JP2010026167A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】表示品位の劣化および製造歩留まりの低下を防止することが可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 アレイ基板２００と、アレイ基板２００と対向するように配置された対向基板３００と、アレイ基板２００と対向基板３００との間に保持された液晶層４００と、アレイ基板２００および対向基板３００の主面上に液晶層４００と接するように配置された一対の配向膜５００と、複数の画素ＰＸによって構成された表示領域１２０と、を備え、配向膜５００は、表示領域１２０に配置された第１領域５１０と、少なくともラビング方向Ｓの始端側の表示領域外１３０に配置されているとともに、配向膜５００の厚み方向において表示領域１２０の外側に向かって配向膜５００の厚さが薄くなる第２領域５２０と、を備えている。
【選択図】 図２

Description

この発明は、液晶表示装置に係り、特に、アクティブマトリクス型の液晶表示装置およびその製造方法に関する。

液晶表示装置は、アレイ基板と対向基板との間に液晶分子を含む液晶層を保持した構成である。アレイ基板は、マトリクス状に配置された複数の画素電極を有している。対向基板は、複数の画素電極に対向するように配置された対向電極を有している。複数の画素電極と対向電極とは、所定の方向にラビング処理された一対の配向膜に覆われている。液晶分子の配向状態は、配向膜のラビング方向と、画素電極と対向電極との間に生じる電位によって制御される。

画素電極と対向電極との間に電位差が生じていない場合には、液晶分子は、所定の方向にラビング処理された配向膜の規制力によってラビング方向に対して略平行に配向する。画素電極と、対向電極との間に生じる電位差により電界が形成されると、液晶分子は、その長軸方向が電界に略平行な方位を向くように配向する。液晶分子の配向方向が変化することによって、液晶層を透過する光に対する変調率が変化する。液晶表示装置は、変調率に応じて、光を選択的に透過し、画像を表示している。

従来、配向膜をラビング処理する方法として、配向膜をラビング布で擦る方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００４−２４０１４２号公報

ラビング布で配向膜を擦ってラビング処理を行う場合、例えばラビング布の一部や配向膜の一部等が異物として配向膜のエッジに溜まることがある。配向膜のエッジに溜まった異物の塊が、再び配向膜に付着すると、異物の塊によって配向膜にラビングすじが生じ、ラビング不良により表示品位が劣化する場合があった。また、ラビング布に付着した異物の塊が配向膜上に付着すると、基板の洗浄工程によっても洗浄されずに異物が残ることがあり、製造歩留まりが低下の原因となることがあった。

この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位の劣化および製造歩留まりの低下を防止することが可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。

この発明の第１態様による液晶表示装置は、第１基板と、前記第１基板と対向するように配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、前記第１基板および前記第２基板の主面上に前記液晶層と接するように配置された一対の配向膜と、複数の画素によって構成された表示領域と、を備え、前記配向膜は、前記表示領域に配置された第１領域と、少なくともラビング方向の始端側の前記表示領域外に配置されているとともに、前記配向膜の厚み方向において前記表示領域の外側に向かって前記配向膜の厚さが薄くなる第２領域と、を備えている。

この発明の第２態様による液晶表示装置は、第１基板と、前記第１基板と対向するように配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、
前記第１基板および前記第２基板の主面上に前記液晶層と接するように配置された一対の配向膜と、複数の画素によって構成された表示領域と、を備え、前記第１基板および前記第２基板は、少なくともラビング方向の始端側の前記表示領域外に凹部を有し、前記配向膜は、前記表示領域に配置された第１領域と、前記凹部上に配置された端部と、を有し、前記第１基板および前記第２基板の主面から前記配向膜の上面までの距離は、前記第１領域よりも、前記端部の方が小さい。

