JP2010085527A - 凹凸パターン形成シート、光学シートおよび光拡散シートおよびそれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】光拡散体として利用される凹凸パターン形成シートを簡便に製造できる凹凸パターン形成シートの製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全体に凹凸パターン１１が形成された凹凸パターン形成シートであって、硬質層を構成する樹脂の平均のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であり、かつ、硬質層の厚みが０．０５μｍ〜５．０μｍの範囲内で、連続的または段階的に変化させながら積層シートを形成する工程と、前記積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる工程とを有する凹凸パターン形成シートの製造方法。
【選択図】図１
【解決手段】樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全体に凹凸パターン１１が形成された凹凸パターン形成シートであって、硬質層を構成する樹脂の平均のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であり、かつ、硬質層の厚みが０．０５μｍ〜５．０μｍの範囲内で、連続的または段階的に変化させながら積層シートを形成する工程と、前記積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる工程とを有する凹凸パターン形成シートの製造方法。
【選択図】図１
Description
本発明は、凹凸パターン形成シート、光拡散シート等として用いられる光学シートおよび光拡散シートおよびそれらの製造方法に関する。
一般に、光拡散性等を有する光学シートとして、波状の凹凸パターンが表面に形成された凹凸パターン形成シートが利用されている。
例えば、特許文献１には、凹凸パターンが形成された光拡散体として、光透過性基材の少なくとも片面に突起体が複数形成され、突起体の高さが２〜２０μｍ、突起体の頂点の間隔が１〜１０μｍ、突起体のアスペクト比が１以上のものが開示されている。また、特許文献１には、突起体を形成する方法として、光透過性基材の表面を、ＫｒＦエキシマレーザー等のエネルギービームの照射により加工する方法が開示されている。
特許文献２には、波状の凹凸からなる異方性拡散パターンが片面に形成された光拡散体が開示されている。また、特許文献２には、異方性拡散パターンを形成する方法として、感光性樹脂のフィルムにレーザー光を照射して露光し、現像して、片面に凹凸が形成されたマスターホログラムを形成し、そのマスターホログラムを金型に転写し、その金型を用いて樹脂を成形する方法が開示されている。
また、光拡散性等を有する光学シートとして、表面に形成された凹凸の形状が位置によって異なるシートが知られている。例えば、特許文献３には、透光性樹脂シートの出光面となる表面に、傾斜面もしくはテーパー面を有する凹部又は凸部を配列形成した光拡散シートであって、シート表面上の光源対応位置からの距離が遠い凹部又は凸部ほど、シート表面に対する上記傾斜面の傾斜角もしくは上記テーパー面の稜線の傾斜角を順次大きくしたことを特徴とする光拡散シートが開示されている。
特開平１０−１２３３０７号公報
特開２００６−２６１０６４号公報
特開２００７−１１４５８７号公報
例えば、特許文献１には、凹凸パターンが形成された光拡散体として、光透過性基材の少なくとも片面に突起体が複数形成され、突起体の高さが２〜２０μｍ、突起体の頂点の間隔が１〜１０μｍ、突起体のアスペクト比が１以上のものが開示されている。また、特許文献１には、突起体を形成する方法として、光透過性基材の表面を、ＫｒＦエキシマレーザー等のエネルギービームの照射により加工する方法が開示されている。
特許文献２には、波状の凹凸からなる異方性拡散パターンが片面に形成された光拡散体が開示されている。また、特許文献２には、異方性拡散パターンを形成する方法として、感光性樹脂のフィルムにレーザー光を照射して露光し、現像して、片面に凹凸が形成されたマスターホログラムを形成し、そのマスターホログラムを金型に転写し、その金型を用いて樹脂を成形する方法が開示されている。
また、光拡散性等を有する光学シートとして、表面に形成された凹凸の形状が位置によって異なるシートが知られている。例えば、特許文献３には、透光性樹脂シートの出光面となる表面に、傾斜面もしくはテーパー面を有する凹部又は凸部を配列形成した光拡散シートであって、シート表面上の光源対応位置からの距離が遠い凹部又は凸部ほど、シート表面に対する上記傾斜面の傾斜角もしくは上記テーパー面の稜線の傾斜角を順次大きくしたことを特徴とする光拡散シートが開示されている。
凹凸により光の拡散や反射を制御しようとする場合には、凹凸パターンのピッチが光の波長程度であると、干渉による着色が問題になり、またそのピッチが数１０μｍを超えると、輝線等として視認できてしまうおそれやモアレが発生するおそれがあるため、凹凸パターンのピッチを２０μｍ以下とすることが求められる。しかしながら、特許文献３に記載の光学シートでは、凹凸パターンのピッチが数１０μｍ〜数１００μｍであれば、安定的に凹凸が形成されるが、２０μｍ以下では所望のピッチを得ることは困難であった。
また、光学シートにおいては、光拡散性等の光学特性を均一にせずに、所定の位置で高低差を設けて不均一にすることがある。例えば、液晶ディスプレイのバックライトユニットに用いられる導光板では、その側端面に配置された線状光源のイメージが導光板表面に映し出されるのを防ぐ目的で、その線状光源に近い出光側表面の光拡散性を高めることがある。また、液晶ディスプレイの中で、複数の線状光源や点状光源を備えた直下型バックライトユニットを用いる場合には、線状光源や点状光源同士の間からその真上に近づくにつれて、光拡散性を高めたりすることがある。
表面に凹凸が形成された光学シートにおいて光学特性が不均一になるように調整するためには、凹凸パターンのピッチや深さを位置によって変化させることが考えられるが、特許文献３に記載の光学シートでは、凹凸パターンのピッチを２０μｍ以下とした上で、ピッチや深さを、連続的に変化させることや、ピッチや深さが異なる領域を分散させて配置させることは困難であった。したがって、特許文献３に記載の光学シートでは、所定の位置で光学特性が高低差を設けて不均一にする効果が十分ではなかった。
表面に凹凸が形成された光学シートにおいて光学特性が不均一になるように調整するためには、凹凸パターンのピッチや深さを位置によって変化させることが考えられるが、特許文献３に記載の光学シートでは、凹凸パターンのピッチを２０μｍ以下とした上で、ピッチや深さを、連続的に変化させることや、ピッチや深さが異なる領域を分散させて配置させることは困難であった。したがって、特許文献３に記載の光学シートでは、所定の位置で光学特性が高低差を設けて不均一にする効果が十分ではなかった。
そこで、本発明は、目的の光学特性（光拡散性等）に優れ、しかも光学特性を容易に不均一にできる光学シートおよびその製造方法を提供することを目的とする。また、目的の光拡散性に優れ、しかも光拡散性を容易に不均一にできる光拡散シートおよびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、以下の態様を包含する。
［１］ 樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全体に、凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、
硬質層を構成する樹脂の平均のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であり、かつ、
硬質層の厚みが０．０５μｍ〜５．０μｍの範囲内で、連続的または段階的に変化させながら積層シートを形成する工程と、前記積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる工程とを有する凹凸パターン形成シートの製造方法。
[２] 樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全体に、凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、
硬質層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であり、かつ、
硬質層の厚みが０．０５μｍ〜５．０μｍの範囲内で、厚さが異なる領域を分散して設けた積層シートを形成する工程と、前記積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる工程とを有する凹凸パターン形成シートの製造方法。
[３] [１]または[２]の何れかに記載の製造方法によって得られた凹凸パターン形成シートであって、全光線透過率が８５％以上である光拡散体。
[４] [１]または[２]の何れかに記載の凹凸パターン形成シートを備え、該凹凸パターン形成シートと同等の最頻ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された光拡散体を製造するための型として用いられる光拡散体製造用工程シート原版。
[５] [４]に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、該電離放射線硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
[６] [４]に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
[７] [４]に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
［１］ 樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全体に、凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、
硬質層を構成する樹脂の平均のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であり、かつ、
硬質層の厚みが０．０５μｍ〜５．０μｍの範囲内で、連続的または段階的に変化させながら積層シートを形成する工程と、前記積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる工程とを有する凹凸パターン形成シートの製造方法。
[２] 樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全体に、凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、
硬質層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であり、かつ、
硬質層の厚みが０．０５μｍ〜５．０μｍの範囲内で、厚さが異なる領域を分散して設けた積層シートを形成する工程と、前記積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる工程とを有する凹凸パターン形成シートの製造方法。
