JP2010083685A - Raw material feeding device and apparatus and method for producing single crystal - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a raw material feeding device where troubles caused in the device by the hopping of a molten liquid when recharging are suppressed while keeping high productivity by efficiently melting a solid raw material recharged into the molten liquid in a crucible and to provide an apparatus and a method for producing a single crystal. <P>SOLUTION: The raw material feeding device 13 to feed a grain aggregate solid raw material in the crucible 4 holding the molten liquid 5 of the raw material is equipped with a raw material filling vessel 14 in which the raw material is filled and which has an opening openable and closable downward and a cylindrical movable cover 15 which surrounds the outer periphery of the opening at the raw material filling vessel 14, which is set so as to be position-variable in a vertical direction and which goes down in the direction of the crucible 4 when feeding the raw material. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、シリコンなどの単結晶のインゴットを成長させるチョクラルスキー法において使用される単結晶の製造装置と製造方法に係り、特にこの製造装置において原料のリチャージに好適に用いられる原料供給装置に関するものである。   The present invention relates to a single crystal manufacturing apparatus and manufacturing method used in a Czochralski method for growing a single crystal ingot such as silicon, and more particularly to a raw material supply apparatus suitably used for recharging a raw material in this manufacturing apparatus. Is.

一般にシリコン単結晶の育成法として、チョクラルスキー法(CZ法)が知られている。これは、育成装置内に設置された坩堝内において固形状のシリコン原料を加熱して溶融させ、原料融液面に種結晶シリコンを浸した後に引き上げを行い、種結晶と同じ方位配列を有するシリコン単結晶のインゴットを成長させる方法である。   In general, the Czochralski method (CZ method) is known as a method for growing a silicon single crystal. This is because silicon solid material is heated and melted in a crucible installed in a growing apparatus, seed crystal silicon is immersed in the surface of the raw material melt and then pulled up, and silicon having the same orientation as the seed crystal This is a method for growing a single crystal ingot.

上述のCZ法による単結晶の育成において、坩堝内に最初にチャージされた固形原料が溶融すると、体積が減少するため、坩堝の容積に比べて得られる原料の融液量が不足する。そこで、原料融液の不足分を補充するため、坩堝に最初にチャージを行った後に、固形原料を追加供給するリチャージが広く行われている。このリチャージによって、坩堝の容積を有効に活用することができ、単結晶のインゴット育成における生産性を向上させることができる。   In the growth of a single crystal by the above-described CZ method, when the solid raw material initially charged in the crucible is melted, the volume is reduced, so that the amount of melt of the obtained raw material is insufficient as compared with the volume of the crucible. Therefore, in order to replenish the shortage of the raw material melt, recharging for additionally supplying a solid raw material after first charging the crucible is widely performed. By this recharging, the volume of the crucible can be effectively utilized, and the productivity in growing a single crystal ingot can be improved.

また、CZ法によるシリコン単結晶の育成に良く用いられる石英製の坩堝は、一度固形原料を溶融すると坩堝内壁と融液との間に強固な接着層が形成されてしまい使用不可能となる。そのため、生産性向上の観点から、一度に複数本の単結晶を引き上げるマルチプーリングが望まれているが、このマルチプーリングはリチャージの応用により初めて可能となる。具体的には、坩堝から単結晶を引き上げた後、原料融液の減少分に見合う量の固形原料を坩堝内の残留融液にリチャージし、再度単結晶の引き上げを行う。これにより、通常1度しか使用できない坩堝から複数本の単結晶を製造することができ、製造歩留まりを向上させるとともに製造コストを低減させることが可能となる。   Further, a quartz crucible often used for growing a silicon single crystal by the CZ method cannot be used because a solid adhesive layer is formed between the crucible inner wall and the melt once the solid raw material is melted. Therefore, from the viewpoint of improving productivity, multi-pooling in which a plurality of single crystals are pulled up at once is desired. However, this multi-pooling is possible only by the application of recharge. Specifically, after pulling up the single crystal from the crucible, the solid raw material in an amount corresponding to the decrease in the raw material melt is recharged to the residual melt in the crucible, and the single crystal is pulled up again. As a result, a plurality of single crystals can be manufactured from a crucible that can normally be used only once, and the manufacturing yield can be improved and the manufacturing cost can be reduced.

このようにリチャージは有効な技術であるが、固形原料をリチャージする場合、原料落下時の衝撃により坩堝内の融液が飛び跳ねて飛沫が装置内に付着し、装置の寿命を短くするとか、単結晶の育成に悪影響を及ぼしたりするといった問題があった。   In this way, recharging is an effective technology, but when recharging a solid raw material, the melt in the crucible jumps due to the impact when the raw material falls and the droplets adhere to the device, shortening the life of the device, or simply There was a problem of adversely affecting the growth of crystals.

これに対して、特許文献1には、開口部を有し、固形原料が充填された内側容器を、内側容器の開口部を閉塞する外側容器内に摺動可能に挿入させ、次いでこれらの容器を坩堝上に下降させて停止した後、容器を摺動させて開口部を開放し、坩堝内の原料融液に固形原料を投入する技術が記載されている。このとき、摺動の動きを利用して開口部を開放することにより、静的な原料投入を可能とし、さらに投入初期に細粒原料が落下するようにすることで、液跳ねを防止する効果が高まるとされている。   On the other hand, in Patent Document 1, an inner container having an opening and filled with a solid raw material is slidably inserted into an outer container that closes the opening of the inner container, and then these containers are inserted. The technique is described in which the solid material is poured into the raw material melt in the crucible after the container is lowered to the crucible and stopped, the container is slid to open the opening. At this time, by opening the opening using the sliding movement, static raw material can be charged, and further, the fine particle raw material can be dropped at the initial charging stage, thereby preventing liquid splashing. It is said that will increase.

