JP2010059525A - カーボン蒸着装置 - Google Patents
カーボン蒸着装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010059525A JP2010059525A JP2008229173A JP2008229173A JP2010059525A JP 2010059525 A JP2010059525 A JP 2010059525A JP 2008229173 A JP2008229173 A JP 2008229173A JP 2008229173 A JP2008229173 A JP 2008229173A JP 2010059525 A JP2010059525 A JP 2010059525A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon
- sample
- vapor deposition
- sample chamber
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】開閉弁9aを開き、ロータリーポンプ10で試料室2aの大気を排気する。試料室2aの真空度が1Pa程度になったら、流量調整弁8aを開いて試料室2aにアルゴンガスを導入し、試料室2aの真空度が2Pa程度になるようにアルゴンガスの流量を調整する。電極棒7aと7b及び電極5aと5bを通じてカーボン棒に50A程度の電流を流す。通電によりカーボン棒が赤熱し、カーボンが蒸発することにより蒸着が行なわれる。
【選択図】図1
Description
請求項1に記載の発明は、気密容器と、該気密容器内に通電加熱可能に配置されるカーボン部材と、該気密容器内に試料表面が該カーボン部材と相対するように試料を保持する試料台と、前記気密容器内に不活性ガスを満たすためのガス供給手段とを備え、前記気密容器内に不活性ガスを満たした状態で前記カーボン部材を通電加熱し、前記試料台に保持された試料の表面にカーボンを蒸着することを特徴とする。
ステップ1:開閉弁9aと流量調整弁8aが閉じた状態で、試料室2aに大気を導入し、気密容器2を取り外す。
ステップ2:カーボン蒸着を行なう試料Sを試料台4に載せる。
以上が、本発明のカーボン蒸着装置を用いてカーボン蒸着を行なう手順の説明である。なお、上記例では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用いたが、その他の不活性ガスでも同様の効果を奏する。また、上記ステップ3で、ロータリーポンプ10で排気しつつ試料室2aをカーボン蒸着に必要な真空度に維持するようにしたが、カーボンを通電加熱する間に必要な真空度が維持できれば、必ずしもロータリーポンプ10で排気し続ける必要は無い。
図2は、本発明のカーボン蒸着装置で作製したカーボン膜の膜質と膜厚を評価するために撮影したカーボン膜断面の透過電子顕微鏡写真である。本発明のカーボン蒸着装置によりシリコン基板上にカーボン膜を蒸着し、カーボン膜の厚さを正確に確認するため、カーボン膜上にCrをコーティングした。この試料の断面の薄膜を作製するため、イオンスライサ(日本電子(株)商品名、イオンを照射して透過電子顕微鏡観察用の薄膜試料を作製する装置)を用いた。
図2の透過電子顕微鏡写真から、カーボン膜の膜厚は約13nmで、良好なアモルファス構造となっていることが確認できる。
以上述べたように、本発明のカーボン蒸着装置を用いれば、従来の高真空雰囲気で時間をかけて形成されたカーボン膜と同等の極めて良質なカーボン膜を短時間に得ることができる。
1…基本体
2…気密容器
2a…試料室
3…カーボン棒
4…試料台
5a、5b…電極
6a、6b…押さえ板
7a、7b…電極棒
8…供給管
8a…流量調整弁
9…排気管
9a…開閉弁
10…ロータリーポンプ(RP)
11…Oリング
Claims (4)
- 気密容器と、該気密容器内に通電加熱可能に配置されるカーボン部材と、該気密容器内に試料表面が該カーボン部材を見通すように試料を保持する試料台と、前記気密容器内に不活性ガスを満たすためのガス供給手段とを備え、前記気密容器内に不活性ガスを満たした状態で前記カーボン部材を通電加熱し、前記試料台に保持された試料の表面にカーボンを蒸着することを特徴とするカーボン蒸着装置。
- 前記気密容器内を排気する排気ポンプを更に備え、前記カーボン部材を通電加熱するときの前記気密容器内圧力が0.5Pa〜5Paに設定されることを特徴とする請求項1記載のカーボン蒸着装置。
- 前記排気ポンプがロータリーポンプであることを特徴とする請求項2記載のカーボン蒸着装置。
- 前記不活性ガスがアルゴンガスであることを特徴とする請求項1記載のカーボン蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008229173A JP5191842B2 (ja) | 2008-09-08 | 2008-09-08 | カーボン蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008229173A JP5191842B2 (ja) | 2008-09-08 | 2008-09-08 | カーボン蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010059525A true JP2010059525A (ja) | 2010-03-18 |
JP5191842B2 JP5191842B2 (ja) | 2013-05-08 |
Family
ID=42186636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008229173A Active JP5191842B2 (ja) | 2008-09-08 | 2008-09-08 | カーボン蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5191842B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115616016A (zh) * | 2022-12-14 | 2023-01-17 | 矿冶科技集团有限公司 | 电子探针样品表面导电性处理方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60132454U (ja) * | 1984-02-08 | 1985-09-04 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置 |
JPH1192579A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-06 | Nitto Denko Corp | 有機基材のプラズマ処理方法及び有機基材への金属層形成方法 |
