JP2014019610A - Laser processing method - Google Patents
Laser processing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014019610A JP2014019610A JP2012159711A JP2012159711A JP2014019610A JP 2014019610 A JP2014019610 A JP 2014019610A JP 2012159711 A JP2012159711 A JP 2012159711A JP 2012159711 A JP2012159711 A JP 2012159711A JP 2014019610 A JP2014019610 A JP 2014019610A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing method
- workpiece
- laser processing
- glass plate
- protective film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、ガラス板を備える板状の加工対象物から有効部を切り出すためのレーザ加工方法に関する。 The present invention relates to a laser processing method for cutting out an effective portion from a plate-like processing object including a glass plate.
上記技術分野のレーザ加工方法として、板状の加工対象物にレーザ光を照射することにより、切断予定ラインに沿って加工対象物の内部に改質領域を形成し、その改質領域から発生した亀裂を加工対象物の厚さ方向に伸展させることにより、切断予定ラインに沿って加工対象物を切断するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。 As a laser processing method in the above technical field, a plate-shaped workpiece is irradiated with a laser beam, thereby forming a modified region inside the workpiece along the planned cutting line, and generated from the modified region. It is known that a workpiece is cut along a planned cutting line by extending a crack in the thickness direction of the workpiece (for example, see Patent Document 1).
しかしながら、上述したようなレーザ加工方法を実施することにより、ガラス板を備える板状の加工対象物から有効部を切り出すと、切り出された有効部の側面に存在する改質領域に起因して、切り出された有効部の抗折強度が低下するおそれがある。また、有効部が例えば携帯型端末のタッチパネルに用いられるものであると、有効部の外表面に樹脂膜等が形成されている場合があるため、加工時に有効部の外表面を保護する必要がある。 However, by carrying out the laser processing method as described above, and cutting out the effective portion from the plate-like processing object provided with the glass plate, due to the modified region existing on the side of the cut out effective portion, There is a possibility that the bending strength of the cut-out effective part is lowered. In addition, if the effective portion is used for a touch panel of a portable terminal, for example, a resin film or the like may be formed on the outer surface of the effective portion, so it is necessary to protect the outer surface of the effective portion during processing. is there.
そこで、本発明は、ガラス板を備える板状の加工対象物から切り出された有効部において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部の外表面を保護することができるレーザ加工方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention can prevent the bending strength from being lowered in the effective portion cut out from the plate-like workpiece including the glass plate, and can protect the outer surface of the effective portion during processing. An object of the present invention is to provide a laser processing method that can be used.
本発明のレーザ加工方法は、ガラス板を備える板状の加工対象物から有効部を切り出すためのレーザ加工方法であって、加工対象物の表面及び裏面に保護膜を形成する第1工程と、第1工程の後に、有効部の側面に沿うように延在する切断予定ラインに沿って、レーザ光の集光点を相対的に移動させることにより、切断予定ラインに沿ってガラス板の内部に改質領域を形成し、改質領域から発生した亀裂を加工対象物の厚さ方向に伸展させることにより、加工対象物から有効部を切り出す第2工程と、第2工程の後に、有効部の側面に存在する改質領域を除去し、有効部の表面及び裏面に存在する保護膜を除去する第3工程と、を備える。 The laser processing method of the present invention is a laser processing method for cutting out an effective portion from a plate-like processing object including a glass plate, and includes a first step of forming a protective film on the front surface and the back surface of the processing object, After the first step, the laser light condensing point is relatively moved along the planned cutting line extending along the side surface of the effective portion, thereby moving the glass plate along the planned cutting line. Forming a modified region and extending a crack generated in the modified region in the thickness direction of the workpiece, thereby cutting the effective portion from the workpiece; and after the second step, And a third step of removing the modified region existing on the side surface and removing the protective film present on the front surface and the back surface of the effective portion.
このレーザ加工方法では、加工対象物の表面及び裏面に保護膜を形成した後に、加工対象物から有効部を切り出すための加工を実施し、更にその後に、有効部の側面に存在する改質領域を除去し、有効部の表面及び裏面に存在する保護膜を除去する。従って、加工時には有効部の表面及び裏面が保護膜によって保護され、切り出された有効部からは抗折強度を低下させる一因となる改質領域が除去される。よって、このレーザ加工方法によれば、ガラス板を備える板状の加工対象物から切り出された有効部において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部の外表面を保護することができる。 In this laser processing method, after forming a protective film on the front and back surfaces of the workpiece, a process for cutting out the effective portion from the workpiece is performed, and then a modified region existing on the side surface of the effective portion. And the protective film present on the front and back surfaces of the effective portion is removed. Therefore, at the time of processing, the front and back surfaces of the effective portion are protected by the protective film, and the modified region that contributes to reducing the bending strength is removed from the cut out effective portion. Therefore, according to this laser processing method, it is possible to prevent the bending strength from being lowered in the effective portion cut out from the plate-like processing object including the glass plate, and to reduce the outer surface of the effective portion during processing. Can be protected.
