JP2014019610A - Laser processing method - Google Patents

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Daisuke Kawaguchi
大祐 河口
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Hamamatsu Photonics KK
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Hamamatsu Photonics KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser processing method which can suppress deterioration of deflective strength of an effective part cut from a tabular processing object including a glass plate and protect an outer surface of the effective part in processing.SOLUTION: The laser processing method includes: a first process for forming a resist on a front surface 1a and a back surface 1b of a processing object 1; a second process for cutting out an effective part 17 from the processing object 1 after the first process by moving a condensing point of a laser beam relatively along predetermined cutting lines 51 and 52 which extends along a side surface 19 of the effective part 17 to form a modification region inside a strengthened glass 10 along the lines 51 and 52 and extending a crack generated in the modification region to a thickness direction of the processing object 1; and a third process for eliminating the modification region existing on the side surface 19 of the effective part 17 and removing the resist existing on a front surface 17a and a back surface 17b of the effective part 17 after the second process.

Description

本発明は、ガラス板を備える板状の加工対象物から有効部を切り出すためのレーザ加工方法に関する。   The present invention relates to a laser processing method for cutting out an effective portion from a plate-like processing object including a glass plate.

上記技術分野のレーザ加工方法として、板状の加工対象物にレーザ光を照射することにより、切断予定ラインに沿って加工対象物の内部に改質領域を形成し、その改質領域から発生した亀裂を加工対象物の厚さ方向に伸展させることにより、切断予定ラインに沿って加工対象物を切断するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。   As a laser processing method in the above technical field, a plate-shaped workpiece is irradiated with a laser beam, thereby forming a modified region inside the workpiece along the planned cutting line, and generated from the modified region. It is known that a workpiece is cut along a planned cutting line by extending a crack in the thickness direction of the workpiece (for example, see Patent Document 1).

特開2004−343008号公報JP 2004-343008 A

しかしながら、上述したようなレーザ加工方法を実施することにより、ガラス板を備える板状の加工対象物から有効部を切り出すと、切り出された有効部の側面に存在する改質領域に起因して、切り出された有効部の抗折強度が低下するおそれがある。また、有効部が例えば携帯型端末のタッチパネルに用いられるものであると、有効部の外表面に樹脂膜等が形成されている場合があるため、加工時に有効部の外表面を保護する必要がある。   However, by carrying out the laser processing method as described above, and cutting out the effective portion from the plate-like processing object provided with the glass plate, due to the modified region existing on the side of the cut out effective portion, There is a possibility that the bending strength of the cut-out effective part is lowered. In addition, if the effective portion is used for a touch panel of a portable terminal, for example, a resin film or the like may be formed on the outer surface of the effective portion, so it is necessary to protect the outer surface of the effective portion during processing. is there.

そこで、本発明は、ガラス板を備える板状の加工対象物から切り出された有効部において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部の外表面を保護することができるレーザ加工方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention can prevent the bending strength from being lowered in the effective portion cut out from the plate-like workpiece including the glass plate, and can protect the outer surface of the effective portion during processing. An object of the present invention is to provide a laser processing method that can be used.

本発明のレーザ加工方法は、ガラス板を備える板状の加工対象物から有効部を切り出すためのレーザ加工方法であって、加工対象物の表面及び裏面に保護膜を形成する第1工程と、第1工程の後に、有効部の側面に沿うように延在する切断予定ラインに沿って、レーザ光の集光点を相対的に移動させることにより、切断予定ラインに沿ってガラス板の内部に改質領域を形成し、改質領域から発生した亀裂を加工対象物の厚さ方向に伸展させることにより、加工対象物から有効部を切り出す第2工程と、第2工程の後に、有効部の側面に存在する改質領域を除去し、有効部の表面及び裏面に存在する保護膜を除去する第3工程と、を備える。   The laser processing method of the present invention is a laser processing method for cutting out an effective portion from a plate-like processing object including a glass plate, and includes a first step of forming a protective film on the front surface and the back surface of the processing object, After the first step, the laser light condensing point is relatively moved along the planned cutting line extending along the side surface of the effective portion, thereby moving the glass plate along the planned cutting line. Forming a modified region and extending a crack generated in the modified region in the thickness direction of the workpiece, thereby cutting the effective portion from the workpiece; and after the second step, And a third step of removing the modified region existing on the side surface and removing the protective film present on the front surface and the back surface of the effective portion.

このレーザ加工方法では、加工対象物の表面及び裏面に保護膜を形成した後に、加工対象物から有効部を切り出すための加工を実施し、更にその後に、有効部の側面に存在する改質領域を除去し、有効部の表面及び裏面に存在する保護膜を除去する。従って、加工時には有効部の表面及び裏面が保護膜によって保護され、切り出された有効部からは抗折強度を低下させる一因となる改質領域が除去される。よって、このレーザ加工方法によれば、ガラス板を備える板状の加工対象物から切り出された有効部において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部の外表面を保護することができる。   In this laser processing method, after forming a protective film on the front and back surfaces of the workpiece, a process for cutting out the effective portion from the workpiece is performed, and then a modified region existing on the side surface of the effective portion. And the protective film present on the front and back surfaces of the effective portion is removed. Therefore, at the time of processing, the front and back surfaces of the effective portion are protected by the protective film, and the modified region that contributes to reducing the bending strength is removed from the cut out effective portion. Therefore, according to this laser processing method, it is possible to prevent the bending strength from being lowered in the effective portion cut out from the plate-like processing object including the glass plate, and to reduce the outer surface of the effective portion during processing. Can be protected.

ここで、第1工程では、加工対象物の表面及び裏面の全領域を覆うように、保護膜を形成し、第2工程では、加工対象物の表面又は裏面に形成された保護膜を介して、加工対象物にレーザ光を入射させてもよい。これによれば、レーザ光を透過させ得る保護膜を使用することで保護膜のパターニングが不要となるため、加工工数の削減を図ることができる。   Here, in the first step, a protective film is formed so as to cover the entire area of the front and back surfaces of the workpiece, and in the second step, the protective film is formed on the front or back surface of the workpiece. The laser beam may be incident on the object to be processed. According to this, since the protective film that can transmit the laser light is used, patterning of the protective film becomes unnecessary, so that the number of processing steps can be reduced.