[３] [１]または[２]の何れかに記載の製造方法によって得られた凹凸パターン形成シートであって、全光線透過率が８５％以上である光拡散体。
[４] [１]または[２]の何れかに記載の凹凸パターン形成シートを備え、該凹凸パターン形成シートと同等の最頻ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された光拡散体を製造するための型として用いられる光拡散体製造用工程シート原版。
[５] [４]に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、該電離放射線硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
[６] [４]に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
[７] [４]に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
本発明の光学シートは、目的の光学特性に優れ、しかも光学特性を容易に不均一にできる。また、本発明の光拡散シートは、目的の光拡散性に優れ、しかも光拡散性を容易に不均一にできる。
＜第１の実施形態＞
本発明の光学シートの第１の実施形態について説明する。
図１に、本実施形態の光学シートの断面を示す。なお、図１では、説明を容易にするために、凹凸パターン１１を拡大して示している。
本実施形態の光学シート１０ａは、凹凸パターン１１が形成されていない側の面αに線状の光源３０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。また、この光学シート１０ａでは、凹凸パターン１１が、光源３０に近い程、凹凸パターンの最頻ピッチ、平均深さに対する最頻ピッチの比、即ちアスペクト比が小さくなるように配置されている。なお、本発明において、平坦とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さが０．１μｍ以下のことである。また、硬質層１３は、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さが０．１μｍを超え、特には０．５μｍ以上である。
本発明の光学シートの第１の実施形態について説明する。
図１に、本実施形態の光学シートの断面を示す。なお、図１では、説明を容易にするために、凹凸パターン１１を拡大して示している。
本実施形態の光学シート１０ａは、凹凸パターン１１が形成されていない側の面αに線状の光源３０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。また、この光学シート１０ａでは、凹凸パターン１１が、光源３０に近い程、凹凸パターンの最頻ピッチ、平均深さに対する最頻ピッチの比、即ちアスペクト比が小さくなるように配置されている。なお、本発明において、平坦とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さが０．１μｍ以下のことである。また、硬質層１３は、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さが０．１μｍを超え、特には０．５μｍ以上である。
（凹凸パターン）
図２は凹凸パターンを示す。本実施形態では、図２に示すように、光学シート１０ａの表面に、蛇行した波状の凹凸パターン１１が形成されている。
光拡散シートに用いる本実施形態の光学シート１０ａでは、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下であることが好ましく、１μｍを超え１０μｍ以下であることがより好ましい。最頻ピッチＡが１μｍ未満であると、可視光の波長以下となり、可視光が凹凸パターン１１にて屈折せずに光が透過してしまい、前記上限値を超えると、輝線として視認される場合があるからである。
図２は凹凸パターンを示す。本実施形態では、図２に示すように、光学シート１０ａの表面に、蛇行した波状の凹凸パターン１１が形成されている。
光拡散シートに用いる本実施形態の光学シート１０ａでは、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下であることが好ましく、１μｍを超え１０μｍ以下であることがより好ましい。最頻ピッチＡが１μｍ未満であると、可視光の波長以下となり、可視光が凹凸パターン１１にて屈折せずに光が透過してしまい、前記上限値を超えると、輝線として視認される場合があるからである。
凹凸パターン１１の最頻ピッチＡに対する凹凸パターンの平均深さＢの比（Ｂ／Ａ、以下、アスペクト比という。）は０．１〜３．０であることが好ましく、０．３〜２．０であることがより好ましい。アスペクト比が０．１未満であると、目的の光学特性が得られないことがある。一方、アスペクト比が３．０より大きくなると、光学シート１０ａの製造にて凹凸パターン１１を形成しにくくなる傾向にある。
ここで、平均深さＢとは、凹凸パターン１１の底部１１ａの平均深さのことである。
本実施形態では、凹凸パターン１１の平均深さＢが、図１の光源３０からの位置により連続的に変化するため、隣接する１００個の凹凸パターン１１の底部１１ａの平均深さのことである。
また、底部１１ａとは、凹凸パターン１1の凹部の極小点であり、平均深さＢは、凹凸パターン１１を短径方向に沿って切断した断面（図３参照）を見た際の、光学シート１０ａ全体の面方向と平行な基準線Ｌ１から各凸部の頂部までの長さＢ１，Ｂ２，Ｂ３・・・の平均値（ＢＡＶ）と、基準線Ｌ１から各凹部の底部までの長さｂ１，ｂ２，ｂ３・・・の平均値（ｂＡＶ）との差（ｂＡＶ−ＢＡＶ）のことである。
平均深さＢを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターン１１の断面の画像にて各底部１１ａの深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。
ここで、平均深さＢとは、凹凸パターン１１の底部１１ａの平均深さのことである。
本実施形態では、凹凸パターン１１の平均深さＢが、図１の光源３０からの位置により連続的に変化するため、隣接する１００個の凹凸パターン１１の底部１１ａの平均深さのことである。
また、底部１１ａとは、凹凸パターン１1の凹部の極小点であり、平均深さＢは、凹凸パターン１１を短径方向に沿って切断した断面（図３参照）を見た際の、光学シート１０ａ全体の面方向と平行な基準線Ｌ１から各凸部の頂部までの長さＢ１，Ｂ２，Ｂ３・・・の平均値（ＢＡＶ）と、基準線Ｌ１から各凹部の底部までの長さｂ１，ｂ２，ｂ３・・・の平均値（ｂＡＶ）との差（ｂＡＶ−ＢＡＶ）のことである。
平均深さＢを測定する方法としては、原子間力顕微鏡により撮影した凹凸パターン１１の断面の画像にて各底部１１ａの深さを測定し、それらの平均値を求める方法などが採られる。
本実施形態のように、凹凸パターン１１が一方向に沿っている場合の蛇行とは、以下の方法で求められる凹凸パターンの配向度が０．３以上になっていることである。この配向度は、凹凸パターンの配向のばらつきの指標であり、その値が大きいほど、配向がばらついている、すなわち隣り合ったパターンのピッチがパターンの方向に沿ってばらついており、光拡散の高い光拡散体として好ましいことを示す。
配向度を求めるためには、まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等）に変換する。グレースケールのファイルの画像（図４参照）では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い（白度が高いところ程、凸部の頂部が高い）ことを表している。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図５にフーリエ変換後の画像を示す。図５の画像の中心から両側に広がる白色部分は凹凸パターン１１のピッチおよび向きの情報が含まれる。
次いで、図５の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図６参照）する。図６のプロットの横軸はピッチの逆数を、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Ｘの逆数１／Ｘが凹凸パターン１１の最頻ピッチを表す。
次いで、図５において、補助線Ｌ２と値Ｘの部分にて直交する補助線Ｌ３を引き、その補助線Ｌ３上の輝度をプロット（図７参照）する。ただし、図７の横軸は、各種の凹凸構造との比較を可能にするため、Ｘの値で割った数値とする。図７の横軸は、凹凸パターンの形成方向（図４における上下方向）に対する傾きの程度を示す指標（配向性）を、縦軸は頻度を表す。図７のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が凹凸パターン１１の配向度を表す。半値幅Ｗ１が大きい程、蛇行して配向がばらついていることを表す。
配向度を求めるためには、まず、表面光学顕微鏡により凹凸パターンの上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等）に変換する。グレースケールのファイルの画像（図４参照）では、白度が低いところ程、凹部の底部が深い（白度が高いところ程、凸部の頂部が高い）ことを表している。次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換する。図５にフーリエ変換後の画像を示す。図５の画像の中心から両側に広がる白色部分は凹凸パターン１１のピッチおよび向きの情報が含まれる。
次いで、図５の画像の中心から水平方向に補助線Ｌ２を引き、その補助線上の輝度をプロット（図６参照）する。図６のプロットの横軸はピッチの逆数を、縦軸は頻度を表し、頻度が最大となる値Ｘの逆数１／Ｘが凹凸パターン１１の最頻ピッチを表す。
次いで、図５において、補助線Ｌ２と値Ｘの部分にて直交する補助線Ｌ３を引き、その補助線Ｌ３上の輝度をプロット（図７参照）する。ただし、図７の横軸は、各種の凹凸構造との比較を可能にするため、Ｘの値で割った数値とする。図７の横軸は、凹凸パターンの形成方向（図４における上下方向）に対する傾きの程度を示す指標（配向性）を、縦軸は頻度を表す。図７のプロットにおけるピークの半値幅Ｗ１（頻度が最大値の半分になる高さでのピークの幅）が凹凸パターン１１の配向度を表す。半値幅Ｗ１が大きい程、蛇行して配向がばらついていることを表す。
上記配向度が０．３未満であると、凹凸パターン１１の配向のばらつきが小さくなるため、光の拡散性が小さくなる。
また、配向度は１．０以下であることが好ましい。配向度が１．０を超えると、凹凸パターン１１の方向がある程度ランダムになるため、光拡散性は高くなるが、異方性が低くなる傾向にある。
配向度を０．３以上にするためには、例えば、後述する製造において、加熱収縮性フィルムと硬質層とを適宜選択すればよい。
また、配向度が０．３以上の凹凸パターンが一表面に形成された金型を用いて透明樹脂を成形する方法を採用してもよい。
