JP2010056270A - パーティクルモニタを備えた基板処理装置及びそれを用いた基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明によるパーティクルモニタは、プラズマ処理装置内に浮遊するパーティクルを集塵電極により積極的に集め、四重極リニアトラップ等を用いて特定の場所に蓄積し、これらを電気的に検出する、もしくは、レーザー散乱光を用いて検出する。
【選択図】図1
Description
ks ∝ n d5 / λ4 (1)
と表すことができる。(1)式より、異物からの散乱光は、異物粒径の5乗に比例して強くなる、つまり、異物粒径が小さくなると、散乱光は極端に弱くなることが判る。
一般的には、プラズマ中に電極を設け、DC電圧を印加したとしても、電極のごく近傍に形成されるシースにのみ電圧が印加されてしまい、バルクプラズマ中には電界は浸透しないものと考えられている。さらに、プラズマ中に存在する帯電した異物も、プラズマによりデバイ遮蔽されてしまうため、電界を感じないはずである。つまり、完全電離状態に近いプラズマであれば、集塵電極により異物を収集することは不可能である。ところが、プラズマ処理に用いられるプラズマは電離度がかなり小さい弱電離プラズマであるため、集塵電極による異物収集が可能になるものと考えられる。
以下、図を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する。
Claims (7)
- 基板処理装置内に存在するパーティクルを検出するパーティクルモニタであって、
前記基板処理装置内のパーティクルを所望の位置に集める手段と、該集めたパーティクルを蓄積する手段と、該蓄積したパーティクルを検出する手段とを備えた、ことを特徴とするパーティクルモニタ。 - 請求項1において、
前記基板処理装置内の帯電したパーティクルを収集する集塵電極と、
前記収集したパーティクルを蓄積する四重極リニアトラップ部と、
前記蓄積したパーティクルを検出するために、前記四重極リニアトラップ部の後段に配置された電流検出手段及び電流計とを備えた、ことを特徴とするパーティクルモニタ。 - 請求項1において、
前記基板処理装置内の帯電したパーティクルを収集する集塵電極と、
前記収集したパーティクルを蓄積する四重極リニアトラップ部と、
前記蓄積したパーティクルを検出するために、前記四重極リニアトラップ部にレーザー光を入射させるためのレーザー光源と、前記パーティクルからのレーザー散乱光を検出するための光検出器とを備えた、ことを特徴とするパーティクルモニタ。 - 基板処理装置内に存在するパーティクルを検出するパーティクルモニタであって、
前記基板処理装置内の帯電したパーティクルを収集する集塵電極と、該集塵電極の後段に設けられ前記パーティクルを蓄積するための多重極リニアトラップ部と、該多重極リニアトラップ部の後段に設けられた微小電流検出手段とを備えた、ことを特徴とするパーティクルモニタ。 - プラズマ処理室を備えた基板処理装置であって、
前記プラズマ処理室に接続された請求項1に記載のパーティクルモニタを備えた、ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5において、
前記プラズマ処理室の側壁に設けられた集塵電極と、
前記プラズマ処理室を排気する第一のターボ分子ポンプと、
前記集塵電極により収集したパーティクルを蓄積する四重極リニアトラップ部と、
前記集塵電極を介して前記プラズマ処理室に接続され、前記四重極リニアトラップ部を収納するモニタ筐体と、
前記モニタ筐体を局所排気する第二のターボ分子ポンプとを備えた、ことを特徴とする基板処理装置。 - 基板処理装置のプラズマ処理室で基板を処理する基板処理方法であって、
前記基板処理装置は、該基板処理装置内のパーティクルを所望の位置に集める手段と、該集めたパーティクルを蓄積する手段と、該蓄積したパーティクルを検出する手段とを有するパーティクルモニタを備えており、
前記パーティクルモニタからのモニタ出力が所定の閾値を超えた際に、警報を発するとともに直ちに前記基板の処理を停止することを特徴とする基板の処理方法。
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