらはマザーガラス基板1が本来の機能として有している構造を、本発明に係る切断方法に利用しているとも捉えることができる。視点を変えれば、2枚の脆性材料基板を同時に切断する際に、加工予定線を挟む2つの領域に、固着材を塗布して2枚の脆性材料基板を貼り合わせ、上述の手順によって切断してもよい。   That is, in the embodiment, the sealing material 5 and the liquid crystal material 11 are exemplified as the fixing material. These can also be understood as utilizing the structure of the mother glass substrate 1 as an original function in the cutting method according to the present invention. From another point of view, when two brittle material substrates are cut simultaneously, the adhesive material is applied to the two regions sandwiching the planned processing line, the two brittle material substrates are bonded together, and cut according to the above procedure. May be.

また第2の脆性材料基板を割断するステップに先立ち、加工予定線に沿って、第2の脆性材料基板にレーザを照射してスクライブラインを形成してもよい。この場合、基板の切断をアシストできるとともに、加工品質を高めることができる。   Prior to the step of cleaving the second brittle material substrate, a scribe line may be formed by irradiating the second brittle material substrate with a laser along a planned processing line. In this case, the cutting of the substrate can be assisted and the processing quality can be improved.

実施の形態にもとづき、特定の語句を用いて本発明を説明したが、実施の形態は、本発明の原理、応用を示しているにすぎず、実施の形態には、請求の範囲に規定された本発明の思想を逸脱しない範囲において、多くの変形例や配置の変更が可能である。   Although the present invention has been described using specific words and phrases based on the embodiments, the embodiments are merely illustrative of the principles and applications of the present invention, and the embodiments are defined in the claims. Many modifications and arrangements can be made without departing from the spirit of the present invention.

図1(a)、(b)は、切断の対象とするマザーガラス基板の構成を示す図である。FIGS. 1A and 1B are diagrams showing a configuration of a mother glass substrate to be cut. 図2(a)、(b)は、実施の形態に係る切断方法のフローを示す図である。2A and 2B are diagrams illustrating a flow of the cutting method according to the embodiment. 図3(a)〜(c)は、横長のレーザビームLBを照射したときの、切断のメカニズムを示す図である。3A to 3C are diagrams showing a cutting mechanism when a horizontally long laser beam LB is irradiated. レーザビームを横長にパターニングするための照射光学系の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the irradiation optical system for patterning a laser beam horizontally long.

符号の説明Explanation of symbols

1…マザーガラス基板、L1…加工予定線、L2…加工予定線、3…セル、5…シーリング材、G1…第1ガラス基板、G2…第2ガラス基板、11…液晶材料、16…照射光学系、40…レーザ照射領域、44…冷却領域、CL1…第1シリンドリカルレンズ、CL2…第2シリンドリカルレンズ、LB…レーザビーム。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Mother glass substrate, L1 ... Planned process line, L2 ... Planned process line, 3 ... Cell, 5 ... Sealing material, G1 ... 1st glass substrate, G2 ... 2nd glass substrate, 11 ... Liquid crystal material, 16 ... Irradiation optics System 40... Laser irradiation region 44. Cooling region CL1 First cylindrical lens CL2 Second cylindrical lens LB Laser beam

Claims (13)

