JP2010076875A - Film peeling device and film peeling method - Google Patents

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Takao Asakura
孝郎 浅倉
Nobuo Matsuda
伸生 松田
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和芳 末原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently perform a film peeling treatment by favorably and orderly stacking the film peeled off a substrate by a simple step and configuration. <P>SOLUTION: This support body peeling device 130 includes: a substrate holding mechanism 132 for forcibly holding a pasted substrate 24a in a flat shape; a film grasping mechanism 134 for grasping both ends of the base film 26 projecting to the outside of a glass substrate 24; a moving mechanism 136 for peeling the base film 26 from the pasted substrate 24a by moving the film grasping mechanism 134 from a film peeling station PS to a film disposing station DS; and a controller 137 for drivingly controlling the moving mechanism 136 and moving the film grasping mechanism 134 downward while the base film 26 is transferred to the film disposing station DS. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板にフイルムが貼り付けられた貼り付け基板から、前記フイルムを剥離するフイルム剥離装置及び方法に関する。   The present invention relates to a film peeling apparatus and method for peeling off a film from an attached substrate having a film attached to the substrate.

例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、PDPパネル用基板は、感光材料(感光性樹脂)層を有する感光性シート体(感光性ウエブ)を基板表面に貼り付けて構成されている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光材料層と保護フイルムとが、順次、積層されている。   For example, a liquid crystal panel substrate, a printed wiring substrate, and a PDP panel substrate are configured by attaching a photosensitive sheet (photosensitive web) having a photosensitive material (photosensitive resin) layer to the substrate surface. In the photosensitive sheet body, a photosensitive material layer and a protective film are sequentially laminated on a flexible plastic support.

この種の感光性シート体は、保護フイルムが部分的又は全面的に剥離された後、感光材料層がガラス基板や樹脂基板等の基板に貼り付けられている。次いで、支持体が基板から剥離されることにより、感光材料層が貼り付けられた貼り付け基板が得られている。   In this type of photosensitive sheet body, after the protective film is partially or completely peeled off, the photosensitive material layer is attached to a substrate such as a glass substrate or a resin substrate. Next, the support is peeled from the substrate, whereby an attached substrate on which the photosensitive material layer is attached is obtained.

例えば、特許文献1に開示されているフイルムの剥離方法及び剥離装置では、図21に示すように、ガラス基板1を吸着して移動する基板吸着ハンド2と、前記ガラス基板1に貼り付けられているフイルムF(外層体)を挟持して剥離する第1クランパ3と、前記第1クランパ3を、図21中、左右に移動させるシリンダ4と、このシリンダ4を前後方向に移動させる水平ガイド5a、及び上下方向に移動させる垂直ガイド5bと、剥離した前記フイルムFを挟持する第2クランパ6と、前記剥離された前記フイルムFを水平方向に押し広げるフイルムプッシャ7とを備えている。   For example, in the film peeling method and peeling apparatus disclosed in Patent Document 1, as shown in FIG. 21, a substrate suction hand 2 that sucks and moves the glass substrate 1 and is attached to the glass substrate 1. 21, a cylinder 4 that moves the first clamper 3 to the left and right in FIG. 21, and a horizontal guide 5a that moves the cylinder 4 in the front-rear direction. And a vertical guide 5b that moves in the vertical direction, a second clamper 6 that sandwiches the peeled film F, and a film pusher 7 that pushes the peeled film F in a horizontal direction.

そこで、先ず、基板吸着ハンド2が、図21中、二点鎖線で示す水平姿勢に配置されてガラス基板1が載せられると、この基板吸着ハンド2は、前記ガラス基板1を吸着して起立する。   Therefore, first, when the substrate suction hand 2 is arranged in a horizontal posture indicated by a two-dot chain line in FIG. 21 and the glass substrate 1 is placed, the substrate suction hand 2 stands by sucking the glass substrate 1. .

次いで、第1クランパ3は、ガラス基板1から外部に突出するフイルムFの一部を把持し、前記第1クランパ3がシリンダ4を介して任意の方向に移動する。このため、フイルムFは、ガラス基板1のコーナ部から剥離される。   Next, the first clamper 3 grips a part of the film F protruding outside from the glass substrate 1, and the first clamper 3 moves in an arbitrary direction via the cylinder 4. For this reason, the film F is peeled off from the corner portion of the glass substrate 1.

さらに、第1クランパ3は、水平ガイド5a及び垂直ガイド5bの案内作用下に矢印方向に移動して、ガラス基板1からフイルムFを剥離した後、このフイルムFが第2クランパ6に受け渡される。その際、剥離されたフイルムFは、フイルムプッシャ7を介して水平方向に押し広げられ、各フイルムFが重ね合わされて容器8内に収容される。   Further, the first clamper 3 moves in the direction of the arrow under the guiding action of the horizontal guide 5a and the vertical guide 5b, peels off the film F from the glass substrate 1, and then the film F is delivered to the second clamper 6. . At that time, the peeled film F is spread in the horizontal direction via the film pusher 7, and the films F are overlapped and accommodated in the container 8.

特開2002−234667号公報JP 2002-234667 A

上記の剥離装置では、剥離されたフイルムFは、フイルムプッシャ7を介して水平方向に押し広げられた後、容器8内に、順次、重ね合わされて収容されている。しかしながら、フイルムFは、第2クランパ6の開放作用下に、比較的高所から容器8内に落下されている。このため、容器8内では、各フイルムFを平坦状に且つ整然と積層させることができないという問題がある。   In the peeling apparatus, the peeled film F is spread in the horizontal direction via the film pusher 7 and is then sequentially stacked and accommodated in the container 8. However, the film F is dropped into the container 8 from a relatively high place under the opening action of the second clamper 6. For this reason, in the container 8, there exists a problem that each film F cannot be laminated | stacked flatly and orderly.

これにより、容器8内にフイルムFを良好に収容することができず、前記フイルムFの廃棄作業が繁雑化するとともに、効率的なフイルム剥離処理が遂行されないという問題がある。   As a result, the film F cannot be satisfactorily accommodated in the container 8, and there is a problem that the disposal operation of the film F becomes complicated and an efficient film peeling process is not performed.

本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な工程及び構成で、貼り付け基板から剥離されたフイルムを良好且つ整然と集積することができ、フイルム剥離処理を効率的に行うことが可能なフイルム剥離装置及び方法を提供することを目的とする。   The present invention solves this type of problem, and with a simple process and configuration, the film peeled off from the attached substrate can be integrated well and orderly, and the film peeling process can be performed efficiently. An object of the present invention is to provide a film peeling apparatus and method.

本発明は、基板にフイルムが貼り付けられた貼り付け基板から、前記フイルムを剥離するフイルム剥離装置に関するものである。   The present invention relates to a film peeling apparatus for peeling off a film from an attached substrate having a film attached to the substrate.

このフイルム剥離装置は、フイルム剥離ステーションに配置された貼り付け基板を位置決め保持する基板保持機構と、前記フイルムの端部を把持するフイルム把持機構と、前記フイルム把持機構を前記フイルム剥離ステーションからフイルム廃棄ステーションに移動させることにより、前記基板保持機構に保持された前記貼り付け基板から前記フイルムを剥離させて前記フイルム廃棄ステーションに廃棄する移動機構と、前記移動機構を駆動制御するとともに、前記フイルムが前記フイルム廃棄ステーションに移送される途上で、前記フイルム把持機構を下降動作させる制御機構とを備えている。   The film peeling apparatus includes a substrate holding mechanism for positioning and holding a bonded substrate disposed at the film peeling station, a film holding mechanism for holding an end portion of the film, and the film holding mechanism from the film peeling station. A moving mechanism for separating the film from the pasted substrate held by the substrate holding mechanism and discarding the film to the film disposal station, and driving and controlling the moving mechanism. A control mechanism for lowering the film gripping mechanism in the course of being transferred to the film disposal station.

また、このフイルム剥離装置は、フイルム剥離ステーションからフイルム廃棄ステーションまでのフイルム移送途上に配置され、貼り付け基板から剥離されたフイルムを案内するニップローラを備えることが好ましい。   Moreover, this film peeling apparatus is preferably provided with a nip roller that is arranged in the course of film transfer from the film peeling station to the film disposal station and guides the film peeled off from the attached substrate.

さらに、フイルム廃棄ステーションには、フイルムを集積するフイルム集積台車と、前記フイルム集積台車を着脱自在に保持するとともに、前記フイルム集積台車を昇降させる昇降機構とが設けられることが好ましい。   Further, it is preferable that the film disposal station is provided with a film collecting carriage for collecting films, and an elevating mechanism for detachably holding the film collecting carriage and raising and lowering the film collecting carriage.

さらにまた、フイルム集積台車は、フイルムを集積するフイルム集積面に回転自在な複数のローラを設けるとともに、前記フイルム集積面を周回する枠板の少なくとも一部は、開閉自在に構成されることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the film stacking carriage is provided with a plurality of rotatable rollers on the film stacking surface for stacking the film, and at least a part of the frame plate that goes around the film stacking surface is configured to be openable and closable. .

また、基板保持機構は、基板のフイルム貼り付け面とは反対の面を吸着することにより、前記貼り付け基板を平坦状に吸着保持する吸着部を備えることが好ましい。   The substrate holding mechanism preferably includes a suction portion that sucks and holds the attached substrate in a flat shape by sucking a surface of the substrate opposite to the film attachment surface.

さらに、本発明は、基板にフイルムが貼り付けられた貼り付け基板から、前記フイルムを剥離するフイルム剥離方法に関するものである。   Furthermore, this invention relates to the film peeling method which peels the said film from the adhesion board | substrate with which the film was affixed on the board | substrate.

このフイルム剥離方法は、フイルム剥離ステーションに配置された貼り付け基板を位置決め保持する工程と、フイルムの端部をフイルム把持機構により把持する工程と、前記フイルム把持機構を前記フイルム剥離ステーションからフイルム廃棄ステーションに移動させることにより、前記貼り付け基板から前記フイルムを剥離させて前記フイルム廃棄ステーションに廃棄する工程とを有し、前記フイルムが前記フイルム廃棄ステーションに移送される途上で、前記フイルム把持機構を下降動作させている。   The film peeling method includes a step of positioning and holding an adhesive substrate disposed at a film peeling station, a step of gripping an end of the film by a film gripping mechanism, and a step of removing the film gripping mechanism from the film peeling station. And moving the film to the film disposal station and peeling the film to the film disposal station, and lowering the film gripping mechanism while the film is being transferred to the film disposal station. It is operating.

さらにまた、このフイルム剥離方法は、フイルム剥離ステーションからフイルム廃棄ステーションまでのフイルム移送途上に配置されたニップローラにより、貼り付け基板から剥離されたフイルムを案内することが好ましい。   Furthermore, in this film peeling method, it is preferable that the film peeled off from the attached substrate is guided by a nip roller disposed in the course of transferring the film from the film peeling station to the film disposal station.

また、このフイルム剥離方法は、フイルム廃棄ステーションに着脱自在に保持されるフイルム集積台車に、フイルムを集積するとともに、前記フイルムの集積高さに応じて前記フイルム集積台車を下降させる工程を有することが好ましい。   The film peeling method may further include a step of stacking the film on a film stacking carriage that is detachably held at the film disposal station, and lowering the film stacking carriage according to the stacking height of the film. preferable.

さらに、フイルム剥離ステーションでは、基板のフイルム貼り付け面とは反対の面を吸着することにより、貼り付け基板を平坦状に吸着保持することが好ましい。   Further, in the film peeling station, it is preferable to suck and hold the attached substrate in a flat state by sucking the surface opposite to the film attaching surface of the substrate.