また、特許文献2には、固形原料が充填されるリチャージ管と、このリチャージ管の下部外側に設けられ、リチャージ管に対して摺動可能かつ下端の開口部に向かって縮径傾斜部を有する漏斗状外筒と、開口部を塞ぐ下端蓋とを備えたリチャージ装置が開示されている。ここで、融液の中心部を一部固化させた状態として、このリチャージ装置を坩堝中の融液に向かって下降させ、融液の中心に向かって縮径した開口部を開放することにより、融液の中心の固化表面に固形原料を落下供給する。これにより、融液面の固化割合が低い状態であっても融液の跳ねは抑止され、生産性を向上させることができるとされている。
特開2005−1977号公報 特開2007−277069号公報
Further, in Patent Document 2, a recharge pipe filled with a solid material, and provided on the lower outer side of the recharge pipe, slidable with respect to the recharge pipe and having a reduced diameter inclined portion toward the opening at the lower end. A recharging device is disclosed that includes a funnel-shaped outer cylinder and a lower end lid that closes the opening. Here, as a state in which the central portion of the melt is partially solidified, the recharge device is lowered toward the melt in the crucible, and the opening reduced in diameter toward the center of the melt is opened. A solid raw material is dropped and supplied to the solidified surface at the center of the melt. Thereby, even if the solidification ratio of the melt surface is low, the splash of the melt is suppressed, and the productivity can be improved.
JP-A-2005-1977 JP 2007-277069 A

しかしながら、従来の技術を用いた場合、リチャージされた固形原料により融液の温度が下がるため、リチャージされた原料が再溶融するまでに時間がかかり、生産性を落としてしまうという問題があった。これを防止するためには、固形原料をリチャージする前段階から坩堝の加熱の出力を増加させることにより、融液温度を十分に上げておく対策が考えられるが、融液の粘度が下がるため液跳ねが顕著になり、装置内にダメージを与える恐れが増大する。また、特許文献1,2の方法によれば、液跳ねを抑制するため、液面近傍までリチャージ装置の開口部を下降させてから、開口部を開放して固形原料を投下しているため、可動機構を有するリチャージ装置の開口部が熱によるダメージを受けて不具合を起こす、熱により開口部と蓋の間に隙間が生じて意図しない原料の落下を引き起こす、高温のため開口部や蓋を構成する材質から固形原料に対して不純物の汚染が生ずるといった、多くの問題が未解決のまま残されていた。   However, when the conventional technique is used, the temperature of the melt is lowered by the recharged solid raw material, so that it takes time until the recharged raw material is remelted, resulting in a problem that productivity is lowered. In order to prevent this, it is conceivable to increase the temperature of the melt sufficiently by increasing the heating output of the crucible from the stage before recharging the solid raw material. Splashing becomes prominent, increasing the risk of damaging the device. Moreover, according to the methods of Patent Documents 1 and 2, in order to suppress the liquid splash, the opening of the recharge device is lowered to the vicinity of the liquid surface, and then the opening is opened to drop the solid raw material. The opening part of the recharge device with a movable mechanism is damaged due to heat and causes a defect. The heat causes a gap between the opening part and the lid, causing unintentional dropping of the raw material. Many problems remain unsolved, such as contamination of impurities from solid materials into the raw material.

本発明は、上記従来の技術における問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、坩堝内の融液にリチャージした固形原料を効率的に融解させて高い生産性を維持しつつ、リチャージ時の融液の飛び跳ねに起因して装置内に生ずる不具合を抑止した原料供給装置、単結晶の製造装置および単結晶の製造方法を提供することにある。   The present invention has been completed in view of the above-mentioned problems in the prior art, and its purpose is to efficiently melt the solid material recharged in the melt in the crucible while maintaining high productivity. An object of the present invention is to provide a raw material supply apparatus, a single crystal manufacturing apparatus, and a single crystal manufacturing method that suppress problems caused in the apparatus due to the splashing of the melt during recharging.

本発明の原料供給装置は、原料融液を保持する坩堝に粒塊状の固形原料を供給する原料供給装置であって、固形原料が内部に充填され、下方に開閉可能な開口部を有する原料充填容器と、この原料充填容器の開口部の外周を囲繞するとともに、上下方向に位置可変となるように設けられ、原料供給時に坩堝の方向に下降する管状の可動カバーと、を具備する。   A raw material supply apparatus according to the present invention is a raw material supply apparatus that supplies agglomerated solid raw material to a crucible that holds a raw material melt, and is filled with a solid raw material and has an opening that can be opened and closed downward. A container and a tubular movable cover which surrounds the outer periphery of the opening of the raw material filling container and is provided so as to be variable in the vertical direction and descends in the direction of the crucible when the raw material is supplied.

また、本発明の単結晶製造装置は、上記本発明の原料供給装置と、原料融液を保持するとともにこの原料供給装置から粒塊状の固形原料が供給される坩堝と、を具備する。   The single crystal production apparatus of the present invention includes the raw material supply apparatus of the present invention, and a crucible that holds the raw material melt and is supplied with agglomerated solid raw material from the raw material supply apparatus.

さらに、本発明の単結晶の製造方法は、上記本発明の単結晶製造装置を用いて坩堝に粒塊状の固形原料を供給して融解させる単結晶の製造方法であって、可動カバーの下端が坩堝中の原料融液表面の近傍の位置に来るまで、可動カバーを下降させるステップと、原料充填容器の開口部を開けて、固形原料を坩堝の原料融液中に投下するステップと、坩堝に投入された固形原料が融解するに伴い、可動カバーを徐々に上昇させるステップと、を有する。   Furthermore, the method for producing a single crystal according to the present invention is a method for producing a single crystal in which a solid material in the form of agglomerates is supplied to a crucible using the single crystal production apparatus according to the present invention, and the lower end of the movable cover is The step of lowering the movable cover until it reaches a position near the surface of the raw material melt in the crucible, the step of opening the opening of the raw material filling container and dropping the solid raw material into the raw material melt of the crucible, A step of gradually raising the movable cover as the charged solid material melts.