或いは、第1工程では、加工対象物の表面及び裏面の少なくとも一方において、切断予定ラインに沿った領域以外の領域を覆うように、保護膜を形成し、第2工程では、切断予定ラインに沿った領域を介して、加工対象物にレーザ光を入射させてもよい。これによれば、レーザ光の透過性が低い保護膜を使用することができるなど、保護膜の選択の自由度を高めることができる。   Alternatively, in the first step, a protective film is formed on at least one of the front and back surfaces of the workpiece so as to cover a region other than the region along the planned cutting line, and in the second step, along the planned cutting line. The laser beam may be incident on the object to be processed through the region. According to this, the degree of freedom of selection of the protective film can be increased, such as the use of a protective film with low laser beam transparency.

また、ガラス板は、強化ガラス板であってもよい。このとき、第3工程では、機械研磨によって改質領域を除去し、その後に、保護膜を除去してもよいし、若しくは、化学処理によって改質領域を除去し、その後に、保護膜を除去してもよい。又は、第3工程では、化学処理によって改質領域を除去すると共に保護膜を除去してもよい。この場合には、更なる加工工数の削減を図ることができる。   The glass plate may be a tempered glass plate. At this time, in the third step, the modified region may be removed by mechanical polishing and then the protective film may be removed, or the modified region may be removed by chemical treatment and then the protective film is removed. May be. Alternatively, in the third step, the modified region may be removed by chemical treatment and the protective film may be removed. In this case, it is possible to further reduce the processing man-hours.

また、ガラス板は、未強化ガラス板であり、第3工程では、ガラス板を強化してもよい。このとき、第3工程では、機械研磨によって改質領域を除去し、その後に、保護膜を除去し、ガラス板を強化してもよいし、若しくは、化学処理によって改質領域を除去し、その後に、保護膜を除去し、ガラス板を強化してもよい。又は、第3工程では、化学処理によって改質領域を除去すると共に保護膜を除去してもよいし、若しくは、化学処理によって保護膜を除去すると共にガラス板を強化してもよい。この場合には、更なる加工工数の削減を図ることができる。   Further, the glass plate is an unstrengthened glass plate, and the glass plate may be strengthened in the third step. At this time, in the third step, the modified region may be removed by mechanical polishing, and then the protective film may be removed and the glass plate may be strengthened, or the modified region may be removed by chemical treatment, and then In addition, the protective film may be removed to strengthen the glass plate. Alternatively, in the third step, the modified region may be removed by chemical treatment and the protective film may be removed, or the protective film may be removed by chemical treatment and the glass plate may be strengthened. In this case, it is possible to further reduce the processing man-hours.

本発明によれば、ガラス板を備える板状の加工対象物から切り出された有効部において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部の外表面を保護することができるレーザ加工方法を提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to suppress that a bending strength falls in the effective part cut out from the plate-shaped process target provided with a glass plate, it can protect the outer surface of an effective part at the time of a process. It is possible to provide a laser processing method that can be used.

改質領域の形成に用いられるレーザ加工装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the laser processing apparatus used for formation of a modification area | region. 改質領域の形成の対象となる加工対象物の平面図である。It is a top view of the processing target object used as the object of formation of a modification field. 図2の加工対象物のIII−III線に沿っての断面図である。It is sectional drawing along the III-III line of the workpiece of FIG. レーザ加工後の加工対象物の平面図である。It is a top view of the processing target after laser processing. 図4の加工対象物のV−V線に沿っての断面図である。It is sectional drawing along the VV line of the workpiece of FIG. 図4の加工対象物のVI−VI線に沿っての断面図である。It is sectional drawing along the VI-VI line of the processing target object of FIG. 本発明の第1実施形態のレーザ加工方法の対象となる加工対象物の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the processing target used as the object of the laser processing method of a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態のレーザ加工方法が実施されている加工対象物の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the processing object in which the laser processing method of a 1st embodiment of the present invention is carried out. 本発明の第1実施形態のレーザ加工方法が実施されている加工対象物の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the processing object in which the laser processing method of a 1st embodiment of the present invention is carried out. 本発明の第1実施形態のレーザ加工方法が実施されている有効部の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the effective part in which the laser processing method of a 1st embodiment of the present invention is carried out. 本発明の第1実施形態のレーザ加工方法が実施されている有効部の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the effective part in which the laser processing method of a 1st embodiment of the present invention is carried out. 本発明の第1実施形態のレーザ加工方法の対象となる有効部の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the effective part used as the object of the laser processing method of a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第2実施形態のレーザ加工方法の対象となる加工対象物の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the processing target used as the object of the laser processing method of a 2nd embodiment of the present invention. 本発明の第2実施形態のレーザ加工方法が実施されている加工対象物の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the processed object in which the laser processing method of a 2nd embodiment of the present invention is carried out. 本発明の第2実施形態のレーザ加工方法が実施されている加工対象物の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the processed object in which the laser processing method of a 2nd embodiment of the present invention is carried out. 本発明の第2実施形態のレーザ加工方法が実施されている有効部の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the effective part in which the laser processing method of 2nd Embodiment of this invention is implemented. 本発明の第2実施形態のレーザ加工方法が実施されている有効部の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the effective part in which the laser processing method of 2nd Embodiment of this invention is implemented. 本発明の第2実施形態のレーザ加工方法が実施されている有効部の(a)平面図及び(b)断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional view of the effective part in which the laser processing method of 2nd Embodiment of this invention is implemented.

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected to the same or an equivalent part, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

本発明の一実施形態のレーザ加工方法では、切断予定ラインに沿って加工対象物にレーザ光を照射することにより、切断予定ラインに沿って加工対象物の内部に切断の起点となる改質領域を形成する。そこで、加工対象物の材料を限定せずに、改質領域の形成について、図1〜図6を参照して説明する。   In the laser processing method of one embodiment of the present invention, the modified region that is the starting point of cutting inside the workpiece along the planned cutting line by irradiating the processing target with laser light along the planned cutting line Form. Therefore, the formation of the modified region will be described with reference to FIGS. 1 to 6 without limiting the material of the workpiece.

図1に示すように、レーザ加工装置100は、レーザ光Lをパルス発振するレーザ光源101と、レーザ光Lの光軸(光路)の向きを90°変えるように配置されたダイクロイックミラー103と、レーザ光Lを集光するための集光用レンズ105と、を備えている。また、レーザ加工装置100は、集光用レンズ105で集光されたレーザ光Lが照射される加工対象物1を支持するための支持台107と、支持台107を移動させるためのステージ111と、レーザ光Lの出力やパルス幅等を調節するためにレーザ光源101を制御するレーザ光源制御部102と、ステージ111の駆動を制御するステージ制御部115と、を備えている。   As shown in FIG. 1, a laser processing apparatus 100 includes a laser light source 101 that oscillates a laser beam L, a dichroic mirror 103 that is arranged so as to change the direction of the optical axis (optical path) of the laser beam L, and A condensing lens 105 for condensing the laser light L. Further, the laser processing apparatus 100 includes a support base 107 for supporting the workpiece 1 irradiated with the laser light L condensed by the condensing lens 105, and a stage 111 for moving the support base 107. And a laser light source control unit 102 for controlling the laser light source 101 in order to adjust the output, pulse width, etc. of the laser light L, and a stage control unit 115 for controlling the drive of the stage 111.