本発明では、フイルム把持機構によりフイルムの端部が把持された状態で、前記フイルム把持機構がフイルム剥離ステーションからフイルム廃棄ステーションに移動されることにより、前記フイルムが貼り付け基板から剥離される。   In the present invention, the film is peeled from the attached substrate by moving the film gripping mechanism from the film stripping station to the film discarding station in a state where the end of the film is gripped by the film gripping mechanism.

その際、フイルムがフイルム廃棄ステーションに移送される途上で、フイルム把持機構が下降動作されるため、このフイルム把持機構に把持されている前記フイルムは、移送高さが低くなる。従って、フイルム把持機構に把持されているフイルムは、フイルム廃棄ステーションのフイルム集積面に近接し且つ前記フイルム集積面に沿って移送される。   At that time, since the film gripping mechanism is lowered while the film is being transferred to the film disposal station, the film gripped by the film gripping mechanism has a low transfer height. Accordingly, the film gripped by the film gripping mechanism is transported along and close to the film stacking surface of the film disposal station.

これにより、フイルム把持機構によるフイルム把持作用が解除されると、フイルムは、フイルム廃棄ステーションのフイルム集積面に良好且つ整然と集積される。このため、フイルム剥離処理を効率的に行うことが可能になる。   As a result, when the film gripping action by the film gripping mechanism is released, the film is stacked well and orderly on the film stacking surface of the film disposal station. For this reason, it becomes possible to perform a film peeling process efficiently.

図1は、本発明の実施形態に係るフイルム剥離装置が組み込まれる製造装置20の概略構成図である。この製造装置20は、液晶又は有機EL用カラーフィルタ等の製作工程で、長尺状感光性ウエブ(長尺状ウエブ)22の感光性樹脂層29(後述する)をガラス基板24に熱転写する作業を行う。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a manufacturing apparatus 20 in which a film peeling apparatus according to an embodiment of the present invention is incorporated. The manufacturing apparatus 20 is a process of thermally transferring a photosensitive resin layer 29 (described later) of a long photosensitive web (long web) 22 to a glass substrate 24 in a manufacturing process of a liquid crystal or an organic EL color filter or the like. I do.

図2は、製造装置20に使用される感光性ウエブ22の断面図である。この感光性ウエブ22は、可撓性ベースフイルム(フイルム)26、クッション層(熱可塑性樹脂層)27、中間層(酸素遮断膜)28、感光性樹脂層29及び保護フイルム30を積層して構成される。なお、感光性ウエブ22は、ベースフイルム26、感光性樹脂層29及び保護フイルム30により構成されていてもよい。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the photosensitive web 22 used in the manufacturing apparatus 20. The photosensitive web 22 is formed by laminating a flexible base film (film) 26, a cushion layer (thermoplastic resin layer) 27, an intermediate layer (oxygen barrier film) 28, a photosensitive resin layer 29, and a protective film 30. Is done. The photosensitive web 22 may be composed of a base film 26, a photosensitive resin layer 29, and a protective film 30.

ベースフイルム26は、ポリエチレンテレフタレート(PET)で形成され、クッション層27は、エチレンと酸化ビニル共重合体で形成され、中間層28は、ポリビニルアルコールで形成され、感光性樹脂層29は、アルカリ可溶性バインダとモノマーと光重合開始材と着色剤を含む着色感光性樹脂組成物で形成され、保護フイルム30は、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等で形成される。   The base film 26 is formed of polyethylene terephthalate (PET), the cushion layer 27 is formed of ethylene and vinyl oxide copolymer, the intermediate layer 28 is formed of polyvinyl alcohol, and the photosensitive resin layer 29 is alkali-soluble. The protective film 30 is formed of polyethylene, polypropylene, or the like, and is formed of a colored photosensitive resin composition containing a binder, a monomer, a photopolymerization initiator, and a colorant.

図1に示すように、製造装置20は、感光性ウエブ22をロール状に巻回した感光性ウエブロール22aを収容し、この感光性ウエブロール22aから前記感光性ウエブ22を送り出すウエブ送り出し機構32と、送り出された前記感光性ウエブ22の保護フイルム30に、幅方向に切断可能なハーフカット部位34を形成するハーフカット機構36と、一部に非接着部38aを有する接着ラベル38(図3参照)を保護フイルム30に接着させるラベル接着機構40とを備える。   As shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus 20 accommodates a photosensitive web roll 22a in which a photosensitive web 22 is wound in a roll shape, and a web feed mechanism 32 that feeds the photosensitive web 22 from the photosensitive web roll 22a. And a half-cut mechanism 36 for forming a half-cut portion 34 that can be cut in the width direction on the protective film 30 of the fed photosensitive web 22, and an adhesive label 38 having a non-adhesive portion 38a in part (FIG. 3). And a label adhering mechanism 40 for adhering the protective film 30 to the protective film 30.

ラベル接着機構40の下流には、感光性ウエブ22をタクト送りから略連続送りに変更するためのリザーバ機構42と、前記感光性ウエブ22から保護フイルム30を所定の長さ間隔で剥離させる保護フイルム剥離機構44と、ガラス基板24を所定の温度に加熱した状態で貼り付け位置に搬送する加熱機構45と、前記保護フイルム30の剥離により露出した感光性樹脂層29を前記ガラス基板24に貼り付ける貼り付け機構46とが配設される。なお、貼り付け機構46によりガラス基板24に感光性ウエブ22が貼り付けられた積層体を、以下、貼り付け基板24aという。   Downstream of the label adhering mechanism 40, a reservoir mechanism 42 for changing the photosensitive web 22 from tact feeding to substantially continuous feeding, and a protective film for peeling the protective film 30 from the photosensitive web 22 at a predetermined length interval. A peeling mechanism 44, a heating mechanism 45 that transports the glass substrate 24 to a pasting position in a state where the glass substrate 24 is heated to a predetermined temperature, and a photosensitive resin layer 29 exposed by the peeling of the protective film 30 are pasted to the glass substrate 24. An affixing mechanism 46 is provided. The laminated body in which the photosensitive web 22 is bonded to the glass substrate 24 by the bonding mechanism 46 is hereinafter referred to as a bonded substrate 24a.

貼り付け機構46における貼り付け位置の上流近傍には、感光性ウエブ22の境界位置であるハーフカット部位34を直接検出する検出機構47が配設されるとともに、前記貼り付け機構46の下流には、各ガラス基板24間の前記感光性ウエブ22を切断する基板間ウエブ切断機構48が配設される。この基板間ウエブ切断機構48の上流には、運転開始時及び運転終了時に使用されるウエブ切断機構48aが設けられる。   A detection mechanism 47 that directly detects a half-cut portion 34 that is a boundary position of the photosensitive web 22 is disposed in the vicinity of the pasting position in the pasting mechanism 46, and downstream of the pasting mechanism 46. An inter-substrate web cutting mechanism 48 for cutting the photosensitive web 22 between the glass substrates 24 is disposed. Upstream of the inter-substrate web cutting mechanism 48, a web cutting mechanism 48a used at the start of operation and at the end of operation is provided.

ウエブ送り出し機構32の下流近傍には、略使用済みの感光性ウエブ22の後端と、新たに使用される感光性ウエブ22の先端とを接合させる接合台49が配設される。この接合台49の下流には、感光性ウエブロール22aの巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端位置検出器51が配設される。   In the vicinity of the downstream side of the web feed mechanism 32, a joining base 49 for joining the rear end of the photosensitive web 22 that has been substantially used and the tip of the photosensitive web 22 that is newly used is disposed. A film end position detector 51 is disposed downstream of the joining base 49 in order to control the deviation in the width direction due to the winding deviation of the photosensitive web roll 22a.

ハーフカット機構36は、ウエブ送り出し機構32に収容巻回されている感光性ウエブロール22aのロール径を算出するためのローラ対50の下流に配置される。ハーフカット機構36は、感光性ウエブ22の搬送方向(矢印A方向)に直交する方向に進退自在なスライド台52を備える。このスライド台52には、回転丸刃(カッタ)54が固着されるとともに、前記回転丸刃54に対向する位置には、感光性ウエブ22を挟んでカット受台56が配設される。   The half-cut mechanism 36 is disposed downstream of the roller pair 50 for calculating the roll diameter of the photosensitive web roll 22a accommodated and wound in the web feed mechanism 32. The half-cut mechanism 36 includes a slide base 52 that can be moved back and forth in a direction orthogonal to the conveyance direction (arrow A direction) of the photosensitive web 22. A rotating round blade (cutter) 54 is fixed to the slide base 52, and a cut receiving base 56 is disposed at a position facing the rotating round blade 54 with the photosensitive web 22 interposed therebetween.

図2に示すように、ハーフカット部位34は、少なくとも保護フイルム30を切断する必要があり、実際上、この保護フイルム30を確実に切断するために感光性樹脂層29乃至中間層28まで切り込むように、回転丸刃54の切り込み深さが設定される。   As shown in FIG. 2, the half-cut portion 34 needs to cut at least the protective film 30, and in practice, the photosensitive resin layer 29 to the intermediate layer 28 are cut to securely cut the protective film 30. In addition, the cutting depth of the rotating round blade 54 is set.

ハーフカット部位34は、ガラス基板24の間隔を設定するものであり、例えば、両側の前記ガラス基板24にそれぞれ10mmずつ入り込んだ位置に設定される。ガラス基板24間のハーフカット部位34で挟まれた部分は、後述する貼り付け機構46において感光性樹脂層29を前記ガラス基板24に額縁状に貼り付ける際のマスクとして機能するものである。   The half-cut part 34 sets the space | interval of the glass substrate 24, for example, is set in the position which respectively entered 10 mm each to the said glass substrate 24 of both sides. A portion sandwiched between the half cut portions 34 between the glass substrates 24 functions as a mask when the photosensitive resin layer 29 is attached to the glass substrate 24 in a frame shape in an attaching mechanism 46 described later.

ラベル接着機構40は、ガラス基板24間に対応して保護フイルム30の残存部分30bを残すため、剥離側前方の剥離部分30aaと剥離側後方の剥離部分30abとを連結する接着ラベル38を供給する。図2に示すように、保護フイルム30は、残存部分30bを挟んで、先に剥離される部分を前方の剥離部分30aaとする一方、後に剥離される部分を後方の剥離部分30abとする。   The label bonding mechanism 40 supplies an adhesive label 38 that connects the peeling portion 30aa on the front side of the peeling side and the peeling portion 30ab on the back side of the peeling side in order to leave the remaining portion 30b of the protective film 30 correspondingly between the glass substrates 24. . As shown in FIG. 2, the protective film 30 has a remaining portion 30 b sandwiched between the first peeled portion 30 aa and the later peeled portion 30 ab.

図3に示すように、接着ラベル38は、短冊状に構成されており、例えば、保護フイルム30と同一の樹脂材で形成される。接着ラベル38は、中央部に粘着剤が塗布されない非接着部(微粘着を含む)38aを有するとともに、この非接着部38aの両側、すなわち、前記接着ラベル38の長手方向両端部に、前方の剥離部分30aaに接着される第1接着部38bと、後方の剥離部分30abに接着される第2接着部38cとを有する。   As shown in FIG. 3, the adhesive label 38 is formed in a strip shape, and is formed of, for example, the same resin material as the protective film 30. The adhesive label 38 has a non-adhesive portion (including a slight adhesion) 38a to which a pressure-sensitive adhesive is not applied at the center, and the front side of the non-adhesive portion 38a, that is, both ends in the longitudinal direction of the adhesive label 38 It has the 1st adhesion part 38b adhered to exfoliation part 30aa, and the 2nd adhesion part 38c adhered to back exfoliation part 30ab.

