JP4966267B2 - Recharge device, raw material supply device, and ingot pulling device - Google Patents

Recharge device, raw material supply device, and ingot pulling device Download PDF

Info

Publication number
JP4966267B2
JP4966267B2 JP2008188384A JP2008188384A JP4966267B2 JP 4966267 B2 JP4966267 B2 JP 4966267B2 JP 2008188384 A JP2008188384 A JP 2008188384A JP 2008188384 A JP2008188384 A JP 2008188384A JP 4966267 B2 JP4966267 B2 JP 4966267B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hopper body
raw material
hopper
shaft
quartz
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2008188384A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008285410A (en
Inventor
英樹 田中
伸 松隈
崇浩 金原
政利 田村
泰三 宮本
雅富見 浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumco Techxiv Corp
Original Assignee
Sumco Techxiv Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumco Techxiv Corp filed Critical Sumco Techxiv Corp
Priority to JP2008188384A priority Critical patent/JP4966267B2/en
Publication of JP2008285410A publication Critical patent/JP2008285410A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4966267B2 publication Critical patent/JP4966267B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

本発明は、チョクラルスキー法(CZ法)によるインゴット引上げ装置に係り、特に、原料シリコンを追加投入するリチャージ装置に関するものである。   The present invention relates to an ingot pulling apparatus based on the Czochralski method (CZ method), and more particularly to a recharging apparatus that additionally inputs raw silicon.

半導体デバイスを作製するための基板として用いられる鏡面ウェーハは、単結晶インゴットを薄板部材にスライスし、その表裏面を研削・研磨等することにより得られる。この単結晶インゴットは、例えば、チョクラルスキー法等により製造することができる。図10は、チョクラルスキー法を用いた一般的な単結晶インゴット引上げ装置110の縦断面図である。以下、図10を用いて、単結晶インゴット引上げ装置110による単結晶インゴットの製造方法について簡単に説明する。   A specular wafer used as a substrate for manufacturing a semiconductor device is obtained by slicing a single crystal ingot into thin plate members and grinding and polishing the front and back surfaces thereof. This single crystal ingot can be produced by, for example, the Czochralski method. FIG. 10 is a longitudinal sectional view of a general single crystal ingot pulling apparatus 110 using the Czochralski method. Hereinafter, a method of manufacturing a single crystal ingot by the single crystal ingot pulling apparatus 110 will be briefly described with reference to FIG.

単結晶インゴット引上げ装置110の内部は、真空またはアルゴンガス等の不活性雰囲気で満たされており、図10(a)に示すように、石英坩堝120内には予め多結晶シリコンの塊状のランプ材50が投入されている。次に、石英坩堝120周囲に設けられたヒータ24により石英坩堝120を加熱する。すると図10(b)に示すように、ヒータ24の熱により石英坩堝120内の多結晶シリコンのランプ材50は溶融し、原料融液38となる。次に、単結晶シリコンの種結晶42をシード軸16に吊るした状態で矢印方向に下降させ、原料融液38に浸す。そしてシード軸16を引上げるに連れて種結晶42の下に単結晶が成長し、図10(c)に示すように、円柱形状の単結晶インゴット1を得ることができる。   The inside of the single crystal ingot pulling apparatus 110 is filled with an inert atmosphere such as a vacuum or argon gas, and as shown in FIG. 50 is inserted. Next, the quartz crucible 120 is heated by the heater 24 provided around the quartz crucible 120. Then, as shown in FIG. 10B, the polycrystalline silicon lamp material 50 in the quartz crucible 120 is melted by the heat of the heater 24 to become a raw material melt 38. Next, the single crystal silicon seed crystal 42 is lowered in the direction of the arrow while being suspended from the seed shaft 16, and immersed in the raw material melt 38. As the seed shaft 16 is pulled up, a single crystal grows under the seed crystal 42, and as shown in FIG. 10C, a cylindrical single crystal ingot 1 can be obtained.

そして、成長した単結晶インゴット1を炉外に取り出す。従来、この後、ヒータによる加熱を停止して、単結晶インゴット引上げ装置110の内部を冷却し、新たな石英坩堝と原料多結晶シリコンの再投入を行う必要がある。通常、石英坩堝120の中に原料融液38が残ったままシリコンの融点以下に冷却すると、融液の凝固時の膨張により石英坩堝120が壊れるため、1つの石英坩堝120から1本の単結晶インゴットしか製造することができず、コストが増大することになる。そのため、1つの単結晶インゴットの製造工程が終了した後、装置を冷却せずに、石英坩堝120の中の原料融液38の凝固を防ぎながら次の単結晶インゴット製造のための原料多結晶シリコンの再投入を行い、多結晶シリコンを溶融して、再度単結晶インゴットを引上げる単結晶インゴット製造方法が提案されている。   Then, the grown single crystal ingot 1 is taken out of the furnace. Conventionally, after this, it is necessary to stop heating by the heater, cool the inside of the single crystal ingot pulling apparatus 110, and re-input new quartz crucible and raw material polycrystalline silicon. Usually, if the raw material melt 38 remains in the quartz crucible 120 and is cooled below the melting point of silicon, the quartz crucible 120 is broken due to expansion at the time of solidification of the melt, so one single crystal from one quartz crucible 120 is broken. Only ingots can be produced, increasing costs. Therefore, after the manufacturing process of one single crystal ingot is finished, the raw material polycrystalline silicon for manufacturing the next single crystal ingot is produced without cooling the apparatus and preventing solidification of the raw material melt 38 in the quartz crucible 120. A single crystal ingot manufacturing method has been proposed in which polycrystalline silicon is melted and the single crystal ingot is pulled again.

この原料多結晶シリコンの再投入に用いられるリチャージ装置としては、例えば特開昭57−95891号公報があげられる。また、類似の構成を有するものとして、特開平6−88865号公報に示すドーピング装置があげられる。   An example of a recharging device used for re-feeding the raw material polycrystalline silicon is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-95891. Further, as a device having a similar configuration, there is a doping apparatus shown in JP-A-6-88865.

これらのリチャージ装置やドーピング装置として用いられる通常の中吊り式のホッパーは、単結晶への不純物汚染の防止と耐熱性を考慮して、材料として石英を選択し、なおかつホッパー内部の状況が確認できるように透明なものを用いて製作されている。
国際公開第2002/068732号 特開平09−208368号公報 特開平08−295591号公報
The normal suspension type hopper used as a recharge device or a doping device can select the quartz as a material in consideration of prevention of impurity contamination to the single crystal and heat resistance, and can confirm the state inside the hopper. It is manufactured using a transparent material.
International Publication No. 2002/068732 JP 09-208368 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-295591

ところが、図11に示す底蓋136に透明石英を用いた中吊り式のホッパー130にランプ材50を詰めて、ランプ材50を追加投入する場合、透明石英は熱を透過し易いため、炉内に保持される時間が長くなるに連れて融液38からの熱輻射によりホッパー130内部が高温になる。そのため、ランプ材50同士あるいはランプ材50と石英とが固着し、ランプ材50が落下しづらくなるという問題があった。   However, when the lamp material 50 is packed in a suspending hopper 130 using transparent quartz in the bottom lid 136 shown in FIG. 11 and the lamp material 50 is additionally charged, the transparent quartz easily transmits heat. As the time held in the hopper 130 becomes longer, the inside of the hopper 130 becomes hot due to heat radiation from the melt 38. Therefore, there is a problem that the lamp members 50 or the lamp member 50 and quartz adhere to each other and the lamp members 50 are difficult to drop.

また、特開昭57−95891号公報に示すリチャージ装置は、形状が複雑でモリブデン,ステンレス等の耐熱材料が用いられており、これらの金属材料を融液直上で使用しているため、シリコン融液が汚染される可能性がある。更に、ヒンジ等を金属部品で製作すると、上記雰囲気では潤滑が不可能なため、焼付や摺動部の消耗が問題となる。   In addition, the recharging device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-95891 has a complicated shape and uses heat-resistant materials such as molybdenum and stainless steel. Since these metal materials are used immediately above the melt, Liquid may be contaminated. Further, when the hinge or the like is manufactured from a metal part, since lubrication is impossible in the above atmosphere, seizure and wear of the sliding part become a problem.

また、ランプ状半導体原料、及び、ホッパー自身の重量の合計はシード軸と底蓋の接合部に加わる。筒体に装填された原料のランプ材は、その重量を筒体に負荷するため、ほとんどの重量を、底蓋と筒体の先端部の当接部で支持することになる。   The total weight of the lamp-shaped semiconductor material and the hopper itself is added to the joint between the seed shaft and the bottom cover. Since the raw lamp material loaded in the cylinder loads its weight on the cylinder, most of the weight is supported by the contact portion between the bottom lid and the tip of the cylinder.

更に、筒体は石英ガラス製であり、底蓋はモリブデン板製のため、負荷する重量が増大した場合に、筒体と石英ガラスとの接触部の破損の可能性が大きくなる。   Furthermore, since the cylinder is made of quartz glass and the bottom cover is made of molybdenum plate, the contact portion between the cylinder and the quartz glass is more likely to be damaged when the weight to be loaded is increased.

また、特開平6−88865号公報に示すドーピング装置は、これを大型化してランプ状半導体原料を装填して、リチャージに使用することも考えられるが、これを吊り上げた状態では、全重量が石英製底蓋とシード軸の接合部、ついで、石英製底蓋の上辺周辺部とテーパー管下端に加わる。   In addition, the doping apparatus shown in Japanese Patent Laid-Open No. 6-88865 can be used for recharging by enlarging it and loading it with a lamp-shaped semiconductor material. However, when this is lifted, the total weight is quartz. It joins the joint between the bottom cover and the seed shaft, and then the periphery of the upper side of the quartz bottom cover and the lower end of the tapered tube.