ここで、第1工程では、加工対象物の表面及び裏面の全領域を覆うように、保護膜を形成し、第2工程では、加工対象物の表面又は裏面に形成された保護膜を介して、加工対象物にレーザ光を入射させてもよい。これによれば、レーザ光を透過させ得る保護膜を使用することで保護膜のパターニングが不要となるため、加工工数の削減を図ることができる。 Here, in the first step, a protective film is formed so as to cover the entire area of the front and back surfaces of the workpiece, and in the second step, the protective film is formed on the front or back surface of the workpiece. The laser beam may be incident on the object to be processed. According to this, since the protective film that can transmit the laser light is used, patterning of the protective film becomes unnecessary, so that the number of processing steps can be reduced.
或いは、第1工程では、加工対象物の表面及び裏面の少なくとも一方において、切断予定ラインに沿った領域以外の領域を覆うように、保護膜を形成し、第2工程では、切断予定ラインに沿った領域を介して、加工対象物にレーザ光を入射させてもよい。これによれば、レーザ光の透過性が低い保護膜を使用することができるなど、保護膜の選択の自由度を高めることができる。 Alternatively, in the first step, a protective film is formed on at least one of the front and back surfaces of the workpiece so as to cover a region other than the region along the planned cutting line, and in the second step, along the planned cutting line. The laser beam may be incident on the object to be processed through the region. According to this, the degree of freedom of selection of the protective film can be increased, such as the use of a protective film with low laser beam transparency.
また、ガラス板は、強化ガラス板であってもよい。このとき、第3工程では、機械研磨によって改質領域を除去し、その後に、保護膜を除去してもよいし、若しくは、化学処理によって改質領域を除去し、その後に、保護膜を除去してもよい。又は、第3工程では、化学処理によって改質領域を除去すると共に保護膜を除去してもよい。この場合には、更なる加工工数の削減を図ることができる。 The glass plate may be a tempered glass plate. At this time, in the third step, the modified region may be removed by mechanical polishing and then the protective film may be removed, or the modified region may be removed by chemical treatment and then the protective film is removed. May be. Alternatively, in the third step, the modified region may be removed by chemical treatment and the protective film may be removed. In this case, it is possible to further reduce the processing man-hours.
また、ガラス板は、未強化ガラス板であり、第3工程では、ガラス板を強化してもよい。このとき、第3工程では、機械研磨によって改質領域を除去し、その後に、保護膜を除去し、ガラス板を強化してもよいし、若しくは、化学処理によって改質領域を除去し、その後に、保護膜を除去し、ガラス板を強化してもよい。又は、第3工程では、化学処理によって改質領域を除去すると共に保護膜を除去してもよいし、若しくは、化学処理によって保護膜を除去すると共にガラス板を強化してもよい。この場合には、更なる加工工数の削減を図ることができる。 Further, the glass plate is an unstrengthened glass plate, and the glass plate may be strengthened in the third step. At this time, in the third step, the modified region may be removed by mechanical polishing, and then the protective film may be removed and the glass plate may be strengthened, or the modified region may be removed by chemical treatment, and then In addition, the protective film may be removed to strengthen the glass plate. Alternatively, in the third step, the modified region may be removed by chemical treatment and the protective film may be removed, or the protective film may be removed by chemical treatment and the glass plate may be strengthened. In this case, it is possible to further reduce the processing man-hours.
本発明によれば、ガラス板を備える板状の加工対象物から切り出された有効部において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部の外表面を保護することができるレーザ加工方法を提供することが可能となる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to suppress that a bending strength falls in the effective part cut out from the plate-shaped process target provided with a glass plate, it can protect the outer surface of an effective part at the time of a process. It is possible to provide a laser processing method that can be used.
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected to the same or an equivalent part, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
本発明の一実施形態のレーザ加工方法では、切断予定ラインに沿って加工対象物にレーザ光を照射することにより、切断予定ラインに沿って加工対象物の内部に切断の起点となる改質領域を形成する。そこで、加工対象物の材料を限定せずに、改質領域の形成について、図1〜図6を参照して説明する。 In the laser processing method of one embodiment of the present invention, the modified region that is the starting point of cutting inside the workpiece along the planned cutting line by irradiating the processing target with laser light along the planned cutting line Form. Therefore, the formation of the modified region will be described with reference to FIGS. 1 to 6 without limiting the material of the workpiece.