また、配向度は１．０以下であることが好ましい。配向度が１．０を超えると、凹凸パターン１１の方向がある程度ランダムになるため、光拡散性は高くなるが、異方性が低くなる傾向にある。
配向度を０．３以上にするためには、例えば、後述する製造において、加熱収縮性フィルムと硬質層とを適宜選択すればよい。
また、配向度が０．３以上の凹凸パターンが一表面に形成された金型を用いて透明樹脂を成形する方法を採用してもよい。
（光学シートの構成材料）
光学シート１０ａは、可視光の透過率の高い（具体的には、可視光の全光線透過率が８５％以上）透明樹脂により構成される。
また、光学シート１０ａには、耐熱性、耐光性を向上させる目的で、光透過率等の光学特性を損なわない範囲内で、添加剤を含有することができる。添加剤としては、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、光拡散剤などが挙げられる。中でも、光安定剤を添加することが好ましく、その添加量は、透明樹脂１００質量部に対して０．０３〜２．０質量部であることが好ましい。光安定剤の添加量が０．０３質量部以上であれば、その添加効果を充分に発揮できるが、２．０質量部を超えると、過剰量になり、不要なコストの上昇を招く傾向にある。
光学シート１０ａは、可視光の透過率の高い（具体的には、可視光の全光線透過率が８５％以上）透明樹脂により構成される。
また、光学シート１０ａには、耐熱性、耐光性を向上させる目的で、光透過率等の光学特性を損なわない範囲内で、添加剤を含有することができる。添加剤としては、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、光拡散剤などが挙げられる。中でも、光安定剤を添加することが好ましく、その添加量は、透明樹脂１００質量部に対して０．０３〜２．０質量部であることが好ましい。光安定剤の添加量が０．０３質量部以上であれば、その添加効果を充分に発揮できるが、２．０質量部を超えると、過剰量になり、不要なコストの上昇を招く傾向にある。
また、光学シート１０ａには、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、無機化合物からなる無機光拡散剤、有機化合物からなる有機光拡散剤を含有させることができる。
無機光拡散剤としては、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸アルミ化ナトリウム、珪酸亜鉛、ガラス、マイカ等が挙げられる。
有機光拡散剤としては、スチレン系重合粒子、アクリル系重合粒子、シロキサン系重合粒子、ポリアミド系重合粒子等が挙げられる。これらの光拡散剤はそれぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、これらの光拡散剤は、優れた光散乱特性を得るために、花弁状又は球晶状等の多孔質構造とすることもできる。
光拡散剤の含有量は、光透過性を損ないにくいことから、透明樹脂１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。
無機光拡散剤としては、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸アルミ化ナトリウム、珪酸亜鉛、ガラス、マイカ等が挙げられる。
有機光拡散剤としては、スチレン系重合粒子、アクリル系重合粒子、シロキサン系重合粒子、ポリアミド系重合粒子等が挙げられる。これらの光拡散剤はそれぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、これらの光拡散剤は、優れた光散乱特性を得るために、花弁状又は球晶状等の多孔質構造とすることもできる。
光拡散剤の含有量は、光透過性を損ないにくいことから、透明樹脂１００質量部に対して１０質量部以下であることが好ましい。
さらに、光学シート１０ａには、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、微細気泡を含有させることができる。微細気泡は、光の吸収が少なく光透過率を低下させにくい。
微細気泡の形成方法としては、光学シート１０ａに発泡剤を混入する方法（例えば、特開平５−２１２８１１号公報、特開平６−１０７８４２号公報に開示された方法）や、アクリル系発泡樹脂を発泡処理させて微細気泡を含有する方法（例えば、特開２００４−２８１２号公報に開示された方法）などを適用できる。さらに微細気泡は、より均一な面照射が可能となる点では、特定の位置に不均一に発泡させる方法（例えば、特開２００６−１２４４９９号公報に開示された方法）が好ましい。
なお、前記光拡散剤と微細発泡を併用することもできる。
微細気泡の形成方法としては、光学シート１０ａに発泡剤を混入する方法（例えば、特開平５−２１２８１１号公報、特開平６−１０７８４２号公報に開示された方法）や、アクリル系発泡樹脂を発泡処理させて微細気泡を含有する方法（例えば、特開２００４−２８１２号公報に開示された方法）などを適用できる。さらに微細気泡は、より均一な面照射が可能となる点では、特定の位置に不均一に発泡させる方法（例えば、特開２００６−１２４４９９号公報に開示された方法）が好ましい。
なお、前記光拡散剤と微細発泡を併用することもできる。
（光学シートの厚さ）
光学シート１０ａの厚さは０．０２〜３．０ｍｍが好ましく、０．０５〜２．５ｍｍがより好ましく、０．１〜２．０ｍｍが特に好ましい。光学シート１０ａの厚さが０．０２ｍｍ未満であると、凹凸パターン１１の深さよりも小さいことがあるため適当でなく、３．０ｍｍよりも厚いと光学シート１０ａの質量が大きくなるため取り扱いにくくなるおそれがある。
光学シート１０ａは２層以上の樹脂層から構成されていてもよい。光学シート１０ａが２層以上の層から構成されている場合も、光学シート１０ａの厚さは０．０２〜３．０ｍｍであることが好ましい。
光学シート１０ａの厚さは０．０２〜３．０ｍｍが好ましく、０．０５〜２．５ｍｍがより好ましく、０．１〜２．０ｍｍが特に好ましい。光学シート１０ａの厚さが０．０２ｍｍ未満であると、凹凸パターン１１の深さよりも小さいことがあるため適当でなく、３．０ｍｍよりも厚いと光学シート１０ａの質量が大きくなるため取り扱いにくくなるおそれがある。
光学シート１０ａは２層以上の樹脂層から構成されていてもよい。光学シート１０ａが２層以上の層から構成されている場合も、光学シート１０ａの厚さは０．０２〜３．０ｍｍであることが好ましい。
（使用方法）
上記光学シート１０ａは、光拡散シートとして用いられる。具体的には、光学シート１０ａは、凹凸パターン１１が形成されていない側の面αに線状の光源３０が配置させて使用される。また、光学シート１０ａの面α側に光源３０を配置させることにより、光学シート１０ａの面αから入光させた光を凹凸パターン面から出光させることができる。さらに、光学シート１０ａ内を通過した光を凹凸パターン１１にて拡散させて、凹凸パターン１１が形成された側の面から出射させることができる。
上記光学シート１０ａは、光拡散シートとして用いられる。具体的には、光学シート１０ａは、凹凸パターン１１が形成されていない側の面αに線状の光源３０が配置させて使用される。また、光学シート１０ａの面α側に光源３０を配置させることにより、光学シート１０ａの面αから入光させた光を凹凸パターン面から出光させることができる。さらに、光学シート１０ａ内を通過した光を凹凸パターン１１にて拡散させて、凹凸パターン１１が形成された側の面から出射させることができる。
本実施形態では、光源３０から面αへの光の入射角度が位置により異なるが、凹凸パターン１１が、入射角度が大きい部分程、アスペクト比が大きくなるように配置されているため、光を拡散させながら、かつ光の出光方向を、入射角度によらず、出光面の法線方向に近づけることができる。そのため、光学シート１０ａから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できる。ここで、入射角度とは面αの法線方向を０°としたときの角度である。
（製造方法）
光学シート１０ａを製造する方法の例について説明する。
［第１の製造方法］
第１の製造方法は、加熱収縮性フィルムを用いて、光学シート１０ａを製造する方法である。
すなわち、第１の製造方法は、加熱収縮性フィルムの片面に、樹脂製の硬質層１３を硬質層厚さが漸次増加または減少するように変化するように印刷して印刷シートを形成する工程（以下、第１の工程という。）と、加熱収縮性フィルムを加熱収縮させて印刷シートの少なくとも硬質層１３を折り畳むように変形させる工程（以下、第２の工程という。）とを有して、光学シート１０ａとなる凹凸パターン形成シートを製造する方法である。
光学シート１０ａを製造する方法の例について説明する。
［第１の製造方法］
第１の製造方法は、加熱収縮性フィルムを用いて、光学シート１０ａを製造する方法である。
すなわち、第１の製造方法は、加熱収縮性フィルムの片面に、樹脂製の硬質層１３を硬質層厚さが漸次増加または減少するように変化するように印刷して印刷シートを形成する工程（以下、第１の工程という。）と、加熱収縮性フィルムを加熱収縮させて印刷シートの少なくとも硬質層１３を折り畳むように変形させる工程（以下、第２の工程という。）とを有して、光学シート１０ａとなる凹凸パターン形成シートを製造する方法である。
・第１の工程
第１の工程にて、図８に示すように、加熱収縮性フィルム１２の片面に硬質層１３を厚さが漸次増加または減少するように印刷する方法としては、例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などを適用することができる。中でも、本実施形態に示すような硬質層の厚さのコントロールが容易であるインクジェット印刷が好ましい。
第１の工程にて、図８に示すように、加熱収縮性フィルム１２の片面に硬質層１３を厚さが漸次増加または減少するように印刷する方法としては、例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などを適用することができる。中でも、本実施形態に示すような硬質層の厚さのコントロールが容易であるインクジェット印刷が好ましい。
加熱収縮性フィルム１２としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルムなどを用いることができる。
加熱収縮性フィルム１２の中でも、５０〜７０％収縮するものが好ましい。５０〜７０％収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を５０％以上にでき、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、アスペクト比０．１以上の凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。
加熱収縮性フィルム１２の中でも、５０〜７０％収縮するものが好ましい。５０〜７０％収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を５０％以上にでき、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡが１μｍを超え２０μｍ以下、アスペクト比０．１以上の凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）／（変形前の長さ）×１００（％）のことである。