図1に示すように、ラベル接着機構40は、最大7枚の接着ラベル38を所定間隔ずつ離間して貼り付け可能な吸着パッド58a〜58gを備えるとともに、前記吸着パッド58a〜58gによる前記接着ラベル38の貼り付け位置には、感光性ウエブ22を下方から保持するための受台59が昇降自在に配置される。   As shown in FIG. 1, the label adhering mechanism 40 includes adsorbing pads 58a to 58g to which a maximum of seven adhering labels 38 can be attached at predetermined intervals, and the adhering labels by the adsorbing pads 58a to 58g. At the attachment position 38, a pedestal 59 for holding the photosensitive web 22 from below is disposed so as to be movable up and down.

リザーバ機構42は、上流側の感光性ウエブ22のタクト搬送と、下流側の前記感光性ウエブ22の連続搬送との速度差を吸収するが、さらにテンション変動を防ぐために、揺動自在な2連のローラ60で構成されるダンサー61を備えることが好ましい。   The reservoir mechanism 42 absorbs the difference in speed between the tact conveyance of the upstream photosensitive web 22 and the continuous conveyance of the downstream photosensitive web 22, but in order to further prevent fluctuations in tension, the reservoir mechanism 42 is a oscillating duplex unit. It is preferable to provide a dancer 61 composed of the roller 60.

保護フイルム剥離機構44は、リザーバ機構42の下流に配置されるとともに、サクションドラム62と、感光性ウエブ22を挟んでこのサクションドラム62に接する剥離ローラ64とを備える。剥離ローラ64を介して感光性ウエブ22から鋭角の剥離角で剥離される保護フイルム30は、残存部分30bを除いて保護フイルム巻き取り軸66に巻き取られる。保護フイルム巻き取り軸66は、保護フイルム30に所定のテンションを付与するために、例えば、トルクモータ68に連結される。   The protective film peeling mechanism 44 is disposed downstream of the reservoir mechanism 42, and includes a suction drum 62 and a peeling roller 64 that contacts the suction drum 62 with the photosensitive web 22 interposed therebetween. The protective film 30 that is peeled off from the photosensitive web 22 at an acute peeling angle via the peeling roller 64 is wound around the protective film winding shaft 66 except for the remaining portion 30b. The protective film take-up shaft 66 is connected to, for example, a torque motor 68 in order to apply a predetermined tension to the protective film 30.

保護フイルム剥離機構44の下流側には、感光性ウエブ22にテンションを付与可能なテンション制御機構76が配設される。テンション制御機構76は、シリンダ78を備え、このシリンダ78の駆動作用下に、テンションピックアップローラ80が揺動変位することにより、このテンションピックアップローラ80が摺接する感光性ウエブ22のテンションが調整可能である。なお、テンション制御機構76は、必要に応じて使用すればよく、削除することもできる。   A tension control mechanism 76 that can apply tension to the photosensitive web 22 is disposed on the downstream side of the protective film peeling mechanism 44. The tension control mechanism 76 includes a cylinder 78, and the tension of the photosensitive web 22 with which the tension pickup roller 80 is slidably contacted can be adjusted by oscillating and displacing the tension pickup roller 80 under the driving action of the cylinder 78. is there. The tension control mechanism 76 may be used as necessary, and can be deleted.

検出機構47は、レーザセンサやフォトセンサ等の光電センサ82を備えており、前記光電センサ82は、ハーフカット部位34の楔状の溝形状部や、保護フイルム30の厚さによる段差、あるいは、これらの組み合わせによる変化を直接検出し、この検出信号を境界位置信号とする。光電センサ82は、バックアップローラ83に対向して配置される。   The detection mechanism 47 includes a photoelectric sensor 82 such as a laser sensor or a photosensor. The photoelectric sensor 82 is a wedge-shaped groove-shaped portion of the half-cut portion 34, a step due to the thickness of the protective film 30, or these A change due to the combination is directly detected, and this detection signal is used as a boundary position signal. The photoelectric sensor 82 is disposed to face the backup roller 83.

加熱機構45は、ガラス基板24を矢印C方向に搬送するための搬送機構84と複数の加熱炉86とを備え、この搬送機構84は、矢印C方向に配列される複数の樹脂製円板状搬送ローラ88を有する。   The heating mechanism 45 includes a transport mechanism 84 for transporting the glass substrate 24 in the direction of arrow C and a plurality of heating furnaces 86, and the transport mechanism 84 has a plurality of resin disk shapes arranged in the direction of arrow C. A conveyance roller 88 is included.

貼り付け機構46は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるラミネート用ゴムローラ110a、110bを備える。ゴムローラ110a、110bには、バックアップローラ112a、112bが摺接するとともに、前記バックアップローラ112bは、ローラクランプ部114を介してゴムローラ110b側に押圧される。   The affixing mechanism 46 is provided with rubber rollers 110a and 110b for laminating that are arranged vertically and heated to a predetermined temperature. The backup rollers 112a and 112b are slidably contacted with the rubber rollers 110a and 110b, and the backup roller 112b is pressed toward the rubber roller 110b via the roller clamp portion 114.

ゴムローラ110aの近傍には、感光性ウエブ22が前記ゴムローラ110aに接触することを防止するための接触防止ローラ116が配設される。この接触防止ローラ116は、図示しないアクチュエータを介して移動可能である。   In the vicinity of the rubber roller 110a, a contact prevention roller 116 for preventing the photosensitive web 22 from contacting the rubber roller 110a is disposed. The contact prevention roller 116 is movable via an actuator (not shown).

貼り付け機構46と基板間ウエブ切断機構48との間には、フイルム搬送ローラ118aと基板搬送ローラ118bとが配設される。基板間ウエブ切断機構48の下流側には、複数のローラ120aが配列される搬送系120が設けられる。搬送系120の矢印C方向(下流側)の端部には、図4に示すように、貼り付け基板24aの搬送方向を矢印C方向から矢印B方向に変換する方向変換コンベア122が設けられる。   A film transport roller 118a and a substrate transport roller 118b are disposed between the attaching mechanism 46 and the inter-substrate web cutting mechanism 48. A transport system 120 in which a plurality of rollers 120 a are arranged is provided on the downstream side of the inter-substrate web cutting mechanism 48. At the end of the conveyance system 120 in the arrow C direction (downstream side), as shown in FIG. 4, a direction changing conveyor 122 that converts the conveyance direction of the attached substrate 24a from the arrow C direction to the arrow B direction is provided.

方向変換コンベア122の下流には、移送ロボット124が配設されるとともに、この移送ロボット124は、貼り付け基板24aを前記方向変換コンベア122から搬送系126に移送する。搬送系126は、複数のローラ126aを備え、貼り付け基板24aを矢印C方向に搬送する。   A transfer robot 124 is disposed downstream of the direction change conveyor 122, and the transfer robot 124 transfers the pasting substrate 24 a from the direction change conveyor 122 to the transfer system 126. The transport system 126 includes a plurality of rollers 126a, and transports the adhered substrate 24a in the direction of arrow C.

搬送系126の上流には、冷却機構128が配置される。冷却機構128は、貼り付け基板24aに冷風を供給して冷却処理を施す。具体的には、風速が1.0〜2.0m/minに設定されるとともに、この冷却機構128の下流側には、フイルム剥離ステーションPSに対応して本実施形態に係る支持体剥離装置(フイルム剥離装置)130が配置される。   A cooling mechanism 128 is disposed upstream of the transport system 126. The cooling mechanism 128 supplies cooling air to the pasting substrate 24a to perform a cooling process. Specifically, the wind speed is set to 1.0 to 2.0 m / min, and on the downstream side of the cooling mechanism 128, the support peeling device according to the present embodiment (corresponding to the film peeling station PS ( A film peeling device 130 is disposed.

支持体剥離装置130は、図5及び図6に示すように、貼り付け基板24aを平坦状に強制的に保持する基板保持機構132と、前記貼り付け基板24aを構成するガラス基板24の搬送方向両端から外部に突出するベースフイルム26の両端部を把持するフイルム把持機構134と、前記フイルム把持機構134をフイルム剥離ステーションPSからフイルム廃棄ステーションDSに移動させることにより(矢印D方向)、前記ベースフイルム26を前記貼り付け基板24aから剥離させる移動機構136と、前記移動機構136を駆動制御するとともに、前記ベースフイルム26が前記フイルム廃棄ステーションDSに移送される途上で、前記フイルム把持機構134を下降動作させるコントローラ(制御機構)137とを備える。   As shown in FIGS. 5 and 6, the support peeling device 130 includes a substrate holding mechanism 132 for forcibly holding the bonded substrate 24a in a flat shape, and a conveyance direction of the glass substrate 24 constituting the bonded substrate 24a. A film gripping mechanism 134 that grips both ends of the base film 26 protruding outward from both ends, and the base film by moving the film gripping mechanism 134 from the film peeling station PS to the film disposal station DS (in the direction of arrow D). The moving mechanism 136 that peels the film 26 from the pasting substrate 24a, and the driving mechanism of the moving mechanism 136 are controlled, and the film gripping mechanism 134 is moved downward while the base film 26 is transferred to the film disposal station DS. A controller (control mechanism) 137.

図7〜図9に示すように、基板保持機構132は、ガラス基板24のベースフイルム貼り付け面と反対の面の四隅を吸着する第1吸着部138と、前記ガラス基板24のベースフイルム剥離方向(矢印D方向)の両端部を吸着する第2吸着部140と、前記ガラス基板24の中央部側を吸着する第3吸着部142とを備える。   As shown in FIGS. 7 to 9, the substrate holding mechanism 132 includes a first suction portion 138 that sucks four corners of the surface opposite to the base film attaching surface of the glass substrate 24, and the base film peeling direction of the glass substrate 24. A second suction part 140 that sucks both ends in the direction of arrow D and a third suction part 142 that sucks the central part of the glass substrate 24 are provided.

第1吸着部138は、ガラス基板24の四隅に、より好ましくは、ベースフイルム26(感光性ウエブ22)の貼り付け領域外に配置される吸着パッド144aを備える。各吸着パッド144aは、シリンダ(アクチュエータ)146を介して、個別に矢印E方向に進退(昇降)自在である。   The first suction unit 138 includes suction pads 144a arranged at the four corners of the glass substrate 24, more preferably outside the attachment region of the base film 26 (photosensitive web 22). Each suction pad 144a is individually movable in the direction of arrow E via a cylinder (actuator) 146.

各吸着パッド144aは、例えば、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)等の樹脂材又はゴム材等で形成されるとともに、吸引用孔部148を有し、前記吸引用孔部148は、図示しない真空吸引系に連通する。なお、以下に説明する各吸着パッドにおいても、同様である。   Each suction pad 144a is formed of, for example, a resin material such as PEEK (polyetheretherketone) or a rubber material, and has a suction hole 148. The suction hole 148 is a vacuum suction (not shown). Communicate with the system. The same applies to each suction pad described below.

図8及び図9に示すように、第2吸着部140は、ガラス基板24の矢印D方向両端に、より好ましくは、ベースフイルム26の貼り付け領域外に位置して、それぞれ4個ずつ配置される吸着パッド144bを備える。第3吸着部142は、ガラス基板24のベースフイルム26の貼り付け領域内に配置される複数の吸着パッド144cを備える。   As shown in FIGS. 8 and 9, four second suction portions 140 are arranged at both ends of the glass substrate 24 in the direction of the arrow D, more preferably, outside the attachment region of the base film 26. A suction pad 144b. The third suction unit 142 includes a plurality of suction pads 144c arranged in the region where the base film 26 of the glass substrate 24 is attached.