この発明の第３態様による液晶表示装置の製造方法は、画素電極を備えた第１基板を形成する工程と、対向電極を備えた第２基板を形成する工程と、前記第１基板の前記画素電極が形成された主面および前記第２基板の前記対向電極が形成された主面上に、配向膜印刷版を有するローラを回転させて配向膜を印刷する工程と、液晶分子の配向方向を規制するように前記配向膜をラビング処理する工程と、を備え、前記配向膜印刷版の少なくともラビング方向の始端側のエッジは、前記配向膜印刷版の外側に向かって前記配向膜印刷版の厚さが薄くなるように前記配向膜印刷版の厚み方向に傾斜した傾斜面を有する。

この発明の第４態様による液晶表示装置の製造方法は、画素電極を備えた第１基板を形成する工程と、対向電極を備えた第２基板を形成する工程と、前記第１基板の前記画素電極が形成された主面および前記第２基板の前記対向電極が形成された主面上に、配向膜印刷版を有するローラを回転させて配向膜を形成する工程と、液晶分子の配向を規制するように前記配向膜をラビング処理する工程と、を備え、前記配向膜印刷版は、第１印刷領域と第２印刷領域とを有し、前記第２印刷領域は、前記配向膜印刷版の少なくともラビング方向の始端側のエッジに形成され、前記第２印刷領域のメッシュ密度は、前記第１印刷領域のメッシュ密度より小さく形成されている。

この発明によれば、表示品位の劣化および製造歩留まりの低下を防止することが可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することができる。

以下、この発明の一実施形態に係る液晶表示装置およびその製造方法について図面を参照して説明する。

まず、本実施形態に係る液晶表示装置の構成について図面を参照して以下に説明する。図１および図２に示すように、本実施形態に係る液晶表示装置は、略矩形平板状の液晶表示パネル１００と、液晶表示パネル１００を照射するバックライトユニットＢＬとを備えている。

液晶表示パネル１００は、一対の基板、すなわち、アレイ基板（第１基板）２００および対向基板（第２基板）３００と、アレイ基板２００と対向基板３００との間に保持された液晶層４００と、によって構成されている。バックライトユニットＢＬは、液晶表示パネル１００に対してアレイ基板２００側に配置され、液晶表示パネル１００をアレイ基板２００側から照明する。

液晶表示パネル１００のアレイ基板２００と対向基板３００とは、シール材１１０によって貼り合わせられている。液晶表示パネル１００は、シール材１１０によって囲まれた内側に画像を表示する表示領域１２０を備えている。この表示領域１２０は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸによって構成されている。カラー表示タイプの液晶表示装置の場合、複数の画素ＰＸは、赤色を表示する赤色画素ＰＸＲ、緑色を表示する緑色画素ＰＸＧ、青色を表示する青色画素ＰＸＢによって構成されている。

アレイ基板２００は、表示領域１２０において、画素ＰＸの行方向Ｈに沿って延びるように配置された複数の走査線Ｙ（１、２、３、…、ｍ）と、画素ＰＸの列方向Ｖに沿って延びるように配置された複数の信号線Ｘ（１、２、３、…、ｎ）と、各画素ＰＸにおける信号線Ｘと走査線Ｙとの交差部に配置されたスイッチ素子２２０と、各画素ＰＸに配置され、スイッチ素子２２０に接続された画素電極２３０と、を備えている。

また、液晶表示パネル１００は、表示領域１２０の外側に位置する表示領域外１３０に配置された接続部１３１を備えている。この接続部１３１は、信号供給源として機能する駆動ＩＣチップやフレキシブル配線基板に接続可能である。図１に示した例では、接続部１３１は、対向基板３００の端部３００Ａより外方に延在したアレイ基板２００の延在部２００Ａ上に配置されている。

表示領域１２０に配置された走査線Ｙ（１、２、３、…、ｍ）のそれぞれは、表示領域外１３０を経由して接続部１３１に接続されている。また、信号線Ｘ（１、２、３、…、ｎ）のそれぞれも同様に、表示領域外１３０を経由して接続部１３１に接続されている。