硬質層１３は、蛇行した波状の凹凸パターン１１が形成しやすいことから、加熱収縮性フィルム１２を構成する樹脂（第１の樹脂）よりガラス転移温度が１０℃以上高い樹脂（第２の樹脂）で構成する。
第２の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。
第２の樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。
硬質層１３の表面は、所望の凹凸パターン１１を容易に形成できることから、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下にする。
また、硬質層１３の厚さは０．０５〜５．０μｍとすることが好ましく、０．１〜１．０μｍとすることがより好ましい。硬質層１３の厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、硬質層１３の厚さを０．０５μｍ未満とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、５．０μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、蛇行した波状の凹凸パターン１１をより容易に形成できることから、硬質層１３のヤング率を０．０１〜３００ＧＰａにすることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａにすることがより好ましい。
また、硬質層１３の厚さは０．０５〜５．０μｍとすることが好ましく、０．１〜１．０μｍとすることがより好ましい。硬質層１３の厚さが前記範囲であれば、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡを、確実に１μｍを超え２０μｍ以下にできる。しかし、硬質層１３の厚さを０．０５μｍ未満とすると最頻ピッチＡが１μｍ以下になることがあり、５．０μｍを超えると、最頻ピッチＡが２０μｍを超えることがある。
また、蛇行した波状の凹凸パターン１１をより容易に形成できることから、硬質層１３のヤング率を０．０１〜３００ＧＰａにすることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａにすることがより好ましい。
・第２の工程
第２の工程にて、加熱収縮性フィルム１２を熱収縮させることにより、硬質層１３に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン１１を形成させる。
加熱収縮性フィルム１２を加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱水に通す方法が好ましい。
第２の工程にて、加熱収縮性フィルム１２を熱収縮させることにより、硬質層１３に、収縮方向に対して垂直方向に波状の凹凸パターン１１を形成させる。
加熱収縮性フィルム１２を加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱水に通す方法が好ましい。
上記第１の製造方法では、硬質層１３の厚さが薄いほど、また硬質層１３のヤング率が低いほど、凹凸パターン１１の最頻ピッチＡおよび平均深さＢが小さくなり、加熱収縮性フィルム１２の変形率が高いほど、平均深さＢが深くなる。
本実施形態では、硬質層１３を厚さが漸次増加または減少するように形成するために、凹凸パターンを、最頻ピッチおよび平均深さが連続的に増加または減少するように配置することができる。
本実施形態では、硬質層１３を厚さが漸次増加または減少するように形成するために、凹凸パターンを、最頻ピッチおよび平均深さが連続的に増加または減少するように配置することができる。
上記第１の製造方法では、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度では、硬質層１３のヤング率が加熱収縮性フィルム１２より高くなる。そのため、第１の樹脂のガラス転移温度と第２の樹脂のガラス転移温度の間の温度で加工した際には、硬質層１３は厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、硬質層１３は加熱収縮性フィルム１２に積層されているため、加熱収縮性フィルム１２の収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって、加熱収縮性フィルム１２を収縮させて、硬質層１３を折り畳むように変形させることにより、凹凸パターン１１を形成できる。よって、上記製造方法によれば、光学シート１０ａとなる凹凸パターン形成シートを得ることができる。
上記のようにして得た凹凸パターン形成シートはそのまま光学シート１０ａとして用いることができる。その場合、加熱収縮性フィルム１２と硬質層１３とによって光学シート１０ａが形成される。
［第２の製造方法］
第２の製造方法は、第１の製造方法で得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として、光学シート１０ａを製造する方法である。
工程シート原版は、枚葉状であってもよいし、連続したシート状であるウェブ状であってもよい。
第２の製造方法は、第１の製造方法で得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として、光学シート１０ａを製造する方法である。
工程シート原版は、枚葉状であってもよいし、連続したシート状であるウェブ状であってもよい。
第２の製造方法の具体的な方法としては、例えば、下記（ａ）〜（ｃ）の方法が挙げられる。
（ａ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
（ｂ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ａ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。ここで、電離放射線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
（ｂ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
（ｃ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を工程シート原版から剥離する工程とを有する方法。
また、工程シート原版を用いて２次工程用成形物を作製し、その２次工程用成形物を用いて光学シート１０ａを製造することもできる。２次工程用成形物を用いる具体的な方法としては、下記（ｄ）〜（ｆ）の方法が挙げられる。
（ｄ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、次いで、２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、電離放射線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｅ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｆ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｅ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ｆ）工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、めっき層を積層する工程と、そのめっき層を工程シート原版から剥離して、金属製の２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の透明熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の透明熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。
（ａ）の方法の具体例について説明する。図９に示すように、まず、ウェブ状の工程シート原版１１０の凹凸パターン１１１が形成された面に、コーター１２０により未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂１１２を塗工する。次いで、該硬化性樹脂を塗工した工程シート原版１１０を、ロール１３０を通すことにより押圧して、前記硬化性樹脂を工程シート原版１１０の凹凸パターン１１１内部に充填する。その後、電離放射線照射装置１４０により電離放射線を照射して、硬化性樹脂を架橋・硬化させる。そして、硬化後の電離放射線硬化性樹脂を工程シート原版１１０から剥離させることにより、ウェブ状の光学シート１０ａを製造することができる。
（ａ）の方法において、工程シート原版の凹凸パターンが形成された面には、離型性を付与する目的で、未硬化の電離放射線硬化性樹脂塗工前に、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等からなる層を１〜１０ｎｍ程度の厚さで設けてもよい。
工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。
また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。
また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
（ｄ）の具体的な方法は、（ａ）の方法における工程シート原版を、該工程シート原版を用いて作製した２次工程用成形物に変更したこと以外は、上記（ａ）の方法と同様である。
（ｂ），（ｅ）の方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化の、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、（ｂ）の方法における硬化温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、硬化時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
また、（ｂ）の方法における硬化温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、硬化時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
（ｃ），（ｆ）の方法における透明熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＭＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＥＴ−Ｇ、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂などが挙げられる。これらの中でも、成形加工の観点からは、ＭＳ、ＰＭＭＡ、ＰＳ、ＣＯＰ、ＰＣが好ましく、吸湿性及びコストの観点からは、ＭＳのうちスチレン含有率が３０〜９０質量％のものがさらに好ましい。