各吸着パッド144b、144cは、単一の昇降台150に取り付けられるとともに、前記昇降台150は、単一のアクチュエータであるシリンダ151を介して、矢印E方向に進退自在である(図9参照)。なお、形状の異なる貼り付け基板24aに対応して第1吸着部138a及び第2吸着部140aを備えてもよい。   Each suction pad 144b, 144c is attached to a single lifting platform 150, and the lifting platform 150 is movable back and forth in the direction of arrow E through a cylinder 151 which is a single actuator (see FIG. 9). . In addition, you may provide the 1st adsorption | suction part 138a and the 2nd adsorption | suction part 140a corresponding to the sticking board | substrate 24a from which a shape differs.

図8及び図9に示すように、基板保持機構132は、搬入された貼り付け基板24aを一旦上昇させる基板リフト機構147と、前記基板リフト機構147により上昇された前記貼り付け基板24aを位置決めする基板位置決め機構149とを備える。   As shown in FIGS. 8 and 9, the substrate holding mechanism 132 positions the substrate lift mechanism 147 that temporarily lifts the loaded bonded substrate 24 a and the bonded substrate 24 a lifted by the substrate lift mechanism 147. A substrate positioning mechanism 149.

基板リフト機構147は、ガラス基板24側に配置される複数の基板受けローラ147aを設けるとともに、前記基板受けローラ147aは、シリンダ(図示せず)等のアクチュエータを介して昇降自在である。   The substrate lift mechanism 147 includes a plurality of substrate receiving rollers 147a arranged on the glass substrate 24 side, and the substrate receiving rollers 147a can be moved up and down via an actuator such as a cylinder (not shown).

基板位置決め機構149は、ガラス基板24の四隅に対応して配置される4つの位置決めローラ149aを設ける。位置決めローラ149aは、図示しない駆動機構の作用下に、ガラス基板24に対して矢印D方向に進退可能であり、2つずつの前記位置決めローラ149aが前記ガラス基板24を挟持して位置決めする。なお、位置決めローラ149aは、形状の異なるガラス基板24に対応して少なくとも2つの位置決め位置を有することが好ましい。   The substrate positioning mechanism 149 is provided with four positioning rollers 149 a arranged corresponding to the four corners of the glass substrate 24. The positioning roller 149a can advance and retreat in the direction of arrow D with respect to the glass substrate 24 under the action of a driving mechanism (not shown), and the positioning rollers 149a each sandwich the glass substrate 24 for positioning. The positioning roller 149a preferably has at least two positioning positions corresponding to the glass substrates 24 having different shapes.

図5及び図6に示すように、移動機構136は、基板保持機構132から後述するフイルム廃棄機構152にわたり矢印D方向に延在して配置される枠部材154を備える。   As shown in FIGS. 5 and 6, the moving mechanism 136 includes a frame member 154 that extends in the arrow D direction from the substrate holding mechanism 132 to a film discard mechanism 152 described later.

枠部材154には、貼り付け基板24aの搬送方向(矢印C方向)に直交する矢印D方向に延在する上部ガイドレール156a、156bが互いに所定の間隔だけ離間して平行に延在する。上部ガイドレール156a、156bの下方には、これらよりも短尺な下部ガイドレール158a、158bが、同様に矢印D方向に延在して互いに平行して設けられる。上部ガイドレール156a、156bには、モータ160a、160bを介して矢印D方向に沿って進退可能な自走式可動部材162a、162bが支持される。   On the frame member 154, upper guide rails 156a and 156b extending in an arrow D direction orthogonal to the conveyance direction (arrow C direction) of the attached substrate 24a extend in parallel with a predetermined distance from each other. Below the upper guide rails 156a and 156b, lower guide rails 158a and 158b that are shorter than these extend in the direction of the arrow D and are provided in parallel to each other. The upper guide rails 156a and 156b support self-propelled movable members 162a and 162b that can advance and retract along the direction of arrow D via the motors 160a and 160b.

可動部材162a、162bは、鉛直方向(矢印E方向)に延在しており、互いに対向する側面には、鉛直方向に延在するガイドレール164a、164bが設けられる。ガイドレール164a、164bには、昇降台166a、166bが支持されるとともに、前記昇降台166a、166bは、モータ168a、168bを介して昇降可能である。   The movable members 162a and 162b extend in the vertical direction (the direction of arrow E), and guide rails 164a and 164b extending in the vertical direction are provided on side surfaces facing each other. Lift rails 166a and 166b are supported on the guide rails 164a and 164b, and the lift rails 166a and 166b can be lifted and lowered via motors 168a and 168b.

昇降台166a、166bの下端部には、フイルム把持機構134を構成するチャック170a、170bが固着される。チャック170a、170bは、貼り付け基板24aのベースフイルム剥離位置において、前記貼り付け基板24aを構成するガラス基板24の搬送方向両端から外部に突出するベースフイルム26の両側部を把持自在な位置に位置調整可能である。   The chucks 170a and 170b constituting the film gripping mechanism 134 are fixed to the lower ends of the lifting platforms 166a and 166b. The chucks 170a and 170b are positioned at positions where the both sides of the base film 26 projecting outward from both ends of the glass substrate 24 constituting the attachment substrate 24a can be gripped at the base film peeling position of the attachment substrate 24a. It can be adjusted.

モータ160a、160b及び168a、168bは、速度又は加速度の制御が可能な種々の回転駆動源が使用される。例えば、サーボモータや直動リニアモータの他、直動ロボット等が採用される。   As the motors 160a, 160b and 168a, 168b, various rotational driving sources capable of controlling speed or acceleration are used. For example, in addition to a servo motor and a linear motion linear motor, a linear motion robot or the like is employed.

下部ガイドレール158a、158bには、スライドベース174a、174bが支持されるとともに、前記スライドベース174a、174bには、ピールローラ176の両端が昇降可能に支持される。スライドベース174a、174bは、可動部材162a、162bと一体的に矢印D方向の所定の位置間を進退可能に構成される。なお、ピールローラ176は、必要に応じて設けられており、不要にすることもできる。   Slide bases 174a and 174b are supported by the lower guide rails 158a and 158b, and both ends of the peel roller 176 are supported by the slide bases 174a and 174b so as to be movable up and down. The slide bases 174a and 174b are configured to be movable back and forth between predetermined positions in the arrow D direction integrally with the movable members 162a and 162b. Note that the peel roller 176 is provided as necessary, and can be omitted.

図6に示すように、フイルム廃棄機構152の近傍には、ニップローラ178が配置される。ニップローラ178は、固定型の下部ローラ178aと、シリンダ180を介して昇降自在な上部ローラ178bとを備える。上部ローラ178bは、好適には、ウレタンゴムで構成される。   As shown in FIG. 6, a nip roller 178 is disposed in the vicinity of the film discard mechanism 152. The nip roller 178 includes a fixed lower roller 178 a and an upper roller 178 b that can be moved up and down via a cylinder 180. The upper roller 178b is preferably made of urethane rubber.

上部ローラ178bが下降した際、この上部ローラ178bと下部ローラ178aとの間には、所定のクリアランス(例えば、1mm〜2mm)が形成される。このクリアランスは、ベースフイルム26の剛性(腰の強さ)や剥離条件(剥離速度、チャック高さ等の軌跡パターン)により変動し、実際に前記ベースフイルム26の剥離実験を行って、前記ベースフイルム26のバタツキを抑制し得る適切な条件を設定することが好ましい。   When the upper roller 178b is lowered, a predetermined clearance (for example, 1 mm to 2 mm) is formed between the upper roller 178b and the lower roller 178a. This clearance varies depending on the rigidity (waist strength) of the base film 26 and the peeling conditions (trajectory pattern such as peeling speed, chuck height, etc.), and the base film 26 is actually peeled and the base film 26 is tested. It is preferable to set an appropriate condition capable of suppressing the 26 flutter.

後述するように、ベースフイルム26は、チャック170a、170bに把持されて貼り付け基板24aを構成するガラス基板24から剥離される際、所定のテンション(張力)が付与される一方、前記ガラス基板24から完全に剥離された直後に、前記テンションが開放される。このため、ベースフイルム26には、材料の特性等によって跳ね返りや復元力等が作用し、前記ベースフイルム26にバタツキが発生し易い。従って、この種のバタツキを抑制し得るように、上部ローラ178bと下部ローラ178aとクリアランスを設定することが好ましい。   As will be described later, when the base film 26 is gripped by the chucks 170a and 170b and peeled from the glass substrate 24 constituting the attachment substrate 24a, a predetermined tension (tension) is applied, while the glass substrate 24 is provided. Immediately after being completely peeled off, the tension is released. For this reason, a rebound or a restoring force acts on the base film 26 depending on the characteristics of the material and the like, and the base film 26 is likely to flutter. Therefore, it is preferable to set the clearance between the upper roller 178b and the lower roller 178a so that this kind of fluttering can be suppressed.

なお、ベースフイルム26がチャック170a、170bから離脱したり、前記ベースフイルム26の落下挙動が不安定になったりすることがなければ、ニップローラ178は、低慣性ローラで且つクリアランスのない構成を採用することもできる。   If the base film 26 is not detached from the chucks 170a and 170b and the dropping behavior of the base film 26 does not become unstable, the nip roller 178 adopts a configuration with a low inertia roller and no clearance. You can also.

図10に示すように、基板保持機構132には、ベースフイルム26を把持する位置を測定するために、前記ベースフイルム26とガラス基板24との搬送方向両角部を撮像する第1撮像機構182a、182bと、貼り付け基板24aの搬送方向先端側の貼り付け位置を計測するための第2撮像機構184a、184bとが配置される。   As shown in FIG. 10, the substrate holding mechanism 132 includes a first imaging mechanism 182 a that images both corners in the transport direction between the base film 26 and the glass substrate 24 in order to measure the position where the base film 26 is gripped. 182b and second imaging mechanisms 184a and 184b for measuring the attaching position of the attaching substrate 24a on the leading end side in the transport direction are arranged.

第1撮像機構182a、182bは、図11に示すように、CCDカメラ186a、186bと、貼り付け基板24aにガラス基板24側から照明光Lを照射するための照明部188a、188bとを備える。照明部188a、188bは、赤色光であり、波長はフイルム被りが惹起しない、例えば、660nm付近に設定される。   As shown in FIG. 11, the first imaging mechanisms 182a and 182b include CCD cameras 186a and 186b, and illumination units 188a and 188b for irradiating the attachment substrate 24a with illumination light L from the glass substrate 24 side. The illumination units 188a and 188b are red light, and the wavelength is set near 660 nm, for example, where film covering does not occur.

なお、第2撮像機構184a、184bは、上記の第1撮像機構182a、182bと同様に構成されており、その詳細な説明は省略する。   Note that the second imaging mechanisms 184a and 184b are configured in the same manner as the first imaging mechanisms 182a and 182b, and a detailed description thereof will be omitted.

図10に示すように、第1撮像機構182aの近傍には、ガラス基板24の搬送方向先端部を検出して減速処理を行うための減速センサ、例えば、反射型光電センサ190a、190bが配置される。反射型光電センサ190bの下流には、ガラス基板24のオーバーランを検出するオーバーラン検出センサ、例えば、反射型光電センサ192が所定の位置に配置される。反射型光電センサ190a、190b及び192は、ガラス基板24の下面から下方に離間して配置される。なお、形状の異なるガラス基板24に対応して、複数組の反射型光電センサ190a、190b及び192を配設してもよい。   As shown in FIG. 10, in the vicinity of the first imaging mechanism 182a, a deceleration sensor, for example, a reflection type photoelectric sensor 190a, 190b, for detecting the front end of the glass substrate 24 in the conveyance direction and performing a deceleration process is arranged. The An overrun detection sensor that detects an overrun of the glass substrate 24, for example, a reflective photoelectric sensor 192, is disposed at a predetermined position downstream of the reflective photoelectric sensor 190b. The reflective photoelectric sensors 190 a, 190 b and 192 are arranged to be spaced downward from the lower surface of the glass substrate 24. A plurality of sets of reflective photoelectric sensors 190a, 190b, and 192 may be provided corresponding to the glass substrates 24 having different shapes.

