JP2010037610A - 成膜材料 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、良好なプラズマディスプレイパネルの保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜材料(蒸着材料)を提供することを目的とするものである。
【解決手段】この目的を実現するために本発明は、成膜装置への供給がシューター(材料補給路)を通じて行われる成膜材料であって、六面体形状の成膜材料と、その他の形状の成膜材料とが混合されて構成された成膜材料202である。
【選択図】図4
【解決手段】この目的を実現するために本発明は、成膜装置への供給がシューター(材料補給路)を通じて行われる成膜材料であって、六面体形状の成膜材料と、その他の形状の成膜材料とが混合されて構成された成膜材料202である。
【選択図】図4
Description
本発明は、電子ビーム蒸着法により成膜するための成膜材料に関し、特に、AC型のプラズマディスプレイパネルのMgO膜を成膜するための多結晶MgOの成膜材料に関するものである。
プラズマディスプレイパネル(以下、PDPともいう)は、大別して、駆動的にはAC型とDC型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の2種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便性から、現状では、主流はAC型の面放電型のものである。
このAC型面放電のPDPの構造は、少なくとも前面側が透明な一対の基板を基板間に放電空間が形成されるように対向配置するとともに、前記放電空間を複数に仕切るための隔壁を基板に配置し、かつ前記隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように基板に電極群を配置するとともに放電により発光する赤色、緑色、青色に発光する蛍光体を設けて複数の放電セルを構成したもので、放電により発生する波長の短い真空紫外光によって蛍光体を励起し、赤色、緑色、青色の放電セルからそれぞれ赤色、緑色、青色の可視光を発することによりカラー表示を行っている。
このようなPDPは、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、視野角が広いこと、大型化が容易であること、自発光型であるため表示品質が高いことなどの理由から、フラットパネルディスプレイの中で最近特に注目を集めており、多くの人が集まる場所での表示装置や家庭で大画面の映像を楽しむための表示装置として各種の用途に使用されている。
ところでPDPにおいては、基板の、放電空間に露出する側が、放電に晒されイオン衝撃のスパッタリングにより表面状態が変化してしまうことを避けるために、基板の放電空間側に例えばMgO材料による保護膜が形成されており、この保護膜の形成にあたっては、単結晶MgOを蒸着材(成膜材料)とする電子ビーム蒸着法により成膜する方法が採られる。
ここで、その成膜の際に用いられる電子ビーム蒸着装置としては、成膜室内に設けたハースに収容した昇華性の成膜材料(蒸着材)に電子ビームを照射して、成膜材料を蒸発させ、その蒸発ガスを、キャリアにより移動する基板上に蒸着させることにより行われる。
そしてハースへの成膜材料の供給は、材料供給路(シューター)を用いて、成膜材料のペレットをシューター上を転がしてハースに投入することで行われる(特許文献1参照)。
特開2008−19473号公報
上述した構成においては、シューターは、成膜材料のペレットをハースに投入するための「ガイド」としての役目を有する。
すなわち、成膜材料は、シューター上を転がる、もしくは滑り落ちることによりハースに投入されることとなる。
ここで、安定した保護膜形成のためには、ハースへの成膜材料の投入を安定に行うことが要求され、すなわち、成膜材料は、よどみなくシューターを通過してハースに到達することが重要となる。
しかしながら、従来、シューターにおいて成膜材料が転がらずに滞留して詰まってしまうなど、「流れ」が悪くなってハースへの供給が不安定となってしまい、その結果、良好な保護膜の形成が困難となってしまうという課題が発生する場合があった。
本発明はこのような現状に鑑みなされたもので、良好な保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うPDPの実現を可能とする成膜材料を提供することを目的とする。
上記目的を実現するために本発明の成膜材料は、成膜装置への供給がシューターを通じて行われる成膜材料であって、六面体形状の成膜材料と、その他の形状の成膜材料とが混合されて構成されたものである。
本発明によれば、良好な保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うPDPの実現を可能とする成膜材料を提供することができる。
以下、本発明の一実施の形態による成膜材料(蒸着材)について図を用いて説明するが、本発明の実施の態様はこれに限定されるものではない。
まず、PDPの構造について図1を用いて説明する。図1に示すように、PDP100は前面ガラス基板103などよりなる前面パネル102と、背面ガラス基板111などよりなる背面パネル110とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着部材によって気密封着している。封着されたPDP100内部の放電空間116には、ネオン(Ne)およびキセノン(Xe)などの放電ガスが封入されている。