この部分は石英ガラス同士の接触のため、負荷する重量が増大した場合に破損の可能性が大きくなる。また、石英ガラス製の底蓋を吊着するにはタングステンワイヤ等が用いられるが、テーパー管にランプ材を充填した時に、ランプ材と接触して、金属汚染の原因となる。また、タングステンワイヤとランプ材との摩擦により、テーパー管をリングプレートに掛止した後に、引上軸を降下しつづけても底蓋が開かないことがある。   Since this portion is in contact with quartz glass, the possibility of breakage increases when the weight to be loaded increases. Tungsten wire or the like is used to suspend the quartz glass bottom cover, but when the taper tube is filled with the lamp material, it comes into contact with the lamp material and causes metal contamination. Further, due to the friction between the tungsten wire and the lamp material, the bottom cover may not open even if the pulling shaft is continuously lowered after the taper tube is hooked on the ring plate.

本出願に係る発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、その第1の目的とするところは、ランプ材の温度上昇を低減し、ランプ材が底蓋上で溶融して貼り付いたり、熱膨張によりブリッジを形成して落下しなくなることを防止することができるリチャージ装置を提供することにある。   The invention according to the present application has been made in order to solve the above-described problems. The first object of the invention is to reduce the temperature rise of the lamp material, and the lamp material is placed on the bottom cover. An object of the present invention is to provide a recharging device capable of preventing melting and sticking or forming a bridge due to thermal expansion and preventing it from dropping.

また、本出願に係る発明の第2の目的は、インゴットの大型化、チャージ量の増大、リチャージ重量の増大に対して、大重量のランプ状半導体原料を装填可能にするため、筒体の重量が底蓋にかからないリチャージ装置を提供することにある。   Further, the second object of the invention according to the present application is to increase the weight of the cylindrical body so that a large amount of ramp-shaped semiconductor material can be loaded in response to an increase in ingot size, an increase in charge amount, and an increase in recharge weight. An object of the present invention is to provide a recharging device that does not cover the bottom lid.

更に、本出願に係る発明の第3の目的は、高温部に金属材料を使用せず、また、ランプ材と金属材料が直接接触しないリチャージ装置を提供することにある。   Furthermore, the third object of the invention according to the present application is to provide a recharging device that does not use a metal material in a high-temperature part and that does not directly contact the lamp material with the metal material.

また、本出願に係る発明の第4の目的は、動作がシンプルで、金属同士の摺動部がないリチャージ装置を提供することにある。   A fourth object of the invention according to the present application is to provide a recharging device that is simple in operation and does not have a sliding portion between metals.

上記目的を達成するため、本出願に係る発明は、略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げたシャフトと、を有するリチャージ装置において、前記シャフトに設けられ前記ホッパー本体を掛止するためのストッパーを有することを特徴とするリチャージ装置である。 In order to achieve the above object, an invention according to the present application provides a recharge device having a substantially cylindrical hopper body, a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body, and a shaft that suspends the bottom lid. The recharging device according to claim 1, further comprising a stopper provided on the shaft for hooking the hopper body.

また、本出願に係る発明は、略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げたシャフトと、を有するリチャージ装置において、前記底蓋の材質に、気泡を含んだ石英ガラスを用いたことを特徴とするリチャージ装置である。 Further, the invention according to the present application provides a recharge apparatus comprising: a substantially cylindrical hopper body; a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body; and a shaft that suspends the bottom lid. The recharge device is characterized in that quartz glass containing bubbles is used as the material.

更に、本出願に係る発明は、略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げたシャフトと、を有するリチャージ装置において、前記底蓋の材質に、赤外線透過率が40%〜60%の石英を用いたことを特徴とするリチャージ装置である。 Furthermore, the invention according to the present application provides a recharge apparatus including a substantially cylindrical hopper body, a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body, and a shaft that suspends the bottom lid. The recharge apparatus is characterized in that quartz having an infrared transmittance of 40% to 60% is used as the material.

また、本出願に係る発明は、略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げたシャフトと、を有するリチャージ装置において、前記ホッパー本体内に、前記シャフトを覆う略円筒形状の石英管を有することを特徴とするリチャージ装置である。 Further, the invention according to the present application provides a recharge apparatus including a substantially cylindrical hopper body, a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body, and a shaft that suspends the bottom lid. The recharging apparatus includes a substantially cylindrical quartz tube covering the shaft.

更に、本出願に係る発明は、略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げたシャフトと、を有するリチャージ装置において、前記ホッパー本体に、回り止めを有することを特徴とするリチャージ装置である。 Furthermore, the invention according to the present application provides a recharge apparatus including a substantially cylindrical hopper body, a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body, and a shaft that suspends the bottom lid. In addition, the recharge device has a detent.

また、本出願に係る発明は、石英ガラスの略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する錐体の底蓋と、前記底蓋を吊り下げたシャフトと、前記ホッパー本体に設けられホッパー本体を坩堝上方の所定位置に掛止するための第1のストッパーと、を有するリチャージ装置において、前記ホッパー本体は、上端開口部を覆う天板と、前記天板に穿設されたシャフト挿通用の貫通穴と、を有し、前記シャフトは、長さ調節が可能な吊り棒と、前記吊り棒の中程に固定され前記ホッパー本体を掛止するための第2のストッパーと、前記底蓋と一体として成形された石英ガラス棒と、前記吊り棒と前記石英ガラス棒とを連結する連結器と、を有することを特徴とするリチャージ装置である。 The invention according to the present application includes a substantially cylindrical hopper body made of quartz glass, a bottom cover of a cone that opens and closes a lower end opening of the hopper body, a shaft that suspends the bottom cover, and the hopper body. And a first stopper for latching the hopper main body at a predetermined position above the crucible, the hopper main body is provided with a top plate covering an upper end opening, and the top plate is formed in the top plate. A shaft that has a through hole for inserting a shaft, the shaft having a length-adjustable suspension rod, and a second stopper that is fixed in the middle of the suspension rod and latches the hopper body. A recharging apparatus comprising: a quartz glass rod formed integrally with the bottom lid; and a coupler for coupling the suspension rod and the quartz glass rod.

更に、本出願に係る発明は、ホッパー本体と、シャフトと、底蓋とを有するリチャージ装置において、前記ホッパー本体は、略円筒形状の石英ガラスの筒体と、前記筒体の上部を覆う天板と、前記天板に穿設されたシャフト挿通用の貫通穴と、前記筒体の外周に設けられた第1のストッパーと、を有し、前記シャフトは、吊り棒と、前記吊り棒の中程に固定され前記ホッパー本体を掛止するための第2のストッパーと、前記底蓋と一体として成形された石英ガラス棒と、前記吊り棒と前記石英ガラス棒とを連結する連結器と、前記吊り棒と前記石英ガラス棒と前記連結器とを覆う略円筒形状の石英管と、を有し、前記底蓋は、気泡を含んだ断熱性の高い石英ガラスからなる、ことを特徴とするリチャージ装置である。 Furthermore, the invention according to the present application provides a recharging device having a hopper body, a shaft, and a bottom lid, wherein the hopper body is a substantially cylindrical quartz glass cylinder and a top plate that covers an upper part of the cylinder. And a through hole for inserting a shaft formed in the top plate, and a first stopper provided on the outer periphery of the cylindrical body, and the shaft includes a suspension rod and a suspension rod A second stopper for securing the hopper main body fixedly, a quartz glass rod formed integrally with the bottom lid, a coupler for connecting the suspension rod and the quartz glass rod, A rechargeable battery comprising: a suspension rod, a quartz tube having a substantially cylindrical shape that covers the quartz glass rod, and the coupler; and the bottom lid is made of quartz glass having high heat insulation properties including bubbles. Device.

また、本出願に係る発明は、前記底蓋は、中空円錐形状であって、底面に空気穴を有することを特徴とする上記第1〜第7の発明の何れか1つに記載のリチャージ装置である。 Further, in the invention according to the present application, the bottom cover has a hollow conical shape, and has an air hole in a bottom surface. The recharging device according to any one of the first to seventh inventions, It is.

更に、本出願に係る発明は、インゴットの原料融液を収容する坩堝と、前記原料融液を加熱するヒータと、前記坩堝及びヒータを収容するチャンバと、前記インゴットの原料を追加するためのリチャージ装置と、を有するインゴット引上げ装置において、前記リチャージ装置は、略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げたシャフトと、を有し、前記底蓋の材質に気泡を含んだ石英ガラスを用いたことを特徴とするインゴット引上げ装置である。 Furthermore, the invention according to the present application provides a crucible for storing an ingot raw material melt, a heater for heating the raw material melt, a chamber for storing the crucible and the heater, and a recharge for adding the ingot raw material. In the ingot pulling device having the device, the recharging device has a substantially cylindrical hopper body, a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body, and a shaft that suspends the bottom lid. An ingot pulling apparatus characterized in that quartz glass containing bubbles is used as the material of the bottom cover.

また、本出願に係る発明は、インゴットの原料融液を収容する石英坩堝と、前記石英坩堝を囲繞する黒鉛坩堝と、前記黒鉛坩堝を囲繞するヒータと、前記各部材を収容するチャンバと、チャンバの上部にゲートバルブを介して設けられたサブチャンバと、前記サブチャンバの前面に設けられた開閉可能なサブチャンバ蓋と、前記サブチャンバの内面に設けられたフランジ状のゲートと、上下動可能に支持したシード軸と、前記シード軸に吊り下げられたホッパーと、を有するインゴット引上げ装置において、前記ホッパーは、ホッパー本体と、シャフトと、底蓋とを有し、前記ホッパー本体は、略円筒形状の石英ガラスの筒体と、前記筒体の上部を覆う天板と、前記天板に穿設されたシャフト挿通用の貫通穴と、前記筒体の外周に設けられ前記ホッパー本体を前記ゲートに掛止することができる第1のストッパーと、を有し、前記シャフトは、長さ調節が可能な吊り棒と、前記吊り棒の中程に固定され前記ホッパー本体を掛止することができる第2のストッパーと、前記底蓋と一体として成形された石英ガラス棒と、前記吊り棒と前記石英ガラス棒とを連結する連結器と、前記吊り棒と前記石英ガラス棒と前記連結器とを覆う略円筒形状の石英管と、を有し、前記底蓋は、気泡を含んだ断熱性の高い石英ガラスからなる、ことを特徴とするインゴット引上げ装置である。 In addition, the invention according to the present application includes a quartz crucible that contains a raw material melt of an ingot, a graphite crucible that surrounds the quartz crucible, a heater that surrounds the graphite crucible, a chamber that accommodates each member, and a chamber A sub-chamber provided on the top of the sub-chamber via a gate valve, an openable / closable sub-chamber lid provided on the front surface of the sub-chamber, a flange-like gate provided on the inner surface of the sub-chamber, and movable up and down In an ingot pulling device having a seed shaft supported on the seed shaft and a hopper suspended from the seed shaft, the hopper has a hopper body, a shaft, and a bottom lid, and the hopper body is substantially cylindrical. A quartz glass cylinder having a shape, a top plate covering the top of the cylinder, a through-hole for inserting a shaft formed in the top plate, and a front plate provided on the outer periphery of the cylinder A first stopper capable of hooking the hopper main body to the gate, and the shaft has a hanging rod whose length can be adjusted, and a hook that is fixed to the middle of the hanging rod and hooks the hopper main body. A second stopper that can be stopped, a quartz glass rod formed integrally with the bottom lid, a coupler that connects the suspension rod and the quartz glass rod, the suspension rod and the quartz glass rod, An ingot pulling apparatus comprising: a substantially cylindrical quartz tube covering the coupler; and the bottom cover is made of quartz glass having high heat insulation properties including bubbles.