本発明の原料供給装置は、上述したような構成であるから、固形原料をリチャージする際、固形原料は下降した管状の可動カバーの内側を経由して、坩堝中の高温となった融液に供給される。このとき、供給された固形原料により融液の熱が奪われるため、いったんは融液表面が固化するものの、下降した状態の可動カバーが、坩堝の蓋の役割をし、可動カバーと坩堝で挟まれた空間中に蓄熱されるため、リチャージされた固形原料が効率的に短時間で融解される。   Since the raw material supply apparatus of the present invention is configured as described above, when the solid raw material is recharged, the solid raw material passes through the inside of the descending tubular movable cover to the molten melt in the crucible. Supplied. At this time, since the melt heat is taken away by the supplied solid raw material, the surface of the melt is once solidified, but the lowered movable cover serves as a crucible lid and is sandwiched between the movable cover and the crucible. Since the heat is stored in the space, the recharged solid material is efficiently melted in a short time.

さらに、可動カバーが下降した状態で固形原料が供給されるため、原料落下時に原料微少粉や、融液の飛沫が周囲に飛び散ったとしても、可動カバーによって外部への影響が抑えられ、装置内の寿命や単結晶の育成に対する悪影響を小さくすることができる。   Furthermore, since the solid raw material is supplied with the movable cover lowered, even if the raw material fine powder or melt splash is scattered around when the raw material is dropped, the movable cover can suppress the influence on the outside. Adverse effects on the lifetime and growth of single crystals can be reduced.

また、可動カバーにより融液飛沫の飛散が抑えられるため、原料充填容器の開口部を、必要以上に坩堝内の高熱の融液に近づける必要がない。したがって、原料充填容器の開口部の可動機構が熱によるダメージを受けにくい。さらに、原料を供給するのは原料充填容器の開口部の開閉動作によって行うので、可動カバーの開口部に蓋を設ける必要がなく、シンプルな機構とできるから熱による不具合発生が起こりにくい。さらに、固形原料を蓄積している原料充填容器の開口部や蓋が必要以上に高温にならないため、実際に固形原料と接している箇所(開口部や蓋)から原料に対して不純物の汚染が起こりにくい。   In addition, since the splash of the melt is suppressed by the movable cover, it is not necessary to bring the opening of the raw material filling container closer to the hot melt in the crucible than necessary. Therefore, the movable mechanism of the opening of the raw material filling container is not easily damaged by heat. Further, since the raw material is supplied by opening and closing the opening of the raw material filling container, it is not necessary to provide a lid at the opening of the movable cover, and a simple mechanism can be used, so that troubles due to heat hardly occur. In addition, since the openings and lids of the raw material filling container that accumulates solid raw materials do not reach an unnecessarily high temperature, contamination of the raw materials from the locations (openings and lids) that are actually in contact with the solid raw materials Hard to happen.

本発明の単結晶製造装置は、以上のような本発明の原料供給装置を備えているので、坩堝にリチャージされた固形原料を短時間で融解することができ、生産性の高い単結晶製造装置となる。さらに、可動カバーによりリチャージ時の融液の跳ねや原料微粉の飛び散り等による装置の寿命や単結晶の育成に対する悪影響を抑えることができるので、生産性と歩留りの高い装置となる。また、原料充填装置の開口部を融液から十分に距離をあけた状態で固形原料のリチャージが可能となるので、装置の高寿命化と高品質な単結晶の引き上げに寄与するものとなる。   Since the single crystal production apparatus of the present invention includes the raw material supply apparatus of the present invention as described above, the solid crystal recharged in the crucible can be melted in a short time, and the single crystal production apparatus has high productivity. It becomes. Furthermore, since the movable cover can suppress the adverse effect on the life of the apparatus and the growth of the single crystal due to the splashing of the melt at the time of recharging and the scattering of the raw material fine powder, the apparatus has a high productivity and a high yield. In addition, since the solid raw material can be recharged with the opening of the raw material filling device being sufficiently spaced from the melt, it contributes to a longer life of the device and the pulling of a high quality single crystal.

本発明の単結晶の製造方法によれば、可動カバーの下端が坩堝中の原料融液表面の近傍の位置に来るまで、可動カバーを下降させるステップ(1)と、原料充填容器の開口部を開けて、固形原料を坩堝の原料融液中に投下するステップ(2)と、坩堝に投入された固形原料が融解するに伴い、坩堝と可動カバーとの距離を徐々に離間させるステップ(3)とを有しているので、特に、ステップ(2)のときに、下降した状態の可動カバーが坩堝の蓋の役割をするため、リチャージされた固形原料が効率的に短時間で融解される。そして、融解するに伴って、徐々に坩堝と可動カバーとの距離を離すことにより、可動カバー内部に未溶解の固形原料がある場合、効率的に坩堝に排出することができる。また、可動カバーを高温の融液から距離をおくことになるので、必要以上に高熱に晒さなくてすむ。   According to the method for producing a single crystal of the present invention, the step (1) of lowering the movable cover until the lower end of the movable cover comes to a position near the surface of the raw material melt in the crucible, and the opening of the raw material filling container Opening and dropping the solid raw material into the raw material melt of the crucible (2), and gradually separating the distance between the crucible and the movable cover as the solid raw material charged into the crucible melts (3) In particular, at the time of step (2), the movable cover in the lowered state serves as a crucible lid, so that the recharged solid raw material is efficiently melted in a short time. And as it melts, the distance between the crucible and the movable cover is gradually increased so that when there is an undissolved solid material inside the movable cover, it can be efficiently discharged into the crucible. Further, since the movable cover is kept away from the high-temperature melt, it is not necessary to expose the movable cover to higher heat than necessary.