図1に示すように、レーザ加工装置100は、レーザ光Lをパルス発振するレーザ光源101と、レーザ光Lの光軸(光路)の向きを90°変えるように配置されたダイクロイックミラー103と、レーザ光Lを集光するための集光用レンズ105と、を備えている。また、レーザ加工装置100は、集光用レンズ105で集光されたレーザ光Lが照射される加工対象物1を支持するための支持台107と、支持台107を移動させるためのステージ111と、レーザ光Lの出力やパルス幅等を調節するためにレーザ光源101を制御するレーザ光源制御部102と、ステージ111の駆動を制御するステージ制御部115と、を備えている。
As shown in FIG. 1, a
このレーザ加工装置100においては、レーザ光源101から出射されたレーザ光Lは、ダイクロイックミラー103によってその光軸の向きを90°変えられ、支持台107上に載置された加工対象物1の内部に集光用レンズ105によって集光される。これと共に、ステージ111が移動させられ、加工対象物1がレーザ光Lに対して切断予定ライン5に沿って相対移動させられる。これにより、切断予定ライン5に沿った改質領域が加工対象物1に形成されることとなる。
In this
加工対象物1としては、種々の材料(例えば、ガラス、半導体材料、圧電材料等)からなる板状の部材(例えば、基板、ウェハ等)が用いられる。図2に示すように、加工対象物1には、加工対象物1を切断するための切断予定ライン5が設定されている。切断予定ライン5は、直線状に延びた仮想線である。加工対象物1の内部に改質領域を形成する場合、図3に示すように、加工対象物1の内部に集光点Pを合わせた状態で、レーザ光Lを切断予定ライン5に沿って(すなわち、図2の矢印A方向に)相対的に移動させる。これにより、図4〜図6に示すように、改質領域7が切断予定ライン5に沿って加工対象物1の内部に形成され、切断予定ライン5に沿って形成された改質領域7が切断起点領域8となる。
As the
なお、集光点Pとは、レーザ光Lが集光する箇所のことである。また、切断予定ライン5は、直線状に限らず曲線状であってもよいし、仮想線に限らず加工対象物1の表面3に実際に引かれた線であってもよい。また、改質領域7は、連続的に形成される場合もあるし、断続的に形成される場合もある。また、改質領域7は列状でも点状でもよく、要は、改質領域7は少なくとも加工対象物1の内部に形成されていればよい。また、改質領域7を起点に亀裂が形成される場合があり、亀裂及び改質領域7は、加工対象物1の外表面(表面、裏面、若しくは外周面)に露出していてもよい。
In addition, the condensing point P is a location where the laser light L is condensed. Further, the planned cutting line 5 is not limited to a straight line, but may be a curved line, or may be a line actually drawn on the
ちなみに、ここでのレーザ光Lは、加工対象物1を透過すると共に加工対象物1の内部の集光点近傍にて特に吸収され、これにより、加工対象物1に改質領域7が形成される(すなわち、内部吸収型レーザ加工)。よって、加工対象物1の表面3ではレーザ光Lが殆ど吸収されないので、加工対象物1の表面3が溶融することはない。一般的に、表面3から溶融され除去されて穴や溝等の除去部が形成される(表面吸収型レーザ加工)場合、加工領域は表面3側から徐々に裏面側に進行する。
Incidentally, the laser light L here passes through the
ところで、本実施形態で形成される改質領域は、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲とは異なる状態になった領域をいう。改質領域としては、例えば、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域等があり、これらが混在した領域もある。更に、改質領域としては、加工対象物の材料において改質領域の密度が非改質領域の密度と比較して変化した領域や、格子欠陥が形成された領域がある(これらをまとめて高密転移領域ともいう)。 By the way, the modified region formed in the present embodiment refers to a region where the density, refractive index, mechanical strength, and other physical characteristics are different from the surroundings. Examples of the modified region include a melt treatment region, a crack region, a dielectric breakdown region, a refractive index change region, and the like, and there is a region where these are mixed. Furthermore, as the modified region, there are a region in which the density of the modified region in the material to be processed is changed as compared with the density of the non-modified region, and a region in which lattice defects are formed (collectively these are high-density regions). Also known as the metastatic region).
