JP2010078417A - カラーフィルタ検査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】過剰検出のない高感度検査を行うことの出来るカラーフィルタ検査装置を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ基板を支持し移動させるカラーフィルタ基板移動手段と、前記カラーフィルタ基板に対し照明光を照射する照明光照射手段と、前記カラーフィルタ基板からの反射光/透過光を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により得られた画像データに対して演算処理を行う画像処理手段とを有し、前記画像処理手段において、以下の[a]〜[c]の処理を行うことを特徴とするカラーフィルタ検査装置。
[a]注目画素に対して比較画素Aと比較画素Bの2つの比較画素を設定する。
[b]注目画素をBM画素もしくはRGB画素と判定する。
[c]注目画素の良否を判定する。
【選択図】図3
【解決手段】カラーフィルタ基板を支持し移動させるカラーフィルタ基板移動手段と、前記カラーフィルタ基板に対し照明光を照射する照明光照射手段と、前記カラーフィルタ基板からの反射光/透過光を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により得られた画像データに対して演算処理を行う画像処理手段とを有し、前記画像処理手段において、以下の[a]〜[c]の処理を行うことを特徴とするカラーフィルタ検査装置。
[a]注目画素に対して比較画素Aと比較画素Bの2つの比較画素を設定する。
[b]注目画素をBM画素もしくはRGB画素と判定する。
[c]注目画素の良否を判定する。
【選択図】図3
Description
本発明はカラーフィルタの着色画素であるレッドR、グリーンG、ブルーBの各画素(以下、RGB画素)の繰り返しで構成されるカラーフィルタの欠陥を検査するカラーフィルタ検査装置に関する。
カラーフィルタ基板は液晶パネルにおけるバックライト光をRGBの各色を透過させるRGB画素とRGB画素間を区分けするBMの一定の繰り返し周期で構成されているため、外観検査の際にはその特徴を生かして、以下の方法で行われるのが一般的である。
撮像機器(例えばラインセンサカメラ)により入力された繰り返しパターンを含んだ原画像において、注目画素に対してパターンピッチだけ離れた比較画素を設定する。そして、注目画素と比較画素との輝度データをもとに、該画素間の輝度差を算出し、予め設定しておいた閾値を基準として、良否判定を行う画像処理プロセスとなっている。この処理を行うと正常な繰り返しパターンのみが消去され、パターン中の欠陥のみが特徴点として抽出される。以上で述べた欠陥判別法を一般的に隣接比較法と呼ぶ。
隣接比較法を用いたカラーフィルタ基板の外観検査に関して、以下に最近の動向を述べる。
近年、カラーフィルタ基板の高精細化が進み、画素サイズも微細化している。そのため、カラーフィルタ基板の品質・性能に影響を与える欠陥レベルも微小化しており、必要とされる欠陥検出サイズも微小化している。そのため、上記検出法を用いた外観検査装置に関しても高感度化が進みつつある。
しかし、隣接比較法を用いた外観検査の単純な高感度化は欠陥の過剰検出という問題を引き起こす。すなわち、品質に影響を与えないレベルでのカラーフィルタ基板表面上の微小な変化であっても、注目画素と比較画素の間には差異が認められるため欠陥として認識してしまう。
上記問題が特に顕著になるのが、BMの形状の微小なゆらぎである。BM境界部はRGB画素と直接接触するところだけに、微小な欠けやガタツキなどが生じやすいので、高感度の検査を行った場合、過剰検出の要因となることが多い。
そのため、欠陥の過剰検出を抑制しつつ、適切な高感度検査を高速に行うためには、撮像画像を基に注目画素がRGB領域もしくはBM領域にあるかを自動で判別し、各領域における良否判定基準を個別に設けることにより、領域に特有の過剰検出要因を排除することが必要である。
以下に、従来の技術について紹介する。
カラーフィルタ基板の所定領域を、反射暗視野照明および反射明視野照明で撮像し、それぞれの撮影画像から欠陥候補群を抽出し、両欠陥候補群のAND処理を取って抽出されるものをBM部の欠陥として判定する方法が提案されている(例えば、特許文献1)。
特許文献1においてはRGBパターンの形状に左右されず、BM部の適切な検査に有効である。
以下に先行技術文献を示す。
特開2006−300892号公報
しかしながら、特許文献1の欠陥検出方法は、基板のRGB画素部・BM部共に同一の良否判定基準で行うために、過剰検出による誤った良否判定が懸念される。良否判定基準を厳しく設定すると過剰検出となり、一方、良否判定基準を甘く設定すると検出したい欠陥を検出できなくなるといった問題がある。