このレーザ加工装置100においては、レーザ光源101から出射されたレーザ光Lは、ダイクロイックミラー103によってその光軸の向きを90°変えられ、支持台107上に載置された加工対象物1の内部に集光用レンズ105によって集光される。これと共に、ステージ111が移動させられ、加工対象物1がレーザ光Lに対して切断予定ライン5に沿って相対移動させられる。これにより、切断予定ライン5に沿った改質領域が加工対象物1に形成されることとなる。   In this laser processing apparatus 100, the laser light L emitted from the laser light source 101 has its optical axis changed by 90 ° by the dichroic mirror 103, and the inside of the processing object 1 placed on the support base 107. The light is condensed by the condensing lens 105. At the same time, the stage 111 is moved, and the workpiece 1 is moved relative to the laser beam L along the planned cutting line 5. As a result, a modified region along the planned cutting line 5 is formed on the workpiece 1.

加工対象物1としては、種々の材料(例えば、ガラス、半導体材料、圧電材料等)からなる板状の部材(例えば、基板、ウェハ等)が用いられる。図2に示すように、加工対象物1には、加工対象物1を切断するための切断予定ライン5が設定されている。切断予定ライン5は、直線状に延びた仮想線である。加工対象物1の内部に改質領域を形成する場合、図3に示すように、加工対象物1の内部に集光点Pを合わせた状態で、レーザ光Lを切断予定ライン5に沿って(すなわち、図2の矢印A方向に)相対的に移動させる。これにより、図4〜図6に示すように、改質領域7が切断予定ライン5に沿って加工対象物1の内部に形成され、切断予定ライン5に沿って形成された改質領域7が切断起点領域8となる。   As the workpiece 1, plate-like members (for example, substrates, wafers, etc.) made of various materials (for example, glass, semiconductor material, piezoelectric material, etc.) are used. As shown in FIG. 2, a scheduled cutting line 5 for cutting the workpiece 1 is set in the workpiece 1. The planned cutting line 5 is a virtual line extending linearly. When forming a modified region inside the workpiece 1, as shown in FIG. 3, the laser beam L is projected along the planned cutting line 5 in a state where the focused point P is aligned with the inside of the workpiece 1. It moves relatively (that is, in the direction of arrow A in FIG. 2). Thereby, as shown in FIGS. 4 to 6, the modified region 7 is formed inside the workpiece 1 along the planned cutting line 5, and the modified region 7 formed along the planned cutting line 5 is formed. It becomes the cutting start area 8.

なお、集光点Pとは、レーザ光Lが集光する箇所のことである。また、切断予定ライン5は、直線状に限らず曲線状であってもよいし、仮想線に限らず加工対象物1の表面3に実際に引かれた線であってもよい。また、改質領域7は、連続的に形成される場合もあるし、断続的に形成される場合もある。また、改質領域7は列状でも点状でもよく、要は、改質領域7は少なくとも加工対象物1の内部に形成されていればよい。また、改質領域7を起点に亀裂が形成される場合があり、亀裂及び改質領域7は、加工対象物1の外表面(表面、裏面、若しくは外周面)に露出していてもよい。   In addition, the condensing point P is a location where the laser light L is condensed. Further, the planned cutting line 5 is not limited to a straight line, but may be a curved line, or may be a line actually drawn on the surface 3 of the workpiece 1 without being limited to a virtual line. In addition, the modified region 7 may be formed continuously or intermittently. Further, the modified region 7 may be in the form of a line or a dot. In short, the modified region 7 only needs to be formed at least inside the workpiece 1. In addition, a crack may be formed starting from the modified region 7, and the crack and modified region 7 may be exposed on the outer surface (front surface, back surface, or outer peripheral surface) of the workpiece 1.

ちなみに、ここでのレーザ光Lは、加工対象物1を透過すると共に加工対象物1の内部の集光点近傍にて特に吸収され、これにより、加工対象物1に改質領域7が形成される(すなわち、内部吸収型レーザ加工)。よって、加工対象物1の表面3ではレーザ光Lが殆ど吸収されないので、加工対象物1の表面3が溶融することはない。一般的に、表面3から溶融され除去されて穴や溝等の除去部が形成される(表面吸収型レーザ加工)場合、加工領域は表面3側から徐々に裏面側に進行する。   Incidentally, the laser light L here passes through the workpiece 1 and is particularly absorbed near the condensing point inside the workpiece 1, thereby forming the modified region 7 in the workpiece 1. (Ie, internal absorption laser processing). Therefore, since the laser beam L is hardly absorbed by the surface 3 of the workpiece 1, the surface 3 of the workpiece 1 is not melted. In general, when a removed portion such as a hole or a groove is formed by being melted and removed from the front surface 3 (surface absorption laser processing), the processing region gradually proceeds from the front surface 3 side to the back surface side.

ところで、本実施形態で形成される改質領域は、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲とは異なる状態になった領域をいう。改質領域としては、例えば、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域等があり、これらが混在した領域もある。更に、改質領域としては、加工対象物の材料において改質領域の密度が非改質領域の密度と比較して変化した領域や、格子欠陥が形成された領域がある(これらをまとめて高密転移領域ともいう)。   By the way, the modified region formed in the present embodiment refers to a region where the density, refractive index, mechanical strength, and other physical characteristics are different from the surroundings. Examples of the modified region include a melt treatment region, a crack region, a dielectric breakdown region, a refractive index change region, and the like, and there is a region where these are mixed. Furthermore, as the modified region, there are a region in which the density of the modified region in the material to be processed is changed as compared with the density of the non-modified region, and a region in which lattice defects are formed (collectively these are high-density regions). Also known as the metastatic region).