更に、本出願に係る発明は、インゴットの原料融液を収容する坩堝と、前記原料融液を加熱するヒータと、前記坩堝及びヒータを収容するチャンバと、前記原料融液に種結晶の少なくとも一部を浸して引上げることによりインゴットを作成する引上げ手段と、前記塊状の多結晶シリコンを追加するためのホッパーと、を有するインゴット引上げ装置を用いてインゴットを製造する方法であって、前記坩堝内に塊状の多結晶シリコンを供給し、該多結晶シリコンを前記ヒータで加熱することにより前記坩堝内に前記原料融液を作成し、前記引上げ手段により前記原料融液に前記種結晶の少なくとも一部を浸す前に、前記ホッパーにより前記坩堝内に塊状の多結晶シリコンを追加する、ことを特徴とするインゴット製造方法である。 Furthermore, the invention according to the present application provides a crucible for storing a raw material melt of an ingot, a heater for heating the raw material melt, a chamber for storing the crucible and the heater, and at least one seed crystal in the raw material melt. A method of manufacturing an ingot using an ingot pulling device having a pulling means for creating an ingot by dipping and pulling a portion, and a hopper for adding the massive polycrystalline silicon, The polycrystalline silicon is supplied to the crucible, the raw material melt is prepared in the crucible by heating the polycrystalline silicon with the heater, and at least a part of the seed crystal is added to the raw material melt by the pulling means. Before dipping, the ingot manufacturing method is characterized in that massive polycrystalline silicon is added into the crucible by the hopper.

本発明のシリコン単結晶引上げ装置によれば、リチャージの際、融液からの熱輻射によるランプ材の加熱を抑制することができるため、ランプ材をスムーズに石英坩堝に投入することができる。   According to the silicon single crystal pulling apparatus of the present invention, heating of the lamp material due to heat radiation from the melt can be suppressed during recharging, so that the lamp material can be smoothly put into the quartz crucible.

すなわち、本発明のシリコン単結晶引上げ装置ではホッパー本体と、シャフトと、ランプ材とは、底蓋の上部に位置し、融液からの熱輻射は下方から当っている。また、不透明石英の赤外線透過率は40%〜60%であり、透明石英の90%に比べ格段に低い。そのため、融液からの熱輻射によるランプ材の温度上昇を減少させることができる。したがって、従来のシリコン単結晶引上げ装置によると、リチャージの際、ランプ材が底蓋上で溶融して貼り付いたり、熱膨張によりブリッジを形成して落下しなくなることがあったが、本発明のシリコン単結晶引上げ装置によれば、ランプ材の加熱を抑制し、ランプ材の引っかかり頻度を格段に改善することができる。   That is, in the silicon single crystal pulling apparatus according to the present invention, the hopper body, the shaft, and the lamp material are located at the upper part of the bottom cover, and the heat radiation from the melt is applied from below. The infrared transmittance of opaque quartz is 40% to 60%, which is much lower than 90% of transparent quartz. Therefore, the temperature rise of the lamp material due to heat radiation from the melt can be reduced. Therefore, according to the conventional silicon single crystal pulling apparatus, during recharging, the lamp material may melt and stick on the bottom lid, or may form a bridge due to thermal expansion and may not fall. According to the silicon single crystal pulling apparatus, heating of the lamp material can be suppressed and the catching frequency of the lamp material can be remarkably improved.

また、近年、半導体ウェーハの直径は200mmを越えた300mmのものが主流になりつつあり、それに伴って単結晶インゴットに要求される直径も大きくなっている。この単結晶の大型化に伴うチャージ量の増大、リチャージ重量の増大に対して、大重量のランプ状半導体原料を装填可能にするため、本発明のシリコン単結晶引上げ装置は、重量をシャフトで支持する構造としている。すなわち、本発明のシリコン単結晶引上げ装置では、ストッパーによりホッパー本体の全重量が支えられているため、ホッパー本体の重量が底蓋の周縁部にかからない。そのため、破損の可能性を小さくすることができる。   In recent years, the diameter of a semiconductor wafer having a diameter of more than 200 mm and 300 mm is becoming mainstream, and the diameter required for the single crystal ingot is also increasing accordingly. The silicon single crystal pulling device of the present invention supports the weight with a shaft so that a large amount of ramp-shaped semiconductor material can be loaded against the increase in charge amount and recharge weight accompanying the increase in size of the single crystal. It has a structure to do. That is, in the silicon single crystal pulling apparatus according to the present invention, since the entire weight of the hopper body is supported by the stopper, the weight of the hopper body is not applied to the peripheral portion of the bottom lid. Therefore, the possibility of breakage can be reduced.

以下、本発明の実施の形態について、図1乃至図8を用いて説明する。但し、以下は本発明の1実施の形態に過ぎず、当業者の技術常識に基づいて適宜変更可能であり、本発明の技術的思想はこれらの具体例に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. However, the following is only one embodiment of the present invention and can be appropriately changed based on the technical common knowledge of those skilled in the art, and the technical idea of the present invention is not limited to these specific examples.

ここで、図1は本発明の実施の形態におけるチョクラルスキー法を用いたシリコン単結晶引上げ装置10の縦断面図、図2(a)は図1のA−A断面におけるシリコン単結晶引上げ装置10の横断面図、図2(b)は図1のB−B断面におけるシリコン単結晶引上げ装置10の横断面図、図3はリチャージ工程おけるシリコン単結晶引上げ装置10の縦断面図、図4はリチャージ工程おいてランプ材50を投入中のシリコン単結晶引上げ装置10の縦断面図、図5はリチャージ工程おいて空になったホッパー30を引き上げ中のシリコン単結晶引上げ装置10の縦断面図、図6は単結晶インゴット引上げ工程おいてシード軸16に種結晶42を吊り下げた状態のシリコン単結晶引上げ装置10の縦断面図、図7は単結晶インゴット引上げ工程おいて単結晶インゴット1を引上げた状態のシリコン単結晶引上げ装置10の縦断面図、図8は石英坩堝20に投入されたランプ材が溶融される前の状態のシリコン単結晶引上げ装置10の縦断面図、である。   Here, FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a silicon single crystal pulling apparatus 10 using the Czochralski method in the embodiment of the present invention, and FIG. 2A is a silicon single crystal pulling apparatus in the AA cross section of FIG. 2 is a cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus 10 in the BB cross section of FIG. 1, FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus 10 in the recharging process, and FIG. FIG. 5 is a longitudinal sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus 10 in which the lamp material 50 is being charged in the recharging process, and FIG. 5 is a longitudinal sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus 10 in which the hopper 30 that has been emptied in the recharging process is being pulled. 6 is a longitudinal sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus 10 in a state where the seed crystal 42 is suspended from the seed shaft 16 in the single crystal ingot pulling process, and FIG. 7 is a single crystal ingot pulling process. FIG. 8 is a vertical cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus 10 in a state where the single crystal ingot 1 is pulled up, and FIG. 8 is a vertical cross section of the silicon single crystal pulling apparatus 10 in a state before the lamp material charged in the quartz crucible 20 is melted. Figure.

まず、シリコン単結晶引上げ装置10の全体構成について簡単に説明し、その後各装置について詳しく説明する。図1に示すように、本実施の形態におけるシリコン単結晶引上げ装置10は、主として、石英坩堝20と黒鉛坩堝22とヒータ24を囲繞するチャンバ12と、チャンバ12の上部に設けられ原料融液から引上げられた単結晶インゴットを保持し取り出すためのサブチャンバ14と、種結晶またはホッパー30を掛止するシード軸16と、から構成される。   First, the overall configuration of the silicon single crystal pulling apparatus 10 will be briefly described, and then each apparatus will be described in detail. As shown in FIG. 1, the silicon single crystal pulling apparatus 10 in the present embodiment mainly includes a chamber 12 surrounding a quartz crucible 20, a graphite crucible 22, and a heater 24, and a raw material melt provided in an upper portion of the chamber 12. It comprises a sub-chamber 14 for holding and taking out the pulled single crystal ingot, and a seed shaft 16 for hanging a seed crystal or hopper 30.

まず、チャンバ12について説明する。図1に示すように、有底円筒形状のチャンバ12は、その底部中央から回転軸を鉛直上方に向けた状態で、上下動自在な支持軸28を配置している。支持軸28の上端には椀状の黒鉛坩堝22を固定しており、黒鉛坩堝22の内部には椀状の石英坩堝20を嵌合している。石英坩堝20と黒鉛坩堝22の2重構造としたのは、原料融液に直接接する坩堝はシリコンに対する汚染を防止するために、石英坩堝20とすることが望ましいからである。一方、石英は高温で軟化すると共に、脆く破損しやすいという性質を有するため、その周囲を黒鉛坩堝22で囲繞している。   First, the chamber 12 will be described. As shown in FIG. 1, the bottomed cylindrical chamber 12 is provided with a support shaft 28 that can move up and down with the rotation axis directed vertically upward from the center of the bottom. A bowl-shaped graphite crucible 22 is fixed to the upper end of the support shaft 28, and a bowl-shaped quartz crucible 20 is fitted inside the graphite crucible 22. The reason why the double structure of the quartz crucible 20 and the graphite crucible 22 is adopted is that the crucible directly in contact with the raw material melt is preferably the quartz crucible 20 in order to prevent contamination of silicon. On the other hand, quartz is softened at a high temperature and has a property of being brittle and easily damaged, and therefore, the periphery thereof is surrounded by a graphite crucible 22.

