JP2010016008A - 電子装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】電極に対して抵抗の低い電気的接続が可能な電子装置及びその製造方法並びに電子機器を提供することにある。
【解決手段】電子装置は、基板と、基板の動作領域に設けられた複数の動作素子と、動作領域の幅を超える長さを有するように動作領域よりも基板の端部側に設けられた第１の配線と、第１の配線と異なる層位置に形成され第１の配線と重なる部分を有し複数の動作素子に共通に電気エネルギーを供給するための第１の電極と、第１の配線と第１の電極との重複領域に設けられて、第１の配線と第１の電極とを電気的に接続する導電部と、を有する。
【選択図】図２

Description

本発明は、電子装置及びその製造方法並びに電子機器に関する。

対向する電極を有する電子装置の一例として液晶パネルがある。液晶パネルは、第１及び第２の電極の間に電圧を印加するようになっている。第１の電極が形成された基板には外部端子が形成されており、第２の電極も、第１の電極が形成された基板の外部端子と電気的に接続されている。詳しくは、基板に導電部が立ち上げ形成されて、外部端子から引き出された配線と、第２の電極とが電気的に接続されている。導電部は、液晶パネルの角部にのみ局所的に配置されていた。したがって、導電部が小さいため抵抗が高いという問題があった。しかし、従来の液晶パネルでは、基板上での配線の引き回しの都合で、大きな導電部を設けられなかった。

本発明は、従来の問題点を解決するもので、その目的は、電極に対して抵抗の低い電気的接続が可能な電子装置及びその製造方法並びに電子機器を提供することにある。

（１）本発明に係る電子装置は、基板と、前記基板の動作領域に設けられた複数の動作素子と、前記動作領域の幅を超える長さを有するように、前記動作領域よりも前記基板の端部側に設けられた第１の配線と、前記第１の配線と異なる層位置に形成され、前記第１の配線と重なる部分を有し、前記複数の動作素子に共通に電気エネルギーを供給するための第１の電極と、前記第１の配線と前記第１の電極との重複領域に設けられて、前記第１の配線と前記第１の電極とを電気的に接続する導電部と、を有する。

本発明によれば、導電部を大きく形成することができ、少なくとも動作領域の幅を超える長さを有するように第１の配線を形成することで、第１の電極に対して抵抗の低い電気的接続が可能である。なお、動作領域の幅とは、それが矩形（長方形又は正方形）であればその一辺の長さであってもよいし、それが円形であればその直径の長さであってもよい。

（２）この電子装置は、それぞれの前記動作素子に対応して設けられ、それぞれの前記動作素子に前記電気エネルギーを供給するための第２の電極と、前記第２の電極に電気的に接続され、前記動作素子を駆動する駆動回路と、前記動作領域と前記第１の配線との間に設けられ、前記駆動回路に電気的に接続されてなる第２の配線と、をさらに有してもよい。

（３）この電子装置において、前記第１及び第２の電極は、少なくとも部分的に前記動作素子を挟んで互いに対向するように配置されていてもよい。

（４）この電子装置において、前記第１の配線は、前記動作領域を囲む領域に、開口を有するように配置されてなり、前記開口側に、前記動作素子に電気的に接続された第３の配線をさらに有してもよい。

（５）この電子装置は、前記駆動回路に信号を供給するための電子回路を前記動作領域と前記第１の配線との間にさらに有してもよい。

（６）この電子装置において、前記第１の配線は、前記動作領域及び前記電子回路を囲む領域に、開口を有するように配置されてなり、前記開口側に、前記動作素子及び前記電子回路の少なくとも一方に電気的に接続された第３の配線をさらに有してもよい。

（７）この電子装置において、前記電子回路は、走査線ドライバを含み、前記第３の配線は、前記駆動回路にデータ信号を供給する配線を含んでいてもよい。

（８）この電子装置は、前記基板の端部に、前記第１、第２及び第３の配線が電気的に接続される複数の端子を有し、前記第１及び第２の配線が電気的に接続される第１グループの端子は、前記第３の配線が電気的に接続される第２グループの端子よりも、ピッチが大きく形成されていてもよい。

（９）この電子装置は、前記基板の端部に、前記第１、第２及び第３の配線が電気的に接続される複数の端子を有し、前記第１及び第２の配線が電気的に接続される第１グループの端子は、前記第３の配線が電気的に接続される第２グループの端子よりも、ピッチが大きく形成されていてもよい。