また、溶融処理領域や屈折率変化領域、改質領域の密度が非改質領域の密度と比較して変化した領域、格子欠陥が形成された領域は、更に、それら領域の内部や改質領域と非改質領域との界面に亀裂(割れ、マイクロクラック等)を内包している場合がある。内包される亀裂は改質領域の全面に渡る場合や一部分のみや複数部分に形成される場合がある。加工対象物1としては、例えばシリコン、ガラス、LiTaO又はサファイア(Al)からなる基板やウェハ、又はそのような基板やウェハを含むものが挙げられる。 In addition, the area where the density of the melt treatment area, the refractive index change area, the modified area has changed compared to the density of the non-modified area, and the area where lattice defects are formed are further included in these areas and the modified areas. In some cases, cracks (cracks, microcracks, etc.) are included in the interface between the non-modified region and the non-modified region. The included crack may be formed over the entire surface of the modified region, or may be formed in only a part or a plurality of parts. Examples of the processing object 1 include a substrate or wafer made of silicon, glass, LiTaO 3 or sapphire (Al 2 O 3 ), or a material including such a substrate or wafer.

また、本実施形態においては、切断予定ライン5に沿って改質スポット(加工痕)を複数形成することによって、改質領域7を形成している。改質スポットとは、パルスレーザ光の1パルスのショット(つまり1パルスのレーザ照射:レーザショット)で形成される改質部分であり、改質スポットが集まることにより改質領域7となる。改質スポットとしては、クラックスポット、溶融処理スポット若しくは屈折率変化スポット、又はこれらの少なくとも1つが混在するもの等が挙げられる。   Further, in the present embodiment, the modified region 7 is formed by forming a plurality of modified spots (processing marks) along the planned cutting line 5. The modified spot is a modified portion formed by one pulse shot of pulsed laser light (that is, one pulse of laser irradiation: laser shot). Examples of the modified spot include a crack spot, a melting treatment spot, a refractive index change spot, or a mixture of at least one of these.

この改質スポットについては、要求される切断精度、要求される切断面の平坦性、加工対象物の厚さ、種類、結晶方位等を考慮して、その大きさや発生する亀裂の長さを適宜制御することが好ましい。
[第1実施形態]
Considering the required cutting accuracy, required flatness of the cut surface, thickness of the workpiece, type, crystal orientation, etc., the size of the modified spot and the length of the crack to be generated are appropriately determined. It is preferable to control.
[First Embodiment]

図7に示すように、加工対象物1は、表面1a及び裏面1bを有する矩形板状の部材であり、強化ガラス板10を備えている。強化ガラス板10は、引張応力層、及びその引張応力層の両側に形成された圧縮応力層を有するガラス板である。強化ガラス板10は、通常のガラス(フロートガラス)板を溶融塩に浸漬させ、イオン交換によってガラス板の表面層に圧縮応力層を形成したり(イオン交換法)、通常のガラス板を加熱した後、ガラス板の表面に空気を吹き付けるなどしてガラス板を急冷させたり(風冷強化法)することで製造される。強化ガラス板10では、その厚さ方向が、引張応力層及び圧縮応力層の配列方向と一致している。   As shown in FIG. 7, the workpiece 1 is a rectangular plate-shaped member having a front surface 1 a and a back surface 1 b and includes a tempered glass plate 10. The tempered glass plate 10 is a glass plate having a tensile stress layer and a compressive stress layer formed on both sides of the tensile stress layer. The tempered glass plate 10 is formed by immersing a normal glass (float glass) plate in a molten salt and forming a compressive stress layer on the surface layer of the glass plate by ion exchange (ion exchange method) or heating a normal glass plate. Thereafter, the glass plate is rapidly cooled (air cooling strengthening method) by blowing air on the surface of the glass plate. In the tempered glass plate 10, the thickness direction thereof coincides with the arrangement direction of the tensile stress layer and the compressive stress layer.

以上のように構成された加工対象物1から、以下のように、矩形板状の有効部17を複数(ここでは、4枚)切り出す。なお、有効部17は、表面17a及び裏面17b、並びに面取りされた4つの角部18を有するものであり、各角部18は、その面取り面18aが凸曲面となるようにR面取りされたものである。このような有効部17は、携帯型端末のディスプレイの保護基板等に用いられる。   A plurality (four in this case) of rectangular plate-shaped effective portions 17 are cut out from the workpiece 1 configured as described above as follows. The effective portion 17 has a front surface 17a, a back surface 17b, and four chamfered corners 18. Each corner 18 is rounded so that the chamfered surface 18a is a convex curved surface. It is. Such an effective portion 17 is used for a protective substrate of a display of a portable terminal.

まず、図8に示すように、加工対象物1の表面1a及び裏面1bの全領域を覆うように、表面1a及び裏面1bにレジスト(保護膜)21を形成する(第1工程)。有効部17が例えば携帯型端末のタッチパネルに用いられるものであると、各有効部17の外表面(すなわち、加工対象物1の表面1a及び裏面1b)に樹脂膜等がパターニングされている場合があるため、レジスト21によって有効部17の外表面を保護する。なお、レジスト21は、例えば、液晶パネル製造用のレジストであるZEONREX(日本ゼオン製 登録商標)等、レーザ光Lを透過させる材料からなる。   First, as shown in FIG. 8, a resist (protective film) 21 is formed on the front surface 1a and the back surface 1b so as to cover the entire area of the front surface 1a and the back surface 1b of the workpiece 1 (first step). When the effective portion 17 is used for a touch panel of a portable terminal, for example, a resin film or the like may be patterned on the outer surface of each effective portion 17 (that is, the front surface 1a and the back surface 1b of the workpiece 1). For this reason, the outer surface of the effective portion 17 is protected by the resist 21. The resist 21 is made of a material that transmits the laser light L, such as ZEONREX (registered trademark of Nippon Zeon), which is a resist for manufacturing a liquid crystal panel.

レジスト21を形成した後に、加工対象物1をレーザ加工装置100の支持台107上に載置する。このとき、加工対象物1の裏面1b側にテープを貼ったり、或いは支持台107を多孔質状に形成して加工対象物1を真空吸着したりするなど、支持台107上において加工対象物1を保持する。そして、加工対象物1に対し、切断予定ライン51,52を設定する。   After forming the resist 21, the workpiece 1 is placed on the support base 107 of the laser processing apparatus 100. At this time, a tape is attached to the back surface 1b side of the workpiece 1 or the workpiece 1 is vacuum-adsorbed on the workpiece 107 by forming the support 107 in a porous shape. Hold. Then, scheduled cutting lines 51 and 52 are set for the workpiece 1.