図12及び図13に示すように、フイルム廃棄機構152には、フイルム集積台車200が着脱自在に設けられる。フイルム集積台車200は、4つの車輪202によって走行自在であるとともに、箱状の集積部204を有する。集積部204には、複数のローラ206が回転自在に配設され、前記ローラ206の外周によりベースフイルム26を集積するフイルム集積面が構成される。   As shown in FIGS. 12 and 13, the film discarding mechanism 152 is detachably provided with a film stacking carriage 200. The film stacking cart 200 is movable by four wheels 202 and has a box-shaped stacking portion 204. A plurality of rollers 206 are rotatably disposed in the stacking unit 204, and a film stacking surface on which the base film 26 is stacked is configured by the outer periphery of the rollers 206.

集積部204を構成する枠板208は、一端部側にヒンジ等により開閉自在な開閉扉210を有する一方、他端側に取手212が設けられる。枠板208の左右両側には、2つずつ支持部214が形成される一方、1つの前記支持部214には、位置決め用孔部214aが設けられる。なお、車輪202には、ストッパ(図示せず)が設けられるとともに、取手212側には、集積部204を開閉扉210が下方になるように傾斜させる簡易型の昇降機(図示せず)を設けることも可能である。   The frame plate 208 constituting the stacking unit 204 has an open / close door 210 that can be opened and closed by a hinge or the like on one end side, and a handle 212 is provided on the other end side. Two support portions 214 are formed on each of the left and right sides of the frame plate 208, while one support portion 214 is provided with positioning holes 214a. The wheel 202 is provided with a stopper (not shown), and a simple elevator (not shown) is provided on the handle 212 side to incline the stacking unit 204 so that the opening / closing door 210 faces downward. It is also possible.

フイルム廃棄機構152の台車セット部には、フイルム集積台車200をセット位置に案内するために左右一対のガイド部材218が設けられるとともに、前記フイルム集積台車200の左右に対応して一対のリフタ220a、220bが配設される。   A pair of left and right guide members 218 are provided at the carriage set portion of the film disposal mechanism 152 to guide the film accumulation carriage 200 to the set position, and a pair of lifters 220a corresponding to the left and right of the film accumulation carriage 200, 220b is disposed.

リフタ220aは、フイルム集積台車200の右側(矢印C方向)の一対の支持部214を支持して前記フイルム集積台車200を昇降自在に保持する一対の昇降ブラケット222aと、前記昇降ブラケット222aを昇降させるモータ224aとを備える。図14に示すように、一方の昇降ブラケット222aには、位置決め用孔部226が設けられ、前記位置決め用孔部226及び位置決め用孔部214aに固定ピン228が一体に挿入されて、フイルム集積台車200の位置決めを行う。一方の昇降ブラケット222aには、固定ピン228を配置するためのピンホルダ229が設けられる。   The lifter 220a supports a pair of support portions 214 on the right side (in the direction of arrow C) of the film stacking carriage 200 and a pair of lifting brackets 222a that holds the film stacking carriage 200 so as to be movable up and down, and lifts and lowers the lifting bracket 222a. And a motor 224a. As shown in FIG. 14, one lifting bracket 222a is provided with a positioning hole 226, and a fixing pin 228 is integrally inserted into the positioning hole 226 and the positioning hole 214a, so that the film integrated carriage 200 positioning is performed. One lifting bracket 222a is provided with a pin holder 229 for disposing a fixing pin 228.

リフタ220bは、フイルム集積台車200の左側の一対の支持部214を支持して前記フイルム集積台車200を昇降自在に保持する一対の昇降ブラケット222bと、前記昇降ブラケット222bを昇降させるモータ224bとを備える。   The lifter 220b includes a pair of elevating brackets 222b that support the pair of support portions 214 on the left side of the film stacking carriage 200 and hold the film stacking carriage 200 so as to be movable up and down, and a motor 224b that moves the lifting bracket 222b up and down. .

図4に示すように、支持体剥離装置130の下流には、ベースフイルム26が剥離されたか否かを検査する検査コンベア230と、前記ベースフイルム26が剥離された積層体基板を次段の工程に排出する排出コンベア232とが、順次、設けられる。   As shown in FIG. 4, an inspection conveyor 230 for inspecting whether or not the base film 26 has been peeled downstream of the support peeling device 130, and a laminated substrate from which the base film 26 has been peeled are provided in the next stage. And a discharge conveyor 232 for discharging to each other.

図1に示すように、製造装置20では、ウエブ送り出し機構32、ハーフカット機構36、ラベル接着機構40、リザーバ機構42、保護フイルム剥離機構44、テンション制御機構76及び検出機構47が、貼り付け機構46の上方に配置されているが、これとは逆に、前記ウエブ送り出し機構32から前記検出機構47を前記貼り付け機構46の下方に配置し、感光性ウエブ22の上下が逆になって感光性樹脂層29がガラス基板24の下側に貼り付けされてもよく、また、前記製造装置20全体を直線上に構成してもよい。   As shown in FIG. 1, in the manufacturing apparatus 20, the web feed mechanism 32, the half cut mechanism 36, the label adhesion mechanism 40, the reservoir mechanism 42, the protective film peeling mechanism 44, the tension control mechanism 76, and the detection mechanism 47 are combined with a pasting mechanism. The detection mechanism 47 is disposed below the attaching mechanism 46 from the web delivery mechanism 32, and the photosensitive web 22 is inverted upside down. The functional resin layer 29 may be affixed to the lower side of the glass substrate 24, and the whole manufacturing apparatus 20 may be configured on a straight line.

製造装置20内は、仕切り壁240を介して第1クリーンルーム242aと第2クリーンルーム242bとに仕切られる。第1クリーンルーム242aには、ウエブ送り出し機構32からテンション制御機構76までが収容されるとともに、第2クリーンルーム242bには、検出機構47以降が収容される。第1クリーンルーム242aと第2クリーンルーム242bとは、貫通部244を介して連通する。   The inside of the manufacturing apparatus 20 is partitioned into a first clean room 242a and a second clean room 242b through a partition wall 240. The first clean room 242a accommodates the web feed mechanism 32 to the tension control mechanism 76, and the second clean room 242b accommodates the detection mechanism 47 and the subsequent elements. The first clean room 242a and the second clean room 242b communicate with each other through the penetrating portion 244.

このように構成される製造装置20の動作について、本実施形態に係るフイルム剥離方法との関連で、以下に説明する。   The operation of the manufacturing apparatus 20 configured as described above will be described below in relation to the film peeling method according to the present embodiment.

先ず、図1に示すように、ウエブ送り出し機構32に取り付けられている感光性ウエブロール22aから感光性ウエブ22が繰り出され、この感光性ウエブ22は、ハーフカット機構36に送られる。   First, as shown in FIG. 1, the photosensitive web 22 is fed out from a photosensitive web roll 22 a attached to the web feed mechanism 32, and the photosensitive web 22 is sent to a half-cut mechanism 36.

ハーフカット機構36では、スライド台52が感光性ウエブ22の幅方向(搬送方向に直交する方向)に移動する。このため、回転丸刃54は、感光性ウエブ22のハーフカット部位34に所望の深さまで切り込んだ状態で、移動しながら回転する。これにより、感光性ウエブ22には、保護フイルム30から所望の深さに切り込んだハーフカット部位34が形成される(図2参照)。   In the half-cut mechanism 36, the slide base 52 moves in the width direction of the photosensitive web 22 (direction orthogonal to the transport direction). For this reason, the rotating round blade 54 rotates while moving in a state where it is cut into the half cut portion 34 of the photosensitive web 22 to a desired depth. As a result, a half-cut portion 34 cut from the protective film 30 to a desired depth is formed in the photosensitive web 22 (see FIG. 2).

ハーフカット処理された感光性ウエブ22は、図1に示すように、保護フイルム30の残存部分30bの寸法に対応して矢印A方向に搬送された後、一旦停止されて回転丸刃54の走行作用下に次なるハーフカット部位34が形成される。このため、感光性ウエブ22には、残存部分30bを挟んで前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとが設けられる(図2参照)。   As shown in FIG. 1, the half-cut photosensitive web 22 is conveyed in the direction of arrow A corresponding to the dimension of the remaining portion 30 b of the protective film 30, and then temporarily stopped to run the rotating round blade 54. The next half-cut portion 34 is formed under the action. For this reason, the photosensitive web 22 is provided with a front peeling portion 30aa and a rear peeling portion 30ab across the remaining portion 30b (see FIG. 2).

さらに、感光性ウエブ22は、ラベル接着機構40に搬送されて、保護フイルム30の所定の貼り付け部位が受台59上に配置される。ラベル接着機構40では、所定枚数の接着ラベル38が吸着パッド58a〜58gにより吸着保持され、各接着ラベル38が保護フイルム30の残存部分30bを跨いで、前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとに一体的に接着される(図3参照)。   Further, the photosensitive web 22 is conveyed to the label adhering mechanism 40, and a predetermined application portion of the protective film 30 is disposed on the receiving table 59. In the label adhering mechanism 40, a predetermined number of adhesive labels 38 are adsorbed and held by the adsorbing pads 58a to 58g, and each adhering label 38 straddles the remaining portion 30b of the protective film 30, and the front peeling portion 30aa and the rear peeling portion 30ab. Are integrally bonded to each other (see FIG. 3).

例えば、7本の接着ラベル38が接着された感光性ウエブ22は、図1に示すように、リザーバ機構42を介して送り出し側のテンション変動を防いだ後、保護フイルム剥離機構44に連続的に搬送される。   For example, as shown in FIG. 1, the photosensitive web 22 to which the seven adhesive labels 38 are bonded prevents the fluctuation on the feeding side via the reservoir mechanism 42, and then continues to the protective film peeling mechanism 44. Be transported.

保護フイルム剥離機構44では、感光性ウエブ22がサクションドラム62と剥離ローラ64とに挟持されて、前記感光性ウエブ22のベースフイルム26が前記サクションドラム62に吸着保持されている。この状態で、サクションドラム62が回転されるとともに、保護フイルム30には、トルクモータ68を介して所定のトルクが付与されている。   In the protective film peeling mechanism 44, the photosensitive web 22 is sandwiched between the suction drum 62 and the peeling roller 64, and the base film 26 of the photosensitive web 22 is adsorbed and held on the suction drum 62. In this state, the suction drum 62 is rotated, and a predetermined torque is applied to the protective film 30 via the torque motor 68.

従って、保護フイルム30は、残存部分30bを残して感光性ウエブ22から剥離され、剥離ローラ64を介して保護フイルム巻き取り軸66に巻き取られる。なお、剥離部位には、除電エアを吹き付けることが好ましい。   Therefore, the protective film 30 is peeled off from the photosensitive web 22 leaving the remaining portion 30 b, and taken up on the protective film take-up shaft 66 via the peeling roller 64. In addition, it is preferable to spray static elimination air on a peeling site | part.

保護フイルム剥離機構44の作用下に、保護フイルム30が残存部分30bを残してベースフイルム26から剥離された後、感光性ウエブ22は、テンション制御機構76によってテンション調整が行われ、さらに検出機構47で光電センサ82によりハーフカット部位34の検出が行われる。   Under the action of the protective film peeling mechanism 44, after the protective film 30 is peeled off from the base film 26 leaving the remaining portion 30b, the tension of the photosensitive web 22 is adjusted by the tension control mechanism 76, and the detection mechanism 47 is further detected. Thus, the half-cut portion 34 is detected by the photoelectric sensor 82.