図２に示すように、アレイ基板２００は、ガラスなどの光透過性を有する絶縁基板２１０を有している。スイッチ素子２２０は、絶縁基板２１０上に配置され、例えば、アモルファスシリコンやポリシリコンなどによって形成された図示しない半導体層を備えた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）を有している。スイッチ素子２２０のゲート電極２２２は、絶縁基板２１０の上に配置されている。ゲート電極２２２は、走査線Ｙに接続されている。

スイッチ素子２２０の半導体層は、図示しないゲート絶縁膜上に配置されている。半導体層には、スイッチ素子２２０のソース電極２２５およびドレイン電極２２７が接続している。ソース電極２２５およびドレイン電極２２７は、絶縁膜２４０によって覆われている。絶縁膜２４０は、例えば、窒化シリコン膜（ＳｉＮ）によって形成されている。

画素電極２３０は、絶縁膜２４０上において、各画素ＰＸに対応して配置されている。画素電極２３０は、絶縁膜２４０に形成されたコンタクトホールを介してドレイン電極２２７と電気的に接続されている。画素電極２３０は、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。

対向基板３００は、ガラスなどの光透過性を有する絶縁基板３１０と、表示領域１２０において、液晶層４００を介して画素電極２３０と対向するように複数種類の画素ＰＸに共通の対向電極３３０を備えている。絶縁基板３１０上の一方の主面（つまり、液晶層４００と対向する面）には、表示領域１２０において、各画素ＰＸを囲むブラックマトリクス３４０が配置されている。

さらに、対向基板３００は、表示領域１２０において、絶縁基板３１０上の一方の主面に、カラーフィルタ層３２０を備えている。カラーフィルタ層３２０は、赤色画素ＰＸＲに対応して赤色の主波長の光を透過する赤色カラーフィルタ３２０Ｒと、緑色画素ＰＸＧに対応して緑色の主波長の光を透過する緑色カラーフィルタ３２０Ｇをと、さらに、青色画素ＰＸＢに対応して青色の主波長の光を透過する青色カラーフィルタ３２０Ｂとを備えている。

なお、カラーフィルタ層３２０は、アレイ基板２００側に備えられていてもよい。また、対向基板３００は、カラーフィルタ層３２０の表面の凹凸を平坦化する比較的厚い膜厚で配置されたオーバーコート層などを備えて構成してもよい。

対向電極３３０は、表示領域１２０において、液晶層４００を介して画素電極２３０に対向するように配置されている。対向電極３３０は、ブラックマトリクス３４０の上層、つまり、カラーフィルタ層３２０上に配置されている。対向電極３３０は、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどの光透過性を有する導電性材料によって形成されている。

これらのアレイ基板２００と対向基板３００とは、図示しないスペーサによって所定のギャップをおいて配置されている。液晶層４００は、ギャップに封入された液晶分子を含む液晶材料で構成されている。

アレイ基板２００および対向基板３００は、液晶層４００と接するように配置された一対の配向膜５００にそれぞれ覆われている。つまり、配向膜５００は、アレイ基板２００および対向基板３００の液晶層４００側の主面上に液晶層４００と接するように配置されている。配向膜５００は、液晶層４００に含まれる液晶分子の配向を規制するようにラビング処理されている。液晶分子は、配向膜５００によって配向方向を規制されている。

また、アレイ基板２００および対向基板３００の外面（すなわちアレイ基板２００および対向基板３００の液晶層４００と接する面とは反対の面）には、それぞれ光学素子２６０および３６０が設けられている。これらの光学素子２６０および３６０は、液晶層４００の特性に合わせて偏光方向を設定した偏光板などを含んでいる。

本実施形態に係る液晶表示装置では、配向膜５００は、表示領域１２０に配置された第１領域５１０と、第２領域５２０を有している。表示領域外１３０のエッジに配置された第２領域５２０では、配向膜５００の厚み方向において表示領域１２０の外側に向かって配向膜５００の厚さが薄くなる。なお、第２領域５２０は、少なくともラビング方向Ｓの始端側のエッジに形成されている。外側に向かう方向とは、表示領域１２０の端辺に直交する方向である。第２領域５２０の傾斜方向は、ラビング方向Ｓと略平行であることが望ましい。