本発明の単結晶の製造方法によれば、以上のような作用を奏するから、固形原料への不純物の混入を抑えることができ、純度の高い単結晶の製造が可能となる。また、装置の寿命や生産性を高く保つことができるので、低コスト化にも寄与するものとなる。   According to the method for producing a single crystal of the present invention, the effects as described above are exhibited, so that impurities can be prevented from being mixed into the solid raw material, and a single crystal having a high purity can be produced. In addition, since the life and productivity of the apparatus can be kept high, it contributes to cost reduction.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。ただし、以下の説明では、本発明に係る実施の態様の一例を示すに過ぎず、本発明の範囲はこれらの具体例に限定されるものではない。また、図に示す部材やその寸法・比率等については、説明のため強調・省略することがあり、必ずしも実際のものに即しているというわけではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, in the following description, only an example of the embodiment according to the present invention is shown, and the scope of the present invention is not limited to these specific examples. In addition, the members shown in the drawings and their dimensions and ratios may be emphasized or omitted for the sake of explanation, and do not necessarily correspond to actual ones.

図1は、本発明に係る単結晶製造装置(この例ではシリコン単結晶製造装置)の一例を示した模式的な断面図である。図1における単結晶製造装置は、いわゆるCZ炉であり、炉体としてメインチャンバ1およびプルチャンバ2を備えている。プルチャンバ2は、メインチャンバ1より小径で、メインチャンバ1の中心部上に重ねられる。メインチャンバ1内の中心部には坩堝が配置されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a single crystal manufacturing apparatus (a silicon single crystal manufacturing apparatus in this example) according to the present invention. 1 is a so-called CZ furnace, and includes a main chamber 1 and a pull chamber 2 as furnace bodies. The pull chamber 2 has a smaller diameter than the main chamber 1 and is superimposed on the center of the main chamber 1. A crucible is disposed at the center of the main chamber 1.

坩堝は内側に設けられた石英坩堝4と、その外側に設けられた黒鉛坩堝3とを組み合わせた二重構造である。石英坩堝4を構成する石英は高温で軟化するとともに、脆く破損しやすいという性質を有するため、その周囲を黒鉛坩堝3で囲繞しているのである。これらの坩堝は坩堝受け(図示せず)を介して支持軸11により支持されている。支持軸11は坩堝を昇降させる、あるいは周方向に回転させるように駆動させることができる。   The crucible has a double structure in which a quartz crucible 4 provided on the inside and a graphite crucible 3 provided on the outside thereof are combined. Quartz constituting the quartz crucible 4 is softened at a high temperature and has the property of being brittle and easily damaged, so the periphery thereof is surrounded by the graphite crucible 3. These crucibles are supported by the support shaft 11 via a crucible receptacle (not shown). The support shaft 11 can be driven to move the crucible up and down or to rotate in the circumferential direction.

黒鉛坩堝3の周囲は、ヒータ6により囲繞されている。このヒータ6により、石英坩堝4に投入されたシリコンの固形原料(例えば、多結晶ランプ材)を溶融する。なお、このヒータ6のさらに外側には保温用断熱材7が、メインチャンバ1の内面に沿ってメインチャンバ1と同心円状に装置底部台座10上に配置されている。この保温用断熱材7はヒータ6からの熱がメインチャンバ1に直接輻射されることを防止している。   The periphery of the graphite crucible 3 is surrounded by a heater 6. The heater 6 melts a silicon solid material (for example, a polycrystalline lamp material) charged into the quartz crucible 4. A heat insulating material 7 for heat insulation is arranged on the apparatus bottom pedestal 10 concentrically with the main chamber 1 along the inner surface of the main chamber 1 on the outer side of the heater 6. This heat insulating material 7 prevents heat from the heater 6 from being directly radiated to the main chamber 1.

さらに、保温用断熱材7の上には開口部が設けられ、上部は外側に、下部は内側に水平に延びた円周部を有する熱遮蔽シールド8が設けられている。   Further, an opening is provided on the heat insulating material 7, and a heat shielding shield 8 having a circumferential portion extending horizontally on the upper side and on the lower side is provided on the lower side.

メインチャンバ1には排気口12が設けられており、図示しないガス供給管からメインチャンバ1の内部にArなどの不活性ガスを供給可能に構成されている。具体的には、排気口12から空気を排出してメインチャンバ1の内部を減圧状態とし、Arガスなどの不活性ガスを流して雰囲気を所望の状態としてシリコンの融解が行われる。   The main chamber 1 is provided with an exhaust port 12 so that an inert gas such as Ar can be supplied into the main chamber 1 from a gas supply pipe (not shown). Specifically, silicon is melted by discharging air from the exhaust port 12 to bring the inside of the main chamber 1 into a decompressed state and flowing an inert gas such as Ar gas to a desired state.

プルチャンバ2内には、引き上げ軸としてのワイヤ9が垂下されている。ワイヤ9は、プルチャンバ2の最上部に設けられた図示されない駆動機構により昇降駆動される。なお、ワイヤ9は駆動機構により回転させるようにしても良い。   A wire 9 as a pulling shaft is suspended in the pull chamber 2. The wire 9 is driven up and down by a driving mechanism (not shown) provided at the top of the pull chamber 2. The wire 9 may be rotated by a driving mechanism.

引き上げ軸のワイヤ9の下部には、本発明に係る原料供給装置13が設けられている。原料供給装置13は原料充填容器14とその外周を囲繞するように設けられた可動カバー15とからなる。   A raw material supply device 13 according to the present invention is provided below the wire 9 of the pulling shaft. The raw material supply device 13 includes a raw material filling container 14 and a movable cover 15 provided so as to surround the outer periphery thereof.