本発明は上記従来の問題に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、カラーフィルタの検査において、RGB領域およびBM領域を自動で認識し、各領域において個別の良否判定基準を適用することにより、過剰検出のない高感度検査を行うことの出来るカラーフィルタ検査装置を提供することである。
本発明の請求項1に係る発明は、カラーフィルタ基板の検査装置であって、前記カラーフィルタ基板を支持し移動させるカラーフィルタ基板移動手段と、前記カラーフィルタ基板に対し照明光を照射する照明光照射手段と、前記カラーフィルタ基板からの反射光/透過光を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により得られた画像データに対して演算処理を行う画像処理手段とを有し、前記画像処理手段において、以下の[a]〜[c]の処理を行うことを特徴とするカラーフィルタ検査装置である。
[a]前記画像データ中の注目画素に対して繰り返しパターンの持つパターンピッチの距離をDとし、注目画素からD*n(nは1以外の任意の数)の距離だけ離れた点に比較画素Aと注目画素からDだけ離れた点に比較画素Bの2つの比較画素を設定する。
[b]前記注目画素と前記比較画素Aの持つ輝度データを用いて、画素間の輝度差を算出し、前記注目画素をBM画素もしくはRGB画素と判定する。
[c]前記注目画素及び前期比較画素Bの持つ輝度データを用いて、画素間の輝度差を算出し、前記注目画素の良否を判定する。
[a]前記画像データ中の注目画素に対して繰り返しパターンの持つパターンピッチの距離をDとし、注目画素からD*n(nは1以外の任意の数)の距離だけ離れた点に比較画素Aと注目画素からDだけ離れた点に比較画素Bの2つの比較画素を設定する。
[b]前記注目画素と前記比較画素Aの持つ輝度データを用いて、画素間の輝度差を算出し、前記注目画素をBM画素もしくはRGB画素と判定する。
[c]前記注目画素及び前期比較画素Bの持つ輝度データを用いて、画素間の輝度差を算出し、前記注目画素の良否を判定する。
本発明の請求項2に係る発明は、前記[c]の処理において、前記BM画素及び前記RGB画素の良否判定基準を個別に設定することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ検査装置である。
本発明のカラーフィルタ検査装置は、RGB画素の繰り返しパターンで構成される領域(RGB部)及びブラックマトリクス(BM)で構成される領域(BM部)からなるカラーフィルタ基板の検査において、RGB部とBM部を自動で判別し、各部での良否判定基準を個別に設定することで、精度よく欠陥を高感度に検出することが出来る。
以下、本発明の実施形態を図に基づいて説明する。
図1は本発明の実施形態であるカラーフィルタ基板検査装置の構成の一例を示した概略図である。カラーフィルタ基板101は移動手段として用いるカラーフィルタ基板移動ステージ102に載置される。そして、カラーフィルタ基板101のX方向の有効範囲を全て撮像部104で撮像できるようにするため、カラーフィルタ基板移動ステージ102をカラーフィルタ基板101がスライドする機構となっている。
この際、カラーフィルタ基板移動ステージ102に載置されたカラーフィルタ基板101をスライドさせる方法としてモータ駆動やエアー浮上等あるが、カラーフィルタ基板101がX方向にスライドすればよく、これらに限定されるものではない。
前記カラーフィルタ基板移動ステージ102には撮像部104直下に光を通すためのスリット状の開口部が設けてある。これにより、光照射部103から出た光がカラーフィルタ基板101を透過し、撮像部104に入ることで、カラーフィルタ基板101の透過画像を得ることができる。
本実施形態では透過光による撮像を行ったが、反射光による撮像でもよい。また、透過光、反射光を併用して撮像しても良い。その際は光照射部103を撮像部104の視野外に適切に配置し、カラーフィルタ基板101の反射光を得るようにするが、これに限定されるものではない。
また、カラーフィルタ基板移動ステージ102はカラーフィルタ基板101以外での反射を防ぐため、ツヤ消し加工を行うことが必要である。
撮像部104としては電荷結合素子(Charge Coupled Device)を用いたカメラを使用している。さらに本形態では検査速度を増すために電荷結合素子を一次元的に配置したラインセンサカメラを用いている。
取得したデータは演算処理を行う画像処理手段である画像処理部105に送られ、画像データ処理を行いカラーフィルタ基板101の良否判定を行う。
図2(a)は得られた撮像画像に対して、注目画素および比較画素を設定する方法を示した図で、図2(b)は比較画素を用いて良否判定を行った結果を示した図である。
図3は図2で示した処理の概要をより詳細に記したフローチャート図である。
図4は注目画素および比較画素の設定をさらに詳しく説明した図である。
