JP2010061876A - 管形ヒータ - Google Patents
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Abstract
【課題】バルブの外面に光学多層膜を形成することにより、バルブを透過する光の波長が830nm付近でピークとなるように構成した管形ヒータを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、放射透過性のバルブ11内部に白熱フィラメント12を封装し、また、バルブ11外面に光学多層膜2を形成し、これにより、バルブ11を透過する光の波長が830nm付近でピークとなるようにした管形ヒータである。光学多層膜2は、高屈折率膜21及び低屈折率膜22を交互に積層して形成されている。
【選択図】図3
【解決手段】本発明は、放射透過性のバルブ11内部に白熱フィラメント12を封装し、また、バルブ11外面に光学多層膜2を形成し、これにより、バルブ11を透過する光の波長が830nm付近でピークとなるようにした管形ヒータである。光学多層膜2は、高屈折率膜21及び低屈折率膜22を交互に積層して形成されている。
【選択図】図3
Description
本発明は、記録媒体に印字したり、消去したりすることができるリライタブルプリンタに用いられる管形ヒータに関する。
従来、記録媒体として可逆性感熱記録媒体を用い、熱により可逆的に情報の記録や消去が可能なリライタブルプリンタが知られている(例えば、特許文献1)。
特開2008−37098号公報
上記した特許文献1は、リライタブル用記録媒体では、発色が一定の熱を加えることで可能となるが、消去するにはゆっくり冷却させるか、低温度状態を一定時間継続しなければならず、消去には非常に時間を要する、という問題があった。
この発明の目的は、特定波長にピークを有するランプを用いることで消去時間のスピードを向上させた管形ヒータを提供することにある。
本発明の管形ヒータは、放射透過性のバルブと、このバルブの内部に封装された白熱フィラメントと、前記バルブの外面に形成され、バルブを透過する光の波長が830nm付近でピークとなるように高屈折率膜及び低屈折率膜が交互に積層された光学多層膜とを具備したことを特徴とする。
本発明によれば、バルブの外面に光学多層膜を形成することにより、バルブを透過する光の波長が830nm付近でピークとなるように構成した管形ヒータを提供できる。
以下、本発明の第1の実施形態について図1乃至図3を参照して説明する。図1は、管形ヒータを示す構成図、図2は、光学多層膜の模式図、図3は、分光特性を示すグラフである。
図1に示すように、管形ヒータは、管形ハロゲン電球1及び光学多層膜2を備えている。管形ハロゲン電球1は、バルブ11、白熱フィラメント12、アンカー13、インナーリード線14、アウターリード線15、導入金属箔16並びに不活性ガス及びハロゲンガスを備えて構成されている。バルブ11は、石英ガラスの両端に封止部を形成して直管状をなし、内部に白熱フィラメント12を収容している。白熱フィラメント12は、タングステンフィラメントからなり2重コイル状に形成され、バルブ11の管軸に沿って張設されている。アンカー13は、白熱フィラメント12をバルブ11に対して同心状態に保持するもので、白熱フィラメント12の中間部の複数個所を支持している。インナーリード線14は、外部から受電するため、白熱フィラメント12の両端に一対設けられているとともに、バルブ11の両端に埋設された導入金属箔16に溶接されている。一方、アウターリード線15は、電源に接続して白熱フィラメント12に給電するため、バルブ11の両端から外部に導出されるとともに、導入金属箔16に溶接されている。また、バルブ11内には、不活性ガスとしてAr、Kr、Xe等の希ガスとハロゲンガスが封入されている。
図2に示すように、光学多層膜2は、高屈折率膜21及び低屈折率膜22を交互に積層させた多層膜からなり、バルブ11の外面に蒸着法によって成膜されている。なお、成膜法は、ディッピング法、CVD法やスパッタリング法等を適用してもよい。
このように光学多層膜2が形成された管形ハロゲン電球1を点灯すると、白熱フィラメント12から出射された光は、バルブ11を透過し、光学多層膜2を経て外部に放射される。ここで、上記のように構成された管形ヒータの分光特性を測定した結果、図3に示す波長(nm)及び出力(%)の関係において分かるように、バルブを透過する光のピーク波長が830nm付近に設定されることが確認できるに至った。因みに、前記光学多層膜2を有していない管形ハロゲン電球1では、図5に示すように、バルブを透過する光のピーク波長は、約1100nmとなっている。
本発明者らは、以上の結果を踏まえ、さらに、透過率のピーク波長が830nm付近でピークとなるように光学多層膜2の構成について探求したところ、層数は、15層〜30層、光学膜厚の平均値は、2〜3μmの範囲が好適であるとの知見を得た。なお、高屈折率膜21としては、TiO2、TiO、Cr2O3、NiO、CeO2等を用いることができ、低屈折率膜としては、Gd2O3、Y2O3、MgO、ZrO2、Nd2O3等を用いることができる。