切断予定ライン51は、加工対象物1に対して複数行複数列(ここでは、2行2列)配置された有効部17のうち、隣り合う有効部17,17の境界面に沿うように直線状に延在している。つまり、切断予定ライン51は、有効部17の側面19(すなわち、各有効部17の4つの端面17c及び4つの面取り面18a)のうち、隣り合う有効部17と境界面を成す端面17cに沿うように延在している。また、切断予定ライン52は、有効部17の側面19のうち、角部18の面取り面18aに沿うように延在している。   The planned cutting line 51 is a straight line along the boundary surface between the adjacent effective portions 17 and 17 among the effective portions 17 arranged in a plurality of rows and a plurality of columns (here, 2 rows and 2 columns) with respect to the workpiece 1. It extends to the shape. That is, the planned cutting line 51 is along the end surface 17c that forms a boundary surface with the adjacent effective portion 17 among the side surfaces 19 of the effective portion 17 (that is, the four end surfaces 17c and the four chamfered surfaces 18a of each effective portion 17). So as to extend. Further, the planned cutting line 52 extends along the chamfered surface 18 a of the corner portion 18 in the side surface 19 of the effective portion 17.

続いて、図9に示すように、加工対象物1の表面1aをレーザ光入射面として強化ガラス板10の内部にレーザ光Lの集光点を位置させ、各切断予定ライン51に沿って加工対象物1にレーザ光Lを照射する。つまり、切断予定ライン51に沿ってレーザ光Lの集光点を相対的に移動(スキャン)させる。このとき、加工対象物1の表面1aに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させる。これにより、加工対象物1の厚さ方向に伸展する亀裂80を発生させる改質領域7Aを、切断予定ライン51に沿って強化ガラス板10の内部に形成する(第2工程)。   Subsequently, as shown in FIG. 9, the focusing point of the laser beam L is positioned inside the tempered glass plate 10 with the surface 1 a of the workpiece 1 as the laser beam incident surface, and processing is performed along each scheduled cutting line 51. The object 1 is irradiated with laser light L. That is, the condensing point of the laser beam L is relatively moved (scanned) along the planned cutting line 51. At this time, the laser beam L is incident on the processing target 1 through the resist 21 formed on the surface 1 a of the processing target 1. Thereby, the modified region 7A that generates the crack 80 extending in the thickness direction of the workpiece 1 is formed inside the tempered glass plate 10 along the scheduled cutting line 51 (second step).

また、加工対象物1の表面1aをレーザ光入射面として強化ガラス板10の内部にレーザ光Lの集光点を位置させ、各切断予定ライン52に沿って加工対象物1にレーザ光Lを照射する。つまり、切断予定ライン52に沿ってレーザ光Lの集光点を相対的に移動(スキャン)させる。このとき、加工対象物1の表面1aに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させる。これにより、加工対象物1の厚さ方向に伸展する亀裂80を発生させる改質領域7Bを(図10参照)、切断予定ライン52に沿って強化ガラス板10の内部に形成する(第2工程)。   Further, the condensing point of the laser beam L is positioned inside the tempered glass plate 10 with the surface 1 a of the workpiece 1 as the laser beam incident surface, and the laser beam L is applied to the workpiece 1 along each scheduled cutting line 52. Irradiate. That is, the condensing point of the laser light L is relatively moved (scanned) along the planned cutting line 52. At this time, the laser beam L is incident on the processing target 1 through the resist 21 formed on the surface 1 a of the processing target 1. Thus, the modified region 7B that generates the crack 80 extending in the thickness direction of the workpiece 1 (see FIG. 10) is formed inside the tempered glass plate 10 along the planned cutting line 52 (second step). ).

そして、切断予定ライン51,52に沿って外力を作用させて、改質領域7A,7Bから発生した亀裂80を加工対象物1の厚さ方向に伸展させることにより、切断予定ライン51,52に沿って加工対象物1及びレジスト21を切断して、加工対象物1から有効部17を複数切り出す(第2工程)。図10に示すように、切り出された有効部17の側面19には改質領域7A,7Bが存在しており、また、切り出された有効部17の表面17a及び裏面17bにはレジスト21が存在している。   Then, by applying an external force along the planned cutting lines 51 and 52 and extending the crack 80 generated from the modified regions 7A and 7B in the thickness direction of the workpiece 1, the planned cutting lines 51 and 52 are formed. The workpiece 1 and the resist 21 are cut along the cut, and a plurality of effective portions 17 are cut out from the workpiece 1 (second step). As shown in FIG. 10, the modified regions 7A and 7B exist on the side surface 19 of the cut-out effective portion 17, and the resist 21 exists on the front surface 17a and the back surface 17b of the cut-out effective portion 17. doing.

有効部17を切り出した後に、図11に示すように、有効部17の側面19に存在する改質領域7A,7Bを除去し、図12に示すように、有効部17の表面17a及び裏面17bに存在する保護膜を除去して(第3工程)、強化ガラス板10を備える板状の有効部17を得る。   After cutting out the effective portion 17, the modified regions 7A and 7B existing on the side surface 19 of the effective portion 17 are removed as shown in FIG. 11, and the front surface 17a and the back surface 17b of the effective portion 17 are removed as shown in FIG. Is removed (third step) to obtain a plate-shaped effective portion 17 including the tempered glass plate 10.

より詳細には、研磨工具等を用いた機械研磨によって改質領域7A,7Bを除去し、その後に、例えばNaOHやKOHを用いたエッチング等の化学処理によってレジスト21を除去する。若しくは、例えばHF(フッ酸)を用いたエッチング等の化学処理によって改質領域7A,7Bを除去し、その後に、例えばNaOHやKOHを用いたエッチング等の化学処理によってレジスト21(この場合、耐フッ酸性)を除去する。   More specifically, the modified regions 7A and 7B are removed by mechanical polishing using a polishing tool or the like, and then the resist 21 is removed by chemical treatment such as etching using NaOH or KOH. Alternatively, the modified regions 7A and 7B are removed by chemical treatment such as etching using HF (hydrofluoric acid), for example, and then the resist 21 (in this case, resisting resistance is obtained by chemical treatment such as etching using NaOH or KOH). (Hydrofluoric acid) is removed.

又は、例えばHF(フッ酸)を用いたエッチング等の化学処理によって、改質領域7A,7Bの除去及びレジスト21の除去を実施する。このように、一つの化学処理によって複数の処理を同時に実施すれば、加工工数の削減を図ることができる。   Alternatively, the modified regions 7A and 7B and the resist 21 are removed by chemical treatment such as etching using HF (hydrofluoric acid), for example. In this way, if a plurality of processes are performed simultaneously by one chemical process, the number of processing steps can be reduced.