これらの透明熱可塑性樹脂は単層もしくは多層構造とすることもできる。例えば、ＰＳ層の両面にＰＭＭＡ層を設けた３層構造の透明熱可塑性樹脂などを用いることができる。
さらに、前記透明熱可塑性樹脂の表面に、高屈折率の樹脂を設けたものを使用することもできる。高屈折率の樹脂としては、例えば、フルオレン系エポキシ化合物、フルオレン系アクリレート化合物、フルオレン系ポリエステル（ＯＫＰ）、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）、ポリジフェニルシラン（ＰＤＰＳ）などが挙げられる。
これらの透明熱可塑性樹脂は単層もしくは多層構造とすることもできる。例えば、ＰＳ層の両面にＰＭＭＡ層を設けた３層構造の透明熱可塑性樹脂などを用いることができる。
さらに、前記透明熱可塑性樹脂の表面に、高屈折率の樹脂を設けたものを使用することもできる。高屈折率の樹脂としては、例えば、フルオレン系エポキシ化合物、フルオレン系アクリレート化合物、フルオレン系ポリエステル（ＯＫＰ）、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）、ポリジフェニルシラン（ＰＤＰＳ）などが挙げられる。
（ｃ）の方法において、シート状の熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧する際の圧力、（ｆ）の方法において、シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧する際の圧力は１〜１００ＭＰａであることが好ましい。押圧時の圧力が１ＭＰａ以上であれば、凹凸パターンを高い精度で転写させることができ、１００ＭＰａ以下であれば、過剰な加圧を防ぐことができる。
また、（ｃ）の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、加熱時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
また、（ｆ）の製造方法での成形方法としては、プレス成形法以外に、例えば、射出成形法を適用することができる。
また、（ｃ）の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、工程シート原版のガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が工程シート原版のガラス転移温度以上であると、加熱時に工程シート原版の凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
また、（ｆ）の製造方法での成形方法としては、プレス成形法以外に、例えば、射出成形法を適用することができる。
上述した第１および第２の製造方法により得た光学シート１０ａはそのまま用いてもよいし、透明樹脂製またはガラス製の補強用の基板に接着剤を介して貼り合わせて最終的な光学シートとしてもよい。
以上説明した光学シート１０ａの製造方法では、平坦な片面に、凹凸パターン１１を光源３０から面αへの光の入射角度が大きい部分程、アスペクト比が大きくなるように配置することが容易である。したがって、出射する光の、出光面の法線方向における強度が均一になる、光学シート１０ａを容易に得ることができる。
＜第２の実施形態＞
本発明の光学シートの第２の実施形態について説明する。
図１０に、本実施形態の光学シートを示す。なお、図１０においても、説明を容易にするために、凹凸パターン１４を拡大して示している。
本実施形態の光学シート１０ｂも、凹凸パターン１４が形成されていない側の面βに線状の光源３０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。また、この光学シート１０ｂでも、凹凸パターン１４が、光源３０に近い程、凹凸パターンの最頻ピッチ、平均深さおよび平均深さに対する最頻ピッチの比、即ち、アスペクト比が小さくなるように配置されているが、凹凸パターンの最頻ピッチおよび平均深さは連続的ではなく段階的に増加または減少する。
このように凹凸パターン１４を配置することで、第１の実施形態の光学シート１０ａと同様に、光学シート１０ｂから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できる。
本発明の光学シートの第２の実施形態について説明する。
図１０に、本実施形態の光学シートを示す。なお、図１０においても、説明を容易にするために、凹凸パターン１４を拡大して示している。
本実施形態の光学シート１０ｂも、凹凸パターン１４が形成されていない側の面βに線状の光源３０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。また、この光学シート１０ｂでも、凹凸パターン１４が、光源３０に近い程、凹凸パターンの最頻ピッチ、平均深さおよび平均深さに対する最頻ピッチの比、即ち、アスペクト比が小さくなるように配置されているが、凹凸パターンの最頻ピッチおよび平均深さは連続的ではなく段階的に増加または減少する。
このように凹凸パターン１４を配置することで、第１の実施形態の光学シート１０ａと同様に、光学シート１０ｂから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できる。
第２の実施形態の光学シート１０ｂは、図１１に示すように、加熱収縮性フィルム１２に硬質層１５を厚さが段階的に増加または減少するように形成すること以外は、第１の実施形態の光学シート１０ａの製造方法と同様の製造方法により製造できる。
＜第３の実施形態＞
本発明の光学シートの第３の実施形態について説明する。
図１２に、本実施形態の光学シートを示す。
本実施形態の光学シート１０ｃは、凹凸パターン１６が形成されていない側の面γに線状の光源３０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。
また、この光学シート１０ｃでは、凹凸パターン１６が、凹凸パターン１６ａ，１６ｂおよび１６ｃのように、光源３０に近い程、凹凸パターンの最頻ピッチ、平均深さおよびアスペクト比が小さな凹凸の割合が、最頻ピッチ、平均深さおよびアスペクト比が大きな凹凸の割合より多くなるように配置されている。
このように凹凸パターン１６を配置することで、第１の実施形態の光学シート１０ａと同様に、光学シート１０ｃから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できる。
本発明の光学シートの第３の実施形態について説明する。
図１２に、本実施形態の光学シートを示す。
本実施形態の光学シート１０ｃは、凹凸パターン１６が形成されていない側の面γに線状の光源３０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。
また、この光学シート１０ｃでは、凹凸パターン１６が、凹凸パターン１６ａ，１６ｂおよび１６ｃのように、光源３０に近い程、凹凸パターンの最頻ピッチ、平均深さおよびアスペクト比が小さな凹凸の割合が、最頻ピッチ、平均深さおよびアスペクト比が大きな凹凸の割合より多くなるように配置されている。
このように凹凸パターン１６を配置することで、第１の実施形態の光学シート１０ａと同様に、光学シート１０ｃから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できる。
第３の実施形態の光学シート１０ｃは、図１３に示すように、加熱収縮性フィルム１２に硬質層１７を厚さが厚い部分と薄い部分の割合を増加または減少するように形成すること以外は、第１の実施形態の光学シート１０ａの製造方法と同様の製造方法により製造できる。
＜第４の実施形態＞
本発明の光学シートの第４の実施形態について説明する。
図１４に、本実施形態の光学シートを示す。なお、図１４においても、説明を容易にするために、凹凸パターン１８ａ，ｂを拡大して示している。
本実施形態の光学シート１０ｄは、一方の側の面δに線状光源３０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。
また、この光学シート１０ｄでは、凹凸パターンが入光面、出光面に形成されている。入光面の凹凸パターン１８ａは、光源３０に近い部分には形成されず、光源から遠い部分にのみ形成されており、最頻ピッチおよび平均深さが均一である。
また、出光面の凹凸パターン１８ｂは、入光面に凹凸パターン１８ａが形成されていない部分に形成されており、光源３０に近い程、凹凸パターンの最頻ピッチ、平均深さおよび平均深さに対する最頻ピッチの比、即ち、アスペクト比が小さくなるように配置されている。さらに凹凸パターン１８ｂは、入光面に凹凸パターン１８ａが形成されている部分にも一部配置されている。
本発明の光学シートの第４の実施形態について説明する。
図１４に、本実施形態の光学シートを示す。なお、図１４においても、説明を容易にするために、凹凸パターン１８ａ，ｂを拡大して示している。
本実施形態の光学シート１０ｄは、一方の側の面δに線状光源３０が配置される光拡散シートとして用いられるものである。
また、この光学シート１０ｄでは、凹凸パターンが入光面、出光面に形成されている。入光面の凹凸パターン１８ａは、光源３０に近い部分には形成されず、光源から遠い部分にのみ形成されており、最頻ピッチおよび平均深さが均一である。
また、出光面の凹凸パターン１８ｂは、入光面に凹凸パターン１８ａが形成されていない部分に形成されており、光源３０に近い程、凹凸パターンの最頻ピッチ、平均深さおよび平均深さに対する最頻ピッチの比、即ち、アスペクト比が小さくなるように配置されている。さらに凹凸パターン１８ｂは、入光面に凹凸パターン１８ａが形成されている部分にも一部配置されている。
このように凹凸パターン１８を配置することで、第１の実施形態の光学シート１０ａと同様に、光学シート１０ｄから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できる。具体的には、出光面にのみ凹凸パターン１８ｂが形成された部分は、光学シート１０ａと同様の原理で、光学シート１０ｄから出射する光４０の出光面の法線方向における強度を均一化できる。入光面に凹凸パターン１８ａが形成された部分は、光源３０から光学シート１０ｄへ入射する光４１への入射角度が大きすぎるため、出光面の凹凸のみでは、出光方向を、入射角度によらず出光面の法線方向に近づけることができず、光学シート１０ｄから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できない。そこで、入光面に凹凸パターン１８ａを配置することにより、入射光４１ａを凹凸パターン１８ａの片方の側面１９ａで屈折させながら光学シート１０ｄに入光させる。該入射光は、もう一方の側面１９ｂの法線となす角度が臨界角以上であるため、全反射により進行方向が出光面の法線方向に近づけられ、さらに光学シートｄ内部を通過し、出光面から出射する。出射光４１ｂは、必要に応じて出光面の凹凸パターン１８ｂにて屈折し、さらに出光面の法線方向に近づけられる。
上記のように凹凸パターン１８ａ，ｂを配置することで、入射光の光学シート１０ｄへの入射角度が非常に大きい場合にも、出光方向を、入射角度によらず出光面の法線方向に近づけることができ、光学シート１０ｄから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できる。