（１０）この電子装置は、前記第１の配線と前記第１の電極との間であって、前記導電部を除いた領域に設けられた絶縁層をさらに有してもよい。

（１１）この電子装置において、前記第２の配線は、互いに分離された複数の分割配線を含んでもよい。

（１２）この電子装置において、それぞれの前記動作素子は、互いに異なる発光色の複数の発光材料のいずれか１つを有し、前記複数の分割配線は、それぞれ、前記発光色に応じて設けられていてもよい。

（１３）この電子装置において、少なくとも１つの前記分割配線の一部と、残りの前記分割配線の一部とは、前記動作領域を挟んで互いに反対側に配置されていてもよい。

（１４）この電子装置において、２つ以上の前記分割配線は、前記動作領域と前記基板の端部との間において、その一部が互いに隣り合い、かつ、少なくとも前記隣り合う部分が互いに異なる幅になるように形成されていてもよい。

（１５）この電子装置において、少なくとも１つの前記分割配線は、前記動作領域と前記基板の端部との間において他の１つの前記分割配線と隣り合う第１の部分と、前記第１の部分よりも広い幅の第２の部分と、を有してもよい。

（１６）この電子装置において、前記基板は、複数の辺を有し、一辺に位置する部分に端子を有してもよい。

（１７）本発明に係る電子機器は、上記電子装置を有する。

（１８）本発明に係る電子装置の製造方法は、基板の動作領域に複数の動作素子を形成すること、前記動作領域よりも前記基板の端部側に、前記動作領域の幅を超える長さを有するように、第１の配線を形成すること、前記第１の配線上に導電部を形成すること、及び、前記第１の配線と異なる層位置で、前記導電部を覆うように、前記第１の配線と重なる領域まで、前記複数の動作素子に共通に電気エネルギーを供給するための第１の電極を形成すること、を含む。

本発明によれば、導電部を大きく形成することができ、少なくとも動作領域の幅を超える長さを有するように第１の配線を形成することで、第１の電極に対して抵抗の低い電気的接続が可能である。なお、動作領域の幅とは、それが矩形（長方形又は正方形）であればその一辺の長さであってもよいし、それが円形であればその直径の長さであってもよい。

（１９）この電子装置の製造方法において、それぞれの前記動作素子に前記電気エネルギーを供給するための第２の電極を、それぞれの前記動作素子に対応して設けること、前記動作素子を駆動する駆動回路を、前記第２の電極に電気的に接続するように形成すること、及び、第２の配線を、前記駆動回路に電気的に接続するように、前記動作領域と前記第１の配線との間に形成すること、をさらに含んでもよい。

（２０）この電子装置の製造方法において、それぞれの前記動作素子に、互いに異なる発光色の複数の発光材料のいずれか１つを付与し、前記第２の配線として、前記発光色に応じて互いに分離された複数の分割配線を形成してもよい。

（２１）この電子装置の製造方法において、２つ以上の前記分割配線を、前記動作領域と前記基板の端部との間において、その一部が互いに隣り合い、かつ、少なくとも前記隣り合う部分が互いに異なる幅になるように形成してもよい。

本発明の実施の形態に係る電子装置を説明する図。 本発明の実施の形態に係る電子装置の詳細を説明する図。 図２に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図。 本発明の実施の形態に係る電子装置の回路を示す図。 本発明の実施の形態に係る電子機器を示す図。 本発明の実施の形態に係る電子機器を示す図。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。

図１は、本発明の実施の形態に係る電子装置を説明する図である。電子装置１は、表示装置（例えば表示パネル）などの電気光学装置や記憶装置であってもよい。図１に示す電子装置１は、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネルである。図２は、電子装置１の詳細を示す図であり、図３は、図２に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図である。電子装置１は、第１及び第２の配線１０，２０を有する。第１の配線１０は、第２の配線２０よりも、電子装置１において外側に位置する。