配向膜５００のラビング方向Ｓの始端側のエッジは、図３に示すように、ラビング方向Ｓが第１方向Ｄ１と平行な場合、配向膜５００の辺５００Ａのエッジである。ラビング方向Ｓの始端側のエッジは、図４に示すように、ラビング方向Ｓが第２方向Ｄ２と平行な場合、配向膜５００の辺５００Ａおよび辺５００Ｂのエッジである。すなわち、第２方向Ｄ２を配向膜５００のエッジと略平行な方向成分Ｄ２１、Ｄ２２に分けた場合に、ラビング方向Ｓの始端側のエッジは、これらの方向成分Ｄ２１、Ｄ２２の始端側となるエッジ５００Ａ、５００Ｂとなる。図２に示した例では、配向膜５００は、ラビング方向Ｓの始端側の辺５００Ａのエッジに第２領域５２０を有している。

第２領域５２０の幅は、２ｍｍ以上に形成されていることが望ましい。第２領域５２０の幅とは、配向膜５００の辺から第１領域５１０までの距離のことである。なお、第２領域５２０の幅とは、例えば図３に示す場合では、ラビング方向Ｓにおける第２領域５２０の幅（Ｗ１）である。図４に示す場合では、第２領域５２０の幅とは、ラビング方向Ｓ（Ｄ２）の方向成分Ｄ２１と略平行に延びる第２領域５２０の、方向成分Ｄ２２と略平行な方向における幅（Ｗ２）、および、方向成分Ｄ２２と略平行に延びる第２領域５２０の、方向成分Ｄ２１と略平行な方向における幅（Ｗ３）である。

このように配向膜５００に第２領域５２０を形成することによって、配向膜５００のエッジがなだらかになる。これにより、ラビング布で配向膜５００をラビング処理する際に、配向膜５００のエッジやラビング布の削剥を防ぐことが可能となり、異物の発生を防ぐことが可能となる。

さらに、配向膜５００のエッジに異物が溜まることが無く、溜まった異物の塊がラビング布に付着することを防ぐことが可能となり、ラビングすじの発生を防ぐことが可能となる。これにより、ラビング不良を防ぐことが可能となり、表示品位の劣化を防止することが可能となる。

さらに、配向膜５００のエッジに異物が溜まることが無いため、例えば、ラビング布に付着した異物の塊が配向膜５００上に付着することがなくなる。

すなわち、本実施形態に係る液晶表示装置によれば、表示品位の劣化および製造歩留まりの低下を防止することが可能となる。

ここで、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例について説明する。

まず、アレイ基板２００用の絶縁基板２１０と、対向基板３００用の絶縁基板３１０を用意する。アレイ基板２００用の絶縁基板２１０に、信号線Ｘ、走査線Ｙ、スイッチ素子２２０、画素電極２３０などを形成する。これをアレイ基板２００とする。対向基板３００用の絶縁基板３１０に、ブラックマトリクス３４０、カラーフィルタ層３２０、対向電極３３０などを形成する。これを対向基板３００とする。

そして、配向膜印刷版６００を有するローラ７００に配向膜材料を塗布し、図５に示すように、アレイ基板２００の画素電極２３０が形成された主面にローラ７００を回転させ第１領域５１０および第２領域５２０を有する配向膜５００を形成する。次に、配向膜５００の液晶層４００に接する面をラビング布でラビングする。

同様に、対向基板３００の対向電極３３０が形成された主面に、配向膜印刷版６００を有するローラ７００に配向膜材料を塗布し、このローラ７００を回転させて第１領域５１０および第２領域５２０を有する配向膜５００を形成する。次に、配向膜５００の液晶層４００に接する面をラビング布でラビングする。

これらのアレイ基板２００と対向基板３００とを貼り合わせ、液晶材料を注入し、封止する。このような工程により、アレイ基板２００と対向基板３００との間に液晶層４００を保持した液晶表示装置が形成される。