本実施形態によれば、隣り合う光源３０同士の距離が大きくなる、あるいは光源３０と光学シート１０ｄとの距離が小さくなることにより、光の光学シート１０ｄへの入射角度が非常に大きくなる場合に特に有効である。
上記のように凹凸パターン１８ａ，ｂを配置することで、入射光の光学シート１０ｄへの入射角度が非常に大きい場合にも、出光方向を、入射角度によらず出光面の法線方向に近づけることができ、光学シート１０ｄから出射する光の出光面の法線方向における強度を均一化できる。
本実施形態によれば、隣り合う光源３０同士の距離が大きくなる、あるいは光源３０と光学シート１０ｄとの距離が小さくなることにより、光の光学シート１０ｄへの入射角度が非常に大きくなる場合に特に有効である。
第４の実施形態の光学シート１０ｄは、図１５に示すように、加熱収縮性フィルム１２の一方の面の一部に、硬質層２０ａを厚さが一定になるように形成し、もう一方の面の一部に、硬質層２０ｂを厚さが漸次増加または減少するように形成する以外は、第１の実施形態の光学シート１０ａの製造方法と同様の製造方法により製造できる。
また、第４の実施形態の光学シート１０ｄは、加熱収縮性フィルム１２の一方の面の一部に、硬質層２０ａを厚さが一定になるように形成する代わりに、加熱収縮により一方の面にのみ凹凸パターン１８ｂが形成されたシートのもう一方の面の一部に、切削により断面が三角形の直線プリズムを形成し、入光面の凹凸パターン１８ａを形成してもよい。この場合の直線プリズムの頂角は、３０°以上、８０°以下であることが好ましく、５０°以上、６５°以下であることが特に好ましい。直線プリズムの頂角が８０°以下であれば、入射光が側面１９ｂで全反射を起こす条件を満たし、また、該直線プリズムの頂角が３０°以上であれば、容易に製造できるためである。
また、工程シート原版を用いて、光学シート１０ｄを製造する場合には、光学シート１０ｄの凹凸パターン１８ａと同様の凹凸パターンが形成された工程シート原版２１ａおよび凹凸パターン１８ｂと同様の凹凸パターンが形成された工程シート原版２１ｂを用いて、該工程シート原版２１ａ，２１ｂを硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等の両面に接触させて、該樹脂の両面に凹凸パターン１８ａ，ｂを形成する以外は第１の実施形態の光学シート１０ａの製造方法と同様の製造方法により製造できる。
２次工程用成形物を用いる場合も、凹凸パターン１８ａおよび１８ｂと同様の凹凸パターンが形成された工程シート２１ａおよび２１ｂから２次工程用成形物２２ａおよび２２ｂを作製し、その２次工程用成形物２２ａ、２２ｂを硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等の両面に接触させて、該樹脂の両面に凹凸パターン１８ａ，ｂを形成する以外は第１の実施形態の光学シート１０ａの製造方法と同様の製造方法により製造できる。
また２次工程用成形物２２ａの凹凸パターンは切削等により形成された断面が三角形の直線プリズムであってもよい。この場合の直線プリズムの頂角も、３０°以上、８０°以下であることが好ましく、５０°以上、６５°以下であることが特に好ましい。
また２次工程用成形物２２ａの凹凸パターンは切削等により形成された断面が三角形の直線プリズムであってもよい。この場合の直線プリズムの頂角も、３０°以上、８０°以下であることが好ましく、５０°以上、６５°以下であることが特に好ましい。
＜その他の実施形態＞
なお、本発明の光学シートは、上述した実施形態のものに限定されない。
例えば、本発明の光学シートは、直下型バックライトのように光源をシート面の下方から入光させる場合のみでなく、光源を光学シートの側面から入光させる場合にも使用できる。また、光源をシート面の下方または側面から入光させる場合に、光源が点状光源ある場合にも使用できる。それら場合、凹凸パターンの最頻ピッチおよび平均深さ、それらの連続的または断続的変化の程度あるいはそれらの分散配置の程度は適宜選択すればよい。
また、本発明の光学シートは複数枚重ねて使用してもよい。その場合、凹凸の方向が等しくなるように重ねて異方性拡散効果を得てもよいし、直交させて重ねて、等方性の拡散効果を得てもよい。
また、凹凸パターンの凹凸パターンは蛇行していなくてもよく、直線的であってもよい。
また、加熱収縮性フィルムに硬質層を設けて、その積層フィルムを加熱収縮させることにより凹凸パターンを形成する際、１軸収縮タイプの加熱収縮性フィルムを使用する場合は、凹凸パターンが略平行に形成された光学シートが得られるが、２軸収縮タイプの加熱収縮性フィルムを使用する場合は、凹凸パターンに方向性がない光学シートが得られる。
また、凹凸パターンは光学シートの両面に形成されていても構わない。
また、光学シートは、補強用基材によって補強されていてもよい。
なお、本発明の光学シートは、上述した実施形態のものに限定されない。
例えば、本発明の光学シートは、直下型バックライトのように光源をシート面の下方から入光させる場合のみでなく、光源を光学シートの側面から入光させる場合にも使用できる。また、光源をシート面の下方または側面から入光させる場合に、光源が点状光源ある場合にも使用できる。それら場合、凹凸パターンの最頻ピッチおよび平均深さ、それらの連続的または断続的変化の程度あるいはそれらの分散配置の程度は適宜選択すればよい。
また、本発明の光学シートは複数枚重ねて使用してもよい。その場合、凹凸の方向が等しくなるように重ねて異方性拡散効果を得てもよいし、直交させて重ねて、等方性の拡散効果を得てもよい。
また、凹凸パターンの凹凸パターンは蛇行していなくてもよく、直線的であってもよい。
また、加熱収縮性フィルムに硬質層を設けて、その積層フィルムを加熱収縮させることにより凹凸パターンを形成する際、１軸収縮タイプの加熱収縮性フィルムを使用する場合は、凹凸パターンが略平行に形成された光学シートが得られるが、２軸収縮タイプの加熱収縮性フィルムを使用する場合は、凹凸パターンに方向性がない光学シートが得られる。
また、凹凸パターンは光学シートの両面に形成されていても構わない。
また、光学シートは、補強用基材によって補強されていてもよい。
（実施例１）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、トルエンに希釈したポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ、ガラス転移温度１００℃）を、インクジェットプリンタ（富士フィルム株式会社ダイマティクスマテリアルプリンターＤＭＰ−２８３１）により印刷して、印刷シートを得た。
印刷のパターンは、幅４ｃｍ×長さ５ｃｍの範囲にて、その長手方向の一端から他端に向かって印刷層厚さが０〜０．５μｍの範囲で、０．５ｃｍ毎に０．０５μｍずつ増加するグラデーションパターンとした。
次いで、その印刷シートを８０℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させ（すなわち、変形率６０％に変形させ）、８０℃においては、ポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルムのヤング率（５０ＭＰａ）より、ポリスチレンのヤング率（１ＧＰａ）の方が高い。そのため、熱収縮の際に印刷層は折り畳まれるように変形して、収縮方向に対して直交方向に沿って周期を有する波状の凹凸パターンを形成した。これにより、平坦な片面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンは、収縮方向に沿って最頻ピッチが０〜５μｍまで、平均深さが収縮方向に沿って０〜５μｍまで、アスペクト比が０〜１まで漸次増加していた。
またこの凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンの配向度は０．３であった。
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の片面に、トルエンに希釈したポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ、ガラス転移温度１００℃）を、インクジェットプリンタ（富士フィルム株式会社ダイマティクスマテリアルプリンターＤＭＰ−２８３１）により印刷して、印刷シートを得た。
印刷のパターンは、幅４ｃｍ×長さ５ｃｍの範囲にて、その長手方向の一端から他端に向かって印刷層厚さが０〜０．５μｍの範囲で、０．５ｃｍ毎に０．０５μｍずつ増加するグラデーションパターンとした。
次いで、その印刷シートを８０℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させ（すなわち、変形率６０％に変形させ）、８０℃においては、ポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルムのヤング率（５０ＭＰａ）より、ポリスチレンのヤング率（１ＧＰａ）の方が高い。そのため、熱収縮の際に印刷層は折り畳まれるように変形して、収縮方向に対して直交方向に沿って周期を有する波状の凹凸パターンを形成した。これにより、平坦な片面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンは、収縮方向に沿って最頻ピッチが０〜５μｍまで、平均深さが収縮方向に沿って０〜５μｍまで、アスペクト比が０〜１まで漸次増加していた。
またこの凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンの配向度は０．３であった。
得られた凹凸パターン形成シートの光拡散性を調べたところ、収縮方向に対して垂直方向よりも平行な方向に、強く光を拡散させる異方拡散性を有していた。また、この凹凸パターン形成シートの凹凸パターンが形成されていない側の面から入射した光が、凹凸パターンの形成された側の面から出射する際、光を凹凸パターン形成シートの法線方向に出射させるために必要な入射角度は、凹凸パターンのアスペクト比が大きくなる方向に沿って０〜４０°以上まで漸次増加した。このような実施例１の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
（実施例２）
印刷層の印刷パターンを、幅４ｃｍ×長さ５ｃｍの範囲に、その長手方向の一端から他端に向かって、印刷層厚さが０．１〜０．５μｍの範囲で、１ｃｍ毎に０．１μｍずつ段階的に増加するパターンとした以外は実施例１と同様にして凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンは、収縮方向に沿って最頻ピッチが１、２、３、４、５μｍ、収縮方向に沿って平均深さが０．３、１．０、２．１、３．６、５μｍと段階的に増加していた。
またこの凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンの配向度は０．３であった。
得られた凹凸パターン形成シートの光学特性を調べたところ、実施例１と同様の異方拡散性を有していた。したがって、実施例２の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