以上のように本実施形態によれば、バルブ11を透過する光の波長が830nm付近でピークとなるように管形ヒ−タを構成でき、リライタブルプリンタに用いるのに好適な管形ヒータを提供できる。
次に、本発明の第2の実施形態について図4を参照して説明する。図4(a)は、管形ヒータを示す構成図、(b)は拡大して示す断面図である。なお、第1の実施形態と同一又は相当部分には同一符号を付し、重複した説明は省略する。本実施形態では、バルブ11の外表面に反射膜3をコーティングしたものである。反射膜3は、アルミナ、シリカを主成分とする反射膜材料をバルブ11の管軸方向に沿って、図4(b)に示すように、所定角度の範囲に亘ってコーティングしたものである。したがって、白熱フィラメント12から出射された光は、反射膜3が形成されている範囲においては反射され、反射膜3が形成されていない所定の開口範囲は、光が透過するアパーチャ部4として構成される。このアパーチャ部4の開口角の範囲は、55度〜150度が好ましく、この範囲によれば出力の向上が得られる(特開2008−78065号公報参照)。
以上のように本実施形態によれば、第1の実施形態の効果に加え、反射膜3により、光の出射方向を集中化でき、効率が向上する効果を奏する。
なお、本発明の管形ヒータは、リライタブルプリンタに好適であるが、リライタブルプリンタに適用することに限定されない。他の用途、装置や機器に適用することを妨げるものではない。
2・・・光学多層膜、3・・・反射膜、4・・・アパーチャ部、
11・・・バルブ、12・・・白熱フィラメント、21・・・高屈折率膜、
22・・・低屈折率膜
11・・・バルブ、12・・・白熱フィラメント、21・・・高屈折率膜、
22・・・低屈折率膜
Claims (2)
- 放射透過性のバルブと、このバルブの内部に封装された白熱フィラメントと、前記バルブの外面に形成され、バルブを透過する光の波長が830nm付近でピークとなるように高屈折率膜及び低屈折率膜が交互に積層された光学多層膜とを具備したことを特徴とする管形ヒータ。
- 前記バルブの外面に、管軸方向に沿って所定開口範囲のアパーチャ部を構成するように反射膜を形成したことを特徴とする請求項1に記載の管形ヒータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008224140A JP2010061876A (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 管形ヒータ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008224140A JP2010061876A (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 管形ヒータ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010061876A true JP2010061876A (ja) | 2010-03-18 |
Family
ID=42188474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008224140A Pending JP2010061876A (ja) | 2008-09-01 | 2008-09-01 | 管形ヒータ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010061876A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014075364A1 (zh) * | 2012-11-19 | 2014-05-22 | Lee Wen-Ching | 一种发热装置 |
JP2018156852A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | 東芝ライテック株式会社 | ヒータ |
-
2008
- 2008-09-01 JP JP2008224140A patent/JP2010061876A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2014075364A1 (zh) * | 2012-11-19 | 2014-05-22 | Lee Wen-Ching | 一种发热装置 |
JP2018156852A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | 東芝ライテック株式会社 | ヒータ |
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