図2を用いて原料供給装置13について詳しく説明する。図2は図1に示した単結晶製造装置を構成する本発明に係る原料供給装置の一例を示す模式的な断面図であり、(a)は可動カバーが上方に位置して固体原料を保持するとき、(b)は可動カバーが下方に位置して固体原料を放出するときを示す。   The raw material supply apparatus 13 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a raw material supply apparatus according to the present invention that constitutes the single crystal manufacturing apparatus shown in FIG. 1, and (a) shows a solid raw material with a movable cover positioned above. (B) shows the time when the movable cover is positioned below and the solid material is released.

原料充填容器14は、内部に粒塊状のシリコンの固形原料18が充填され、石英坩堝4内のシリコンの原料融液に対して供給可能な位置に保持されている。原料充填容器14の本体は、ステンレス鋼などにより形成されており、内部にシリコンの固形原料18を保持可能な円筒形状となっている。また、下方に開口部14aが設けられ、必要に応じて自在に開閉するように構成されている。詳細は後述するが、この開口部14aを開くことにより、原料充填容器14内のシリコンの固形原料18を下方に設けられた石英坩堝4内にチャージすることができる。固形原料18は、例えば、粒径が5mm〜25mmの粒塊状のものが用いられ、一度に充填する量としては、例えば、20kg程度である。   The raw material filling container 14 is filled with a solid material 18 of agglomerated silicon and is held at a position where it can be supplied to the silicon raw material melt in the quartz crucible 4. The main body of the raw material filling container 14 is formed of stainless steel or the like, and has a cylindrical shape capable of holding a silicon solid raw material 18 therein. In addition, an opening 14a is provided below, and is configured to freely open and close as necessary. Although details will be described later, by opening the opening 14a, the silicon solid material 18 in the raw material filling container 14 can be charged into the quartz crucible 4 provided below. The solid raw material 18 is, for example, a granule having a particle size of 5 mm to 25 mm, and the amount to be filled at a time is, for example, about 20 kg.

可動カバー15は、原料充填容器14の外径よりも大きな内径を有する擬似円筒形状を有し、原料充填容器14の開口部14aの外周の周囲を囲う位置に設けられている。この可動カバー15は、原料充填容器14の外周を上下方向に位置可変となるように保持されている。この例では、可動カバー15が原料充填容器14の外周部と摺動可能な構成としており、可動カバー15の複数個所にワイヤ17が取り付けられ、このワイヤ17を上下方向に移動させることにより、原料を供給する工程中にこの可動カバー15の位置を変化させることができる。なお、可動カバー15の下降は自重により行うのが簡便である。   The movable cover 15 has a pseudo-cylindrical shape having an inner diameter larger than the outer diameter of the raw material filling container 14, and is provided at a position surrounding the periphery of the opening 14 a of the raw material filling container 14. The movable cover 15 is held so that the position of the outer periphery of the raw material filling container 14 is variable in the vertical direction. In this example, the movable cover 15 is configured to be slidable with the outer peripheral portion of the raw material filling container 14, and wires 17 are attached to a plurality of locations of the movable cover 15, and the raw material is moved by moving the wire 17 in the vertical direction. The position of the movable cover 15 can be changed during the process of supplying. It is easy to lower the movable cover 15 by its own weight.

原料供給装置13の動作は以下のとおりである。まず、原料供給装置13内にシリコンの固形原料18を充填し、ワイヤ9に取着しプルチャンバ2の側からメインチャンバ1に向かって内部を下降させる。やがて、係止部16がメインチャンバ1内に設けられた小径部1aに当接し、原料供給装置13の下降が停止する(図2(a)参照)。   The operation of the raw material supply apparatus 13 is as follows. First, the raw material supply device 13 is filled with a silicon solid material 18, attached to the wire 9, and lowered from the pull chamber 2 side toward the main chamber 1. Eventually, the locking portion 16 comes into contact with the small diameter portion 1a provided in the main chamber 1, and the lowering of the raw material supply device 13 stops (see FIG. 2A).

その後、ワイヤ17によって吊り下げられた可動カバー15を下降させて、所定の位置で下降を止める。その後、原料充填容器14の開口部14aを開き、固形原料18を融液5の中に投下する(図2(b)参照)。   Thereafter, the movable cover 15 suspended by the wire 17 is lowered and stopped at a predetermined position. Thereafter, the opening 14a of the raw material filling container 14 is opened, and the solid raw material 18 is dropped into the melt 5 (see FIG. 2B).

このようにして、固形原料18は下降した管状の可動カバー15の内側を経由して、石英坩堝4中の高温となった融液5に供給される。このとき、供給された固形原料18により融液5の熱が奪われるため、いったんは融液5の表面が固化するものの、下降した状態の可動カバー15が、石英坩堝4の蓋の役割をし、可動カバー15と石英坩堝4で挟まれた空間中に蓄熱されるため、リチャージされた固形原料18が効率的に短時間で融解される。   In this way, the solid raw material 18 is supplied to the melt 5 having a high temperature in the quartz crucible 4 via the inside of the lowered tubular movable cover 15. At this time, since the heat of the melt 5 is taken away by the supplied solid raw material 18, the surface of the melt 5 is once solidified, but the movable cover 15 in the lowered state serves as a lid for the quartz crucible 4. Since the heat is stored in the space sandwiched between the movable cover 15 and the quartz crucible 4, the recharged solid raw material 18 is efficiently melted in a short time.

なお、可動カバー15の可動範囲の目安としては、原料充填容器14の開口部14aが内側に位置するようにしておくのが良い。このように構成しておくことにより、常に可動カバー15が原料充填容器14と一体的に存在することになり、可動カバー15による蓄熱の効果が大きいからである。   In addition, as a standard of the movable range of the movable cover 15, it is preferable that the opening portion 14a of the raw material filling container 14 is positioned inside. This is because the movable cover 15 always exists integrally with the raw material filling container 14 by being configured in this manner, and the effect of heat storage by the movable cover 15 is great.