印刷層の印刷パターンを、幅４ｃｍ×長さ５ｃｍの範囲に、その長手方向の一端から他端に向かって、印刷層厚さが０．１〜０．５μｍの範囲で、１ｃｍ毎に０．１μｍずつ段階的に増加するパターンとした以外は実施例１と同様にして凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンは、収縮方向に沿って最頻ピッチが１、２、３、４、５μｍ、収縮方向に沿って平均深さが０．３、１．０、２．１、３．６、５μｍと段階的に増加していた。
またこの凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンの配向度は０．３であった。
得られた凹凸パターン形成シートの光学特性を調べたところ、実施例１と同様の異方拡散性を有していた。したがって、実施例２の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
（実施例３）
印刷層の印刷パターンを、直径５０μｍ、厚さ０．１μｍまたは０．５μｍの２種類のドット印刷により、幅４ｃｍ×長さ５ｃｍの範囲に、その長手方向の一端から他端に向かって、０．５μｍ厚さのドット割合が０〜１００％まで０．５ｃｍ毎に１０％ずつ増加するグラデーションパターンとした。ここでドット割合が０％とは、印刷層が０．１μｍの厚さの平坦面であることを示し、ドット割合が１００％とは印刷層が０．５μｍの厚さの平坦面であることを示す。
印刷層の印刷パターン以外は実施例１と同様にして凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンは、最頻ピッチが１μｍで平均深さが０．３μｍの凹凸パターン部および最頻ピッチが５μｍで平均深さが５μｍの凹凸パターン部が存在し、収縮方向に沿って最頻ピッチが５μｍで平均深さが５μｍの凹凸パターン部の割合が漸次増加していた。
またこの凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンの配向度は０．３であった。
得られた凹凸パターン形成シートの光学特性を調べたところ、実施例１と同様の異方拡散性を有していた。したがって、実施例３の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
印刷層の印刷パターンを、直径５０μｍ、厚さ０．１μｍまたは０．５μｍの２種類のドット印刷により、幅４ｃｍ×長さ５ｃｍの範囲に、その長手方向の一端から他端に向かって、０．５μｍ厚さのドット割合が０〜１００％まで０．５ｃｍ毎に１０％ずつ増加するグラデーションパターンとした。ここでドット割合が０％とは、印刷層が０．１μｍの厚さの平坦面であることを示し、ドット割合が１００％とは印刷層が０．５μｍの厚さの平坦面であることを示す。
印刷層の印刷パターン以外は実施例１と同様にして凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンは、最頻ピッチが１μｍで平均深さが０．３μｍの凹凸パターン部および最頻ピッチが５μｍで平均深さが５μｍの凹凸パターン部が存在し、収縮方向に沿って最頻ピッチが５μｍで平均深さが５μｍの凹凸パターン部の割合が漸次増加していた。
またこの凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンの配向度は０．３であった。
得られた凹凸パターン形成シートの光学特性を調べたところ、実施例１と同様の異方拡散性を有していた。したがって、実施例３の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
（実施例４）
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の両面に、トルエンに希釈したポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ、ガラス転移温度１００℃）を、インクジェットプリンタ（富士フィルム株式会社ダイマティクスマテリアルプリンターＤＭＰ−２８３１）により印刷して、印刷シートを得た。
印刷のパターンは、一方の面Ｐは、幅４ｃｍで長さ方向２０ｃｍの範囲にて、その長手方向の０〜５ｃｍに向かって、印刷層厚さが０〜０．５μｍの範囲で、０．５ｃｍ毎に０．０５μｍずつ増加、長さ方向の５〜８．５ｃｍに向かって、印刷層厚さが０．５〜０μｍの範囲で０．３５ｃｍ毎に０．０５μｍずつ漸次減少、長さ方向８．５〜２０ｃｍに向かって、印刷層厚さが０〜０．１μｍの範囲で１．１５ｃｍ毎に０．０１μｍずつ漸次増加する３種のグラデーションパターンとした。もう一方の面Ｑは、面Ｐの印刷層が設けられた部分のうち、長手方向５〜２０ｃｍに相当する部分の面Ｑ側に厚さ０．５μｍの印刷層を設けた。
次いで、その印刷シートを８０℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させた（すなわち、変形率６０％に変形させた）。これにより、両面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンは、面Ｐ側には、収縮方向に沿って０〜２ｃｍの範囲で、最頻ピッチが０〜５μｍまで、平均深さが０〜５μｍまで、アスペクト比が０〜１まで漸次増加し、２〜３．４ｃｍの範囲で、最頻ピッチが５〜０μｍまで、平均深さが５〜０μｍまで、アスペクト比が１〜０まで漸次減少し、３．４〜８ｃｍの範囲で最頻ピッチが０〜１μｍまで、平均深さが０〜０．２μｍまで、アスペクト比が０〜０．２まで漸次増加していた。面Ｑ側には、収縮方向に沿って、面Ｐの２〜８ｃｍに相当する範囲に、最頻ピッチが５μｍ、平均深さが５μｍ、アスペクト比が１の凹凸が形成されていた。
またこの凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンの配向度は０．３であった。
一軸方向に熱収縮する厚さ５０μｍでヤング率３ＧＰａのポリエチレンテレフタレート製加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製ヒシペットＬＸ−６０Ｓ、ガラス転移温度７０℃）の両面に、トルエンに希釈したポリスチレン（ポリマーソース株式会社製ＰＳ、ガラス転移温度１００℃）を、インクジェットプリンタ（富士フィルム株式会社ダイマティクスマテリアルプリンターＤＭＰ−２８３１）により印刷して、印刷シートを得た。
印刷のパターンは、一方の面Ｐは、幅４ｃｍで長さ方向２０ｃｍの範囲にて、その長手方向の０〜５ｃｍに向かって、印刷層厚さが０〜０．５μｍの範囲で、０．５ｃｍ毎に０．０５μｍずつ増加、長さ方向の５〜８．５ｃｍに向かって、印刷層厚さが０．５〜０μｍの範囲で０．３５ｃｍ毎に０．０５μｍずつ漸次減少、長さ方向８．５〜２０ｃｍに向かって、印刷層厚さが０〜０．１μｍの範囲で１．１５ｃｍ毎に０．０１μｍずつ漸次増加する３種のグラデーションパターンとした。もう一方の面Ｑは、面Ｐの印刷層が設けられた部分のうち、長手方向５〜２０ｃｍに相当する部分の面Ｑ側に厚さ０．５μｍの印刷層を設けた。
次いで、その印刷シートを８０℃で１分間加熱することにより、加熱前の長さの４０％に熱収縮させた（すなわち、変形率６０％に変形させた）。これにより、両面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートを得た。
この凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンは、面Ｐ側には、収縮方向に沿って０〜２ｃｍの範囲で、最頻ピッチが０〜５μｍまで、平均深さが０〜５μｍまで、アスペクト比が０〜１まで漸次増加し、２〜３．４ｃｍの範囲で、最頻ピッチが５〜０μｍまで、平均深さが５〜０μｍまで、アスペクト比が１〜０まで漸次減少し、３．４〜８ｃｍの範囲で最頻ピッチが０〜１μｍまで、平均深さが０〜０．２μｍまで、アスペクト比が０〜０．２まで漸次増加していた。面Ｑ側には、収縮方向に沿って、面Ｐの２〜８ｃｍに相当する範囲に、最頻ピッチが５μｍ、平均深さが５μｍ、アスペクト比が１の凹凸が形成されていた。
またこの凹凸パターン形成シートにおける凹凸パターンの配向度は０．３であった。
得られた凹凸パターン形成シートの光拡散性を調べたところ、収縮方向に対して垂直方向よりも平行な方向に、強く光を拡散させる異方拡散性を有していた。また、この凹凸パターン形成シートの面Ｑ側から入射した光が、面Ｐから出射する際、光を凹凸パターン形成シートの法線方向に出射させるために必要な入射角度は、長手方向に沿って０〜８０°以上まで漸次増加した。このような実施例４の凹凸パターン形成シートは光拡散シートとして利用できるものである。
（実施例５）
実施例１の方法により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光拡散シートを得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の工程シート原版と接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を工程シート原版から剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸パターンを有し、同様の光拡散性を有するものであった。
実施例１の方法により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以下のようにして光拡散シートを得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の工程シート原版と接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の紫外線硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を工程シート原版から剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸パターンを有し、同様の光拡散性を有するものであった。
（実施例６）
実施例１の方法により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以
下のようにして光拡散シートを得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の２次工程シートと接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を２次工程シートから剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸パターンを有し、同様の光拡散性を有するものであった。
実施例１の方法により得た凹凸パターン形成シートを工程シート原版として用いて、以
下のようにして光拡散シートを得た。
すなわち、実施例１により得た工程シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面に、エポキシアクリレート系プレポリマー、２−エチルヘキシルアクリレートおよびベンゾフェノン系光重合開始剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を塗工した。