また、溶融処理領域や屈折率変化領域、改質領域の密度が非改質領域の密度と比較して変化した領域、格子欠陥が形成された領域は、更に、それら領域の内部や改質領域と非改質領域との界面に亀裂(割れ、マイクロクラック等)を内包している場合がある。内包される亀裂は改質領域の全面に渡る場合や一部分のみや複数部分に形成される場合がある。加工対象物1としては、例えばシリコン、ガラス、LiTaO3又はサファイア(Al2O3)からなる基板やウェハ、又はそのような基板やウェハを含むものが挙げられる。
In addition, the area where the density of the melt treatment area, the refractive index change area, the modified area has changed compared to the density of the non-modified area, and the area where lattice defects are formed are further included in these areas and the modified areas. In some cases, cracks (cracks, microcracks, etc.) are included in the interface between the non-modified region and the non-modified region. The included crack may be formed over the entire surface of the modified region, or may be formed in only a part or a plurality of parts. Examples of the
また、本実施形態においては、切断予定ライン5に沿って改質スポット(加工痕)を複数形成することによって、改質領域7を形成している。改質スポットとは、パルスレーザ光の1パルスのショット(つまり1パルスのレーザ照射:レーザショット)で形成される改質部分であり、改質スポットが集まることにより改質領域7となる。改質スポットとしては、クラックスポット、溶融処理スポット若しくは屈折率変化スポット、又はこれらの少なくとも1つが混在するもの等が挙げられる。
Further, in the present embodiment, the modified
この改質スポットについては、要求される切断精度、要求される切断面の平坦性、加工対象物の厚さ、種類、結晶方位等を考慮して、その大きさや発生する亀裂の長さを適宜制御することが好ましい。
[第1実施形態]
Considering the required cutting accuracy, required flatness of the cut surface, thickness of the workpiece, type, crystal orientation, etc., the size of the modified spot and the length of the crack to be generated are appropriately determined. It is preferable to control.
[First Embodiment]
図7に示すように、加工対象物1は、表面1a及び裏面1bを有する矩形板状の部材であり、強化ガラス板10を備えている。強化ガラス板10は、引張応力層、及びその引張応力層の両側に形成された圧縮応力層を有するガラス板である。強化ガラス板10は、通常のガラス(フロートガラス)板を溶融塩に浸漬させ、イオン交換によってガラス板の表面層に圧縮応力層を形成したり(イオン交換法)、通常のガラス板を加熱した後、ガラス板の表面に空気を吹き付けるなどしてガラス板を急冷させたり(風冷強化法)することで製造される。強化ガラス板10では、その厚さ方向が、引張応力層及び圧縮応力層の配列方向と一致している。
As shown in FIG. 7, the
以上のように構成された加工対象物1から、以下のように、矩形板状の有効部17を複数(ここでは、4枚)切り出す。なお、有効部17は、表面17a及び裏面17b、並びに面取りされた4つの角部18を有するものであり、各角部18は、その面取り面18aが凸曲面となるようにR面取りされたものである。このような有効部17は、携帯型端末のディスプレイの保護基板等に用いられる。
A plurality (four in this case) of rectangular plate-shaped
まず、図8に示すように、加工対象物1の表面1a及び裏面1bの全領域を覆うように、表面1a及び裏面1bにレジスト(保護膜)21を形成する(第1工程)。有効部17が例えば携帯型端末のタッチパネルに用いられるものであると、各有効部17の外表面(すなわち、加工対象物1の表面1a及び裏面1b)に樹脂膜等がパターニングされている場合があるため、レジスト21によって有効部17の外表面を保護する。なお、レジスト21は、例えば、液晶パネル製造用のレジストであるZEONREX(日本ゼオン製 登録商標)等、レーザ光Lを透過させる材料からなる。
First, as shown in FIG. 8, a resist (protective film) 21 is formed on the
レジスト21を形成した後に、加工対象物1をレーザ加工装置100の支持台107上に載置する。このとき、加工対象物1の裏面1b側にテープを貼ったり、或いは支持台107を多孔質状に形成して加工対象物1を真空吸着したりするなど、支持台107上において加工対象物1を保持する。そして、加工対象物1に対し、切断予定ライン51,52を設定する。
After forming the resist 21, the
切断予定ライン51は、加工対象物1に対して複数行複数列(ここでは、2行2列)配置された有効部17のうち、隣り合う有効部17,17の境界面に沿うように直線状に延在している。つまり、切断予定ライン51は、有効部17の側面19(すなわち、各有効部17の4つの端面17c及び4つの面取り面18a)のうち、隣り合う有効部17と境界面を成す端面17cに沿うように延在している。また、切断予定ライン52は、有効部17の側面19のうち、角部18の面取り面18aに沿うように延在している。