図5は注目画素をRGB部とBM部に切り分けた図を示す。
図2(a)を用いて注目画素および比較画素A、比較画素Bの設定方法を説明する。注目画素203とは検査したい画素のことであって、該注目画素203より1/3パターンピッチPn離れた画素を比較画素A204とし、該注目画素203より1パターンピッチPm離れた画素を比較画素B205とする。また、図2(a)では注目画素203に対して比較画素A204、および比較画素B205は注目画素203の右側および左側の各々2つの画素に設定されているが、注目画素が検査対象部分200の右端部の場合には比較画素Aおよび比較画素Bは注目画素の左側、一方注目画素が検査対象部分200の左端部の場合には比較画素Aおよび比較画素Bは注目画素の右側に設定される。左右どちらにでも設定できる領域では前もって、右側ないし左側のどちら側に設定しても良い。ここでいうパターンピッチとはRGB画素の繰り返しパターンピッチのことである。
以下に検査処理フローについて、図2、図3、図4を用いて詳細に記す。
先ず図1で示した撮像部104でカラーフィルタ基板101を撮像して画像データを取り込み、画像処理部105で輝度データとする(S1)。画像データはカラーフィルタ基板101の被検査領域全体の画像データである。図2(a)に示すように、撮像された画像データはRGB領域201、およびBM領域202から成る。次に、注目画素を設定す
る。注目画素の設定は図4に示すように撮像画像から得られた画素(1,1)座標の画素を基点として設定する(S2)。ここで、図4の座標(1,1)は撮像時刻の一番早い時点で取り込まれた画像データの座標で(m,n)は一番遅い時刻に取り込まれた画像データの座標を示す。次に、比較画素Aを前記注目画素から1/3パターンピッチ離れた画素すなわち(4,1)座標の画素に設定する(S3)。同様に比較画素Bを前記注目画素から1パターンピッチ離れた画素すなわち(10,1)座標の画素に設定する(S4)。前記注目画素の輝度データと前記比較画素Aの輝度データを前もって設定された閾値Cで比較する(S5)。比較した結果(S6)、閾値Cを超えない場合は、前記注目画素をBM部と判定し(S7)、閾値Cを超えた場合はRGB部と判定する(S8)。次に前記BM部と判定された注目画素の輝度データと比較画素Bの輝度データを前もって設定された閾値Eで比較し良否判定を行う(S9)。同様に前記RGB部と判定された注目画素の輝度データと比較画素Bの輝度データを前もって設定された閾値Dで比較し良否判定を行う(S10)。前記良否判定で閾値Eまたは閾値Dを超えた場合には図2(b)で示されるような欠陥判定部とされる(図2(b)の欠陥はRGB部における欠陥の一例である)。注目画素は撮像座標全面に渡って逐次1画素ずつシフトして、すなわち、(1,1)座標の画素から(m,n)座標の画素まで被検査領域全体にわたって行われる。注目画素は(m,n)の判断(S11)の結果、(m,n)に至っていない場合は注目画素を1画素分シフトして設定され(S12)、比較画素Aの設定(S3)のステップに戻される。一方注目画素が(m,n)に達していた場合は検査処理は終了(S13)となる。
る。注目画素の設定は図4に示すように撮像画像から得られた画素(1,1)座標の画素を基点として設定する(S2)。ここで、図4の座標(1,1)は撮像時刻の一番早い時点で取り込まれた画像データの座標で(m,n)は一番遅い時刻に取り込まれた画像データの座標を示す。次に、比較画素Aを前記注目画素から1/3パターンピッチ離れた画素すなわち(4,1)座標の画素に設定する(S3)。同様に比較画素Bを前記注目画素から1パターンピッチ離れた画素すなわち(10,1)座標の画素に設定する(S4)。前記注目画素の輝度データと前記比較画素Aの輝度データを前もって設定された閾値Cで比較する(S5)。比較した結果(S6)、閾値Cを超えない場合は、前記注目画素をBM部と判定し(S7)、閾値Cを超えた場合はRGB部と判定する(S8)。次に前記BM部と判定された注目画素の輝度データと比較画素Bの輝度データを前もって設定された閾値Eで比較し良否判定を行う(S9)。同様に前記RGB部と判定された注目画素の輝度データと比較画素Bの輝度データを前もって設定された閾値Dで比較し良否判定を行う(S10)。前記良否判定で閾値Eまたは閾値Dを超えた場合には図2(b)で示されるような欠陥判定部とされる(図2(b)の欠陥はRGB部における欠陥の一例である)。注目画素は撮像座標全面に渡って逐次1画素ずつシフトして、すなわち、(1,1)座標の画素から(m,n)座標の画素まで被検査領域全体にわたって行われる。注目画素は(m,n)の判断(S11)の結果、(m,n)に至っていない場合は注目画素を1画素分シフトして設定され(S12)、比較画素Aの設定(S3)のステップに戻される。一方注目画素が(m,n)に達していた場合は検査処理は終了(S13)となる。