次いで、未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の２次工程シートと接していない面に、厚さ５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを重ね合わせ、押圧した。
次いで、トリアセチルセルロースフィルムの上から紫外線を照射し、未硬化の硬化性樹脂を硬化させ、その硬化物を２次工程シートから剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸パターンを有し、同様の光拡散性を有するものであった。
（実施例７）
紫外線硬化性樹脂組成物の代わりに熱硬化性エポキシ樹脂を使用し、紫外線を照射する代わりに加熱により該熱硬化性エポキシ樹脂を硬化させた以外は実施例６と同様にして光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸パターンを有し、同様の光拡散性を有するものであった。
紫外線硬化性樹脂組成物の代わりに熱硬化性エポキシ樹脂を使用し、紫外線を照射する代わりに加熱により該熱硬化性エポキシ樹脂を硬化させた以外は実施例６と同様にして光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸パターンを有し、同様の光拡散性を有するものであった。
（実施例８）
実施例６と同様にして、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面に、厚さ５０μｍのポリメチルメタクリレートフィルムを重ね、加熱した。加熱により軟化したポリメチルメタクリレートフィルムと２次工程シートとを、それらの両側から押圧した後、冷却・固化させ、固化したポリメチルメタクリレートフィルムを２次工程シートから剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸パターンを有し、同様の光拡散性を有するものであった。
実施例６と同様にして、厚さ２００μｍの２次工程シートを得た。この２次工程シートの凹凸パターンが形成された面に、厚さ５０μｍのポリメチルメタクリレートフィルムを重ね、加熱した。加熱により軟化したポリメチルメタクリレートフィルムと２次工程シートとを、それらの両側から押圧した後、冷却・固化させ、固化したポリメチルメタクリレートフィルムを２次工程シートから剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートは、実施例１の光拡散シートと同様の凹凸パターンを有し、同様の光拡散性を有するものであった。
（比較例１）
厚さ１００ｍｍのステンレス鋼ＳＵＳ４３０の全面に、厚さ１００μｍのニッケルめっきを施し、頂角１２０°、９０°および６０°のダイヤモンド切削工具を用いて、幅７０μｍ、ピッチ７０μｍ、頂角１２０°，９０°および６０°の線状プリズムを切削加工して、工程用原版を得た。この工程用原版のプリズム（凹凸パターン）が形成された面に、厚さ２ｍｍのポリメチルメタクリレートシートを重ね、加熱した。加熱により軟化したポリメチルメタクリレートシートと工程用原版とを、それらの両側から押圧した後、冷却・固化させ、固化したポリメチルメタクリレートシートを工程用原版から剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートの凹凸パターンは、幅４ｃｍ×長さ２ｃｍの範囲にて、その短手方向の一端から他端に向かって頂角１２０°，９０°，６０°の線状プリズム部が順に並んでおり、それぞれのプリズム部が配置された長さは０．６７ｃｍであった。
また、線状プリズムは短手方向に直交するように配置され、プリズム同士は互いに平行であった。
厚さ１００ｍｍのステンレス鋼ＳＵＳ４３０の全面に、厚さ１００μｍのニッケルめっきを施し、頂角１２０°、９０°および６０°のダイヤモンド切削工具を用いて、幅７０μｍ、ピッチ７０μｍ、頂角１２０°，９０°および６０°の線状プリズムを切削加工して、工程用原版を得た。この工程用原版のプリズム（凹凸パターン）が形成された面に、厚さ２ｍｍのポリメチルメタクリレートシートを重ね、加熱した。加熱により軟化したポリメチルメタクリレートシートと工程用原版とを、それらの両側から押圧した後、冷却・固化させ、固化したポリメチルメタクリレートシートを工程用原版から剥離することにより、光拡散シートを得た。
得られた光拡散シートの凹凸パターンは、幅４ｃｍ×長さ２ｃｍの範囲にて、その短手方向の一端から他端に向かって頂角１２０°，９０°，６０°の線状プリズム部が順に並んでおり、それぞれのプリズム部が配置された長さは０．６７ｃｍであった。
また、線状プリズムは短手方向に直交するように配置され、プリズム同士は互いに平行であった。
（比較例２）
ポリメチルメタクリレートに、粒径２μｍのポリシロキサン重合体の架橋物からなる微粒拡散子１部を混合した以外は比較例１と同様にして光拡散シートを得た。
ポリメチルメタクリレートに、粒径２μｍのポリシロキサン重合体の架橋物からなる微粒拡散子１部を混合した以外は比較例１と同様にして光拡散シートを得た。
実施例１〜８および比較例１，２の光学シートの入光面側の下方２０ｍｍの位置に、線状の冷陰極管（エレバム社製、外径３ｍｍ）を設置した。実施例１〜８の光学シートは、印刷層を設けた際の長手方向０ｃｍに相当する部分が、冷陰極管の真上になるように配置した。比較例１，２の光学シートは頂角１２０°の部分が冷陰極管の真上になるように配置した。また、凹凸パターンが冷陰極管の長手方向と平行になるように光学シートを配置した。
光拡散体としての適性を、冷陰極管を点灯させ、光学シートを通して観察した際の光拡散性および輝度により評価した。その評価結果を表１に示す。
○：光拡散性は良好あるいは輝度低下が小さく、ともに○の場合は、光拡散体として適している。
×：光拡散性不十分あるいは輝度低下が大きく、いずれか一方でも×の場合、光拡散体として適していない。
光拡散体としての適性を、冷陰極管を点灯させ、光学シートを通して観察した際の光拡散性および輝度により評価した。その評価結果を表１に示す。
○：光拡散性は良好あるいは輝度低下が小さく、ともに○の場合は、光拡散体として適している。
×：光拡散性不十分あるいは輝度低下が大きく、いずれか一方でも×の場合、光拡散体として適していない。
表１に示すように、実施例１〜８では、光拡散性が良好で輝度低下も少なく、光拡散体として適していた。
一方、比較例１，２では、光拡散性が劣るあるいは輝度低下が大きく、光拡散体として適していなかった。
一方、比較例１，２では、光拡散性が劣るあるいは輝度低下が大きく、光拡散体として適していなかった。
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ 光学シート
１１，１４，１６，１６ａ，１６ｂ，１６ｃ，１８ａ，１８ｂ 凹凸パターン
１１ａ 底部
１２ 加熱収縮性フィルム
１３，１５，１７，２０ａ，ｂ 硬質層
１９ａ，ｂ 凹凸の側面
２１ａ，ｂ 工程シート原版
２２ａ，ｂ ２次工程用成形物
３０ 光源
４０，４１ｂ 出射光
４１ａ 入射光
１１０ ウェブ状の工程シート原版
１１１ 凹凸パターン
１１２ 未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂
１２０ コーター
１３０ ロール
１４０ 電離放射線照射装置
１１，１４，１６，１６ａ，１６ｂ，１６ｃ，１８ａ，１８ｂ 凹凸パターン
１１ａ 底部
１２ 加熱収縮性フィルム
１３，１５，１７，２０ａ，ｂ 硬質層
１９ａ，ｂ 凹凸の側面
２１ａ，ｂ 工程シート原版
２２ａ，ｂ ２次工程用成形物
３０ 光源
４０，４１ｂ 出射光
４１ａ 入射光
１１０ ウェブ状の工程シート原版
１１１ 凹凸パターン
１１２ 未硬化の液状電離放射線硬化性樹脂
１２０ コーター
１３０ ロール
１４０ 電離放射線照射装置
Claims (7)
- 樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全体に、凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、
硬質層を構成する樹脂の平均のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であり、かつ、
硬質層の厚みが０．０５μｍ〜５．０μｍの範囲内で、連続的または段階的に変化させながら積層シートを形成する工程と、前記積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる工程とを有することを特徴とする凹凸パターン形成シートの製造方法。 - 樹脂製の基材と、該基材の片面または両面の少なくとも一部に設けられた樹脂からなる硬質層とを備え、該硬質層の表面全体に、凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートであって、
硬質層を構成する少なくとも１種類の樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と、基材を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であり、かつ、
硬質層の厚みが０．０５μｍ〜５．０μｍの範囲内で、厚さが異なる領域を分散して設けた積層シートを形成する工程と、前記積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる工程とを有することを特徴とする凹凸パターン形成シートの製造方法。 - 請求項１または２の何れかに記載の製造方法によって得られた凹凸パターン形成シートであって、全光線透過率が８５％以上である光拡散体。
- 請求項１または２の何れかに記載の凹凸パターン形成シートを備え、該凹凸パターン形成シートと同等の最頻ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された光拡散体を製造するための型として用いられる光拡散体製造用工程シート原版。
- 請求項４に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗工する工程と、該電離放射線硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を工程シート原版から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
- 請求項４に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の硬化性樹脂を塗工する工程と、該硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
- 請求項４に記載の光拡散体製造用工程シート原版の、凹凸パターンが形成された面に、凹凸パターン転写用材料を積層する工程と、凹凸パターンに積層した凹凸パターン転写用材料を前記工程シート原版から剥離して２次工程用成形物を作製する工程と、該２次工程用成形物の、前記工程シート原版の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、冷却したシート状の熱可塑性樹脂を２次工程用成形物から剥離する工程とを有する光拡散体の製造方法。
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