感光性ウエブ22は、ハーフカット部位34の検出情報に基づいて、運転開始時にはフイルム搬送ローラ118aの回転作用下に、その後は貼り付け基板24aを挟持する基板搬送ローラ118bの回転作用下に、貼り付け機構46に定量搬送される。その際、接触防止ローラ116が上方に待機するとともに、ゴムローラ110bが下方に配置されている。   Based on the detection information of the half-cut portion 34, the photosensitive web 22 is affixed under the rotating action of the film conveying roller 118a at the start of operation, and thereafter under the rotating action of the substrate conveying roller 118b that sandwiches the bonding substrate 24a. A fixed amount is conveyed to the attaching mechanism 46. At that time, the contact prevention roller 116 waits upward, and the rubber roller 110b is disposed below.

一方、加熱機構45では、貼り付け機構46におけるラミネート温度に対応して各加熱炉86内の加熱温度が設定されている。ガラス基板24は、搬送機構84を構成する搬送ローラ88の回転作用下に、各加熱炉86に、順次、タクト搬送される。このガラス基板24は、感光性ウエブ22の感光性樹脂層29の貼り付け部分に対応してゴムローラ110a、110b間に一旦配置される。   On the other hand, in the heating mechanism 45, the heating temperature in each heating furnace 86 is set corresponding to the lamination temperature in the attaching mechanism 46. The glass substrate 24 is tact-conveyed sequentially to each heating furnace 86 under the rotating action of the conveyance roller 88 constituting the conveyance mechanism 84. The glass substrate 24 is temporarily disposed between the rubber rollers 110a and 110b corresponding to the portion where the photosensitive resin layer 29 of the photosensitive web 22 is attached.

この状態で、ローラクランプ部114を介してバックアップローラ112b及びゴムローラ110bを上昇させることにより、ゴムローラ110a、110b間にガラス基板24が所定のプレス圧力で挟み込まれる。さらに、ゴムローラ110aの回転作用下に、このガラス基板24には、感光性樹脂層29が加熱溶融により転写(ラミネート)される。   In this state, by raising the backup roller 112b and the rubber roller 110b via the roller clamp portion 114, the glass substrate 24 is sandwiched between the rubber rollers 110a and 110b with a predetermined pressing pressure. Further, the photosensitive resin layer 29 is transferred (laminated) to the glass substrate 24 by heating and melting under the rotating action of the rubber roller 110a.

ここで、ラミネート条件としては、速度が1.0m/min〜10.0m/min、ゴムローラ110a、110bの温度が80℃〜150℃、前記ゴムローラ110a、110bのゴム硬度が40度〜90度、該ゴムローラ110a、110bのプレス圧(線圧)が50N/cm〜400N/cmである。   Here, as lamination conditions, the speed is 1.0 m / min to 10.0 m / min, the temperature of the rubber rollers 110a and 110b is 80 ° C. to 150 ° C., the rubber hardness of the rubber rollers 110a and 110b is 40 ° to 90 °, The pressing pressure (linear pressure) of the rubber rollers 110a and 110b is 50 N / cm to 400 N / cm.

ゴムローラ110a、110bを介してガラス基板24に感光性ウエブ22の1枚分のラミネートが終了すると、前記ゴムローラ110aの回転が停止される。一方、ガラス基板24に感光性ウエブ22がラミネートされた貼り付け基板24aは、基板搬送ローラ118bによりクランプされる。そして、ゴムローラ110bは、ゴムローラ110aから離間する方向に退避してクランプが解除される。   When the lamination of one photosensitive web 22 on the glass substrate 24 is completed via the rubber rollers 110a and 110b, the rotation of the rubber roller 110a is stopped. On the other hand, the bonded substrate 24a in which the photosensitive web 22 is laminated on the glass substrate 24 is clamped by the substrate transport roller 118b. Then, the rubber roller 110b is retracted in a direction away from the rubber roller 110a, and the clamp is released.

これにより、一枚分のラミネート処理が終了し、次なるラミネート処理が開始されるまでの時間の中で、加熱機構45を介して所定の温度に加熱されたガラス基板24が、ゴムローラ110a、110b間に搬送されて配置されるとともに、前記ゴムローラ110aに摺接する感光性ウエブ22の微動送りが行われる。   Thereby, the glass substrate 24 heated to a predetermined temperature via the heating mechanism 45 in the time from the end of the laminating process for one sheet to the start of the next laminating process, the rubber rollers 110a and 110b. The photosensitive web 22 that is conveyed and disposed between the rubber rollers 110a and that is in sliding contact with the rubber roller 110a is finely fed.

ガラス基板24に感光性ウエブ22が貼り付けられた貼り付け基板24aは、矢印C方向に定量搬送される。そして、各ガラス基板24間の感光性ウエブ22が、基板間ウエブ切断機構48を介して切断された貼り付け基板24aは、搬送系120を介して方向変換コンベア122に搬送される。   Affixed substrate 24a having photosensitive web 22 affixed to glass substrate 24 is quantitatively conveyed in the direction of arrow C. Then, the attached substrate 24 a obtained by cutting the photosensitive web 22 between the glass substrates 24 via the inter-substrate web cutting mechanism 48 is conveyed to the direction changing conveyor 122 via the conveyance system 120.

図4に示すように、方向変換コンベア122上の貼り付け基板24aは、搬送方向を矢印B方向に変更させて移動された後、移送ロボット124に把持されて冷却機構128に搬入される。この冷却機構128で冷却された貼り付け基板24aは、ローラ126aを有する搬送系126を介して矢印C方向に搬送され、支持体剥離装置130に移送される。   As shown in FIG. 4, the affixing substrate 24 a on the direction changing conveyor 122 is moved by changing the transport direction to the arrow B direction, and then is held by the transfer robot 124 and carried into the cooling mechanism 128. The affixed substrate 24a cooled by the cooling mechanism 128 is transported in the direction of arrow C through a transport system 126 having a roller 126a, and transferred to the support peeling device 130.

図10に示すように、フイルム剥離ステーションPSである基板保持機構132には、反射型光電センサ190a、190bが搬送方向に沿って配置されている。このため、先ず、反射型光電センサ190aが矢印C方向に搬送されてくる貼り付け基板24aのガラス基板24の搬送方向先端部を検出すると(図15中、減速検出ON参照)、前記貼り付け基板24aに第1の減速処理が行われる。次いで、反射型光電センサ190bがガラス基板24の搬送方向先端部を検出すると(図15中、停止検出ON参照)、貼り付け基板24aがさらに減速される。ガラス基板24の寸法が大きく、且つ、高速度で搬送されるため、慣性力が比較的大きくなっており、上記の2段減速処理が行われることにより、貼り付け基板24aを正確に所定の位置に停止させることができる。   As shown in FIG. 10, in the substrate holding mechanism 132 that is the film peeling station PS, the reflective photoelectric sensors 190a and 190b are arranged along the transport direction. For this reason, when the reflection photoelectric sensor 190a first detects the leading end of the glass substrate 24 in the conveyance direction of the adhesion substrate 24a conveyed in the direction of arrow C (see deceleration detection ON in FIG. 15), the adhesion substrate 24a is detected. The first deceleration process is performed at 24a. Next, when the reflective photoelectric sensor 190b detects the front end of the glass substrate 24 in the transport direction (see stop detection ON in FIG. 15), the attached substrate 24a is further decelerated. Since the size of the glass substrate 24 is large and the glass substrate 24 is conveyed at a high speed, the inertial force is relatively large. By performing the above-described two-stage deceleration process, the bonded substrate 24a is accurately positioned at a predetermined position. Can be stopped.

そして、第1撮像機構182a、182bを介して貼り付け基板24aの位置をモニタリングしながら、前記貼り付け基板24aを所定の停止位置に停止させる。なお、貼り付け基板24aが所定の停止位置よりも矢印C方向にオーバーランすると、反射型光電センサ192により検出される。   Then, the attached substrate 24a is stopped at a predetermined stop position while monitoring the position of the attached substrate 24a via the first imaging mechanisms 182a and 182b. In addition, when the pasting board 24a overruns in the direction of arrow C from a predetermined stop position, it is detected by the reflective photoelectric sensor 192.

貼り付け基板24aが所定の停止位置に停止されると(図16中、ステップS1)、前記貼り付け基板24aが位置決めされる(ステップS2)。具体的には、基板リフト機構147を構成する基板受けローラ147aが上昇することにより、前記基板受けローラ147aが貼り付け基板24aをリフトアップする。この状態で、基板位置決め機構149を構成する4つの位置決めローラ149aが貼り付け基板24aを構成するガラス基板24側に移動する。従って、ガラス基板24は、4つの位置決めローラ149aに挟持されて位置決め保持される。   When the bonded substrate 24a is stopped at a predetermined stop position (step S1 in FIG. 16), the bonded substrate 24a is positioned (step S2). Specifically, when the substrate receiving roller 147a constituting the substrate lifting mechanism 147 is raised, the substrate receiving roller 147a lifts up the attached substrate 24a. In this state, the four positioning rollers 149a constituting the substrate positioning mechanism 149 move to the glass substrate 24 side constituting the attached substrate 24a. Accordingly, the glass substrate 24 is sandwiched and held by the four positioning rollers 149a.

次いで、基板保持機構132が駆動される。基板保持機構132では、先ず、第1吸着部138を構成する各シリンダ146が駆動されて、吸着パッド144aが上昇する(図17参照)。   Next, the substrate holding mechanism 132 is driven. In the substrate holding mechanism 132, first, each cylinder 146 constituting the first suction unit 138 is driven, and the suction pad 144a is raised (see FIG. 17).

各吸着パッド134aは、ガラス基板24の四隅にベースフイルム26の貼り付け領域外に対応して配置されており、前記ガラス基板24のベースフイルム貼り付け面とは反対側の面に接触する。その際、図示しない真空吸引系の作用下に、吸引用孔部148を介して吸引されるため、各吸着パッド144aは、ガラス基板24の四隅を吸着する。   Each suction pad 134a is disposed at the four corners of the glass substrate 24 so as to correspond to the outside of the base film 26 attachment region, and contacts the surface of the glass substrate 24 opposite to the base film attachment surface. At that time, each suction pad 144a sucks the four corners of the glass substrate 24 because it is sucked through the suction hole 148 under the action of a vacuum suction system (not shown).

なお、吸着パッド144aは、ガラス基板24の湾曲形状に応じて傾動可能に構成してもよく、また、スプリングを設けていてもよい。   The suction pad 144a may be configured to be tiltable according to the curved shape of the glass substrate 24, and may be provided with a spring.

次に、位置決めローラ149aがガラス基板24から離間する方向に移動して前記ガラス基板24の挟持が解除された後、各シリンダ146の駆動作用下に、吸着パッド144aは、ガラス基板24の四隅を吸着した状態で下降する。従って、ガラス基板24は、四隅を各吸着パッド144aに吸着保持されて強制的に平坦状に保持される。ここで、第2吸着部140及び第3吸着部142は、単一のシリンダ151の作用下に一体に上昇している。   Next, after the positioning roller 149a moves away from the glass substrate 24 and the nipping of the glass substrate 24 is released, the suction pads 144a move the four corners of the glass substrate 24 under the driving action of each cylinder 146. It descends while adsorbed. Therefore, the glass substrate 24 is forcibly held flat by the four corners being sucked and held by the suction pads 144a. Here, the second suction unit 140 and the third suction unit 142 are integrally raised under the action of the single cylinder 151.

この状態で、第2吸着部140により、ガラス基板24のベースフイルム剥離方向の両端部が吸着される。第2吸着部140による吸着が開始された後、所定の時間だけ経過すると、第3吸着部142により、ガラス基板24の中央部側の吸着が行われる。このため、ガラス基板24は、第1吸着部138、第2吸着部140及び第3吸着部142により、平坦状且つ確実に吸着保持される(ステップS3)。   In this state, both end portions of the glass substrate 24 in the base film peeling direction are sucked by the second suction portion 140. When a predetermined time has elapsed after the adsorption by the second adsorption unit 140 is started, the third adsorption unit 142 performs adsorption on the central portion side of the glass substrate 24. For this reason, the glass substrate 24 is flatly and reliably held by the first suction unit 138, the second suction unit 140, and the third suction unit 142 (step S3).