The
続いて、図9に示すように、加工対象物1の表面1aをレーザ光入射面として強化ガラス板10の内部にレーザ光Lの集光点を位置させ、各切断予定ライン51に沿って加工対象物1にレーザ光Lを照射する。つまり、切断予定ライン51に沿ってレーザ光Lの集光点を相対的に移動(スキャン)させる。このとき、加工対象物1の表面1aに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させる。これにより、加工対象物1の厚さ方向に伸展する亀裂80を発生させる改質領域7Aを、切断予定ライン51に沿って強化ガラス板10の内部に形成する(第2工程)。
Subsequently, as shown in FIG. 9, the focusing point of the laser beam L is positioned inside the tempered
また、加工対象物1の表面1aをレーザ光入射面として強化ガラス板10の内部にレーザ光Lの集光点を位置させ、各切断予定ライン52に沿って加工対象物1にレーザ光Lを照射する。つまり、切断予定ライン52に沿ってレーザ光Lの集光点を相対的に移動(スキャン)させる。このとき、加工対象物1の表面1aに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させる。これにより、加工対象物1の厚さ方向に伸展する亀裂80を発生させる改質領域7Bを(図10参照)、切断予定ライン52に沿って強化ガラス板10の内部に形成する(第2工程)。
Further, the condensing point of the laser beam L is positioned inside the tempered
そして、切断予定ライン51,52に沿って外力を作用させて、改質領域7A,7Bから発生した亀裂80を加工対象物1の厚さ方向に伸展させることにより、切断予定ライン51,52に沿って加工対象物1及びレジスト21を切断して、加工対象物1から有効部17を複数切り出す(第2工程)。図10に示すように、切り出された有効部17の側面19には改質領域7A,7Bが存在しており、また、切り出された有効部17の表面17a及び裏面17bにはレジスト21が存在している。
Then, by applying an external force along the
有効部17を切り出した後に、図11に示すように、有効部17の側面19に存在する改質領域7A,7Bを除去し、図12に示すように、有効部17の表面17a及び裏面17bに存在する保護膜を除去して(第3工程)、強化ガラス板10を備える板状の有効部17を得る。
After cutting out the
より詳細には、研磨工具等を用いた機械研磨によって改質領域7A,7Bを除去し、その後に、例えばNaOHやKOHを用いたエッチング等の化学処理によってレジスト21を除去する。若しくは、例えばHF(フッ酸)を用いたエッチング等の化学処理によって改質領域7A,7Bを除去し、その後に、例えばNaOHやKOHを用いたエッチング等の化学処理によってレジスト21(この場合、耐フッ酸性)を除去する。
More specifically, the modified
又は、例えばHF(フッ酸)を用いたエッチング等の化学処理によって、改質領域7A,7Bの除去及びレジスト21の除去を実施する。このように、一つの化学処理によって複数の処理を同時に実施すれば、加工工数の削減を図ることができる。
Alternatively, the modified
以上説明したように、第1実施形態のレーザ加工方法では、加工対象物1の表面1a及び裏面1bにレジスト21を形成した後に、加工対象物1から有効部17を切り出すための加工を実施し、更にその後に、有効部17の側面19に存在する改質領域7A,7Bを除去し、有効部17の表面17a及び裏面17bに存在するレジスト21を除去する。従って、加工時には有効部17の表面17a及び裏面17bがレジスト21によって保護され、切り出された有効部17からは抗折強度を低下させる一因となる改質領域7A,7Bが除去される。よって、第1実施形態のレーザ加工方法によれば、加工対象物1から切り出された有効部17において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部17の外表面を保護することができる。
As described above, in the laser processing method of the first embodiment, after the resist 21 is formed on the
また、改質領域7A,7Bを形成するときには、加工対象物1の表面1a及び裏面1bの全領域を覆うように形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させる。このように、レーザ光Lを透過させ得るレジスト21を使用することで、レジスト21のパターニングが不要となるため、加工工数の削減を図ることができる。
[第2実施形態]
Further, when the modified
[Second Embodiment]
第2実施形態のレーザ加工方法は、加工対象物1が未強化ガラス板20(すなわち、通常のガラス(フロートガラス)板)を備える点で、上述した第1実施形態のレーザ加工方法と主に相違している。第2実施形態のレーザ加工方法では、まず、図13に示すように、未強化ガラス板20を備える加工対象物1を準備し、図14に示すように、加工対象物1の表面1a及び裏面1bの全領域を覆うように、表面1a及び裏面1bにレジスト21を形成する(第1工程)。
The laser processing method of the second embodiment is mainly different from the laser processing method of the first embodiment described above in that the