また、可動カバー15が下降した状態で固形原料18が供給されるため、原料落下時に原料微小粉や、融液の飛沫が周囲に飛び散ったとしても、可動カバー15によって外部への影響が抑えられ、装置内の寿命や単結晶の育成に対する悪影響を小さくすることができる。このように原料微小粉や融液の飛沫の飛び跳ねが周囲に悪影響を及ぼすことを抑えるためには、可動カバー15の下端の位置は、石英坩堝4中の融液5の表面から50mm〜200mmの位置とすると良い。   Further, since the solid raw material 18 is supplied in a state where the movable cover 15 is lowered, even if the raw material fine powder or the splash of the melt scatters around when the raw material falls, the movable cover 15 can suppress the influence on the outside. The adverse effects on the lifetime in the apparatus and the growth of the single crystal can be reduced. In this way, in order to prevent the splash of the raw material fine powder or melt from affecting the surroundings adversely, the position of the lower end of the movable cover 15 is 50 mm to 200 mm from the surface of the melt 5 in the quartz crucible 4. It is good to be a position.

原料充填容器14は、一般的にステンレス鋼などから構成されており、1410℃を超えるシリコン融液に接近させると劣化する恐れがある。しかしながら、本発明の構成によれば、上述したように可動カバー15により融液飛沫の飛散が抑えられるという効果が得られるため、原料充填容器14の開口部14aを十分に融液5と離しておくことができ、可動機構が熱によるダメージを受けにくく、装置の寿命を延ばすことができる。   The raw material filling container 14 is generally made of stainless steel or the like, and may be deteriorated when approaching a silicon melt exceeding 1410 ° C. However, according to the configuration of the present invention, as described above, since the movable cover 15 can suppress the splashing of the melt droplets, the opening 14 a of the raw material filling container 14 is sufficiently separated from the melt 5. The movable mechanism is not easily damaged by heat, and the life of the apparatus can be extended.

さらに、原料充填容器14の開口部14aの開閉動作によって原料の供給を行うので、従来行われていたように可動カバーの開口部に蓋を設ける必要がない。このように本発明の構成によれば、可動カバー15自体の構造が極めてシンプルな機構になるので熱による不具合発生が起こりにくい。   Furthermore, since the raw material is supplied by the opening / closing operation of the opening 14a of the raw material filling container 14, it is not necessary to provide a lid at the opening of the movable cover as is conventionally done. As described above, according to the configuration of the present invention, the structure of the movable cover 15 itself is a very simple mechanism, so that troubles due to heat hardly occur.

また、固形原料18を蓄積している原料充填容器14の開口部14aや蓋が必要以上に高温にならないため、実際に固形原料18と接している箇所(開口部14aの開閉部分)から原料に対して不純物の汚染が起こりにくい。   Moreover, since the opening part 14a and lid | cover of the raw material filling container 14 which accumulate | stored the solid raw material 18 do not become high temperature more than necessary, it is from the location (the opening-and-closing part of the opening part 14a) which is actually contacting the solid raw material 18 to a raw material. On the other hand, contamination of impurities is difficult to occur.

なお、可動カバー15としては、耐熱性に優れた部材により形成するようにすれば、可動カバー15の長期間の使用が可能となり、原料充填容器14を融液5の高熱から十分に保護することができる。このような耐熱性に優れた部材としては、モリブデン、タングステン、ボロンナイトライドまたは炭化珪素を用いることができる。なお、1000℃を超える高温条件下では、熱は光となり伝達されるため、可動カバー15の材質としては、光を反射する、つまり輻射率が低いものが好ましい。輻射率は0.4以下が好ましく、このような材質としては、モリブデン、タングステンなどが挙げられる。   If the movable cover 15 is formed of a member having excellent heat resistance, the movable cover 15 can be used for a long period of time, and the raw material filling container 14 is sufficiently protected from the high heat of the melt 5. Can do. As such a member having excellent heat resistance, molybdenum, tungsten, boron nitride, or silicon carbide can be used. In addition, since heat is transmitted as light under high temperature conditions exceeding 1000 ° C., the material of the movable cover 15 is preferably one that reflects light, that is, has a low emissivity. The emissivity is preferably 0.4 or less, and examples of such a material include molybdenum and tungsten.

以上のように、可動カバー15は融液飛沫の飛散を受け止める、融液の高温に耐える必要がある、といった過酷な状況下に晒される。したがって、耐熱性を有する材質により構成されていたとしても、何回か使用しているとだんだん劣化してくる。したがって、原料充填容器14に対して、自在に着脱できるような構造としておくのが良い。このようにすれば、例えば、可動カバー15の表面状態が悪化したときには、取り外して、表面を物理的・化学的に研磨して再生を図ることが可能である。また、可動カバー15の材質の劣化が激しいときには交換してしまうことも容易である。自在に着脱できる構造の例としては、縦方向に複数の部分に分割されたパーツにより構成し、これらを原料充填容器14の側面周囲に組み合わせて取り付けることにより、一体化するような構造とすれば良い。   As described above, the movable cover 15 is exposed to a severe situation in which it is necessary to resist the splash of the melt and to withstand the high temperature of the melt. Therefore, even if it is made of a heat-resistant material, it gradually deteriorates after being used several times. Therefore, it is preferable to have a structure that can be freely attached to and detached from the raw material filling container 14. In this way, for example, when the surface state of the movable cover 15 deteriorates, it can be removed and the surface can be physically and chemically polished for regeneration. Further, when the material of the movable cover 15 is greatly deteriorated, it is easy to replace it. As an example of a structure that can be freely attached and detached, if it is configured by parts divided into a plurality of parts in the vertical direction and these are combined and attached around the side surface of the raw material filling container 14, the structure can be integrated. good.