次いで、貼り付け基板24aが、基板保持機構132により強制的に平坦状に位置決め保持された状態で、ベースフイルム把持位置近傍を第1撮像機構182a、182bにより撮像する。   Next, in the state where the bonded substrate 24a is forcibly positioned and held by the substrate holding mechanism 132, the vicinity of the base film gripping position is imaged by the first imaging mechanisms 182a and 182b.

図11に示すように、第1撮像機構182a、182bでは、貼り付け基板24aのガラス基板24側から照明部188a、188bを介して照明光Lが照射されるとともに、ベースフイルム26側に配置されているCCDカメラ186a、186bは、各チャック170a、170bによるチャック位置近傍を撮像する。従って、CCDカメラ186a、186bによる撮像された画像情報に基づいて、貼り付け基板24aの位置が検出される。   As shown in FIG. 11, in the first imaging mechanisms 182a and 182b, the illumination light L is irradiated from the glass substrate 24 side of the pasting substrate 24a via the illumination units 188a and 188b, and is arranged on the base film 26 side. The CCD cameras 186a and 186b image the vicinity of the chuck position by the chucks 170a and 170b. Accordingly, the position of the pasting substrate 24a is detected based on the image information captured by the CCD cameras 186a and 186b.

そして、貼り付け基板24aが所定の停止位置範囲内に配置されていることが確認されると、フイルム把持機構134を構成する各チャック170a、170bの位置が調整される。さらに、図18中、位置P1に示すように、チャック170a、170bは、ガラス基板24の搬送方向両端から外方に突出するベースフイルム26の端部を把持する(ステップS4)。   Then, when it is confirmed that the pasting substrate 24a is disposed within the predetermined stop position range, the positions of the chucks 170a and 170b constituting the film gripping mechanism 134 are adjusted. Further, as shown at position P1 in FIG. 18, the chucks 170a and 170b grip the end portions of the base film 26 that protrude outward from both ends of the glass substrate 24 in the transport direction (step S4).

そこで、図5に示すように、可動部材162a、162b及び昇降台166a、166bは、モータ160a、160b及び168a、168bの作用下に、所定の方向に駆動制御される。これにより、チャック170a、170bは、図18中、位置P1〜P6に示す剥離軌跡に沿って移動し、前記チャック170a、170bに把持されるベースフイルム26は、クッション層27から分離されて貼り付け基板24aから剥離される(ステップS5)。   Therefore, as shown in FIG. 5, the movable members 162a and 162b and the lifting platforms 166a and 166b are driven and controlled in a predetermined direction under the action of the motors 160a, 160b and 168a and 168b. As a result, the chucks 170a and 170b move along the peeling locus shown at positions P1 to P6 in FIG. 18, and the base film 26 held by the chucks 170a and 170b is separated from the cushion layer 27 and pasted. It peels from the board | substrate 24a (step S5).

具体的には、チャック170a、170bは、図19に示す速度パターン及び図20に示すチャック高さ位置パターンに沿って移動制御される。その際、S字カーブ状のパターンに設定することにより、チャック170a、170bのクッションスタート及びクッションストップを行うことが望ましい。   Specifically, the chucks 170a and 170b are controlled to move along the speed pattern shown in FIG. 19 and the chuck height position pattern shown in FIG. At that time, it is desirable to perform cushion start and cushion stop of the chucks 170a and 170b by setting to an S-curve pattern.

ベースフイルム26の剥離時には、ピールローラ176は、可動部材162a、162bと一体的に矢印D方向に所定の位置まで移動し、前記ベースフイルム26を円滑且つ良好に剥離させる。ここで、ピールローラ176は、チャック170a、170bに把持されてガラス基板24から剥離されるベースフイルム26を引っ張らない程度に弛みをもたせた状態で、前記ベースフイルム26の剥離処理を行う。   When the base film 26 is peeled off, the peel roller 176 moves integrally with the movable members 162a and 162b to a predetermined position in the direction of arrow D, and the base film 26 is peeled off smoothly and satisfactorily. Here, the peel roller 176 performs the peeling process of the base film 26 in a state in which the peel film 176 is loosened to the extent that the base film 26 that is gripped by the chucks 170a and 170b and peeled from the glass substrate 24 is not pulled.

チャック170a、170bが位置P3から位置P4に移動する際に、ニップローラ178では、上部ローラ178bが予め上昇している。チャック170a、170bが上部ローラ178bと下部ローラ178aとの間を通過すると(ステップS6中、YES)、ステップS7に進んで、シリンダ180が駆動されて前記上部ローラ178bが下降する。このため、下部ローラ178aと上部ローラ178bとの間に所定のクリアランス(例えば、1mm〜2mm)が保持され、このクリアランスをベースフイルム26が通過する。これにより、ガラス基板24から剥離されてテンションが開放された直後のベースフイルム26は、下部ローラ178aと上部ローラ178bとのクリアランスによってバタツキの発生を良好に防止することができる。   When the chucks 170a and 170b move from the position P3 to the position P4, the upper roller 178b of the nip roller 178 is raised in advance. When the chucks 170a and 170b pass between the upper roller 178b and the lower roller 178a (YES in step S6), the process proceeds to step S7, the cylinder 180 is driven, and the upper roller 178b is lowered. Therefore, a predetermined clearance (for example, 1 mm to 2 mm) is held between the lower roller 178a and the upper roller 178b, and the base film 26 passes through this clearance. As a result, the base film 26 immediately after being peeled from the glass substrate 24 and released from the tension can satisfactorily prevent the occurrence of flutter due to the clearance between the lower roller 178a and the upper roller 178b.

チャック170a、170bは、位置P4を通過した後(ステップS8中、YES)、フイルム集積台車200の集積部204に移動し、この集積部204のフイルム集積面から所定の高さHになるまで下降し(ステップS9)、位置P5から位置P6に移動する。   After passing through the position P4 (YES in step S8), the chucks 170a and 170b move to the stacking unit 204 of the film stacking carriage 200 and descend from the film stacking surface of the stacking unit 204 to a predetermined height H. (Step S9), the position P5 is moved to the position P6.

そして、チャック170a、170bは、位置P6に移動したことが検出されると(ステップS10中、YES)、ベースフイルム26の把持作用を解除する(ステップS11)。これによって、ベースフイルム26は、フイルム集積台車200の集積部204に設けられているフリーローラであるローラ206上に移載される。   When it is detected that the chucks 170a and 170b have moved to the position P6 (YES in step S10), the gripping action of the base film 26 is released (step S11). As a result, the base film 26 is transferred onto a roller 206 that is a free roller provided in the stacking unit 204 of the film stacking carriage 200.

この場合、本実施形態では、フイルム把持機構134を構成するチャック170a、170bによりベースフイルム26の端部が把持された状態で、前記チャック170a、170bがフイルム剥離ステーションPSからフイルム廃棄ステーションDSに移動されることにより、前記ベースフイルム26がガラス基板24から剥離されている。   In this case, in this embodiment, the chucks 170a and 170b are moved from the film peeling station PS to the film disposal station DS in a state in which the end portions of the base film 26 are gripped by the chucks 170a and 170b constituting the film gripping mechanism 134. As a result, the base film 26 is peeled off from the glass substrate 24.

その際、ベースフイルム26がフイルム廃棄ステーションDSに移送される途上で、チャック170a、170bが下降動作されるため、このチャック170a、170bに把持されている前記ベースフイルム26は、移送高さが低くなる(高さH参照)。従って、チャック170a、170bに把持されているベースフイルム26は、フイルム廃棄ステーションDSに配置されているフイルム集積台車200のフイルム集積面に近接し且つ前記フイルム集積面に沿って移送されている。   At that time, since the chucks 170a and 170b are moved downward while the base film 26 is transferred to the film disposal station DS, the base film 26 held by the chucks 170a and 170b has a low transfer height. (See height H). Accordingly, the base film 26 held by the chucks 170a and 170b is moved along the film stacking surface in the vicinity of the film stacking surface of the film stacking carriage 200 disposed in the film disposal station DS.

これにより、チャック170a、170bによるベースフイルム26の把持作用が解除されると、このベースフイルム26は、フイルム廃棄ステーションDSのフイルム集積面に良好且つ整然と集積され、ベースフイルム剥離処理を効率的に行うことが可能になるという効果が得られる。   Accordingly, when the gripping action of the base film 26 by the chucks 170a and 170b is released, the base film 26 is well and orderly accumulated on the film accumulation surface of the film disposal station DS, and the base film peeling process is efficiently performed. The effect that it becomes possible is acquired.

一方、フイルム集積台車200では、集積部204にベースフイルム26が集積されることにより、フイルム集積面が徐々に高くなっている。そこで、チャック170a、170bが、常時、集積部204のフイルム集積面から所定の高さHを維持するように、一対のリフタ220a、220bの駆動作用下に、フイルム集積台車200が下降される。   On the other hand, in the film stacking cart 200, the base film 26 is stacked on the stacking unit 204, so that the film stacking surface is gradually increased. Therefore, the film stacking cart 200 is lowered under the driving action of the pair of lifters 220a and 220b so that the chucks 170a and 170b always maintain a predetermined height H from the film stacking surface of the stacking unit 204.

従って、チャック170a、170bは、集積部204のフイルム集積面の最上位のベースフイルム26から所定の高さHを維持することができ、前記フイルム集積面上に前記ベースフイルム26を、順次、良好且つ整然と集積することが可能になるという利点がある。   Accordingly, the chucks 170a and 170b can maintain a predetermined height H from the uppermost base film 26 on the film stacking surface of the stacking unit 204, and the base film 26 is sequentially improved on the film stacking surface. Moreover, there is an advantage that it is possible to integrate in an orderly manner.

なお、フイルム集積台車200の高さ調整は、ベースフイルム26の廃棄回数に応じて行ってもよく、また、超音波センサや反射型光電センサ等によって前記ベースフイルム26の集積高さや集積量を検出することにより、行うことができる。   The height adjustment of the film stacking cart 200 may be performed according to the number of times the base film 26 is discarded, and the height and amount of the base film 26 are detected by an ultrasonic sensor, a reflective photoelectric sensor, or the like. This can be done.

さらに、フイルム集積台車200に所定枚数のベースフイルム26が集積されると、前記フイルム集積台車200は、一対のリフタ220a、220bの駆動作用下に下降し、位置決め用孔部226及び位置決め用孔部214aから固定ピン228が取り外される。そして、フイルム集積台車200は、フイルム廃棄機構152の台車セット部から引き出されるとともに、交換用の空のフイルム集積台車200が、前記台車セット部に取り付けられる。   Further, when a predetermined number of base films 26 are stacked on the film stacking cart 200, the film stacking cart 200 descends under the driving action of the pair of lifters 220a and 220b, and the positioning hole 226 and the positioning hole The fixing pin 228 is removed from 214a. Then, the film stacking cart 200 is pulled out from the cart set portion of the film discarding mechanism 152, and an empty film stacking cart 200 for replacement is attached to the cart set portion.

所定枚数のベースフイルム26が集積されているフイルム集積台車200は、廃棄場所まで移送された後、集積部204を構成する開閉扉210が開放される。このため、集積部204内のベースフイルム26は、複数のローラ206の案内作用下に、前記集積部204から廃棄場所に容易に廃却される。   After the film stacking carriage 200 on which a predetermined number of base films 26 are stacked is transferred to a disposal place, the opening / closing door 210 constituting the stacking unit 204 is opened. For this reason, the base film 26 in the stacking unit 204 is easily discarded from the stacking unit 204 to a disposal site under the guiding action of the plurality of rollers 206.