第２の配線２０は、動作領域５４と第１の配線１０との間に設けられている。第２の配線２０は、複数の（例えば３つ以上の（図２の例では第１〜第３の））分割配線１１〜１３からなる。第１〜第３の分割配線１１〜１３は、互いに分離されてなる。第１の分割配線１１は、残りの分割配線１２，１３から離れた位置（例えば複数の動作素子５０が形成された動作領域５４を挟んで第１の分割配線１１とは反対側）に形成されている。第１の分割配線１１以外の分割配線（第２及び第３の分割配線１２，１３）は、隣同士に並んで配置されている。少なくとも１つの分割配線（例えば第１の分割配線１１）の一部と、残りの分割配線（例えば第２及び第３の分割配線１２，１３）の一部とは、動作領域５４を挟んで互いに反対側に配置されている。２つ以上の分割配線（例えば第２及び第３の分割配線１２，１３）は、動作領域５４と基板６４の端部との間において、その一部が互いに隣り合い、かつ、少なくとも隣り合う部分が互いに異なる幅になるように形成されていてもよい。少なくとも１つの分割配線（例えば第１の分割配線１１）は、動作領域５４と基板６４の端部との間において他の１つの分割配線（例えば第２の分割配線１２）と隣り合う第１の部分と、第１の部分よりも広い幅の第２の部分と、を有してもよい。

第２の配線２０は、複数の端子１４を有する。本実施の形態では、複数の端子１４は、複数の分割配線１１〜１３の端部である。複数の分割配線１１〜１３のそれぞれは、少なくとも１つ（図１では複数）の端子１４に接続されている。複数の端子１４は、幅方向に並列されている。複数の端子１４は、先端をそろえて配列されている。第２の配線２０は、基板６４の一辺に引き出されている。

第２の配線２０は、端子１４から延びる第１の部分と、第１の部分から交差する方向に延びる第２の部分と、を有する。例えば、第１の分割配線１１は、端子１４から延びる第１の部分３０と、第１の部分３０から交差する方向（図１では直角方向）に延びる第２の部分３２と、を有する。第１及び第２の部分３０，３２は、Ｌ字に沿った方向に延びている。さらに詳しくは、第１の部分３０は、複数の端子１４の先端が並ぶ直線（例えば基板６４の縁）に直角方向（ほぼ直角方向を含む）に延びており、第２の部分３２は、複数の端子１４の先端が並ぶ直線（例えば基板６４の縁）に平行な方向（ほぼ平行な方向を含む）に延びている。また、第２の部分３２には、第２及び第３の分割配線１２，１３の少なくとも一方（図１では両方）を避ける切り欠き３４が形成されている。切り欠き３４は、第２の部分３２の幅（延設方向に直角な方向の長さ）を狭くするように形成されている。図１に示す切り欠き３４は、第２の部分３２における第１の部分３０とは反対側（例えば第１及び第２の部分３０，３２によって描かれるＬ字の外角側）に形成されている。変形例として、切り欠き３４を、第２の部分３２における第１の部分３０の側（例えば第１及び第２の部分３０，３２によって描かれるＬ字の内角側）に形成してもよい。

第２の分割配線１２は、端子１４から延びる第１の部分３６と、第１の部分３６から交差する方向（図１では直角方向）に延びる第２の部分３８と、を有する。第１及び第２の部分３６，３８は、Ｌ字に沿った方向に延びている。さらに詳しくは、第１の部分３６は、複数の端子１４の先端が並ぶ直線（例えば基板６４の縁）に直角方向（ほぼ直角方向を含む）に延びており、第２の部分３８は、複数の端子１４の先端が並ぶ直線（例えば基板６４の縁）に平行な方向（ほぼ平行な方向を含む）に延びている。また、第２の部分３８には、第１及び第３の分割配線１１，１３の少なくとも一方（図１では第１の分割配線１１）を避ける切り欠き４０が形成されている。切り欠き４０は、第２の部分３８の幅（延設方向に直角な方向の長さ）を狭くするように形成されている。図１に示す切り欠き４０は、第２の部分３８における第１の部分３０の側（例えば第１及び第２の部分３６，３８によって描かれるＬ字の内角側）に形成されている。変形例として、切り欠き４０を、第２の部分３８における第１の部分３０とは反対側（例えば第１及び第２の部分３６，３８によって描かれるＬ字の外角側）に形成してもよい。