黒鉛坩堝22の周囲はヒータ24に囲繞されており、このヒータ24により石英坩堝20内に投入された多結晶シリコンのランプ材50を溶融する。ヒータ24の周囲にはチャンバ12と同心円状に円筒形状の断熱材26を配置している。断熱材26はヒータ24からの熱がチャンバ12に直接輻射されることを防止している。   The graphite crucible 22 is surrounded by a heater 24, and the polycrystalline silicon lamp material 50 charged in the quartz crucible 20 is melted by the heater 24. A cylindrical heat insulating material 26 is disposed around the heater 24 concentrically with the chamber 12. The heat insulating material 26 prevents heat from the heater 24 from being directly radiated to the chamber 12.

図1に示すように、チャンバ12上部にはゲートバルブ18を介して略円筒形状のサブチャンバ14が連結されている。チャンバ12とサブチャンバ14とは、このゲートバルブ18により連通または遮断可能となっている。一方、図示しないが、サブチャンバ14の上端は天板により封鎖されている。図2(a)に示すように、サブチャンバ14の前面には開閉可能なサブチャンバ蓋40を備えており、このサブチャンバ蓋40を開くことにより、引上げられた単結晶インゴット1の取り出しや、ホッパー30のシード軸16への取り付けを可能としている。なお、図1に示すように、サブチャンバ14の内周面には、後述のストッパー64を掛止するための中心に向かって突出したフランジ状のゲート44を設けている。   As shown in FIG. 1, a substantially cylindrical sub-chamber 14 is connected to the upper portion of the chamber 12 via a gate valve 18. The chamber 12 and the sub-chamber 14 can be communicated or blocked by the gate valve 18. On the other hand, although not shown, the upper end of the sub-chamber 14 is sealed with a top plate. As shown in FIG. 2A, the front surface of the sub-chamber 14 is provided with a sub-chamber lid 40 that can be opened and closed. By opening the sub-chamber lid 40, the single crystal ingot 1 pulled up can be removed, The hopper 30 can be attached to the seed shaft 16. As shown in FIG. 1, a flange-shaped gate 44 that protrudes toward the center for hooking a stopper 64 described later is provided on the inner peripheral surface of the sub-chamber 14.

サブチャンバ14上部には、図示しないシード軸引上げ装置を設けている。シード軸引上げ装置は、シード軸16を上下動自在に保持しており、シード軸16は天板を通して、サブチャンバ14の中心軸に沿って吊り下げられている。シード軸16の下端には、単結晶インゴット引上げ工程の際には種結晶が吊り下げられ、リチャージ工程の際にはホッパー30が吊り下げられる。   A seed shaft pulling device (not shown) is provided above the sub chamber 14. The seed shaft pulling device holds the seed shaft 16 so as to be movable up and down, and the seed shaft 16 is suspended along the central axis of the sub-chamber 14 through the top plate. A seed crystal is suspended from the lower end of the seed shaft 16 during the single crystal ingot pulling process, and a hopper 30 is suspended during the recharging process.

次に、リチャージの際にシード軸16に掛止するホッパー30の構成について図1を用いて説明する。本実施の形態のホッパー30は主としてホッパー本体32と、シャフト34と、底蓋36とから構成される。   Next, the configuration of the hopper 30 that is hooked to the seed shaft 16 at the time of recharging will be described with reference to FIG. The hopper 30 of the present embodiment is mainly composed of a hopper body 32, a shaft 34, and a bottom lid 36.

図1に示すように、ホッパー本体32は小径略円筒形状の上部筒体52と、大径略円筒形状の下部筒体54とを上下に直列に接続した形状をしている。上部筒体52の下端にはフランジ56を設けている。一方、下部筒体54の上端にはフランジ58を設けている。   As shown in FIG. 1, the hopper body 32 has a shape in which a small-diameter, generally cylindrical upper cylinder 52 and a large-diameter, generally cylindrical lower cylinder 54 are connected in series vertically. A flange 56 is provided at the lower end of the upper cylindrical body 52. On the other hand, a flange 58 is provided at the upper end of the lower cylindrical body 54.

下部筒体54は、シリコンへの汚染を防止するために、石英製としている。なお、下部筒体54を透明の石英で構成することにより、ホッパー30内部に装填した多結晶シリコンのランプ材50が全て落下したか否かを確認することができる。   The lower cylinder 54 is made of quartz in order to prevent contamination of silicon. It is possible to confirm whether or not all of the polycrystalline silicon lamp material 50 loaded in the hopper 30 has fallen by configuring the lower cylindrical body 54 with transparent quartz.

フランジ56の周縁部下端には略円筒形状で断面コ字型の連結器60をボルトにより固定している。連結器60は周方向に分割された2つの部材よりなり、フランジ58を挟み込んで固定している。この連結器60の下面には4つのねじ穴を設け、このねじ穴に4本のSUS製のストッパー64を固定している。このストッパー64は、ゲート44に掛止させるためのものである。   A coupler 60 having a substantially cylindrical shape and a U-shaped cross section is fixed to the lower end of the peripheral edge of the flange 56 with a bolt. The coupler 60 is composed of two members divided in the circumferential direction, and a flange 58 is sandwiched and fixed. Four screw holes are provided on the lower surface of the connector 60, and four SUS stoppers 64 are fixed to the screw holes. The stopper 64 is for hanging on the gate 44.

図1及び図2(a)に示すように、フランジ56には2本の回り止め62を固定している。鍵形の回り止め62は根元部をフランジ56に固定している。一方、回り止め62の先端部にはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂よりなるローラ62aを回転可能に設けている。ローラ62aは水平な回転軸を中心として回転可能となっている。そのため、ホッパー30は、ローラ62aをサブチャンバ14の内壁面に当接した状態で滑らかに上下動可能となっている。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2A, two rotation stoppers 62 are fixed to the flange 56. The key-shaped detent 62 has a root portion fixed to the flange 56. On the other hand, a roller 62a made of a fluorine-based resin such as polytetrafluoroethylene is rotatably provided at the tip of the rotation stopper 62. The roller 62a is rotatable around a horizontal rotation axis. Therefore, the hopper 30 can move up and down smoothly in a state where the roller 62 a is in contact with the inner wall surface of the sub-chamber 14.

このように回り止め62及びローラ62aを設けることにより、ホッパー30を吊った状態でランプ材50を装填しても、ホッパー30が不用意に回転しない。また、ランプ材50を投下したときにも、ホッパー30が不用意に回転しないため、振れ等により、炉内品及びチャンバと接触破損することを防止することができる。   By providing the rotation stopper 62 and the roller 62a in this way, the hopper 30 does not rotate carelessly even when the lamp material 50 is loaded while the hopper 30 is suspended. Moreover, since the hopper 30 does not rotate carelessly when the lamp material 50 is dropped, it is possible to prevent contact damage to the in-furnace product and the chamber due to vibration or the like.

このように構成されたホッパー本体32の内部に、図1に示すように、シャフト34を挿通している。シャフト34は主として、ストッパー70と、吊り棒72と、連結器74と、石英管78と、底蓋36と一体として成形された石英ガラス棒76と、からなる。   As shown in FIG. 1, a shaft 34 is inserted into the hopper body 32 configured as described above. The shaft 34 mainly includes a stopper 70, a suspension rod 72, a coupler 74, a quartz tube 78, and a quartz glass rod 76 formed integrally with the bottom cover 36.

シャフト34の上部は金属製の吊り棒72により構成されており、その上端はシード軸16に固定されている。上部筒体52の天板66には吊り棒72が挿通するための貫通穴68が穿設されており、吊り棒72は、貫通穴68を通して、ホッパー本体32内部に挿通されている。吊り棒72の中程には、円筒形状の金属製のストッパー70が固着されている。ストッパー70の外径は、貫通穴68の径よりも大きくしているため、ストッパー70によりホッパー本体32が掛止される。   The upper portion of the shaft 34 is constituted by a metal suspension rod 72, and the upper end thereof is fixed to the seed shaft 16. A through hole 68 through which the suspension rod 72 is inserted is formed in the top plate 66 of the upper cylindrical body 52, and the suspension rod 72 is inserted into the hopper main body 32 through the through hole 68. A cylindrical metal stopper 70 is fixed in the middle of the suspension bar 72. Since the outer diameter of the stopper 70 is larger than the diameter of the through hole 68, the hopper body 32 is hooked by the stopper 70.

このように構成することにより、ストッパー70によりホッパー本体32の全重量を支えることができる。なお、吊り棒72は長さ調節が可能なように構成しており、ストッパー70でホッパー本体32を掛止したときに、底蓋36と下部筒体54との隙間が無くなると共に、ホッパー本体32の重量が底蓋36周縁部にかからないように長さを調節している。   With this configuration, the stopper 70 can support the entire weight of the hopper body 32. The length of the suspension bar 72 is adjustable, and when the hopper body 32 is hooked by the stopper 70, the gap between the bottom lid 36 and the lower cylinder 54 is eliminated, and the hopper body 32 The length is adjusted so that the weight does not reach the peripheral edge of the bottom lid 36.

この吊り棒72の下端を、連結器74を介して石英ガラス棒76上端と連結している。そして、金属製の吊り棒72と石英ガラス棒76を覆うように、上部が小径な略円筒形状の石英管78を配置している。この石英管78により、金属部分をカバーし、原料シリコンであるランプ材50に対する金属汚染を防止している。   The lower end of the suspension rod 72 is connected to the upper end of the quartz glass rod 76 via a connector 74. A substantially cylindrical quartz tube 78 with a small diameter at the top is disposed so as to cover the metal suspension rod 72 and the quartz glass rod 76. The quartz tube 78 covers the metal portion and prevents metal contamination of the lamp material 50, which is raw material silicon.