以上説明したように、第1実施形態のレーザ加工方法では、加工対象物1の表面1a及び裏面1bにレジスト21を形成した後に、加工対象物1から有効部17を切り出すための加工を実施し、更にその後に、有効部17の側面19に存在する改質領域7A,7Bを除去し、有効部17の表面17a及び裏面17bに存在するレジスト21を除去する。従って、加工時には有効部17の表面17a及び裏面17bがレジスト21によって保護され、切り出された有効部17からは抗折強度を低下させる一因となる改質領域7A,7Bが除去される。よって、第1実施形態のレーザ加工方法によれば、加工対象物1から切り出された有効部17において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部17の外表面を保護することができる。   As described above, in the laser processing method of the first embodiment, after the resist 21 is formed on the front surface 1a and the back surface 1b of the processing target 1, processing for cutting out the effective portion 17 from the processing target 1 is performed. Thereafter, the modified regions 7A and 7B existing on the side surface 19 of the effective portion 17 are removed, and the resist 21 existing on the front surface 17a and the back surface 17b of the effective portion 17 is removed. Therefore, the front surface 17a and the back surface 17b of the effective portion 17 are protected by the resist 21 during processing, and the modified regions 7A and 7B that cause a decrease in the bending strength are removed from the cut out effective portion 17. Therefore, according to the laser processing method of the first embodiment, it is possible to suppress the bending strength from being lowered in the effective portion 17 cut out from the workpiece 1 and to reduce the outer surface of the effective portion 17 during processing. Can be protected.

また、改質領域7A,7Bを形成するときには、加工対象物1の表面1a及び裏面1bの全領域を覆うように形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させる。このように、レーザ光Lを透過させ得るレジスト21を使用することで、レジスト21のパターニングが不要となるため、加工工数の削減を図ることができる。
[第2実施形態]
Further, when the modified regions 7A and 7B are formed, the laser beam L is incident on the workpiece 1 through the resist 21 formed so as to cover the entire area of the front surface 1a and the back surface 1b of the workpiece 1. . In this manner, by using the resist 21 that can transmit the laser light L, patterning of the resist 21 becomes unnecessary, so that the number of processing steps can be reduced.
[Second Embodiment]

第2実施形態のレーザ加工方法は、加工対象物1が未強化ガラス板20(すなわち、通常のガラス(フロートガラス)板)を備える点で、上述した第1実施形態のレーザ加工方法と主に相違している。第2実施形態のレーザ加工方法では、まず、図13に示すように、未強化ガラス板20を備える加工対象物1を準備し、図14に示すように、加工対象物1の表面1a及び裏面1bの全領域を覆うように、表面1a及び裏面1bにレジスト21を形成する(第1工程)。   The laser processing method of the second embodiment is mainly different from the laser processing method of the first embodiment described above in that the workpiece 1 includes an unstrengthened glass plate 20 (that is, a normal glass (float glass) plate). It is different. In the laser processing method according to the second embodiment, first, as shown in FIG. 13, a workpiece 1 including an unstrengthened glass plate 20 is prepared, and as shown in FIG. 14, the front surface 1 a and the back surface of the workpiece 1. A resist 21 is formed on the front surface 1a and the back surface 1b so as to cover the entire region 1b (first step).

レジスト21を形成した後に、図15に示すように、加工対象物1の表面1aをレーザ光入射面として未強化ガラス板20の内部にレーザ光Lの集光点を位置させ、各切断予定ライン51,52に沿って加工対象物1にレーザ光Lを照射する。つまり、切断予定ライン51,52に沿ってレーザ光Lの集光点を相対的に移動(スキャン)させる。このとき、加工対象物1の表面1aに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させる。これにより、加工対象物1の厚さ方向に伸展する亀裂80を発生させる改質領域7A,7Bを、切断予定ライン51,52に沿って未強化ガラス板20の内部に形成する(第2工程)。   After forming the resist 21, as shown in FIG. 15, the surface 1a of the workpiece 1 is used as the laser beam incident surface, the condensing point of the laser beam L is located inside the unstrengthened glass plate 20, and each cutting planned line The workpiece 1 is irradiated with the laser beam L along the lines 51 and 52. That is, the condensing point of the laser beam L is relatively moved (scanned) along the scheduled cutting lines 51 and 52. At this time, the laser beam L is incident on the processing target 1 through the resist 21 formed on the surface 1 a of the processing target 1. Thus, the modified regions 7A and 7B that generate the crack 80 extending in the thickness direction of the workpiece 1 are formed in the unstrengthened glass plate 20 along the scheduled cutting lines 51 and 52 (second step). ).

そして、切断予定ライン51,52に沿って外力を作用させて、改質領域7A,7Bから発生した亀裂80を加工対象物1の厚さ方向に伸展させることにより、切断予定ライン51,52に沿って加工対象物1及びレジスト21を切断して、加工対象物1から有効部17を複数切り出す(第2工程)。図16に示すように、切り出された有効部17の側面19には改質領域7A,7Bが存在しており、また、切り出された有効部17の表面17a及び裏面17bにはレジスト21が存在している。   Then, by applying an external force along the planned cutting lines 51 and 52 and extending the crack 80 generated from the modified regions 7A and 7B in the thickness direction of the workpiece 1, the planned cutting lines 51 and 52 are formed. The workpiece 1 and the resist 21 are cut along the cut, and a plurality of effective portions 17 are cut out from the workpiece 1 (second step). As shown in FIG. 16, the modified regions 7A and 7B exist on the side surface 19 of the cut out effective portion 17, and the resist 21 exists on the front surface 17a and the back surface 17b of the cut out effective portion 17. doing.

有効部17を切り出した後に、図17に示すように、有効部17の側面19に存在する改質領域7A,7Bを除去し、図18に示すように、有効部17の表面17a及び裏面17bに存在する保護膜を除去し、未強化ガラス板20を強化して(第3工程)、図12に示すように、強化ガラス板10を備える板状の有効部17を得る。   After cutting out the effective portion 17, the modified regions 7A and 7B existing on the side surface 19 of the effective portion 17 are removed as shown in FIG. 17, and the front surface 17a and the back surface 17b of the effective portion 17 are removed as shown in FIG. Is removed, the unstrengthened glass plate 20 is strengthened (third step), and a plate-shaped effective portion 17 including the strengthened glass plate 10 is obtained as shown in FIG.

