JP2010065189A5 - - Google Patents

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（式中、Ｒ1は炭素数１０〜２６のアルキル基、Ｒ2は炭素数１〜２２のアルキル基又は炭素数２〜３のヒドロキシアルキル基、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数２〜３のヒドロキシアルキル基であり、少なくとも一方は炭素数２〜３のヒドロキシアルキル基である。Ｙはエチレン基又はプロピレン基、ｎは０又は１の数、Ｘ-はアニオン性芳香族化合物残基を表す。）
で表される化合物（Ａ）〔化合物（Ａ）〕とアニオン性芳香族化合物（Ｂ）〔化合物（Ｂ）〕とを含有するレオロジー改質剤であって、
化合物（Ａ）における下記

Claims (5)

  1. 一般式（１）
    Figure 2010065189
    （式中、Ｒ1は炭素数１０〜２６のアルキル基、Ｒ2は炭素数１〜２２のアルキル基又は炭素数２〜３のヒドロキシアルキル基、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数２〜３のヒドロキシアルキル基であり、少なくとも一方は炭素数２〜３のヒドロキシアルキル基である。Ｙはエチレン基又はプロピレン基、ｎは０又は１の数、Ｘ-はアニオン性芳香族化合物残基を表す。）
    で表される化合物（Ａ）〔化合物（Ａ）〕とアニオン性芳香族化合物（Ｂ）〔化合物（Ｂ）〕とを含有するレオロジー改質剤であって、
    化合物（Ａ）における下記
    Figure 2010065189
    （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｙ、及びｎは、それぞれ、前記の通り。）
    のカチオン基部分のモル数（ＭC）と、化合物（Ａ）におけるＸ-部分のモル数と化合物（Ｂ）のモル数の合計モル数（ＭA）との比が、ＭC／ＭA＝１／１．０５〜１／１．９である、レオロジー改質剤。
  2. 粉末状である、請求項１記載のレオロジー改質剤。
  3. 化合物（Ａ）が、一般式（１）中のＲ1が炭素数１８以上のアルキル基である化合物を５０モル％以上含有する、請求項１又は２記載のレオロジー改質剤。
  4. 水溶液又はスラリーの水相中における化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の合計の濃度が０．０１〜２０重量％となるように、請求項１〜３の何れか１項記載のレオロジー改質剤を、前記水溶液又はスラリーに添加する、レオロジーが制御された水溶液又はスラリーの製造方法。
  5. 水溶液又はスラリーの水相中における化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の合計の濃度が０．０１〜２０重量％となるように、請求項１〜３の何れか１項記載のレオロジー改質剤を、前記水溶液又はスラリーに添加する、水溶液又はスラリーのレオロジー制御方法。
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