一方、前述のように、石英ガラス棒76は底蓋36と一体として成形されており、底蓋36は石英ガラス棒76の下端に位置している。底蓋36は円錐形状をしており、底面の直径は下部筒体54の内径よりも大きい。底蓋36は気泡を含むことによって断熱性の高くなった石英ガラスから構成し、底蓋36の内部は空洞である。底蓋36には図2(b)に示すように、4つの空気穴80が穿設されている。この空気穴80により、チャンバ12やサブチャンバ14の内部と底蓋36内の空洞部の気圧を同一に保っている。   On the other hand, as described above, the quartz glass rod 76 is formed integrally with the bottom lid 36, and the bottom lid 36 is located at the lower end of the quartz glass rod 76. The bottom cover 36 has a conical shape, and the diameter of the bottom surface is larger than the inner diameter of the lower cylinder 54. The bottom cover 36 is made of quartz glass having high heat insulation properties by containing bubbles, and the inside of the bottom cover 36 is a cavity. As shown in FIG. 2B, the bottom lid 36 has four air holes 80 formed therein. The air holes 80 keep the air pressure inside the chamber 12 and the subchamber 14 and the air pressure in the hollow portion in the bottom lid 36 the same.

なお、本実施の形態では、気泡を含んだ石英ガラスから底蓋36を構成したが、透明石英ガラスよりも赤外線透過率の低い部材であれば良く、例えば、透明石英に比し、赤外線透過率が40%〜70%低い不透明石英等を用いることができる。また、色付き石英ガラスなどの、その他の素材から構成しても良い。更に、耐熱性に優れると共に、図3に示す融液38からの熱輻射を反射してランプ材50の温度上昇を防止すべく、モリブデン製の薄い板を底蓋36内の空洞部の内壁の一部に貼っても良い。ただし、原料シリコンへの汚染を考慮すると、底蓋36は、気泡を含んだ断熱性の高い石英ガラスから構成するのが最も好ましい。   In the present embodiment, the bottom cover 36 is made of quartz glass containing bubbles. However, any member having a lower infrared transmittance than transparent quartz glass may be used. For example, the infrared transmittance is higher than that of transparent quartz. Opaque quartz or the like having a low 40% to 70% can be used. Moreover, you may comprise from other raw materials, such as colored quartz glass. Furthermore, in addition to being excellent in heat resistance, a thin plate made of molybdenum is applied to the inner wall of the hollow portion in the bottom cover 36 in order to reflect the heat radiation from the melt 38 shown in FIG. It may be attached to a part. However, considering the contamination of the raw material silicon, the bottom cover 36 is most preferably composed of quartz glass containing bubbles and having high heat insulating properties.

本発明のシリコン単結晶引上げ装置10ではホッパー本体32と、シャフト34と、ランプ材50とは、底蓋36の上部に位置し、融液38からの熱輻射は下方から当っている。また、不透明石英の赤外線透過率は40%〜60%であり、透明石英の90%に比べ格段に低い。そのため、融液38からの熱輻射によるランプ材50の温度上昇を減少させることができる。したがって、従来のシリコン単結晶引上げ装置によると、リチャージの際、ランプ材が底蓋上で溶融して貼り付いたり、熱膨張によりブリッジを形成して落下しなくなることがあったが、本発明のシリコン単結晶引上げ装置10によれば、ランプ材50の加熱を抑制し、ランプ材50の引っかかり頻度を格段に改善することができる。   In the silicon single crystal pulling apparatus 10 of the present invention, the hopper main body 32, the shaft 34, and the lamp member 50 are located at the upper part of the bottom cover 36, and the heat radiation from the melt 38 is applied from below. The infrared transmittance of opaque quartz is 40% to 60%, which is much lower than 90% of transparent quartz. Therefore, the temperature rise of the lamp material 50 due to heat radiation from the melt 38 can be reduced. Therefore, according to the conventional silicon single crystal pulling apparatus, during recharging, the lamp material may melt and stick on the bottom lid, or may form a bridge due to thermal expansion and may not fall. According to the silicon single crystal pulling apparatus 10, heating of the lamp material 50 can be suppressed, and the catching frequency of the lamp material 50 can be remarkably improved.

なお、図4に示すように、ホッパー30の内部に装填したランプ材50が熱膨張によりブリッジを形成することにより、石英管78が下部筒体54に固定され、石英管78が底蓋36と共に下降しないことがある。このように石英管78が下降せず、底蓋36のみが下降しても、底蓋36を石英ガラス棒76により吊り下げる構造としているため、ランプ材50が金属部に接触することがない。   As shown in FIG. 4, when the lamp member 50 loaded in the hopper 30 forms a bridge by thermal expansion, the quartz tube 78 is fixed to the lower cylindrical body 54, and the quartz tube 78 is attached together with the bottom lid 36. May not descend. Thus, even if only the bottom lid 36 is lowered without the quartz tube 78 being lowered, the lamp member 50 is not brought into contact with the metal portion because the bottom lid 36 is suspended by the quartz glass rod 76.

次に、上記のように構成されたシリコン単結晶引上げ装置10の動作について、図1及び図3乃至図7を用いて説明する。   Next, the operation of the silicon single crystal pulling apparatus 10 configured as described above will be described with reference to FIGS. 1 and 3 to 7.

まず始めに、シリコン単結晶引上げ装置10は、ゲートバルブ18を開き、サブチャンバ蓋40を閉じた状態にしておく。   First, the silicon single crystal pulling apparatus 10 opens the gate valve 18 and keeps the subchamber lid 40 closed.

次に、チャンバ12及びサブチャンバ14を不活性ガスで置換した後、不活性ガスを流したままの状態で低圧に保つ。その後、ヒータ24を加熱することにより、予め石英坩堝20の内部に投入されている多結晶シリコンのランプ材50を溶融し、原料融液38とする。   Next, after the chamber 12 and the sub-chamber 14 are replaced with an inert gas, the pressure is kept low with the inert gas flowing. Thereafter, by heating the heater 24, the polycrystalline silicon lamp material 50 previously charged in the quartz crucible 20 is melted to obtain a raw material melt 38.

次に、ゲートバルブ18を閉め、チャンバ12とサブチャンバ14とを遮断する。これにより、チャンバ12内を不活性雰囲気に保持し原料融液38の酸化を防止した状態で、サブチャンバ14内を常圧に戻す。その後、サブチャンバ蓋40を開き、図6に示すように、シード軸16の下端に種結晶42を吊り下げる。   Next, the gate valve 18 is closed, and the chamber 12 and the sub-chamber 14 are shut off. As a result, the inside of the sub-chamber 14 is returned to normal pressure while the inside of the chamber 12 is maintained in an inert atmosphere and oxidation of the raw material melt 38 is prevented. Thereafter, the sub-chamber lid 40 is opened, and the seed crystal 42 is suspended from the lower end of the seed shaft 16 as shown in FIG.

シード軸16の下端に種結晶42を吊り下げた後、サブチャンバ蓋40を閉じ、サブチャンバ14を密閉する。その後、サブチャンバ14を減圧し、サブチャンバ14内部を不活性雰囲気で満たす。次に、ゲートバルブ18を開き、チャンバ12とサブチャンバ14とを連通する。この状態で、種結晶42は融液38の直上に位置するため、融液38の輻射熱により予熱される。   After the seed crystal 42 is suspended from the lower end of the seed shaft 16, the subchamber lid 40 is closed and the subchamber 14 is sealed. Thereafter, the subchamber 14 is depressurized and the subchamber 14 is filled with an inert atmosphere. Next, the gate valve 18 is opened, and the chamber 12 and the sub-chamber 14 are communicated. In this state, since the seed crystal 42 is located immediately above the melt 38, it is preheated by the radiant heat of the melt 38.

次に、シード軸16引上げ装置を駆動し、シード軸16下端に吊り下げられた種結晶42を下降させ、種結晶42の少なくとも一部を原料融液38に浸す。種結晶42が原料融液38に浸されると、種結晶42下方に徐々に単結晶シリコンが成長する。単結晶シリコンが成長するに従い、所定速度で種結晶42を引き上げることにより、所望の直径及び長さを有する単結晶インゴット1を引上げることができる。   Next, the seed shaft 16 pulling device is driven, the seed crystal 42 suspended from the lower end of the seed shaft 16 is lowered, and at least a part of the seed crystal 42 is immersed in the raw material melt 38. When the seed crystal 42 is immersed in the raw material melt 38, single crystal silicon gradually grows below the seed crystal 42. As the single crystal silicon grows, the single crystal ingot 1 having a desired diameter and length can be pulled by pulling the seed crystal 42 at a predetermined speed.

その後、成長した単結晶インゴット1を、サブチャンバ14まで上昇させる。図7に示すように、単結晶インゴット1が、サブチャンバ14まで完全に上昇した後に、ゲートバルブ18を閉め、チャンバ12とサブチャンバ14とを遮断する。これにより、チャンバ12内を不活性雰囲気に保持し、原料融液38の酸化を防止した状態で、サブチャンバ14内を常圧に戻す。その後、サブチャンバ蓋40を開き、単結晶インゴット1を取り出す。以上により単結晶インゴットの製造工程が終了する。   Thereafter, the grown single crystal ingot 1 is raised to the subchamber 14. As shown in FIG. 7, after the single crystal ingot 1 is completely raised to the sub-chamber 14, the gate valve 18 is closed and the chamber 12 and the sub-chamber 14 are shut off. As a result, the inside of the chamber 12 is maintained in an inert atmosphere, and the inside of the sub-chamber 14 is returned to normal pressure in a state where oxidation of the raw material melt 38 is prevented. Thereafter, the subchamber lid 40 is opened, and the single crystal ingot 1 is taken out. Thus, the manufacturing process of the single crystal ingot is completed.