上記の製造方法において、配向膜材料を塗布し、配向膜印刷版６００を有するローラ７００をアレイ基板２００の画素電極２３０が形成された主面および対向基板３００の対向電極３３０が形成された主面にローラ７００を回転させると配向膜印刷版６００のパターンに対応したパターンの配向膜５００が形成される。

図５に示した例では、配向膜印刷版６００の少なくともラビング方向Ｓの始端側のエッジは、外側に向かって配向膜印刷版６００の厚さが薄くなるように配向膜印刷版６００の厚み方向に傾斜した傾斜面６３０に形成されている。

配向膜印刷版６００のラビング方向Ｓの始端側のエッジとは、配向膜５００の始端側のエッジに対応するエッジである。すなわち、図６に示すように、ラビング方向Ｓが第１方向Ｄ１と平行な場合、ラビング方向Ｓの始端側のエッジは、配向膜印刷版６００の辺６００Ａのエッジである。図７に示すように、ラビング方向Ｓが第２方向Ｄ２と平行な場合、ラビング方向Ｓの始端側のエッジは、配向膜印刷版６００の辺６００Ａおよび６００Ｂのエッジである。

すなわち、第２方向Ｄ２を配向膜５００のエッジと略平行な方向成分Ｄ２１、Ｄ２２に分けた場合に、ラビング方向Ｓの始端側のエッジは、これらの方向成分Ｄ２１、Ｄ２２の始端側となるエッジ５００Ａ、５００Ｂとなる。図５に示した例では、配向膜印刷版６００は、ラビング方向Ｓの始端側の辺６００Ａと、辺６００Ａに対向する辺６００Ｃのエッジに傾斜面６３０を有している。図示していないが、配向膜印刷版６００は、全ての辺に傾斜面６３０を有していても良い。

このような配向膜印刷版６００を有するローラ７００に配向膜材料を塗布し、アレイ基板２００の画素電極２３０が形成された主面および対向基板３００の対向電極３３０が形成された主面にローラ７００を回転させると配向膜印刷版６００の傾斜面６３０に対応した第２領域５２０を有する配向膜５００が形成される。

このような製造方法によれば、少なくともラビング方向Ｓの始端側の配向膜５００のエッジは、なだらかに形成される。このため、ラビング布で配向膜５００をラビング処理する際に配向膜５００のエッジやラビング布の削剥を防ぐことが可能となり、異物の発生を防ぐことが可能となる。その結果、ラビング布に異物の塊が付着することを防ぐことが可能となり、ラビングすじの発生を防ぐことが可能となる。これにより、ラビング不良を防ぐことが可能となり、表示品位の劣化を防止することが可能となる。

さらに、このような製造方法によれば、配向膜５００のエッジに異物が溜まることが無いため、例えば、ラビング布に付着した異物の塊が配向膜５００上に付着することがなくなる。すなわち、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法よれば、表示品位の劣化および製造歩留まりの低下を防止することが可能となる。

次に、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法について説明する。なお、以下の説明において、上述の第１実施形態に係る液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。

本実施形態に係る液晶表示装置は、上述の第１実施形態に係る液晶表示装置と同様である。本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、図８に示すように、配向膜印刷版６００は、第１印刷領域６１０と第２印刷領域６２０とを有している。第２印刷領域６２０は、配向膜印刷版６００の少なくともラビング方向Ｓの始端側のエッジに形成されている。第２印刷領域６２０のメッシュ密度は、第１印刷領域６１０のメッシュ密度より小さく形成されている。図８に示した例では、配向膜印刷版６００は、ラビング方向Ｓの始端側の辺６００Ａと、辺６００Ａに対向する辺６００Ｃのエッジに第２印刷領域６２０を有している。

このような配向膜印刷版６００を有するローラ７００に配向膜材料を塗布し、アレイ基板２００の画素電極２３０が形成された主面および対向基板３００の対向電極３３０が形成された主面にローラ７００を回転させるとメッシュ密度の小さい第２印刷領域６２０に対応した領域に第２領域５２０を有する配向膜５００が形成される。