上述したように、本発明の単結晶の製造方法によれば、可動カバー15の下端が石英坩堝4中の融液5の表面の近傍の位置に来るまで、可動カバーを下降させるステップ(1)と、原料充填容器14の開口部14aを開けて、固形原料18を石英坩堝4の融液5中に投下するステップ(2)を有している。その後、石英坩堝4に投入された固形原料18が融解するに伴い、可動カバー15を徐々に上昇させるか、石英坩堝4を徐々に下降させることによって、可動カバー15と融液5とを離間させるステップ(3)をさらに追加することが望ましい。このようにすれば、可動カバー15内部に未溶解の固形原料18がある場合、効率的に石英坩堝4に排出することができ、可動カバー15を必要以上に融液5の高熱に晒さなくてすむからである。   As described above, according to the method for producing a single crystal of the present invention, the movable cover 15 is lowered until the lower end of the movable cover 15 comes to a position near the surface of the melt 5 in the quartz crucible 4 (1). And the step (2) of opening the opening 14 a of the raw material filling container 14 and dropping the solid raw material 18 into the melt 5 of the quartz crucible 4. Thereafter, as the solid raw material 18 charged into the quartz crucible 4 is melted, the movable cover 15 is gradually raised or the quartz crucible 4 is gradually lowered to separate the movable cover 15 from the melt 5. It is desirable to add step (3) further. In this way, when there is an undissolved solid raw material 18 inside the movable cover 15, it can be efficiently discharged into the quartz crucible 4, and the movable cover 15 can be exposed to the high heat of the melt 5 more than necessary. This is because.

以上、本発明に係る単結晶製造装置を利用した単結晶の製造方法の特徴部分について詳述した。その他の工程については、従来周知の方法を利用すれば良い。以下、全工程を簡単に説明する。   In the above, the characteristic part of the manufacturing method of the single crystal using the single crystal manufacturing apparatus based on this invention was explained in full detail. For other steps, a conventionally known method may be used. Hereinafter, the entire process will be briefly described.

マルチプーリングの場合は、育成および装置内での冷却が完了したシリコン単結晶を装置外へ取り出し、多結晶シリコンの固形原料18の充填が完了した本発明の原料供給装置13をワイヤ9に吊り下げ、本発明の単結晶製造装置内へ収納する。   In the case of multi-pooling, the silicon single crystal that has been grown and cooled in the apparatus is taken out of the apparatus, and the raw material supply apparatus 13 of the present invention that has been filled with the solid raw material 18 of polycrystalline silicon is suspended from the wire 9. And housed in the single crystal manufacturing apparatus of the present invention.

次に、坩堝回転数を例えば1rpmで維持した状態で、ヒータ6の出力を低下させて残留しているシリコン融液の温度を融液表面が固化温度近傍になるくらいまで下げる。この状態でシリコン融液の温度を安定させ、原料供給装置13を単結晶製造装置のプルチャンバ2の上方から下降させ、原料供給装置13の係止部16をメインチャンバ1の小径部1aに当接させて停止させる。   Next, with the crucible rotation speed maintained at, for example, 1 rpm, the output of the heater 6 is lowered to lower the temperature of the remaining silicon melt until the melt surface is close to the solidification temperature. In this state, the temperature of the silicon melt is stabilized, the raw material supply device 13 is lowered from above the pull chamber 2 of the single crystal manufacturing device, and the locking portion 16 of the raw material supply device 13 is brought into contact with the small diameter portion 1 a of the main chamber 1. To stop.

その後、可動カバー15を吊り下げているワイヤ17を下降させ、可動カバー15の下端が融液5の表面から100mmの位置で停止させ、原料充填容器14の開口部14aを開放して内部の固形原料18を石英坩堝4の融液5に落下供給し、リチャージする。   Thereafter, the wire 17 suspending the movable cover 15 is lowered, the lower end of the movable cover 15 is stopped at a position 100 mm from the surface of the melt 5, the opening 14 a of the raw material filling container 14 is opened, and the solid inside The raw material 18 is dropped and supplied to the melt 5 of the quartz crucible 4 and recharged.

ここで、固形原料18の落下供給が進むにつれて、徐々に石英坩堝4を下降させて固形原料18の供給は完了させる。この後、ワイヤ9を上昇させて、空となった原料供給装置13を単結晶製造装置の上方に移動させ、装置外へ取り出す。   Here, as the falling supply of the solid raw material 18 proceeds, the quartz crucible 4 is gradually lowered to complete the supply of the solid raw material 18. Thereafter, the wire 9 is raised, and the raw material supply device 13 which has been emptied is moved above the single crystal manufacturing device and taken out of the device.

固形原料18が石英坩堝4の内部で溶解すると体積が減少するので、この作業を数回(例えば3回)繰り返すことにより、必要量の固形原料18を石英坩堝4内に追加することができる。なお、固形原料18を投入する際、単結晶に電気伝導率特性を所望の規格範囲に調整するためのドーパント剤も合わせて投入しても良い。   Since the volume is reduced when the solid raw material 18 is melted inside the quartz crucible 4, a necessary amount of the solid raw material 18 can be added to the quartz crucible 4 by repeating this operation several times (for example, three times). When the solid raw material 18 is charged, a dopant agent for adjusting the electrical conductivity characteristics to a desired standard range may be added to the single crystal.

その後、ワイヤ9に単結晶育成用の種結晶を所定の結晶方位とした状態で取着して、シリコン原料の融液5の面に浸して所定の方法により引き上げることにより、種結晶と同じ方位配列を有するシリコン単結晶のインゴットを育成することができる。   Thereafter, a seed crystal for growing a single crystal is attached to the wire 9 in a predetermined crystal orientation, immersed in the surface of the melt 5 of the silicon raw material, and pulled up by a predetermined method, so that the same orientation as the seed crystal is obtained. A silicon single crystal ingot having an array can be grown.