次に、リチャージ工程について説明する。原料となる多結晶シリコンのランプ材50をホッパー30に装填した後に、サブチャンバ蓋40を開き、ホッパー30をシード軸16に吊り下げる。この状態では、ホッパー本体32はストッパー70により掛止されているが、底蓋36とホッパー本体32との間に隙間はない。   Next, the recharge process will be described. After loading the raw material polycrystalline silicon lamp material 50 into the hopper 30, the subchamber lid 40 is opened and the hopper 30 is suspended from the seed shaft 16. In this state, the hopper body 32 is hooked by the stopper 70, but there is no gap between the bottom lid 36 and the hopper body 32.

次に、サブチャンバ蓋40を閉じ、サブチャンバ14を密閉する。その後、サブチャンバ14を減圧し、サブチャンバ14内部を不活性雰囲気で満たす。次に、ゲートバルブ18を開き、チャンバ12とサブチャンバ14とを連通する。この状態で、シード軸16を下降させることにより、シード軸16と共に、シード軸16に吊り下げられたホッパー30が下降する。   Next, the subchamber lid 40 is closed, and the subchamber 14 is sealed. Thereafter, the subchamber 14 is depressurized and the subchamber 14 is filled with an inert atmosphere. Next, the gate valve 18 is opened, and the chamber 12 and the sub-chamber 14 are communicated. In this state, when the seed shaft 16 is lowered, the hopper 30 suspended from the seed shaft 16 is lowered together with the seed shaft 16.

ホッパー30が下降していくと、図3に示すように、ストッパー64がゲート44に当接する。この状態から更にシード軸16を下降させると、ゲート44によりホッパー本体32の下降が阻止され、図4に示すようにシャフト34と底蓋36が更に下降する。すると、ホッパー本体32と、底蓋36との間に隙間82ができ、この隙間82から多結晶シリコンのランプ材50が自重により石英坩堝20内に落下する。   When the hopper 30 is lowered, the stopper 64 comes into contact with the gate 44 as shown in FIG. If the seed shaft 16 is further lowered from this state, the gate 44 prevents the hopper body 32 from being lowered, and the shaft 34 and the bottom lid 36 are further lowered as shown in FIG. As a result, a gap 82 is formed between the hopper body 32 and the bottom lid 36, and the polycrystalline silicon lamp material 50 falls into the quartz crucible 20 from the gap 82 by its own weight.

ホッパー30内部に装填された全ての多結晶シリコンのランプ材50が、石英坩堝20内に投入された後、シード軸16を上昇させる。すると、シード軸16と共にシャフト34と底蓋36が上昇する。シャフト34が一定距離上昇し、図5に示す状態となると、ストッパー70が天板66に接触することにより、ホッパー本体32が掛止される。この状態から更にシード軸16を上昇させると、シード軸16と共に、シャフト34,底蓋36,ホッパー本体32が一体となって上昇する。   After all of the polycrystalline silicon lamp material 50 loaded in the hopper 30 is put into the quartz crucible 20, the seed shaft 16 is raised. Then, the shaft 34 and the bottom lid 36 rise together with the seed shaft 16. When the shaft 34 rises a certain distance and enters the state shown in FIG. 5, the hopper body 32 is latched by the stopper 70 coming into contact with the top plate 66. When the seed shaft 16 is further raised from this state, the shaft 34, the bottom cover 36, and the hopper main body 32 rise together with the seed shaft 16.

ホッパー30が、サブチャンバ14まで完全に上昇した後に、ゲートバルブ18を閉め、チャンバ12とサブチャンバ14とを遮断する。これにより、チャンバ12内を不活性雰囲気に保持し、原料融液38の酸化を防止した状態で、サブチャンバ蓋40を開き、サブチャンバ14内を常圧に戻す。その後、ホッパー30を取り出す。以上によりリチャージ工程が終了する。   After the hopper 30 is completely raised to the sub-chamber 14, the gate valve 18 is closed and the chamber 12 and the sub-chamber 14 are shut off. Thereby, the inside of the chamber 12 is maintained in an inert atmosphere, and the sub-chamber lid 40 is opened in a state in which the oxidation of the raw material melt 38 is prevented, and the inside of the sub-chamber 14 is returned to normal pressure. Thereafter, the hopper 30 is taken out. Thus, the recharge process is completed.

上記の単結晶インゴット引上げ工程と、リチャージ工程とを繰り返すことにより、石英坩堝20を交換することなく単結晶インゴットを連続して製造することができる。   By repeating the single crystal ingot pulling step and the recharging step, the single crystal ingot can be continuously manufactured without exchanging the quartz crucible 20.

なお、本実施の形態では底蓋36の内部を空洞としたが、底蓋36を内部が空洞でない円錐形状としても良い。   In the present embodiment, the inside of the bottom lid 36 is a hollow, but the bottom lid 36 may have a conical shape in which the inside is not hollow.

また、本実施の形態では、ホッパー本体32を略円筒形状にしたため、底蓋36を円錐形状としたが、底蓋36の形状は円錐形状に限られず、ホッパー本体32下端開口部を封止できれば、どのような形状としても良い。例えば、ホッパー本体32を内部空洞の直方体形状とした場合は、底蓋36の形状は四角錐とすることができる。   In this embodiment, since the hopper body 32 has a substantially cylindrical shape, the bottom cover 36 has a conical shape. However, the shape of the bottom cover 36 is not limited to the conical shape, and the lower end opening of the hopper body 32 can be sealed. Any shape is acceptable. For example, when the hopper body 32 has a rectangular parallelepiped shape with an internal cavity, the shape of the bottom cover 36 can be a quadrangular pyramid.

更に、本実施の形態では、ゲートバルブ18とゲート44とを別々に構成したが、ゲートバルブ18とゲート44とを一体として構成しても良い。   Furthermore, in the present embodiment, the gate valve 18 and the gate 44 are configured separately, but the gate valve 18 and the gate 44 may be configured integrally.

また、本実施の形態では、単結晶インゴットを引上げた後のリチャージのために、本リチャージ装置を使用した。しかし、本リチャージ装置の用途はリチャージに限るものではなく、大量チャージ等にも使用することができる。   In the present embodiment, the recharging apparatus is used for recharging after pulling up the single crystal ingot. However, the application of the present recharging device is not limited to recharging, and can be used for mass charging.

ここで、大量チャージとは、1回の単結晶インゴット引上げにおいて、なるべく大きい単結晶インゴットを引上げることにより原価低減を図ることを目的とし、初期チャージされた多結晶シリコンのランプ材50が溶融した後に、更に多結晶シリコンのランプ材50を追加投入し、石英坩堝20内に原料融液38を大量にチャージすることをいう。   Here, the mass charge is intended to reduce the cost by raising the single crystal ingot as large as possible in one pulling of the single crystal ingot, and the polycrystalline silicon lamp material 50 initially charged has melted. Later, a lamp material 50 of polycrystalline silicon is additionally added, and the raw material melt 38 is charged in a large amount into the quartz crucible 20.

すなわち、素材として図1に示す多結晶シリコンのランプ材50を用いているため、溶解後に各ランプ材50間の隙間部84が埋まり、図8に示すように、融液38の液面レベルが下がる。そのため溶解後に本リチャージ装置により多結晶シリコンを追加投入することができる。   That is, since the polycrystalline silicon lamp material 50 shown in FIG. 1 is used as a material, the gap portion 84 between the lamp materials 50 is filled after melting, and the liquid level of the melt 38 is as shown in FIG. Go down. Therefore, after the melting, the polycrystalline silicon can be additionally charged by the present recharge apparatus.

図9は、多結晶シリコンのランプ材50を石英坩堝20に追加投入した後の図である。ランプ材50を追加投入することにより、図9に示すように、融液38の液面レベルが上がり、石英坩堝20内に大量の原料シリコンをチャージすることができる。これにより、より長い単結晶インゴットを引上げることができ、原価低減を図ることができる。   FIG. 9 is a view after additionally adding the polycrystalline silicon lamp material 50 to the quartz crucible 20. By additionally supplying the lamp material 50, as shown in FIG. 9, the liquid level of the melt 38 is increased, and a large amount of raw silicon can be charged into the quartz crucible 20. Thereby, a longer single crystal ingot can be pulled up and cost reduction can be achieved.

更に、インゴットの材質及び大きさに関しては、本発明を実施するにあたり何ら制限は無く、現在製造されている直径及び長さのシリコン、GaAs、GaP、InP等の単結晶インゴットは勿論のこと、将来製造可能となる非常に大きな直径及び長さのインゴットに対しても本発明を適用することができる。   Furthermore, there are no restrictions on the material and size of the ingot in carrying out the present invention. Of course, single crystal ingots of silicon, GaAs, GaP, InP, etc. of diameters and lengths that are currently manufactured are of course in the future. The present invention can also be applied to very large diameter and length ingots that can be manufactured.

このように本願発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、底蓋の形状や材質、その他の構造に関し、発明の要旨の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。   As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various applications and modifications can be made within the scope of the invention with respect to the shape and material of the bottom cover and other structures. is there.

[実施データ]
従来のホッパーを用いてリチャージを行った場合と、本願発明におけるホッパーを用いてリチャージを行った場合との効果について、表1を用いて以下に具体的に説明する。
[Implementation data]
The effects of the case where recharging is performed using a conventional hopper and the case where recharging is performed using the hopper according to the present invention will be specifically described below with reference to Table 1.

Figure 0004966267
Figure 0004966267

表1は、ホッパーを用いてランプ材をリチャージする際、ランプ材が底蓋上で溶融して、貼り付いたり、熱膨張によりブリッジを形成たりして、落下しなくなる割合を示したものである。   Table 1 shows the ratio at which when the lamp material is recharged using the hopper, the lamp material melts on the bottom lid and sticks or forms a bridge due to thermal expansion and does not fall. .

