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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5220136B2 (ja) 2011-01-01 2013-06-26 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置およびデバイス製造方法
JP6041541B2 (ja) * 2012-06-04 2016-12-07 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP6410406B2 (ja) * 2012-11-16 2018-10-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置および物品の製造方法
JP6386896B2 (ja) * 2014-12-02 2018-09-05 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置、および、デバイス製造方法
JP6896404B2 (ja) * 2016-11-30 2021-06-30 キヤノン株式会社 露光装置及び物品の製造方法
JP6882053B2 (ja) 2016-12-05 2021-06-02 キヤノン株式会社 カタディオプトリック光学系、照明光学系、露光装置および物品製造方法
JP7357488B2 (ja) * 2019-09-04 2023-10-06 キヤノン株式会社 露光装置、および物品製造方法
JP7332415B2 (ja) * 2019-10-01 2023-08-23 キヤノン株式会社 投影光学系、走査露光装置および物品製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US555629A (en) * 1896-03-03 Scourer and polisher
JPH06331932A (ja) * 1993-05-19 1994-12-02 Topcon Corp 投影光学装置
US5739964A (en) * 1995-03-22 1998-04-14 Etec Systems, Inc. Magnification correction for small field scanning
JP3445021B2 (ja) * 1995-04-28 2003-09-08 キヤノン株式会社 光学装置
WO1999049366A1 (fr) * 1998-03-20 1999-09-30 Nikon Corporation Photomasque et systeme d'exposition par projection
JP2003222795A (ja) * 2001-11-21 2003-08-08 Adtec Engineeng Co Ltd 倍率補正光学系
TWI232347B (en) 2001-12-26 2005-05-11 Pentax Corp Projection aligner
JP2003178971A (ja) * 2002-10-24 2003-06-27 Nikon Corp 投影露光装置及び投影露光方法
JP2004333761A (ja) * 2003-05-06 2004-11-25 Nikon Corp 反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
JP3728301B2 (ja) * 2003-05-30 2005-12-21 株式会社オーク製作所 投影光学系
SG145780A1 (en) * 2003-08-29 2008-09-29 Nikon Corp Exposure apparatus and device fabricating method
US20070206167A1 (en) * 2004-01-06 2007-09-06 Takeyuki Mizutani Exposure Method and Apparatus, and Device Manufacturing Method
JP2005345582A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 投影光学系およびパターン描画装置
DE102006022958A1 (de) * 2006-05-11 2007-11-22 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsverfahren und Verwendung eines Projektionsobjektivs
KR20090013746A (ko) * 2006-05-25 2009-02-05 가부시키가이샤 니콘 조명 광학 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조방법

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