前面パネル102の前面ガラス基板103の一主面上には、走査電極104および維持電極105よりなる一対のストライプ状の表示電極106と遮光層(ブラックストライプ)107が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。さらにこれらの表示電極106と遮光層107とを覆うように誘電体層108が形成され、さらにその表面に酸化マグネシウム(MgO)などの金属酸化膜による保護膜109が形成されている。
また、背面パネル110の背面ガラス基板111の一主面上には、走査電極104および維持電極105と交差する方向に、複数のストライプ状のアドレス電極112が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層113が被覆している。さらに、アドレス電極112間の下地誘電体層113上には放電空間116を区切る所定の高さの隔壁114が形成されている。隔壁114間の溝にアドレス電極112毎に、紫外線によって赤色、緑色、および青色にそれぞれ発光する蛍光体層115が順次塗布されている。走査電極104および維持電極105とアドレス電極112とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極106方向に並んだ赤色、緑色、および青色の蛍光体層115を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。
次に、保護膜109を形成するための成膜装置について説明する。図2は、保護膜の成膜装置の概略構成を示す断面図である。
成膜装置200は、真空成膜方法の一種である成膜材料202を電子ビームで加熱、溶融して蒸着する電子ビーム(EB)蒸着装置である。成膜装置200は、真空槽である真空チャンバ201の内部に、成膜材料202であるMgO等のペレットを満たした金属製のハース203が配置されている。真空チャンバ201の側壁には電子ビーム源204が設置され、電子ビーム源204から、電子ビーム204aをハース203内の成膜材料202に照射する。電子ビーム204aの照射は、ハース203のサイドに配置された図示していない磁気回路による電磁石を制御することにより、その照射位置を制御することが可能である。
また、真空チャンバ201内の金属製ハース203の略上方には、走査電極104、維持電極105および誘電体層108が形成された状態の前面パネル102が設置され、さらにこの前面パネル102の上方にはヒーター205が設置されており、前面パネル102への成膜を行う前に、ヒーター203に通電し、前面パネル102の温度を上昇させることが行われる。
ここで、前面パネル102とハース203との間には、シャッター板206が設けられており、蒸着時間以外のタイミングで蒸着粒子が不用意に前面パネル102に付着することが防止される。そして前面パネル102に蒸着されるMgOの膜厚は、膜厚モニター207で管理される。
さらに真空チャンバ201には、真空排気を行う排気ポンプ208、真空度を計測する真空計209などが接続されている。
また、ハース203内の成膜材料202であるペレットは、成膜に伴う加熱、蒸発により消費されるため、成膜材料202を補給するための材料補給系を備えている。材料補給系は、例えば、成膜材料202を管理する密閉容器である材料補給チャンバ210、材料容器211、および成膜材料202をハース203へ導く材料補給路(シューター)212から構成される。
また材料補給チャンバ210と真空チャンバ201とは、開閉バルブ213を介して接続されており、成膜材料202を供給する時のみ、開閉バルブ213が開放される。なお、シューター212は、電子ビーム204aとの干渉がないよう、電子ビーム源204とは対向する側へ設置し、ハース203上に成膜材料202を供給するようにしている。
そして、前面パネル102に対し、ハース203に収容した成膜材料である成膜材料202に電子ビーム204aを照射して、成膜材料202を蒸発させ、その蒸発ガスを、前面パネル102の誘電体層108上に蒸着させることにより保護膜109の形成が行われる。
ここでシューター212の形状は、例えば図3に示すようなものである。図3は、シューター212とハース205とを概略的に示す斜視図である。
また、図4は本発明の一実施の形態による成膜材料を概略的に平面図で示すものである。図4に示すように、本発明の一実施の形態による成膜材料202は、成膜装置200(図2)への供給がシューター212(図2、3)を通じて行われる成膜材料であって、六面体形状の成膜材料202aと、その他の形状、例えば円柱・円板形状の成膜材料202bとが混合されて構成されたというものである。なお、それぞれの形状毎のサイズは、同一であっても異なるものであっても構わない。
すなわち従来、図5に概略的に平面図で示すように、成膜材料202であるMgO等のペレットが円柱・円板形状のみであったり、六面体形状のみであると、シューター212においていわゆる「ブリッジ」を形成してしまい、その結果、詰まってしまってハースへの成膜材料の供給が滞ってしまい、保護膜を安定的に形成できなくなってしまうという課題が発生する場合があった。さらに、このようなブリッジの発生は、単一形状である場合には、その大きさが異なったものであっても同様に詰まりは発生した。