表1に示すように、底蓋を不透明石英で構成した本願発明のホッパーを用いた場合に、底蓋を透明石英で構成した従来のホッパーを用いた場合に比し、リチャージの際のランプ材引っかかり率が格段に改善された。ここでランプ材引っかかり率とは、全リチャージ回数に対するランプ材の引っかかりが発生したバッチ数の割合をいう。   As shown in Table 1, when the hopper of the present invention in which the bottom lid is made of opaque quartz is used, the lamp material at the time of recharging is compared with the case of using the conventional hopper in which the bottom lid is made of transparent quartz. The catch rate has been greatly improved. Here, the lamp material catch rate refers to the ratio of the number of batches in which the lamp material catches to the total number of recharges.

次に本件発明の前記実施の形態から把握できる請求項以外の技術的思想を、その効果とともに記載する。   Next, technical ideas other than the claims that can be grasped from the embodiment of the present invention will be described together with the effects thereof.

シャフトと、ホッパー本体と、底蓋と、を有するホッパーにおいて、透明石英に比し赤外線透過率の低い物質により底蓋を構成する。このように、赤外線透過率の低い物質により底蓋を構成することにより、融液からの熱輻射によるランプ材の温度上昇を抑制し、ランプ材が底蓋上で溶融して貼り付いたり、熱膨張によりブリッジを形成して落下しなくなることを抑制することができる。   In a hopper having a shaft, a hopper body, and a bottom lid, the bottom lid is made of a material having a lower infrared transmittance than transparent quartz. In this way, by configuring the bottom cover with a substance having a low infrared transmittance, the temperature rise of the lamp material due to heat radiation from the melt is suppressed, and the lamp material is melted and stuck on the bottom cover. It is possible to suppress the formation of a bridge due to the expansion so that it does not fall.

シャフトと、ホッパー本体と、底蓋と、を有するホッパーにおいて、シャフトに固定したストッパーにより、ホッパー本体を掛止する。このように、ストッパーによりホッパー本体を掛止することにより、ホッパー本体の重量が底蓋の周縁部に負荷されず、石英で構成されたホッパー本体の下端と、底蓋の周縁部の破損を防止することができる。   In a hopper having a shaft, a hopper body, and a bottom lid, the hopper body is hooked by a stopper fixed to the shaft. In this way, by hooking the hopper body with the stopper, the weight of the hopper body is not applied to the peripheral part of the bottom cover, and the lower end of the hopper body made of quartz and the peripheral part of the bottom cover are prevented from being damaged. can do.

シャフトと、ホッパー本体と、底蓋と、を有するホッパーにおいて、シャフトを覆う石英製の管を有する。このように、シャフトを石英製の管で覆うことにより、ランプ材への汚染を防止することができる。   A hopper having a shaft, a hopper body, and a bottom lid has a quartz tube covering the shaft. Thus, by covering the shaft with the quartz tube, it is possible to prevent the lamp material from being contaminated.

シャフトと、ホッパー本体と、底蓋と、を有するホッパーにおいて、ホッパーの回転を抑止する回り止めを設ける。このように、ホッパーが回り止めを有することにより、ホッパーをサブチャンバに入れホッパーを吊った状態でランプ材を装填しても、ホッパーが不用意に回転しない。また、ランプ材を投下したときにも、ホッパーが不用意に回転しないため、振れ等により、炉内品或いはチャンバと接触破損することを防止することができる。   A hopper having a shaft, a hopper body, and a bottom lid is provided with a detent that prevents rotation of the hopper. As described above, since the hopper has a rotation stopper, the hopper does not rotate carelessly even when the lamp material is loaded while the hopper is placed in the sub-chamber and the hopper is suspended. Further, since the hopper does not rotate carelessly when the lamp material is dropped, it is possible to prevent contact damage to the in-furnace product or the chamber due to vibration or the like.

シャフトと、ホッパー本体と、底蓋と、を有するホッパーにおいて、回り止めの先端に回転可能なローラを設ける。このように、回り止めの先端に回転可能なローラを設けることにより、ホッパーはサブチャンバ内を滑らかに上下動することができる。   In a hopper having a shaft, a hopper body, and a bottom lid, a rotatable roller is provided at the tip of the detent. Thus, by providing a rotatable roller at the tip of the rotation stopper, the hopper can move up and down smoothly in the sub-chamber.

本発明の実施の形態におけるシリコン単結晶引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus in the embodiment of the present invention. 図2(a)は図1のA−A断面におけるシリコン単結晶引上げ装置の横断面図、図2(b)は図1のB−B断面におけるシリコン単結晶引上げ装置の横断面図である。2A is a cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus in the AA cross section of FIG. 1, and FIG. 2B is a cross sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus in the BB cross section of FIG. リチャージ工程おけるシリコン単結晶引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus in the recharging process. リチャージ工程おいてランプ材投入中のシリコン単結晶引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus during the charging of the lamp material in the recharging step. リチャージ工程おいて空になったホッパーを引き上げ中のシリコン単結晶引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus that is pulling up the hopper that has been emptied in the recharging step. 単結晶インゴット引上げ工程おいてシード軸に種結晶を吊り下げた状態のシリコン単結晶引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of a silicon single crystal pulling apparatus in a state where a seed crystal is suspended from a seed shaft in a single crystal ingot pulling process. 単結晶インゴット引上げ工程おいて単結晶インゴットを引上げた状態のシリコン単結晶引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus in a state where the single crystal ingot is pulled in the single crystal ingot pulling step. 石英坩堝に投入されたランプ材が溶融された後の状態のシリコン単結晶引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the silicon single crystal pulling apparatus in a state after the lamp material put into the quartz crucible is melted. 多結晶シリコンのランプ材を石英坩堝に追加投入した後の図である。It is a figure after adding the lamp material of a polycrystalline silicon to a quartz crucible additionally. チョクラルスキー法を用いた一般的な単結晶インゴット引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of a general single crystal ingot pulling apparatus using the Czochralski method. 中吊り式のホッパーに透明石英を用いた従来のシリコン単結晶引上げ装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of a conventional silicon single crystal pulling apparatus using transparent quartz for a suspended hopper.

符号の説明Explanation of symbols

1…単結晶インゴット
10…シリコン単結晶引き上げ装置
12…チャンバ
14…サブチャンバ
16…シード軸
18…ゲートバルブ
20…石英坩堝
22…黒鉛坩堝
24…ヒータ
26…断熱材
28…支持軸
30…ホッパー
32…ホッパー本体
34…シャフト
36…底蓋
38…融液
40…サブチャンバ蓋
42…種結晶
44…ゲート
50…ランプ材
52…上部筒体
54…下部筒体
56…フランジ
58…フランジ
60…連結器
62…回り止め
62a…ローラ
64…ストッパー
66…天板
68…貫通穴
70…ストッパー
72…吊り棒
74…連結器
76…石英ガラス棒
78…石英管
80…空気穴
82…隙間
84…隙間部
110…シリコン単結晶引き上げ装置
120…石英坩堝
136…底蓋。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Single crystal ingot 10 ... Silicon single crystal pulling apparatus 12 ... Chamber 14 ... Subchamber 16 ... Seed shaft 18 ... Gate valve 20 ... Quartz crucible 22 ... Graphite crucible 24 ... Heater 26 ... Thermal insulation 28 ... Support shaft 30 ... Hopper 32 ... Hopper body 34 ... Shaft 36 ... Bottom lid 38 ... Melt 40 ... Subchamber lid 42 ... Seed crystal 44 ... Gate 50 ... Lamp material 52 ... Upper cylinder 54 ... Lower cylinder 56 ... Flange 58 ... Flange 60 ... Coupler 62 ... Stopper 62a ... Roller 64 ... Stopper 66 ... Top plate 68 ... Through hole 70 ... Stopper 72 ... Suspension rod 74 ... Coupler 76 ... Quartz glass rod 78 ... Quartz tube 80 ... Air hole 82 ... Gap 84 ... Gap portion 110 ... Silicon single crystal pulling device 120 ... Quartz crucible 136 ... Bottom lid.

Claims (8)