レジスト21を形成した後に、図15に示すように、加工対象物1の表面1aをレーザ光入射面として未強化ガラス板20の内部にレーザ光Lの集光点を位置させ、各切断予定ライン51,52に沿って加工対象物1にレーザ光Lを照射する。つまり、切断予定ライン51,52に沿ってレーザ光Lの集光点を相対的に移動(スキャン)させる。このとき、加工対象物1の表面1aに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させる。これにより、加工対象物1の厚さ方向に伸展する亀裂80を発生させる改質領域7A,7Bを、切断予定ライン51,52に沿って未強化ガラス板20の内部に形成する(第2工程)。
After forming the resist 21, as shown in FIG. 15, the
そして、切断予定ライン51,52に沿って外力を作用させて、改質領域7A,7Bから発生した亀裂80を加工対象物1の厚さ方向に伸展させることにより、切断予定ライン51,52に沿って加工対象物1及びレジスト21を切断して、加工対象物1から有効部17を複数切り出す(第2工程)。図16に示すように、切り出された有効部17の側面19には改質領域7A,7Bが存在しており、また、切り出された有効部17の表面17a及び裏面17bにはレジスト21が存在している。
Then, by applying an external force along the
有効部17を切り出した後に、図17に示すように、有効部17の側面19に存在する改質領域7A,7Bを除去し、図18に示すように、有効部17の表面17a及び裏面17bに存在する保護膜を除去し、未強化ガラス板20を強化して(第3工程)、図12に示すように、強化ガラス板10を備える板状の有効部17を得る。
After cutting out the
より詳細には、研磨工具等を用いた機械研磨によって改質領域7A,7Bを除去し、その後に、例えばNaOHやKOHを用いたエッチング等の化学処理によってレジスト21を除去し、例えばイオン交換法等の化学処理によって未強化ガラス板20を強化する。若しくは、例えばHF(フッ酸)を用いたエッチング等の化学処理によって改質領域7A,7Bを除去し、その後に、例えばNaOHやKOHを用いたエッチング等の化学処理によってレジスト21(この場合、耐フッ酸性)を除去し、イオン交換法等の化学処理によって未強化ガラス板20を強化する。
More specifically, the modified
又は、例えばエッチング等の化学処理によって、改質領域7A,7Bの除去及びレジスト21の除去を実施する。若しくは、化学処理によって、レジスト21の除去及び未強化ガラス板20の強化を実施する。若しくは、化学処理によって、改質領域7A,7Bの除去、レジスト21の除去及び未強化ガラス板20の強化を実施する。このように、一つの化学処理によって複数の処理を同時に実施すれば、加工工数の削減を図ることができる。
Alternatively, the modified
以上説明したように、第2実施形態のレーザ加工方法では、加工対象物1の表面1a及び裏面1bにレジスト21を形成した後に、加工対象物1から有効部17を切り出すための加工を実施し、更にその後に、有効部17の側面19に存在する改質領域7A,7Bを除去し、有効部17の表面17a及び裏面17bに存在するレジスト21を除去する。よって、第2実施形態のレーザ加工方法によれば、第1実施形態のレーザ加工方法と同様の効果が奏される。
As described above, in the laser processing method according to the second embodiment, after forming the resist 21 on the
以上、本発明の第1及び第2実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、加工対象物及び有効部の形状としては、矩形板状に限定されず、様々な形状を適用することができる。また、加工対象物から一つの有効部を切り出してもよい。 Although the first and second embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, the shapes of the processing object and the effective portion are not limited to a rectangular plate shape, and various shapes can be applied. Moreover, you may cut out one effective part from a process target object.
また、各切断予定ラインに対して、加工対象物の厚さ方向に並ぶように複数列の改質領域を形成してもよい。その場合にも、本発明によれば、加工対象物から切り出された有効部において抗折強度が低下するのを抑制することができると共に、加工時に有効部の外表面を保護することができる。1本の切断予定ラインに対する改質領域の列数は、加工対象物の厚さ等に応じて適宜決定することができるものである。 In addition, a plurality of rows of modified regions may be formed so as to be aligned in the thickness direction of the workpiece with respect to each scheduled cutting line. Even in such a case, according to the present invention, it is possible to suppress the bending strength from being lowered in the effective portion cut out from the workpiece, and to protect the outer surface of the effective portion during processing. The number of columns of the modified region for one scheduled cutting line can be determined as appropriate according to the thickness of the workpiece.