このような製造方法においても、エッジがなだらかに形成され、ラビング処理する際に異物の発生を防ぐことが可能となる。また、このような構成においても、配向膜５００のエッジに異物の塊が溜まらなくなる。つまり、上述の第１実施形態に係る液晶表示装置と同様の効果が得られる。

次に、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置について以下に説明する。本実施形態に係る液晶表示装置は、図９に示すようにアレイ基板２００は、表示領域外１３０に配置されるとともに配向膜５００の第２領域５２０の下地となる下地部２８０を有しており、対向基板３００は、配向膜５００の第２領域５２０の下地となる下地部３８０を有している。

次に、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置について以下に説明する。本実施形態に係る液晶表示装置は、図９に示すようにアレイ基板２００および対向基板３００は、表示領域外１３０に配置されるとともに配向膜５００の第２領域５２０の下地となる下地部２８０（３８０）を有している。

下地部２８０（３８０）の第２領域５２０の厚さが薄くなる方向の幅は、第２領域５２０とのずれを考慮して、第２領域５２０の厚さが薄くなる方向の幅より大きく形成されている。この下地部２８０（３８０）は、配向膜５００の第１領域５１０の下地となる下地材料より表面張力の小さい材料、例えば、ＩＴＯより表面張力の小さい材料によって形成されている。

配向膜５００は、表面張力の小さい材料の上では、薄く伸びる。このため、表面張力の小さい下地部２８０（３８０）上に配置された配向膜５００の膜厚は、第１領域５１０上に配置された配向膜５００の膜厚よりも小さくなる。つまり、配向膜５００の第２領域５２０の下地となる下地部２８０（３８０）を表面張力の小さい材料で形成することによって、配向膜５００に第２領域５２０が形成される。

このような構成においても、エッジがなだらかに形成され、ラビング処理する際に異物の発生を防ぐことが可能となる。また、このような構成においても、配向膜５００のエッジに異物の塊が溜まらなくなる。つまり、上述の第１実施形態に係る液晶表示装置と同様の効果が得られる。

次に、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置について説明する。本実施形態に係る液晶表示装置は、図１０に示すように、アレイ基板２００は、少なくともラビング方向Ｓの始端側の表示領域外１３０に凹部２９０を有する。また、対向基板３００は、少なくともラビング方向Ｓの始端側の表示領域外１３０に凹部３９０を有する。凹部２９０は、アレイ基板２００の画素電極２３０が形成された主面Ｐに形成される。また、凹部３９０は、対向基板３００の対向電極３３０が形成された主面Ｐに形成される。また、配向膜５００は、表示領域１２０に配置された第１領域５１０と、凹部２９０（３９０）上に配置された端部５３０と、を有する。

このようなアレイ基板２００および対向基板３００の主面Ｐに配向膜５００を形成すると、アレイ基板２００および対向基板３００の主面Ｐから配向膜５００の上面までの距離は、第１領域５１０よりも、端部５３０の方が小さくなる。

なお、凹部２９０（３９０）の底面は、外側に向かってアレイ基板２００および対向基板３００の厚さが薄くなるようにアレイ基板２００および対向基板３００の厚み方向に傾斜するように形成されることが望ましい。

このような構成においても、エッジがなだらかに形成され、ラビング処理する際に異物の発生を防ぐことが可能となる。また、このような構成においても、配向膜５００のエッジに異物の塊が溜まらなくなる。つまり、上述の第１実施形態に係る液晶表示装置と同様の効果が得られる。

以上より、本実施の形態に係る液晶表示装置およびその製造方法によれば、表示品位の劣化および製造歩留まりの低下を防止することが可能な液晶表示装置とその製造方法を提供することが可能となる。

なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。

なお、本実施の形態に係る液晶表示装置は、透過型液晶表示装置であったが、この例に限らず、反射型液晶表示装置および半透過型液晶表示装置に本発明を適用してもよい。

図１は、この発明の一実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの一構成例を概略的に示す図である。 図２は、図１に示したＡ−Ａ’線に沿って液晶表示パネルを切断したときの断面図である。 図３は、配向膜のラビング方向の始端側のエッジを示す平面図である。 図４は、配向膜のラビング方向の始端側のエッジを示す平面図である。 図５は、本実施形態に係る液晶表示装置の配向膜印刷版の構造を概略的に示す図である。 図６は、配向膜印刷版のラビング方向の始端側のエッジを示す平面図である。 図７は、配向膜印刷版のラビング方向の始端側のエッジを示す平面図である。 図８は、第２実施形態に係る液晶表示装置の配向膜印刷版の構造を概略的に示す図である。 図９は、第３実施形態に係る液晶表示装置のアレイ基板と配向膜の構造を概略的に示す断面図である。 図１０は、第４実施形態に係る液晶表示装置のアレイ基板と配向膜の構造を概略的に示す断面図である。

符号の説明

２００…アレイ基板 ３００…対向基板 ４００…液晶層 ５００…配向膜 ５１０…第１領域 ５２０…第２領域 Ｓ…ラビング方向

Claims (5)

1. 第１基板と、
   前記第１基板と対向するように配置された第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、
   前記第１基板および前記第２基板の主面上に前記液晶層と接するように配置された一対の配向膜と、
   複数の画素によって構成された表示領域と、を備え、
   前記配向膜は、前記表示領域に配置された第１領域と、少なくともラビング方向の始端側の前記表示領域外に配置されているとともに、前記配向膜の厚み方向において前記表示領域の外側に向かって前記配向膜の厚さが薄くなる第２領域と、を備えている液晶表示装置。
2. 前記第１基板および前記第２基板は、前記第２領域の下地となる下地部を有し、
   前記下地部は、前記第１領域の下地材料より表面張力の小さい材料である請求項１記載の液晶表示装置。
3. 第１基板と、
   前記第１基板と対向するように配置された第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、
   前記第１基板および前記第２基板の主面上に前記液晶層と接するように配置された一対の配向膜と、
   複数の画素によって構成された表示領域と、を備え、
   前記第１基板および前記第２基板は、少なくともラビング方向の始端側の前記表示領域外に凹部を有し、
   前記配向膜は、前記表示領域に配置された第１領域と、前記凹部上に配置された端部と、を有し、
   前記第１基板および前記第２基板の主面から前記配向膜の上面までの距離は、前記第１領域よりも、前記端部の方が小さい液晶表示装置。
4. 画素電極を備えた第１基板を形成する工程と、
   対向電極を備えた第２基板を形成する工程と、
   前記第１基板の前記画素電極が形成された主面および前記第２基板の前記対向電極が形成された主面上に、配向膜印刷版を有するローラを回転させて配向膜を印刷する工程と、
   液晶分子の配向方向を規制するように前記配向膜をラビング処理する工程と、を備え、
   前記配向膜印刷版の少なくともラビング方向の始端側のエッジは、前記配向膜印刷版の外側に向かって前記配向膜印刷版の厚さが薄くなるように前記配向膜印刷版の厚み方向に傾斜した傾斜面を有する液晶表示装置の製造方法。
5. 画素電極を備えた第１基板を形成する工程と、
   対向電極を備えた第２基板を形成する工程と、
   前記第１基板の前記画素電極が形成された主面および前記第２基板の前記対向電極が形成された主面上に、配向膜印刷版を有するローラを回転させて配向膜を形成する工程と、
   液晶分子の配向を規制するように前記配向膜をラビング処理する工程と、を備え、
   前記配向膜印刷版は、第１印刷領域と第２印刷領域とを有し、
   前記第２印刷領域は、前記配向膜印刷版の少なくともラビング方向の始端側のエッジに形成され、
   前記第２印刷領域のメッシュ密度は、前記第１印刷領域のメッシュ密度より小さく形成されている液晶表示装置の製造方法。

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