JP2002148161A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-22 | Jeol Ltd | 試料作成装置 |
JP2003013205A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-15 | Kawatetsu Techno Res Corp | カーボン蒸着装置 |
-
2008
- 2008-09-08 JP JP2008229173A patent/JP5191842B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60132454U (ja) * | 1984-02-08 | 1985-09-04 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置 |
JPH1192579A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-06 | Nitto Denko Corp | 有機基材のプラズマ処理方法及び有機基材への金属層形成方法 |
JP2002148161A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-22 | Jeol Ltd | 試料作成装置 |
JP2003013205A (ja) * | 2001-06-26 | 2003-01-15 | Kawatetsu Techno Res Corp | カーボン蒸着装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115616016A (zh) * | 2022-12-14 | 2023-01-17 | 矿冶科技集团有限公司 | 电子探针样品表面导电性处理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5191842B2 (ja) | 2013-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Lungu et al. | Beryllium coatings on metals for marker tiles at JET: development of process and characterization of layers | |
JP2844304B2 (ja) | プラズマ対向材料 | |
US20080315122A1 (en) | Charged particle beam system and method for evacuation of the system | |
JP2003505845A (ja) | X線陽極およびその製造法 | |
Wang et al. | Electron beam evaporation deposition | |
JP2009538980A (ja) | 高温耐腐食性向上のためのセラミックコーティング及びイオンビームミキシング装置及びそれを使用したコーティング層と母材の界面を改質する方法 | |
JP3715956B2 (ja) | 情報取得装置、試料評価装置および試料評価方法 | |
JP6518868B6 (ja) | サンプルの準備及びコーティングのためのイオンビーム装置 | |
JP5191842B2 (ja) | カーボン蒸着装置 | |
JP5224347B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡用検鏡試料の金属薄膜成膜方法 | |
Banerjee et al. | Material engineering to fabricate rare earth erbium thin films for exploring nuclear energy sources | |
CN108085651A (zh) | 一种耐电子束轰击的二次电子发射复合薄膜及其制备方法 | |
Li et al. | Pre-annealing induced oxide barrier to suppress the over-selenization of Mo contact | |
CN104109830B (zh) | 一种表面渗铪耐高温奥氏体不锈钢及其制备方法 | |
Joseph et al. | Preparation of thin film of CaZrO3 by pulsed laser deposition | |
JP2002310960A (ja) | 非導電性試料の前処理装置および方法 | |
JP3580101B2 (ja) | リチウムイオン電池負極材料の製造方法及び装置 | |
JP3855051B2 (ja) | n型伝導性酸化亜鉛上への低接触抵抗電極の形成法 | |
Dinca-Balan et al. | Correlation study of nanocrystalline carbon doped thin films prepared by a thermionic vacuum arc deposition technique | |
WO2015023356A1 (en) | Thin diamond film bonding providing low vapor pressure at high temperature | |
EP2757572B1 (en) | Sample heating method using sample heating holder for electron beam microscopes or analyzers | |
JP2009252413A (ja) | 電子線源 | |
JP2603919B2 (ja) | 立方晶系窒化ホウ素の結晶粒を含む窒化ホウ素膜の作製方法 | |
JP2011074442A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP2010141030A (ja) | 多結晶シリコン膜の形成方法、多結晶シリコン膜の形成装置及び多結晶シリコン膜が形成された基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110506 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121016 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5191842 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160208 Year of fee payment: 3 |