ここで本発明者らが行った実験について図6を用いて説明する。図6は、実験の状態を概略的に示す図であり、シューター212の傾き角度θを、20度から60度の間で10度刻みで変化させ、それぞれの傾き角度において、成膜材料を通常の成膜条件と同じ程度の供給量でシューター212を通じてハース205に投入し、その際の詰まりの発生状態を確認した。その結果を図7に示す。
図7より明らかなように、従来のように成膜材料が、六面体形状のみであったり、円柱・円板形状のみであると、図5に概略的に平面図で示したように、シューター212を通じて成膜材料202を金属製ハースに投入しようとすると成膜材料202がシューター212において、いわゆる「ブリッジ」を形成してしまい、その結果、詰まってしまってハースへの成膜材料の供給が滞ってしまい、保護膜を安定的に形成できなくなってしまうという課題が発生する場合があった。さらに、このようなブリッジの発生は、成膜材料が単一形状の成膜材料のみで構成される場合には、その大きさが異なったものが含まれるものであっても、同様に詰まりは発生した。
しかしながら、図4に示したような本発明の一実施の形態による成膜材料である、六面体形状と円柱・円板形状とが混合された成膜材料である場合、詰まりの発生は確認されなかった。
その理由としては、成膜材料が同一形状の場合、たとえ大きさが異なっても、シューター上に於いて整列してしまい、ブリッジを形成して詰まってしまうということが起こってしまうが、六面体形状と円柱・円板形状との混合体のように、異なる形状の混合物により構成された成膜材料であると、上述したような、シューター上に於いて整列してしまうということがかなり軽減され、その結果、ブリッジを形成してしまって詰まってしまうという問題の発生が大幅に軽減されることとなったものと考えられる。
以上のように本発明は、大画面、高精細のPDPを提供する上で有用な発明である。
201 真空チャンバ
202 ペレット(成膜材料)
202a 六面体形状のペレット
202b 円柱・円板形状のペレット
203 金属製ハース
204 駆動回路ブロック
212 シューター(材料補給路)
202 ペレット(成膜材料)
202a 六面体形状のペレット
202b 円柱・円板形状のペレット
203 金属製ハース
204 駆動回路ブロック
212 シューター(材料補給路)
Claims (2)
- 成膜装置への供給がシューターを通じて行われる成膜材料であって、六面体形状の成膜材料と、その他の形状の成膜材料とが混合されて構成された成膜材料。
- 前記成膜材料は、多結晶MgOの焼結体ペレットである請求項1に記載の成膜材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008202815A JP2010037610A (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 成膜材料 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2008202815A JP2010037610A (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 成膜材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2010037610A true JP2010037610A (ja) | 2010-02-18 |
Family
ID=42010460
Family Applications (1)
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JP2008202815A Pending JP2010037610A (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 成膜材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2010037610A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011145265A1 (ja) * | 2010-05-20 | 2011-11-24 | タテホ化学工業株式会社 | 酸化マグネシウム焼結体及びその製造方法 |
-
2008
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Cited By (2)
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WO2011145265A1 (ja) * | 2010-05-20 | 2011-11-24 | タテホ化学工業株式会社 | 酸化マグネシウム焼結体及びその製造方法 |
CN102822113A (zh) * | 2010-05-20 | 2012-12-12 | 达泰豪化学工业株式会社 | 氧化镁烧结体及其制造方法 |
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