JP2010022275A - 細胞培養容器および細胞培養方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る細胞培養容器10は表面に複数の凹凸パターン(凹部12および凸部13)が形成された細胞培養容器10であって、パターンが設けられたエリア11が弾性変形できることを特徴とするものである。また、本発明の培養容器10を用いて細胞を培養する際に、周期的に変形を繰り返すことを特徴とする細胞培養方法である。これにより、細胞の形態を制御でき、延伸・圧縮といった生体内の力学的刺激を模倣した環境を与えることができる。
【選択図】図1
Description
また、前記凹凸パターンが設けられた領域に表面処理が行われていることが好ましい。
および少なくとも前記凹凸パターンが設けられた領域が周期的に変形を繰り返す状態で前記播種された細胞を培養するステップ
を備えることを特徴とする細胞培養方法である。
また、前記細胞を播種するステップにおいて、前記凹凸パターン部が所定の大きさで延伸されていても良い。
また、細胞の播種を所定量の延伸をした状態で行い。細胞培養時に延伸量の大きい状態と小さい状態とを周期的に繰り返しても良い。
ヒト臍帯静脈内皮細胞(HUVEC)を、20%ウシ胎児血清、Medium199/RPMI1640=1/1培地、2mML−グルタミン、2.5μg/mlアンフォテリシンB、ペニシリン/ストレプトマイシン=(100U/ml)/(100μg/ml)を含む培養液中で37℃、5%CO2 /95% air下で培養した。細胞の一酸化窒素(NO)産生量を活性の指標とすることとし、NO産生量は培養液の上清中のNO量をGriess法により測定した。
図3に示す凹凸パターン形状であって、a=20μm、b=80μm、c=50μmのパターンをフォトリソグラフィにより作製し、Ni電解メッキを行い、対応する凹凸形状を有する金型を得た。その金型に、東レ・ダウコーニング社製Silgard184(ベースポリマー:)を流し込み150℃、15分間加熱後、成形品を得た。その成形品表面をモリエンジニアリング社製プラズマ装置にて酸素プラズマ処理を行い親水化した後、70%エタノール滅菌を行い、凹凸パターン基材を得た。その凹凸基材上でHUVECを培養した。培養期間中、延伸量0%〜15%、1Hzの条件で周期的な延伸を与えた。
図3に示す凹凸パターン形状であって、a=20μm、b=80μm、c=50μmのパターンをフォトリソグラフィにより作製し、Ni電解メッキを行い、対応する凹凸形状を有する金型を得た。その金型を用い、ホットエンボス成形によりポリスチレン上にパターン転写を行い、前記寸法の樹脂成形品を作製した。その樹脂成形品表面をモリエンジニアリング社製プラズマ装置にて酸素プラズマ処理を行い親水化した後、γ線滅菌を行い、凹凸パターン基材を得た。その凹凸基材上でHUVECを培養した。
図1に示す細胞培養容器10と同じ外形寸法で培養領域が平面状である金型に東レ・ダウコーニング社製Silgard184(ベースポリマー:)を流し込み150℃、15分間加熱後、成形品を得た。その成形品表面をモリエンジニアリング社製プラズマ装置にて酸素プラズマ処理を行い親水化した後、70%エタノール滅菌を行い、凹凸パターン基材を得た。その凹凸基材上でHUVECを培養した。培養期間中、延伸量0%〜15%、1Hzの条件で周期的な延伸を与えた。
11 凹凸パターンエリア
12 凹部
13 凸部
Claims (7)
- 表面に複数の凹凸パターンが形成された細胞培養容器であって、前記凹凸パターンが形成する空間構造の幅が1μm〜500μm、長さが1μm〜500μm、高さが1μm〜500μmであり、少なくとも前記凹凸パターンが設けられた領域が5%〜100%への延伸または5%〜50%への圧縮で弾性変形できることを特徴とする細胞培養容器。
- 少なくとも前記凹凸パターンが設けられた領域が周期的に変形できることを特徴とする請求項1に記載の細胞培養容器。
- 前記凹凸パターンが設けられた領域の厚みが0.05mm〜1mmであることを特徴とする請求項1または2に記載の細胞培養容器。
- 前記凹凸パターンが設けられた領域が透明であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の細胞培養容器。
- 前記凹凸パターンが設けられた領域に表面処理が行われていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の細胞培養容器。
- 表面に複数の凹凸パターンが形成され、該凹凸パターンが形成する空間構造の幅が1μm〜500μm、長さが1μm〜500μm、高さが1μm〜500μmである細胞培養容器において、前記凹凸パターン部に細胞を播種するステップ、
および少なくとも前記凹凸パターンが設けられた領域が周期的に変形を繰り返す状態で前記播種された細胞を培養するステップ
を備えることを特徴とする細胞培養方法。 - 前記細胞を播種するステップにおいて、前記凹凸パターン部に所定の延伸を与えた状態で細胞を播種することを特徴とする請求項6に記載の細胞培養方法。
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