JP2010073823A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 減圧に排気され得る反応容器と、
   前記反応容器内に回転可能に設けられ、基板を保持する基板保持部と、
   前記基板保持部の外縁部から中央部へ向けて第１の反応ガスを流す第１の原料供給部と、
   前記基板保持部の外縁部から中央部へ向けて第２の反応ガスを流す第２の原料供給部と、
   前記第１及び前記第２の原料供給部の間に設けられ、前記基板保持部の外縁部から中央部へ向けて分離ガスを流す分離ガス供給部と、
   前記基板保持部の中央部に設けられ、前記第１の反応ガス、前記第２の反応ガス、及び前記分離ガスを排気する排気部と
   を備える成膜装置。
2. 前記基板保持部が、前記基板が載置される基板載置部を有する基板保持ディスクを含む、請求項１に記載の成膜装置。
3. 前記基板保持部が、所定の間隔をおいて重ねられる複数の前記基板保持ディスクを含む、請求項２に記載の成膜装置。
4. 前記基板保持ディスクが、前記基板保持部の回転方向に沿って配置される複数の前記基板載置部を含む、請求項２又は３の成膜装置。
5. 前記基板保持ディスク上に、複数の前記基板載置部のうちの隣り合う２つの基板載置部の間に仕切り板が配置される、請求項２から４のいずれか一項に記載の成膜装置。
6. 前記基板保持ディスクが中央部に開口を有し、
   前記排気部が、前記基板保持ディスク上を流れるガスを流通させる開口が形成される、前記開口に挿入可能な円筒部を含む、請求項２から５のいずれか一項に記載の成膜装置。
7. 前記基板保持ディスクの前記開口に挿入される前記排気部の前記円筒部に、
   前記第１の原料ガス供給部に向いた一の前記開口と、
   前記第２の原料ガス供給部に向いた他の前記開口と
   を有する、請求項６に記載の成膜装置。
8. 前記排気部が、前記円筒部の内部を、前記一の開口と連通する一の空間と前記他の開口と連通する他の空間とに分割する板状部材を更に含む、請求項７に記載の成膜装置。
9. 減圧に排気され得る反応容器に回転可能に設けられる基板保持部に基板を収納する工程と、
   前記基板が収納された前記基板保持部を回転する工程と、
   前記基板保持部の外縁部から中央部へ向けて第１の反応ガスを流す工程と、
   前記基板保持部の外縁部から中央部へ向けて第２の反応ガスを流す工程と、
   前記第１及び前記第２の原料供給部の間において、前記基板保持部の外縁部から中央部へ向けてパージガスを流す工程と、
   前記基板保持部の中央部から前記第１の反応ガス、前記第２の反応ガス、及び前記パージガスを排気する工程と
   を含む成膜方法。
10. 請求項１から８のいずれか一項に記載の成膜装置に請求項９に記載の成膜方法を実行させるプログラムを格納するコンピュータ可読記憶媒体。