また、上記実施形態では、改質領域を形成した後に、切断予定ラインに沿って外力を作用させて、改質領域から発生した亀裂を加工対象物の表面及び裏面に到達させ、それにより、切断予定ラインに沿って加工対象物を切断したが、これに限定されない。つまり、各切断予定ラインに対する改質領域の形成に伴って(加工対象物に何ら外力を作用させずに)、改質領域から発生した亀裂を加工対象物の表面及び裏面に到達させ、加工対象物と共にレジスト等の保護膜を切断してもよい。なお、切断予定ラインに沿って外力を作用させる場合には、改質領域の形成に伴って亀裂を発生されるだけで、加工対象物の表面及び裏面のいずれか一方に亀裂を到達させるだけでもよいし、或いは、加工対象物の表面及び裏面の両方に亀裂を到達させなくてもよい。 In the above embodiment, after the modified region is formed, an external force is applied along the planned cutting line to cause the cracks generated from the modified region to reach the front and back surfaces of the workpiece, thereby cutting. Although the workpiece was cut along the planned line, the present invention is not limited to this. That is, with the formation of the modified region for each planned cutting line (without applying any external force to the workpiece), the cracks generated from the modified region reach the front and back surfaces of the workpiece, You may cut | disconnect protective films, such as a resist, with a thing. In addition, when an external force is applied along the planned cutting line, only a crack is generated along with the formation of the modified region, and only the crack reaches the one of the front surface and the back surface of the workpiece. Alternatively, it is not necessary to cause cracks to reach both the front and back surfaces of the workpiece.
また、加工対象物は、強化ガラス板の表面及び裏面の少なくとも一方に樹脂膜等が形成されたものであってもよいし、未強化ガラス板の表面及び裏面の少なくとも一方に樹脂膜等が形成されたものであってもよい。また、改質領域としては、レーザ光の照射条件等によって、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域等や、これらが混在した領域が形成される。 The object to be processed may be one in which a resin film or the like is formed on at least one of the front and back surfaces of the tempered glass plate, or a resin film or the like is formed on at least one of the front and back surfaces of the unreinforced glass plate. It may be what was done. In addition, as the modified region, a melt-processed region, a crack region, a dielectric breakdown region, a refractive index change region, or a region in which these are mixed is formed depending on the irradiation condition of the laser beam.
また、上記実施形態では、加工対象物1の表面1aに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させたが、加工対象物1の裏面1bに形成されたレジスト21を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させてもよい。
Moreover, in the said embodiment, although the laser beam L was made to inject into the
また、加工対象物1の表面1a及び裏面1bの少なくとも一方において、切断予定ライン51,52に沿った領域以外の領域を覆うように、レジスト21を形成し(例えば、フォトリソグラフィ技術によりレジスト21をパターニングし)、その後に、切断予定ライン51,52に沿った領域を介して、加工対象物1にレーザ光Lを入射させてもよい。これによれば、例えば、ブラックマトリックス(金属クロム膜や遮光性樹脂ブラック材料)等、レーザ光Lの透過性が低い材料からなるレジスト21を使用することができるなど、レジスト21となる保護膜の選択の自由度を高めることができる。
Further, a resist 21 is formed on at least one of the
1…加工対象物、1a…表面、1b…裏面、7A,7B…改質領域、10…強化ガラス板、17…有効部、17a…表面、17b…裏面、19…側面、20…未強化ガラス板、21…レジスト(保護膜)、51,52…切断予定ライン、80…亀裂、L…レーザ光、P…集光点。
DESCRIPTION OF
Claims (12)
前記加工対象物の表面及び裏面に保護膜を形成する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記有効部の側面に沿うように延在する切断予定ラインに沿って、レーザ光の集光点を相対的に移動させることにより、前記切断予定ラインに沿って前記ガラス板の内部に改質領域を形成し、前記改質領域から発生した亀裂を前記加工対象物の厚さ方向に伸展させることにより、前記加工対象物から前記有効部を切り出す第2工程と、
前記第2工程の後に、前記有効部の前記側面に存在する前記改質領域を除去し、前記有効部の表面及び裏面に存在する前記保護膜を除去する第3工程と、を備える、レーザ加工方法。 A laser processing method for cutting out an effective portion from a plate-like processing object including a glass plate,
A first step of forming a protective film on the front and back surfaces of the workpiece;
After the first step, the glass is moved along the planned cutting line by relatively moving a condensing point of the laser light along the planned cutting line extending along the side surface of the effective portion. Forming a modified region inside the plate, and extending a crack generated from the modified region in the thickness direction of the workpiece, thereby cutting out the effective portion from the workpiece;
After the second step, a third step of removing the modified region existing on the side surface of the effective portion and removing the protective film existing on the front surface and the back surface of the effective portion, laser processing Method.
前記第2工程では、前記加工対象物の前記表面又は前記裏面に形成された前記保護膜を介して、前記加工対象物に前記レーザ光を入射させる、請求項1記載のレーザ加工方法。 In the first step, the protective film is formed so as to cover the entire area of the front surface and the back surface of the workpiece,
The laser processing method according to claim 1, wherein, in the second step, the laser light is incident on the processing object through the protective film formed on the front surface or the back surface of the processing object.