本発明の単結晶の製造方法によれば、以上のような作用を奏するから、固形原料への不純物の混入を抑えることができ、純度の高い単結晶の製造が可能となる。また、装置の寿命や生産性を高く保つことができるので、低コスト化にも寄与するものとなる。   According to the method for producing a single crystal of the present invention, the effects as described above are exhibited, so that impurities can be prevented from being mixed into the solid raw material, and a single crystal having a high purity can be produced. In addition, since the life and productivity of the apparatus can be kept high, it contributes to cost reduction.

なお、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更を施すことは何等差し支えない。例えば、原料供給装置13を吊り下げるワイヤ9と可動カバー15を吊り下げるワイヤ17とは一体的につながっていてもよい。このように一体的につながった構成とすることで、原料供給装置13をワイヤ9により吊り下げて下降させ、係止部16で下降を停止させた後、ワイヤ9をそのまま緩めていくことにより、可動カバー15を自重により下降させることができる。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, the wire 9 that suspends the raw material supply device 13 and the wire 17 that suspends the movable cover 15 may be integrally connected. By adopting such an integrally connected configuration, the raw material supply device 13 is suspended by the wire 9 and lowered, and after stopping the descent by the locking portion 16, the wire 9 is loosened as it is. The movable cover 15 can be lowered by its own weight.

本発明に係る単結晶製造装置の一例を示した模式的な断面図であるIt is typical sectional drawing which showed an example of the single-crystal manufacturing apparatus based on this invention. 本発明に係る原料供給装置の一例を示す模式的な断面図であり、(a)は可動カバーが上方に位置して固体原料を保持するとき、(b)は可動カバーが下方に位置して固体原料を放出するときを示す。It is typical sectional drawing which shows an example of the raw material supply apparatus which concerns on this invention, (a) is when a movable cover is located upwards and hold | maintains a solid raw material, (b) is a movable cover located below. The time to release the solid raw material is shown.

符号の説明Explanation of symbols

1:メインチャンバ
1a:小径部
2:プルチャンバ
3:黒鉛坩堝
4:石英坩堝
5:原料の融液
6:ヒータ
7:保温用断熱材
8:熱遮蔽シールド
9:ワイヤ
10:装置底部台座
11:支持軸
12:排気口
13:原料供給装置
14:原料充填容器
14a:開口部
15:可動カバー
16:係止部
17:ワイヤ
18:固形原料
1: Main chamber 1a: Small diameter part 2: Pull chamber 3: Graphite crucible 4: Quartz crucible 5: Raw material melt 6: Heater 7: Thermal insulation 8: Heat shield shield 9: Wire 10: Equipment bottom base 11: Support Shaft 12: Exhaust port 13: Raw material supply device 14: Raw material filling container 14a: Opening 15: Movable cover 16: Locking portion 17: Wire 18: Solid raw material

Claims (6)

原料融液を保持する坩堝に粒塊状の固形原料を供給する原料供給装置であって、
前記固形原料が内部に充填され、下方に開閉可能な開口部を有する原料充填容器と、
前記原料充填容器の前記開口部の外周を囲繞するとともに、上下方向に位置可変となるように設けられ、原料供給時に前記坩堝の方向に下降する管状の可動カバーと、を具備する原料供給装置。
A raw material supply device for supplying agglomerated solid raw material to a crucible holding a raw material melt,
A raw material filling container filled with the solid raw material and having an opening that can be opened and closed downward;
A raw material supply device comprising: a tubular movable cover that surrounds the outer periphery of the opening of the raw material filling container and is provided so as to be positionally variable in the vertical direction and descends toward the crucible when the raw material is supplied.
前記可動カバーは、前記原料充填容器の前記開口部が内側に位置するように可動範囲が定められている、請求項1に記載の原料供給装置。   The raw material supply apparatus according to claim 1, wherein a movable range of the movable cover is determined so that the opening of the raw material filling container is located inside. 前記可動カバーが、モリブデン、タングステン、ボロンナイトライドまたは炭化珪素のいずれかにより構成されている、請求項1または請求項2に記載の原料供給装置。   The raw material supply apparatus of Claim 1 or Claim 2 with which the said movable cover is comprised by either molybdenum, tungsten, a boron nitride, or silicon carbide. 前記可動カバーが、前記原料充填容器に対して着脱自在に設けられている、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の原料供給装置。   The raw material supply apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the movable cover is provided detachably with respect to the raw material filling container. 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の原料供給装置と、
原料融液を保持するとともに、前記原料供給装置から粒塊状の固形原料が供給される坩堝と、を具備する単結晶製造装置。
The raw material supply apparatus according to any one of claims 1 to 4,
A crucible for holding a raw material melt and a crucible for supplying agglomerated solid raw material from the raw material supply device.
請求項5に記載の単結晶製造装置を用いて坩堝に粒塊状の固形原料を供給して融解させる単結晶の製造方法であって、
前記可動カバーの下端が前記坩堝中の原料融液表面の近傍の位置に来るまで、前記可動カバーを下降させるステップと、
前記原料充填容器の開口部を開けて、前記固形原料を前記坩堝の原料融液中に投下するステップと、
前記坩堝に投入された前記固形原料が融解するに伴い、前記坩堝と可動カバーとを徐々に離間させるステップと、を有する単結晶の製造方法。
A method for producing a single crystal in which a solid raw material in the form of agglomerates is supplied to a crucible using the single crystal production apparatus according to claim 5 and melted.
Lowering the movable cover until the lower end of the movable cover comes to a position near the surface of the raw material melt in the crucible;
Opening the opening of the raw material filling container and dropping the solid raw material into the raw material melt of the crucible;
A step of gradually separating the crucible and the movable cover as the solid raw material charged in the crucible melts.
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