より詳細には、研磨工具等を用いた機械研磨によって改質領域7A,7Bを除去し、その後に、例えばNaOHやKOHを用いたエッチング等の化学処理によってレジスト21を除去し、例えばイオン交換法等の化学処理によって未強化ガラス板20を強化する。若しくは、例えばHF(フッ酸)を用いたエッチング等の化学処理によって改質領域7A,7Bを除去し、その後に、例えばNaOHやKOHを用いたエッチング等の化学処理によってレジスト21(この場合、耐フッ酸性)を除去し、イオン交換法等の化学処理によって未強化ガラス板20を強化する。   More specifically, the modified regions 7A and 7B are removed by mechanical polishing using a polishing tool or the like, and then the resist 21 is removed by chemical treatment such as etching using NaOH or KOH, for example, an ion exchange method. The unstrengthened glass plate 20 is strengthened by chemical treatment such as the above. Alternatively, the modified regions 7A and 7B are removed by chemical treatment such as etching using HF (hydrofluoric acid), for example, and then the resist 21 (in this case, resisting resistance is obtained by chemical treatment such as etching using NaOH or KOH). Hydrofluoric acid) is removed, and the unstrengthened glass plate 20 is strengthened by chemical treatment such as ion exchange.

又は、例えばエッチング等の化学処理によって、改質領域7A,7Bの除去及びレジスト21の除去を実施する。若しくは、化学処理によって、レジスト21の除去及び未強化ガラス板20の強化を実施する。若しくは、化学処理によって、改質領域7A,7Bの除去、レジスト21の除去及び未強化ガラス板20の強化を実施する。このように、一つの化学処理によって複数の処理を同時に実施すれば、加工工数の削減を図ることができる。   Alternatively, the modified regions 7A and 7B and the resist 21 are removed by chemical treatment such as etching. Alternatively, the resist 21 is removed and the unstrengthened glass plate 20 is strengthened by chemical treatment. Alternatively, the modified regions 7A and 7B are removed, the resist 21 is removed, and the unstrengthened glass plate 20 is strengthened by chemical treatment. In this way, if a plurality of processes are performed simultaneously by one chemical process, the number of processing steps can be reduced.

以上説明したように、第2実施形態のレーザ加工方法では、加工対象物1の表面1a及び裏面1bにレジスト21を形成した後に、加工対象物1から有効部17を切り出すための加工を実施し、更にその後に、有効部17の側面19に存在する改質領域7A,7Bを除去し、有効部17の表面17a及び裏面17bに存在するレジスト21を除去する。よって、第2実施形態のレーザ加工方法によれば、第1実施形態のレーザ加工方法と同様の効果が奏される。   As described above, in the laser processing method according to the second embodiment, after forming the resist 21 on the front surface 1a and the back surface 1b of the processing target 1, processing for cutting out the effective portion 17 from the processing target 1 is performed. Thereafter, the modified regions 7A and 7B existing on the side surface 19 of the effective portion 17 are removed, and the resist 21 existing on the front surface 17a and the back surface 17b of the effective portion 17 is removed. Therefore, according to the laser processing method of the second embodiment, the same effects as those of the laser processing method of the first embodiment are exhibited.

以上、本発明の第1及び第2実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、加工対象物及び有効部の形状としては、矩形板状に限定されず、様々な形状を適用することができる。また、加工対象物から一つの有効部を切り出してもよい。   Although the first and second embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, the shapes of the processing object and the effective portion are not limited to a rectangular plate shape, and various shapes can be applied. Moreover, you may cut out one effective part from a process target object.

また、各切断予定ラインに対して、加工対象物の厚さ方向に並ぶように複数列の改質領域を形成してもよい。その場合にも、本発明によれば、加工対象物から切り出された有効部において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部の外表面を保護することができる。1本の切断予定ラインに対する改質領域の列数は、加工対象物の厚さ等に応じて適宜決定することができるものである。   In addition, a plurality of rows of modified regions may be formed so as to be aligned in the thickness direction of the workpiece with respect to each scheduled cutting line. Even in such a case, according to the present invention, it is possible to suppress the bending strength from being lowered in the effective portion cut out from the workpiece, and to protect the outer surface of the effective portion during processing. The number of columns of the modified region for one scheduled cutting line can be determined as appropriate according to the thickness of the workpiece.

また、上記実施形態では、改質領域を形成した後に、切断予定ラインに沿って外力を作用させて、改質領域から発生した亀裂を加工対象物の表面及び裏面に到達させ、それにより、切断予定ラインに沿って加工対象物を切断したが、これに限定されない。つまり、各切断予定ラインに対する改質領域の形成に伴って(加工対象物に何ら外力を作用させずに)、改質領域から発生した亀裂を加工対象物の表面及び裏面に到達させ、加工対象物と共にレジスト等の保護膜を切断してもよい。なお、切断予定ラインに沿って外力を作用させる場合には、改質領域の形成に伴って亀裂を発生されるだけで、加工対象物の表面及び裏面のいずれか一方に亀裂を到達させるだけでもよいし、或いは、加工対象物の表面及び裏面の両方に亀裂を到達させなくてもよい。   In the above embodiment, after the modified region is formed, an external force is applied along the planned cutting line to cause the cracks generated from the modified region to reach the front and back surfaces of the workpiece, thereby cutting. Although the workpiece was cut along the planned line, the present invention is not limited to this. That is, with the formation of the modified region for each planned cutting line (without applying any external force to the workpiece), the cracks generated from the modified region reach the front and back surfaces of the workpiece, You may cut | disconnect protective films, such as a resist, with a thing. In addition, when an external force is applied along the planned cutting line, only a crack is generated along with the formation of the modified region, and only the crack reaches the one of the front surface and the back surface of the workpiece. Alternatively, it is not necessary to cause cracks to reach both the front and back surfaces of the workpiece.

また、加工対象物は、強化ガラス板の表面及び裏面の少なくとも一方に樹脂膜等が形成されたものであってもよいし、未強化ガラス板の表面及び裏面の少なくとも一方に樹脂膜等が形成されたものであってもよい。また、改質領域としては、レーザ光の照射条件等によって、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域等や、これらが混在した領域が形成される。   The object to be processed may be one in which a resin film or the like is formed on at least one of the front and back surfaces of the tempered glass plate, or a resin film or the like is formed on at least one of the front and back surfaces of the unreinforced glass plate. It may be what was done. In addition, as the modified region, a melt-processed region, a crack region, a dielectric breakdown region, a refractive index change region, or a region in which these are mixed is formed depending on the irradiation condition of the laser beam.

また、上記実施形態では、加工対象物1の表面1aに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させたが、加工対象物1の裏面1bに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the laser beam L was made to inject into the process target object 1 via the resist 21 formed in the surface 1a of the process target object 1, the resist formed in the back surface 1b of the process target object 1 The laser beam L may be incident on the workpiece 1 via 21.