前記第2工程では、前記切断予定ラインに沿った前記領域を介して、前記加工対象物に前記レーザ光を入射させる、請求項1記載のレーザ加工方法。 In the first step, in at least one of the front surface and the back surface of the workpiece, the protective film is formed so as to cover a region other than a region along the planned cutting line,
2. The laser processing method according to claim 1, wherein in the second step, the laser beam is incident on the object to be processed through the region along the planned cutting line.
前記第3工程では、前記ガラス板を強化する、請求項1〜3のいずれか一項記載のレーザ加工方法。 The glass plate is an unstrengthened glass plate,
The laser processing method according to claim 1, wherein in the third step, the glass plate is strengthened.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012159711A JP2014019610A (en) | 2012-07-18 | 2012-07-18 | Laser processing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012159711A JP2014019610A (en) | 2012-07-18 | 2012-07-18 | Laser processing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014019610A true JP2014019610A (en) | 2014-02-03 |
Family
ID=50194919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012159711A Pending JP2014019610A (en) | 2012-07-18 | 2012-07-18 | Laser processing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014019610A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016068087A (en) * | 2014-09-26 | 2016-05-09 | 株式会社ディスコ | Processing method of transparent plate |
WO2018193970A1 (en) * | 2017-04-17 | 2018-10-25 | 浜松ホトニクス株式会社 | Workpiece cutting method |
KR20190142346A (en) * | 2017-04-17 | 2019-12-26 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | How to cut the workpiece |
-
2012
- 2012-07-18 JP JP2012159711A patent/JP2014019610A/en active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016068087A (en) * | 2014-09-26 | 2016-05-09 | 株式会社ディスコ | Processing method of transparent plate |
WO2018193970A1 (en) * | 2017-04-17 | 2018-10-25 | 浜松ホトニクス株式会社 | Workpiece cutting method |
JP2018182135A (en) * | 2017-04-17 | 2018-11-15 | 浜松ホトニクス株式会社 | Workpiece cutting method |
CN110520967A (en) * | 2017-04-17 | 2019-11-29 | 浜松光子学株式会社 | Method for cutting processing target |
KR20190140954A (en) * | 2017-04-17 | 2019-12-20 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | How to cut the workpiece |
KR20190142346A (en) * | 2017-04-17 | 2019-12-26 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | How to cut the workpiece |
JP7063542B2 (en) | 2017-04-17 | 2022-05-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | How to cut the object to be machined |
US11413708B2 (en) | 2017-04-17 | 2022-08-16 | Hamamatsu Photonics K.K. | Workpiece cutting method |
TWI776881B (en) * | 2017-04-17 | 2022-09-11 | 日商濱松赫德尼古斯股份有限公司 | Method of cutting objects to be processed |
KR102549960B1 (en) * | 2017-04-17 | 2023-06-30 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | How to cut the object to be processed |
KR102549961B1 (en) * | 2017-04-17 | 2023-06-30 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | How to cut the object to be processed |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5864988B2 (en) | Tempered glass sheet cutting method | |
JP5597051B2 (en) | Laser processing method | |
JP5491761B2 (en) | Laser processing equipment | |
JP6059059B2 (en) | Laser processing method | |
JP5597052B2 (en) | Laser processing method | |
TWI625186B (en) | Laser processing method and laser processing device | |
JP2013043808A (en) | Holder for tempered glass plate cutting, and method for cutting tempered glass plate | |
JP6050002B2 (en) | Laser processing method | |
KR20140129055A (en) | Method and apparatus for separation of strengthened glass and articles produced thereby | |
WO2006101091A1 (en) | Laser machining method | |
JP6012186B2 (en) | Processing object cutting method | |
WO2007094348A1 (en) | Laser scribing method, laser scribing apparatus and cut substrate cut by using such method or apparatus | |
WO2013039012A1 (en) | Laser machining method and laser machining device | |
JP2005294325A (en) | Method and apparatus for manufacturing substrate | |
JP6012185B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JP2014019610A (en) | Laser processing method | |
JPWO2003013816A1 (en) | Method and apparatus for scribing brittle material substrate | |
JP5894754B2 (en) | Laser processing method | |
JP5969214B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
JP2012240107A (en) | Laser processing method | |
JP2014091642A (en) | Laser processing method, and manufacturing method of electronic device | |
JP2013147380A (en) | Method for laser beam machining | |
JP2013049606A (en) | Method and device for taking out tempered glass panel | |
JP2006140230A (en) | Device and method for irradiating laser beam | |
JP2007014975A (en) | Scribe forming method, and substrate with division projected line |