JP2010050456A - プログラマブル・リード・オンリ・メモリ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】メモリ・セルのアレイにおいて、メモリ・セルは、ヒューズおよび少なくとも1つのトランジスタを含む。トランジスタは、ヒューズのプログラミングおよび検出を制御するために使用される。プログラム電圧は、第1および第2導電層のスタックに印加される。スタックの第1部分は、プログラム電圧をセルのトランジスタの端子に結合する。スタックの第2部分は、プログラム電圧を他のセルのトランジスタの端子に結合する。
【選択図】図2A
Description
202 行信号生成器(デコーダ)
240 列信号生成器
Claims (24)
- 電圧供給端子と、
少なくとも2つのスタックされた導電層と、
第1セルと、
から構成された機器であって、
前記第1セルは、少なくとも第1端子を有するトランジスタを含み、
前記第1端子は、前記少なくとも2つのスタックされた導電層の一部を使用して前記電圧供給端子に導電的に結合される、
ことを特徴とする機器。 - 前記第1セルは、前記トランジスタに導電的に結合されたヒューズをさらに含むことを特徴とする請求項1記載の機器。
- 前記ヒューズは、1またはそれ以上の金属およびポリシリコンから選択された材料を含むことを特徴とする請求項2記載の機器。
- 前記第1セルは、ヒューズをさらに含み、
前記トランジスタは、第2端子および第3端子を含み、
前記第2端子は、行選択信号を受信するために結合され、
前記第3端子は、前記ヒューズに結合される、
ことを特徴とする請求項1記載の機器。 - 前記トランジスタは、少なくとも1つのPMOSトランジスタを含み、
前記第1端子は、ソース端子を含み、
前記第2端子は、ドレイン端子を含み、
前記第3端子は、ゲート端子を含む、
ことを特徴とする請求項4記載の機器。 - 前記少なくとも2つのスタックされた導電層は、ビアを通って第2金属層に導電的に結合された第1金属層を少なくとも含むことを特徴とする請求項1記載の機器。
- 前記ヒューズは、前記トランジスタが位置する平面上の平面内に位置することを特徴とする請求項4記載の機器。
- 前記ヒューズは、前記トランジスタの平面とほぼ同じ平面内に位置することを特徴とする請求項4記載の機器。
- 第2セルをさらに含むことを特徴とする請求項1記載の機器。
- 前記第2セルは第1端子を含み、前記少なくとも2つのスタックされた導電層の第2部分は、前記電圧供給端子を、前記第2セルの前記第1端子に導電的に結合することを特徴とする請求項9記載の機器。
- 第1および第2センス増幅器、ならびに、セルの第1および第2列をさらに含み、前記セルの第1列は前記第1センス増幅器を使用し、かつ、前記セルの第2列は前記第2センス増幅器を使用することを特徴とする請求項1記載の機器。
- センス増幅器およびセルの複数列をさらに含み、前記セルの複数列は、同一のセンス増幅器を共有することを特徴とする請求項1記載の機器。
- 行を選択するための行選択論理と、
列を選択するための列選択論理と、
前記選択された行内のセルに印加される電圧を調整するためのシフト論理と、
をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の機器。 - プログラム電圧を受け入れるためのプログラム電圧端子を形成する段階と、
第1端子を有する第1メモリ・セルを形成する段階と、
導電層のスタックを形成する段階と、
から構成され、
前記第1および第2導電層の部分は、前記プログラム電圧端子を、前記第1メモリ・セルの前記第1端子に導電的に結合する、
ことを特徴とする方法。 - 前記第1メモリ・セルは、ヒューズおよびトランジスタを含み、
前記トランジスタは、前記第1端子、第2端子、および第3端子を含み、
前記第2端子は、行選択信号を受信するために結合され、
前記第3端子は、前記ヒューズに結合される、
ことを特徴とする請求項14記載の方法。 - 前記トランジスタは、少なくとも1つのPMOSトランジスタを含み、
前記第1端子は、ソース端子を含み、
前記第2端子は、ドレイン端子を含み、
前記第3端子は、ゲート端子を含む、
ことを特徴とする請求項15記載の方法。 - 前記ヒューズは、1またはそれ以上の金属およびポリシリコンから選択された材料を含むことを特徴とする請求項16記載の方法。
- 前記スタックの導電層間にビアを形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項14記載の方法。
- 第1端子を有する第2メモリ・セルを形成する段階と、
前記スタックの第2部分を前記第2メモリ・セルの前記第1端子に結合する段階と、
をさらに含むことを特徴とする請求項14記載の方法。 - 行を選択するための行選択論理を形成する段階と、
列を選択するための列選択論理を形成する段階と、
前記選択された行内のセルに印加される電圧を調整するためのシフト論理を形成する段階と、
をさらに含むことを特徴とする請求項14記載の方法。 - メモリ装置であって、
電圧供給端子、
少なくとも2つのスタックされた導電層、および、
第1セル、
を含み、
前記第1セルは、少なくとも第1端子を有するトランジスタを含み、
前記第1端子は、前記少なくとも2つのスタックされた導電層の一部を使用して前記電圧供給端子に導電的に結合される、
メモリ装置と、
前記メモリ装置のプログラミングを要求するためのプロセッサと、
前記プロセッサに通信可能に結合された1またはそれ以上の大容量格納装置と、
から構成されることを特徴とするシステム。 - 前記第1セルは、ヒューズさらに含み、
前記トランジスタは、第2端子および第3端子を含み、
前記第2端子は、行選択信号を受信するために結合され、
前記第3端子は、前記ヒューズに結合される、
ことを特徴とする請求項21記載のシステム。 - 前記トランジスタは、少なくとも1つのPMOSトランジスタを含み、
前記第1端子はソース端子を含み、
前記第2端子はドレイン端子を含み、
前記第3端子はゲート端子を含む、
ことを特徴とする請求項22記載のシステム。 - 前記少なくとも2つのスタックされた導電層は、ビアを通って第2金属層に導電的に結合された第1金属層を少なくとも含むことを特徴とする請求項22記載のシステム。
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