前記(S6)の閾値Cを超えないかの判断において、注目画素がBM 部(BM部)であって、例えば白抜け等の欠陥があった場合には、判断の結果閾値Cを超えてしまうのでこの場合はBM部であってもRGB部と判定されるが、次の閾値Dによって欠陥として判定される。
上記注目画素の輝度データと比較画素Aの輝度データを閾値Cで比較する場合、RGB部ではパターンピッチとは異なった点と比較するため、画素間輝度差が大きくなるが、BM部ではパターンピッチには関わらず、ある一定輝度を取るので、画素間輝度差が小さくなり、適切な閾値Cを定めておけばRGB部とBM部の区分けが可能である。
上記検査処理のフローでは注目画素は1画素毎に良否判定を行った場合であるが、これに限定されず、注目画素を1画素分シフトする度に、図5(b)に示すように検査領域全体にわたって、該注目画素をBM領域207とRGB領域208に切り分けた後に良否の判定を行っても良い。
また、比較画素Aを注目画素から1/3パターンピッチ離れた画素と設定したが2/3パターンピッチ離れた画素としてもよく、すなわちパターンピッチをDとするとD*n(nは1以外の任意の数)に設定することが出来る。
RGB部の良否判定の閾値を閾値D、BM部の良否判定の閾値を閾値Eと良否判定基準を個別に設定することによってRGB部とBM部との間で欠陥の検出感度を変えることが出来る。
本発明に係るカラーフィルタ基板検査装置は、撮像した画像において検査部をBM部またはRGB部に自動で判別し、各部において個別に欠陥検出感度を設定することで、過剰検出のない高感度検査に有用である。
101…カラーフィルタ基板
102…カラーフィルタ基板移動ステージ
103…光照射部
104…撮像部
105…画像処理部
200…検査対象部分
201…RGB領域
202…BM領域
203…注目画素
204…比較画素A
205…比較画素B
206…欠陥
207…BM領域
208…RGB領域
102…カラーフィルタ基板移動ステージ
103…光照射部
104…撮像部
105…画像処理部
200…検査対象部分
201…RGB領域
202…BM領域
203…注目画素
204…比較画素A
205…比較画素B
206…欠陥
207…BM領域
208…RGB領域
Claims (2)
- カラーフィルタ基板の検査装置であって、前記カラーフィルタ基板を支持し移動させるカラーフィルタ基板移動手段と、前記カラーフィルタ基板に対し照明光を照射する照明光照射手段と、前記カラーフィルタ基板からの反射光/透過光を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により得られた画像データに対して演算処理を行う画像処理手段とを有し、前記画像処理手段において、以下の[a]〜[c]の処理を行うことを特徴とするカラーフィルタ検査装置。
[a]前記画像データ中の注目画素に対して繰り返しパターンの持つパターンピッチの距離をDとし、注目画素からD*n(nは1以外の任意の数)の距離だけ離れた点に比較画素Aと注目画素からDだけ離れた点に比較画素Bの2つの比較画素を設定する。
[b]前記注目画素と前記比較画素Aの持つ輝度データを用いて、画素間の輝度差を算出し、前記注目画素をBM画素もしくはRGB画素と判定する。
[c]前記注目画素及び前期比較画素Bの持つ輝度データを用いて、画素間の輝度差を算出し、前記注目画素の良否を判定する。 - 前記[c]の処理において、前記BM画素及び前記RGB画素の良否判定基準を個別に設定することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008246096A JP2010078417A (ja) | 2008-09-25 | 2008-09-25 | カラーフィルタ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008246096A JP2010078417A (ja) | 2008-09-25 | 2008-09-25 | カラーフィルタ検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=42209045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008246096A Pending JP2010078417A (ja) | 2008-09-25 | 2008-09-25 | カラーフィルタ検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2010078417A (ja) |
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2008
- 2008-09-25 JP JP2008246096A patent/JP2010078417A/ja active Pending
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