一方、ベースフイルム26が剥離された貼り付け基板24aは、第1〜第3吸着部138、140及び142による吸着が解除された後、積層体基板として検査コンベア230に移送される(図4参照)。積層体基板は、剥離状態の検査等が行われた後、排出コンベア232から次段の工程に払い出される。   On the other hand, the sticking substrate 24a from which the base film 26 has been peeled is released from the suction by the first to third suction portions 138, 140 and 142, and then transferred to the inspection conveyor 230 as a laminate substrate (see FIG. 4). ). The laminated substrate is discharged from the discharge conveyor 232 to the next step after the peeled state is inspected.

本発明の実施形態に係るフイルム剥離装置が組み込まれる製造装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus with which the film peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention is integrated. 前記製造装置に使用される長尺状感光性ウエブの断面図である。It is sectional drawing of the elongate photosensitive web used for the said manufacturing apparatus. 前記長尺状感光性ウエブに接着ラベルが接着された状態の説明図である。It is explanatory drawing of the state by which the adhesive label was adhere | attached on the said elongate photosensitive web. 前記製造装置の概略平面説明図である。It is a schematic plan view of the manufacturing apparatus. 前記支持体剥離装置の概略斜視説明図である。It is a schematic perspective explanatory drawing of the said support body peeling apparatus. 前記支持体剥離装置の要部側面説明図である。It is principal part side surface explanatory drawing of the said support body peeling apparatus. 前記支持体剥離装置を構成する基板保持機構の斜視説明図である。It is a perspective explanatory view of a substrate holding mechanism which constitutes the support peeling device. 前記基板保持機構の平面説明図である。It is a plane explanatory view of the substrate holding mechanism. 前記基板保持機構の概略斜視説明図である。It is a schematic perspective view of the substrate holding mechanism. 撮像機構の配置状態の説明図である。It is explanatory drawing of the arrangement | positioning state of an imaging mechanism. 前記撮像機構の構成説明図である。FIG. 2 is a configuration explanatory diagram of the imaging mechanism. 前記支持体剥離装置を構成するフイルム廃棄機構の斜視説明図である。It is a perspective explanatory view of a film discard mechanism constituting the support peeling device. 前記フイルム廃棄機構の平面説明図である。It is a plane explanatory view of the film discard mechanism. 前記フイルム廃棄機構の一部斜視説明図である。It is a partial perspective explanatory view of the film discard mechanism. 貼り付け基板の搬送速度制御の説明図である。It is explanatory drawing of the conveyance speed control of a sticking board | substrate. 本発明に係るフイルム剥離方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the film peeling method which concerns on this invention. 前記基板保持機構の動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing of the said board | substrate holding mechanism. 前記支持体剥離装置を構成するフイルム把持機構の動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing of the film holding | grip mechanism which comprises the said support body peeling apparatus. チャック位置と移動速度との関係説明図である。It is an explanatory view of the relationship between the chuck position and the moving speed. 前記チャック位置と高さとの関係説明図である。It is a relation explanatory view of the above-mentioned chuck position and height. 特許文献1に開示されているフイルムの剥離方法及び剥離装置の説明図である。It is explanatory drawing of the peeling method and peeling apparatus of the film currently disclosed by patent document 1. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

20…製造装置
22…感光性ウエブ
22a…感光性ウエブロール
24…ガラス基板
24a…貼り付け基板
26…ベースフイルム
29…感光性樹脂層
30…保護フイルム
32…ウエブ送り出し機構
34…ハーフカット部位
36…ハーフカット機構
40…ラベル接着機構
45…加熱機構
46…貼り付け機構
122…方向変換コンベア
126…搬送系
128…冷却機構
130…支持体剥離装置
132…基板保持機構
134…フイルム把持機構
136…移動機構
137…コントローラ
138、138a、140、140a、142…吸着部
144a〜144c…吸着パッド
146、151…シリンダ
147…基板リフト機構
147a…基板受けローラ
149…基板位置決め機構
149a…位置決めローラ
152…フイルム廃棄機構
170a、170b…チャック
178…ニップローラ
182a、182b、184a、184b…撮像機構
190a、190b、192…反射型光電センサ
200…フイルム集積台車
204…集積部
214…支持部
220a、220b…リフタ
222a、222b…昇降ブラケット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Manufacturing apparatus 22 ... Photosensitive web 22a ... Photosensitive web roll 24 ... Glass substrate 24a ... Pasting substrate 26 ... Base film 29 ... Photosensitive resin layer 30 ... Protective film 32 ... Web delivery mechanism 34 ... Half cut part 36 ... Half-cut mechanism 40 ... Label adhesion mechanism 45 ... Heating mechanism 46 ... Pasting mechanism 122 ... Direction changing conveyor 126 ... Conveying system 128 ... Cooling mechanism 130 ... Support body peeling device 132 ... Substrate holding mechanism 134 ... Film gripping mechanism 136 ... Moving mechanism 137: Controllers 138, 138a, 140, 140a, 142 ... Adsorption parts 144a to 144c ... Adsorption pads 146, 151 ... Cylinder 147 ... Substrate lift mechanism 147a ... Substrate receiving roller 149 ... Substrate positioning mechanism 149a ... Positioning roller 152 ... Film discard mechanism 170a, 170b Chuck 178 ... nip rollers 182a, 182b, 184a, 184b ... imaging mechanism 190a, 190b, 192 ... reflective photoelectric sensor 200 ... film integrated carriage 204 ... integrated unit 214 ... supporting portion 220a, 220b ... lifter 222a, 222b ... lift bracket

Claims (9)

基板にフイルムが貼り付けられた貼り付け基板から、前記フイルムを剥離するフイルム剥離装置であって、
フイルム剥離ステーションに配置された前記貼り付け基板を位置決め保持する基板保持機構と、
前記フイルムの端部を把持するフイルム把持機構と、
前記フイルム把持機構を前記フイルム剥離ステーションからフイルム廃棄ステーションに移動させることにより、前記基板保持機構に保持された前記貼り付け基板から前記フイルムを剥離させて前記フイルム廃棄ステーションに廃棄する移動機構と、
前記移動機構を駆動制御するとともに、前記フイルムが前記フイルム廃棄ステーションに移送される途上で、前記フイルム把持機構を下降動作させる制御機構と、
を備えることを特徴とするフイルム剥離装置。
A film peeling apparatus for peeling the film from an attached substrate in which the film is attached to the substrate,
A substrate holding mechanism for positioning and holding the bonded substrate disposed at the film peeling station;
A film gripping mechanism for gripping an end of the film;
Moving the film gripping mechanism from the film peeling station to the film disposal station, thereby peeling the film from the attached substrate held by the substrate holding mechanism and discarding the film to the film disposal station;
A drive mechanism for controlling the moving mechanism, and a control mechanism for lowering the film gripping mechanism while the film is being transferred to the film disposal station;
A film peeling apparatus comprising:
請求項1記載のフイルム剥離装置において、前記フイルム剥離ステーションから前記フイルム廃棄ステーションまでのフイルム移送途上に配置され、前記貼り付け基板から剥離された前記フイルムを案内するニップローラを備えることを特徴とするフイルム剥離装置。   2. The film peeling apparatus according to claim 1, further comprising a nip roller that is disposed in the course of transferring the film from the film peeling station to the film disposal station and guides the film peeled off from the attached substrate. Peeling device. 請求項1又は2記載のフイルム剥離装置において、前記フイルム廃棄ステーションには、前記フイルムを集積するフイルム集積台車と、
前記フイルム集積台車を着脱自在に保持するとともに、前記フイルム集積台車を昇降させる昇降機構と、
が設けられることを特徴とするフイルム剥離装置。
The film peeling apparatus according to claim 1 or 2, wherein the film disposal station includes a film stacking carriage for stacking the film,
An elevating mechanism for detachably holding the film accumulation carriage and raising and lowering the film accumulation carriage;
A film peeling apparatus characterized in that is provided.
請求項3記載のフイルム剥離装置において、前記フイルム集積台車は、前記フイルムを集積するフイルム集積面に回転自在な複数のローラを設けるとともに、
前記フイルム集積面を周回する枠板の少なくとも一部は、開閉自在に構成されることを特徴とするフイルム剥離装置。
The film peeling apparatus according to claim 3, wherein the film stacking carriage is provided with a plurality of rotatable rollers on a film stacking surface on which the film is stacked,
At least a part of the frame plate that circulates on the film stacking surface is configured to be openable and closable.
請求項1〜4のいずれか1項に記載のフイルム剥離装置において、前記基板保持機構は、前記基板のフイルム貼り付け面とは反対の面を吸着することにより、前記貼り付け基板を平坦状に吸着保持する吸着部を備えることを特徴とするフイルム剥離装置。   5. The film peeling apparatus according to claim 1, wherein the substrate holding mechanism flattens the bonded substrate by adsorbing a surface opposite to a film bonding surface of the substrate. A film peeling apparatus comprising an adsorbing part for adsorbing and holding. 基板にフイルムが貼り付けられた貼り付け基板から、前記フイルムを剥離するフイルム剥離方法であって、
フイルム剥離ステーションに配置された前記貼り付け基板を位置決め保持する工程と、
前記フイルムの端部をフイルム把持機構により把持する工程と、
前記フイルム把持機構を前記フイルム剥離ステーションからフイルム廃棄ステーションに移動させることにより、前記貼り付け基板から前記フイルムを剥離させて前記フイルム廃棄ステーションに廃棄する工程と、
を有し、
前記フイルムが前記フイルム廃棄ステーションに移送される途上で、前記フイルム把持機構を下降動作させることを特徴とするフイルム剥離方法。
A film peeling method for peeling the film from an attached substrate in which a film is attached to a substrate,
A step of positioning and holding the attachment substrate disposed in the film peeling station;
Gripping an end of the film with a film gripping mechanism;
Moving the film gripping mechanism from the film peeling station to the film disposal station, thereby peeling the film from the attached substrate and discarding the film in the film disposal station;
Have
A film peeling method, wherein the film gripping mechanism is lowered while the film is transferred to the film disposal station.
請求項6記載のフイルム剥離方法において、前記フイルム剥離ステーションから前記フイルム廃棄ステーションまでのフイルム移送途上に配置されたニップローラにより、前記貼り付け基板から剥離された前記フイルムを案内することを特徴とするフイルム剥離方法。   7. The film peeling method according to claim 6, wherein the film peeled from the attached substrate is guided by a nip roller disposed in the course of transferring the film from the film peeling station to the film disposal station. Peeling method. 請求項6又は7記載のフイルム剥離方法において、前記フイルム廃棄ステーションに着脱自在に保持されるフイルム集積台車に、前記フイルムを集積するとともに、
前記フイルムの集積高さに応じて前記フイルム集積台車を下降させる工程を有することを特徴とするフイルム剥離方法。
The film peeling method according to claim 6 or 7, wherein the film is stacked on a film stacking carriage that is detachably held at the film disposal station.
A film peeling method comprising the step of lowering the film stacking cart in accordance with the stacking height of the film.
請求項6〜8のいずれか1項に記載のフイルム剥離方法において、前記フイルム剥離ステーションでは、前記基板のフイルム貼り付け面とは反対の面を吸着することにより、前記貼り付け基板を平坦状に吸着保持することを特徴とするフイルム剥離方法。   9. The film peeling method according to claim 6, wherein, in the film peeling station, the surface of the substrate to be bonded is flattened by adsorbing a surface opposite to the film bonding surface of the substrate. A film peeling method characterized by holding by adsorption.
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