マトリクス状に配置された複数のセルを区画するシーリング材により張り合わされた第1ガラス基板と第2ガラス基板を含むディスプレイパネルのマザーガラス基板を切断する方法であって、
隣接するセルの前記シーリング材の間隙に加工予定線を配置し、当該加工予定線に沿って、前記第1ガラス基板にレーザを照射し、前記第1ガラス基板にスクライブラインを形成するステップと、
前記加工予定線に沿って、前記第2ガラス基板にレーザを照射するとともに、レーザが照射される領域の近傍を冷却し、前記第2ガラス基板を割断するステップと、
を備え、
前記第2ガラス基板が割断する際に発生する応力が前記シーリング材を介して前記第1ガラス基板に伝わることにより、前記第2ガラス基板の割断と実質的に同時に、前記第1ガラス基板を前記スクライブラインに沿って割断することを特徴とする方法。
A method of cutting a mother glass substrate of a display panel including a first glass substrate and a second glass substrate bonded together by a sealing material that partitions a plurality of cells arranged in a matrix,
Arranging a processing line in the gap between the sealing materials of adjacent cells, irradiating the first glass substrate with a laser along the processing line, and forming a scribe line on the first glass substrate;
Irradiating the second glass substrate with a laser along the planned processing line, cooling the vicinity of a region irradiated with the laser, and cleaving the second glass substrate;
With
The stress generated when the second glass substrate is cleaved is transmitted to the first glass substrate via the sealing material, so that the first glass substrate is substantially simultaneously with the cleaving of the second glass substrate. Cleaving along a scribe line.
前記第1ガラス基板に形成されるスクライブラインの深さは、前記第1ガラス基板の厚みの1/3〜1/2の範囲であることを特徴とする請求項1に記載の方法。   2. The method according to claim 1, wherein a depth of a scribe line formed on the first glass substrate is in a range of 1/3 to 1/2 of a thickness of the first glass substrate. 前記第2ガラス基板を割断するステップにおいて、前記レーザのプロファイルは、前記加工予定線方向に短径を、前記加工予定線と垂直方向に長径を有する略楕円もしくは略矩形状であることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。   In the step of cleaving the second glass substrate, the profile of the laser is a substantially oval or a substantially rectangular shape having a minor axis in the planned processing line direction and a major axis in a direction perpendicular to the planned processing line. The method according to claim 1 or 2. 前記長径と短径の比は、3:2以上5:1以下であることを特徴とする請求項3に記載の方法。   The method according to claim 3, wherein the ratio of the major axis to the minor axis is from 3: 2 to 5: 1. 前記第2ガラス基板を割断するステップにおいて、前記レーザのプロファイルは、前記第2ガラス基板上の前記レーザが照射される領域が前記シーリング材とオーバーラップしないように決定されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の方法。   In the step of cleaving the second glass substrate, the profile of the laser is determined so that a region irradiated with the laser on the second glass substrate does not overlap the sealing material. The method according to claim 1. 前記第2ガラス基板を割断するステップに先立ち、前記加工予定線に沿って、前記第2ガラス基板にレーザを照射してスクライブラインを形成するステップをさらに備えることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の方法。   6. The method according to claim 1, further comprising a step of irradiating a laser on the second glass substrate along the planned processing line to form a scribe line prior to the step of cleaving the second glass substrate. The method in any one of. 請求項1〜6のいずれかに記載の方法により、ディスプレイパネルのマザーガラス基板をセルに切断するステップと、
切断されたセルを筐体に組み込むステップと、
を備えることを特徴とするディスプレイの製造方法。
Cutting the mother glass substrate of the display panel into cells by the method according to claim 1;
Incorporating the cut cells into a housing;
A display manufacturing method comprising:
固着材により張り合わされた第1の脆性材料基板と第2の脆性材料基板を含む加工対象の基板を切断する方法であって、
離間して配置される2箇所の固着材の間に配置される加工予定線に沿って、前記第1の脆性材料基板にレーザを照射し、前記第1の脆性材料基板にスクライブラインを形成するステップと、
前記加工予定線に沿って、前記第2の脆性材料基板にレーザを照射するとともに、レーザが照射される領域の近傍を冷却し、前記第2の脆性材料基板を割断するステップと、
を備え、
前記第2の脆性材料基板が割断する際に発生する応力が前記固着材を介して前記第1の脆性材料基板に伝わることにより、前記第2の脆性材料基板の割断と実質的に同時に、前記第1の脆性材料基板を前記スクライブラインに沿って割断することを特徴とする方法。
A method of cutting a substrate to be processed including a first brittle material substrate and a second brittle material substrate bonded together by a fixing material,
The first brittle material substrate is irradiated with a laser along a planned processing line arranged between two fixing materials arranged apart from each other, and a scribe line is formed on the first brittle material substrate. Steps,
Irradiating the second brittle material substrate with a laser along the planned processing line, cooling the vicinity of a region irradiated with the laser, and cleaving the second brittle material substrate;
With
The stress generated when the second brittle material substrate is cleaved is transmitted to the first brittle material substrate via the fixing material, so that substantially simultaneously with the cleaving of the second brittle material substrate, Cleaving the first brittle material substrate along the scribe line.
前記第1の脆性材料基板に形成されるスクライブラインの深さは、前記第1の脆性材料基板の厚みの1/3〜1/2の範囲であることを特徴とする請求項8に記載の方法。   The depth of a scribe line formed on the first brittle material substrate is in a range of 1/3 to 1/2 of the thickness of the first brittle material substrate. Method. 前記基板は、ディスプレイパネルのマザーガラス基板であり、前記固着材は複数のセルを区画するシーリング材であることを特徴とする請求項8に記載の方法。   9. The method according to claim 8, wherein the substrate is a mother glass substrate of a display panel, and the fixing material is a sealing material that partitions a plurality of cells. 前記第2の脆性材料基板を割断するステップにおいて、前記レーザのプロファイルは、前記加工予定線方向に短径を、前記加工予定線と垂直方向に長径を有する略楕円もしくは略矩形状であることを特徴とする請求項8から10のいずれかに記載の方法。   In the step of cleaving the second brittle material substrate, the profile of the laser is approximately elliptical or approximately rectangular with a minor axis in the planned machining line direction and a major axis perpendicular to the planned machining line. 11. A method according to any one of claims 8 to 10, characterized. 前記長径と短径の比は、3:2以上5:1以下であることを特徴とする請求項11に記載の方法。   The method according to claim 11, wherein a ratio of the major axis to the minor axis is 3: 2 or more and 5: 1 or less. 前記第2の脆性材料基板を割断するステップに先立ち、前記加工予定線に沿って、前記第2の脆性材料基板にレーザを照射してスクライブラインを形成するステップをさらに備えることを特徴とする請求項9から12のいずれかに記載の方法。   Prior to the step of cleaving the second brittle material substrate, the method further comprises a step of forming a scribe line by irradiating the second brittle material substrate with a laser along the planned processing line. Item 13. The method according to any one of Items 9 to 12.
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