略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げる吊持手段と、を有するリチャージ装置において、
前記ホッパー本体に設けられホッパー本体を坩堝上方の所定位置に掛止するための第1のストッパーと、
前記吊持手段に設けられ前記ホッパー本体を掛止するための第2のストッパーと、
前記吊持手段を覆う略円筒形状の石英管と、
前記ホッパー本体に、回り止めを有することを特徴とするリチャージ装置。
In a recharging device having a substantially cylindrical hopper body, a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body, and a suspension means that suspends the bottom lid,
A first stopper provided on the hopper body for hooking the hopper body at a predetermined position above the crucible;
A second stopper provided on the suspension means for hooking the hopper body;
A substantially cylindrical quartz tube covering the suspension means;
A recharging device having a detent in the hopper body.
略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げる吊持手段と、を有するリチャージ装置において、
前記ホッパー本体内に、前記吊持手段を覆う略円筒形状の石英管を有することを特徴とするリチャージ装置。
In a recharging device having a substantially cylindrical hopper body, a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body, and a suspension means that suspends the bottom lid,
A recharging apparatus comprising a substantially cylindrical quartz tube covering the suspension means in the hopper body.
前記石英管は前記吊持手段に対して摺動可能であることを特徴とする請求項1または2に記載のリチャージ装置。   The recharging device according to claim 1 or 2, wherein the quartz tube is slidable with respect to the suspension means. 前記吊持手段に設けられ前記ホッパー本体を掛止するためのストッパーを有することを特徴とする請求項2に記載のリチャージ装置。 The recharging device according to claim 2, further comprising a stopper provided on the suspension means for hooking the hopper body. 略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する底蓋と、前記底蓋を吊り下げる吊持手段と、を有するリチャージ装置において、
前記ホッパー本体に、回り止めを有することを特徴とする請求項2または4に記載のリチャージ装置。
In a recharging device having a substantially cylindrical hopper body, a bottom lid that opens and closes a lower end opening of the hopper body, and a suspension means that suspends the bottom lid,
The recharging device according to claim 2 or 4, wherein the hopper body has a rotation stopper.
石英ガラスの略筒状のホッパー本体と、前記ホッパー本体の下端開口部を開閉する錐体の底蓋と、前記底蓋を吊り下げたシャフトと、前記ホッパー本体に設けられホッパー本体を坩堝上方の所定位置に掛止するための第1のストッパーと、を有するリチャージ装置において、
前記ホッパー本体は、上端開口部を覆う天板と、前記天板に穿設されたシャフト挿通用の貫通穴と、を有し、
前記シャフトは、長さ調節が可能な吊り棒と、前記吊り棒の中程に固定され前記ホッパー本体を掛止するための第2のストッパーと、前記底蓋と一体として成形された石英ガラス棒と、前記吊り棒と前記石英ガラス棒とを連結する連結器と、を有し、
前記ホッパー本体内に、前記吊り棒の一部と前記石英ガラス棒と前記連結器とを覆う略円筒形状の石英管を有することを特徴とするリチャージ装置。
A substantially cylindrical hopper body made of quartz glass, a bottom cover of a cone that opens and closes a lower end opening of the hopper body, a shaft that suspends the bottom cover, and a hopper body that is provided on the hopper body and that is above the crucible. In a recharging device having a first stopper for hooking in place,
The hopper body has a top plate that covers an upper end opening, and a through hole for inserting a shaft formed in the top plate,
The shaft includes a suspension rod whose length can be adjusted, a second stopper that is fixed in the middle of the suspension rod, and is used to hook the hopper body, and a quartz glass rod that is molded integrally with the bottom lid. If, have a, a coupler for connecting the suspension rod and said quartz glass rod,
Wherein the hopper body, recharge, characterized in that have a quartz tube having a substantially cylindrical shape covering the hanging part of the rod and the quartz glass rod and the coupling device.
チョクラルスキー法による単結晶の育成に用いられ、固形原料をルツボ内の原料融液にチャージする原料供給装置であって、
前記固形原料を充填する円筒状の原料供給管と、
前記原料供給管の下方開口端を開閉する円錐状の底蓋と、
前記原料供給管の内部を保護管で被覆されつつ貫通し前記底蓋に連結され、底蓋の下降並びに原料供給管および底蓋の上昇を可能とする吊持部材と、
前記原料供給管の下降を停止させる掛止部材と、
前記吊持部材を介して前記原料供給管および底蓋を吊り下げて昇降可能にする引き上げ手段とを具備し、
前記原料供給管の下方開口端を開放し、ルツボ内の原料融液に前記固形原料を投入することを特徴とする原料供給装置。
A raw material supply apparatus that is used for growing a single crystal by the Czochralski method and charges a solid raw material to a raw material melt in a crucible,
A cylindrical raw material supply pipe for filling the solid raw material;
A conical bottom lid for opening and closing the lower open end of the raw material supply pipe;
A suspension member that penetrates the inside of the raw material supply pipe while being covered with a protective pipe and is connected to the bottom cover, and allows the bottom cover to be lowered and the raw material supply pipe and the bottom cover to be lifted;
A latching member for stopping the lowering of the raw material supply pipe;
A lifting means that allows the raw material supply pipe and the bottom cover to be lifted and lowered through the suspension member;
A raw material supply apparatus, wherein a lower open end of the raw material supply pipe is opened and the solid raw material is charged into a raw material melt in a crucible.
インゴットの原料融液を収容する石英坩堝と、前記石英坩堝を囲繞する黒鉛坩堝と、前記黒鉛坩堝を囲繞するヒータと、前記各部材を収容するチャンバと、チャンバの上部にゲートバルブを介して設けられたサブチャンバと、前記サブチャンバの前面に設けられた開閉可能なサブチャンバ蓋と、前記サブチャンバの内面に設けられたフランジ状のゲートと、上下動可能に支持したシード軸と、前記シード軸に吊り下げられたホッパーと、を有するインゴット引上げ装置において、
前記ホッパーは、ホッパー本体と、シャフトと、底蓋とを有し、
前記ホッパー本体は、略円筒形状の石英ガラスの筒体と、前記筒体の上部を覆う天板と、前記天板に穿設されたシャフト挿通用の貫通穴と、前記筒体の外周に設けられ前記ホッパー本体を前記ゲートに掛止することができる第1のストッパーと、を有し、
前記シャフトは、長さ調節が可能な吊り棒と、前記吊り棒の中程に固定され前記ホッパー本体を掛止することができる第2のストッパーと、前記底蓋と一体として成形された石英ガラス棒と、前記吊り棒と前記石英ガラス棒とを連結する連結器と、前記吊り棒の一部と前記石英ガラス棒と前記連結器とを覆う略円筒形状の石英管と、を有することを特徴とするインゴット引上げ装置。
A quartz crucible for containing an ingot raw material melt, a graphite crucible for enclosing the quartz crucible, a heater for enclosing the graphite crucible, a chamber for accommodating the respective members, and an upper part of the chamber via a gate valve A sub-chamber lid provided on the front surface of the sub-chamber, an openable / closable sub-chamber lid, a flange-shaped gate provided on the inner surface of the sub-chamber, a seed shaft supported to move up and down, and the seed An ingot pulling device having a hopper suspended from a shaft,
The hopper has a hopper body, a shaft, and a bottom lid,
The hopper body is provided on a substantially cylindrical quartz glass cylinder, a top plate that covers the top of the cylinder, a shaft insertion through-hole formed in the top plate, and an outer periphery of the cylinder. A first stopper capable of hooking the hopper body to the gate,
The shaft includes a suspension rod whose length can be adjusted, a second stopper fixed to the middle of the suspension rod and capable of hooking the hopper body, and quartz glass formed integrally with the bottom lid. A rod that connects the suspension rod and the quartz glass rod; and a substantially cylindrical quartz tube that covers a part of the suspension rod and the quartz glass rod and the coupler. Ingot pulling device.
JP2008188384A 2008-07-22 2008-07-22 Recharge device, raw material supply device, and ingot pulling device Expired - Lifetime JP4966267B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008188384A JP4966267B2 (en) 2008-07-22 2008-07-22 Recharge device, raw material supply device, and ingot pulling device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008188384A JP4966267B2 (en) 2008-07-22 2008-07-22 Recharge device, raw material supply device, and ingot pulling device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003033055A Division JP4868430B2 (en) 2003-02-12 2003-02-12 Recharge device, ingot pulling device, and ingot manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008285410A JP2008285410A (en) 2008-11-27
JP4966267B2 true JP4966267B2 (en) 2012-07-04

Family

ID=40145491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008188384A Expired - Lifetime JP4966267B2 (en) 2008-07-22 2008-07-22 Recharge device, raw material supply device, and ingot pulling device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4966267B2 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101365452B1 (en) * 2011-02-08 2014-02-19 포토멕 주식회사 An apparatus for silicon feeding into the silicon ingot grower
KR101267453B1 (en) 2011-04-29 2013-05-31 포토멕 주식회사 Meterial feeder
JP5644794B2 (en) * 2012-03-08 2014-12-24 信越半導体株式会社 Recharge tube and recharge method
KR101690245B1 (en) * 2014-11-04 2016-12-27 주식회사 엘지실트론 Material Feeder
CN109778306B (en) * 2019-03-25 2024-08-06 中国恩菲工程技术有限公司 Secondary feeding device of single crystal furnace
CN110067019A (en) * 2019-06-03 2019-07-30 中国电子科技集团公司第二十六研究所 A kind of continuous automatic feeding device of crystal growth and crystal continuous growing system
KR102295546B1 (en) * 2019-10-22 2021-08-30 에스케이실트론 주식회사 Unit for supplying raw material and apparatus for growing silicon single crytal ingot including the same
CN114381797B (en) * 2021-12-29 2023-03-17 宁夏申和新材料科技有限公司 Telescopic quartz feeding device, straight pulling single crystal furnace and method for improving pulling speed

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08295591A (en) * 1995-04-26 1996-11-12 Komatsu Electron Metals Co Ltd Doping device
ITMI20010402A1 (en) * 2001-02-28 2002-08-28 De Nora Elettrodi Spa NEW ELECTROCATALYTIC COMPOSITION FOR DEPOLARIZED OXYGEN CATHODE
JP4454003B2 (en) * 2002-07-05 2010-04-21 Sumco Techxiv株式会社 Raw material supply equipment for single crystal pulling equipment

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008285410A (en) 2008-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4966267B2 (en) Recharge device, raw material supply device, and ingot pulling device
JP4868430B2 (en) Recharge device, ingot pulling device, and ingot manufacturing method
US7311772B2 (en) Apparatus and method for supplying raw material in Czochralski method
US8123855B2 (en) Device and process for growing Ga-doped single silicon crystals suitable for making solar cells
JP2010083685A (en) Raw material feeding device and apparatus and method for producing single crystal
JP2008285351A (en) Material supply apparatus, single crystal drawing apparatus equipped with the same, and material supply method
US20180066377A1 (en) Apparatus for manufacturing silicon single crystal and melt inlet pipe of the same
JP2017014073A (en) Device and method for supplying silicon melt, and manufacturing apparatus of silicon single crystal
JP5163386B2 (en) Silicon melt forming equipment
JP6471700B2 (en) Method for melting silicon raw material using recharge device
JP3953042B2 (en) Raw material supply apparatus and raw material supply method by Czochralski method
CN215366054U (en) Continuous ingot growing device
JP4672579B2 (en) Method for recharging solid raw materials
JP2004083322A (en) Process and jig for supplying czochralski raw material
JPH02120294A (en) Recharger
JP4699975B2 (en) Raw material supply apparatus and raw material supply method
JP6708173B2 (en) Recharge tube and method for manufacturing single crystal
US20150093231A1 (en) Advanced crucible support and thermal distribution management
JP4563951B2 (en) Solid material recharging equipment
JP2024501567A (en) Use of buffer members during growth of single crystal silicon ingots
JP2007254162A (en) Single crystal manufacturing device and recharge method
CN206109597U (en) Single crystal stick seeding and shouldering device and single crystal growing furnace
JP5029184B2 (en) Semiconductor crystal manufacturing method and manufacturing apparatus thereof
JP2007277069A (en) Recharge device and method for recharging solid raw material
JP2010173880A (en) Method for producing semiconductor single crystal, and raw material supply container

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110719

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111207

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120327

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120330

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4966267

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150406

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term