また、加工対象物1の表面1a及び裏面1bの少なくとも一方において、切断予定ライン51,52に沿った領域以外の領域を覆うように、レジスト21を形成し(例えば、フォトリソグラフィ技術によりレジスト21をパターニングし)、その後に、切断予定ライン51,52に沿った領域を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させてもよい。これによれば、例えば、ブラックマトリックス(金属クロム膜や遮光性樹脂ブラック材料)等、レーザ光Lの透過性が低い材料からなるレジスト21を使用することができるなど、レジスト21となる保護膜の選択の自由度を高めることができる。   Further, a resist 21 is formed on at least one of the front surface 1a and the back surface 1b of the workpiece 1 so as to cover a region other than the regions along the scheduled cutting lines 51 and 52 (for example, the resist 21 is formed by a photolithography technique). Patterning), and then, the laser beam L may be incident on the workpiece 1 through the regions along the planned cutting lines 51 and 52. According to this, for example, it is possible to use a resist 21 made of a material having low transmittance of the laser light L, such as a black matrix (a metal chromium film or a light-shielding resin black material). The degree of freedom of selection can be increased.

1…加工対象物、1a…表面、1b…裏面、7A,7B…改質領域、10…強化ガラス板、17…有効部、17a…表面、17b…裏面、19…側面、20…未強化ガラス板、21…レジスト(保護膜)、51,52…切断予定ライン、80…亀裂、L…レーザ光、P…集光点。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Processing target object, 1a ... Front surface, 1b ... Back surface, 7A, 7B ... Modified region, 10 ... Tempered glass plate, 17 ... Effective part, 17a ... Front surface, 17b ... Back surface, 19 ... Side surface, 20 ... Unreinforced glass Plate, 21: Resist (protective film), 51, 52: Planned cutting line, 80: Crack, L: Laser beam, P: Focusing point.

Claims (12)

ガラス板を備える板状の加工対象物から有効部を切り出すためのレーザ加工方法であって、
前記加工対象物の表面及び裏面に保護膜を形成する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記有効部の側面に沿うように延在する切断予定ラインに沿って、レーザ光の集光点を相対的に移動させることにより、前記切断予定ラインに沿って前記ガラス板の内部に改質領域を形成し、前記改質領域から発生した亀裂を前記加工対象物の厚さ方向に伸展させることにより、前記加工対象物から前記有効部を切り出す第2工程と、
前記第2工程の後に、前記有効部の前記側面に存在する前記改質領域を除去し、前記有効部の表面及び裏面に存在する前記保護膜を除去する第3工程と、を備える、レーザ加工方法。
A laser processing method for cutting out an effective portion from a plate-like processing object including a glass plate,
A first step of forming a protective film on the front and back surfaces of the workpiece;
After the first step, the glass is moved along the planned cutting line by relatively moving a condensing point of the laser light along the planned cutting line extending along the side surface of the effective portion. Forming a modified region inside the plate, and extending a crack generated from the modified region in the thickness direction of the workpiece, thereby cutting out the effective portion from the workpiece;
After the second step, a third step of removing the modified region existing on the side surface of the effective portion and removing the protective film existing on the front surface and the back surface of the effective portion, laser processing Method.
前記第1工程では、前記加工対象物の前記表面及び前記裏面の全領域を覆うように、前記保護膜を形成し、
前記第2工程では、前記加工対象物の前記表面又は前記裏面に形成された前記保護膜を介して、前記加工対象物に前記レーザ光を入射させる、請求項1記載のレーザ加工方法。
In the first step, the protective film is formed so as to cover the entire area of the front surface and the back surface of the workpiece,
The laser processing method according to claim 1, wherein, in the second step, the laser light is incident on the processing object through the protective film formed on the front surface or the back surface of the processing object.
前記第1工程では、前記加工対象物の前記表面及び前記裏面の少なくとも一方において、前記切断予定ラインに沿った領域以外の領域を覆うように、前記保護膜を形成し、
前記第2工程では、前記切断予定ラインに沿った前記領域を介して、前記加工対象物に前記レーザ光を入射させる、請求項1記載のレーザ加工方法。
In the first step, in at least one of the front surface and the back surface of the workpiece, the protective film is formed so as to cover a region other than a region along the planned cutting line,
2. The laser processing method according to claim 1, wherein in the second step, the laser beam is incident on the object to be processed through the region along the planned cutting line.
前記ガラス板は、強化ガラス板である、請求項1〜3のいずれか一項記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 1, wherein the glass plate is a tempered glass plate. 前記第3工程では、機械研磨によって前記改質領域を除去し、その後に、前記保護膜を除去する、請求項4記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 4, wherein in the third step, the modified region is removed by mechanical polishing, and then the protective film is removed. 前記第3工程では、化学処理によって前記改質領域を除去し、その後に、前記保護膜を除去する、請求項4記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 4, wherein in the third step, the modified region is removed by chemical treatment, and then the protective film is removed. 前記第3工程では、化学処理によって前記改質領域を除去すると共に前記保護膜を除去する、請求項4記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 4, wherein in the third step, the modified region is removed by chemical treatment and the protective film is removed. 前記ガラス板は、未強化ガラス板であり、
前記第3工程では、前記ガラス板を強化する、請求項1〜3のいずれか一項記載のレーザ加工方法。
The glass plate is an unstrengthened glass plate,
The laser processing method according to claim 1, wherein in the third step, the glass plate is strengthened.
前記第3工程では、機械研磨によって前記改質領域を除去し、その後に、前記保護膜を除去し、前記ガラス板を強化する、請求項8記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 8, wherein, in the third step, the modified region is removed by mechanical polishing, and then the protective film is removed to strengthen the glass plate. 前記第3工程では、化学処理によって前記改質領域を除去し、その後に、前記保護膜を除去し、前記ガラス板を強化する、請求項8記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 8, wherein, in the third step, the modified region is removed by chemical treatment, and then the protective film is removed to strengthen the glass plate. 前記第3工程では、化学処理によって前記改質領域を除去すると共に前記保護膜を除去する、請求項8記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 8, wherein in the third step, the modified region is removed by chemical treatment and the protective film is removed. 前記第3工程では、化学処理によって前記保護膜を除去すると共に前記ガラス板を強化する、請求項8記載のレーザ加工方法。   The laser processing method according to claim 8, wherein in the third step, the protective film is removed by chemical treatment and the glass plate is strengthened.
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