第３の分割配線１３は、端子１４から延びる第１の部分４２と、第１の部分４２から交差する方向（図１では直角方向）に延びる第２の部分４４と、を有する。第１及び第２の部分４２，４４は、Ｌ字に沿った方向に延びている。さらに詳しくは、第１の部分４２は、複数の端子１４の先端が並ぶ直線（例えば基板６４の縁）に直角方向（ほぼ直角方向を含む）に延びており、第２の部分４４は、複数の端子１４の先端が並ぶ直線（例えば基板６４の縁）に平行な方向（ほぼ平行な方向を含む）に延びている。変形例として、第２の部分４４には、第１及び第３の分割配線１１，１３の少なくとも一方を避ける切り欠きを形成してもよい。切り欠きの詳細は、上述した切り欠き３４，４０と同じである。

本実施の形態では、第１の分割配線１１の第１の部分３０と、第１及び第２の分割配線１２，１３の第１の部分３６，４２とは、動作素子５０が形成された動作領域５４を挟んで反対側に配置されている。第１の分割配線１１の第２の部分３２と、第２及び第３の分割配線１２，１３の第２の部分３８，４４とは、それぞれの第１の部分３０，３６，４２から反対方向（対向する方向）に延びている。第１の分割配線１１の第２の部分３２と、第２及び第３の分割配線１２，１３の第２の部分３８，４４とは、少なくとも部分的に、隣同士に並ぶように配列されている。第２の配線２０は、コ字状（又はＣ字状）をなすように形成されている。詳しくは、第１〜３の分割配線１１，１２，１３が、３つの方向から領域（例えば動作領域５４）を囲むようになっている。第１〜３の分割配線１１，１２，１３は、少なくとも１つの方向（例えば基板６４の一辺）に対して開放する（囲まない）ようになっている。例えば、第１〜３の分割配線１１，１２，１３は、四辺形領域の３辺を囲み、１辺に対して開放している。

第１の分割配線１１は、残りの分割配線１２，１３よりも広い幅で形成されている。ここで、幅とは、分割配線１１〜１３のそれぞれにおいて、延設方向に直交する方向の長さである。第１の分割配線１１の第１の部分３０の幅は、残りの分割配線１２，１３の第１の部分３６，４２の幅よりも広い。また、第１の分割配線１１の第２の部分３２の少なくとも一部の幅は、残りの分割配線１２，１３の第２の部分３８，４４の幅よりも広い。図１に示す例では、第１の分割配線１１の第２の部分３２における切り欠き３４が形成された部分の幅は、第２の分割配線１２の第２の部分３８における切り欠き４０が形成されない部分の幅よりも狭い。

第２の配線２０は、第２の電極５２（図３参照）に電気的に接続されている。第２の電極５２は、複数の電極の集まりである。それぞれの第２の電極５２は、それぞれの動作素子５０に対応して設けられている。第２の電極５２は、それぞれの動作素子５０に電気エネルギーを供給するためのものである。第２の電極５２の少なくとも一部（多くの場合一部のみ）は、動作素子５０と重なるように形成されている。本実施の形態では、第２の電極５２を、光が透過するように、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などによって透明電極で形成してある。第２の電極５２は、マトリクス状に形成してもよい。

第２の電極５２は、第２の配線２０によって囲まれた領域内に形成されている。図２に示す例では、第１〜３の分割配線１１，１２，１３の第２の部分３２，３８，４４の一方の側（第２の配線２０が開放している側（図２では左側））に、第２の電極５２が配置されている。第１〜３の分割配線１１，１２，１３の第２の部分３２，３８，４４と、第２の電極５２との電気的接続には、多層配線を適用してもよい。

第１の配線１０は、第２の配線２０を挟んで、動作領域５４又は第２の電極５２とは反対側に配置されている。第１の配線１０は、動作領域５４の幅を超える長さを有するように形成されている。したがって、動作領域５４の幅の外側にも第１の配線１０が延設されているので、導電部７０を十分な長さにわたって設けることができる。なお、動作領域５４の幅とは、それが矩形（長方形又は正方形）であればその一辺の長さであってもよいし、それが多角形の場合であればその対角線の長さであってもよいし、それが円形であればその直径（楕円形であれば長軸又は短軸）の長さであってもよい。第１の配線１０は、動作領域５４よりも基板６４の端部側に設けられている。第１の配線１０は、少なくとも動作領域５４の一辺の長さに渡る長さで形成されている。第１の配線１０は、コ字状（又はＣ字状）をなすように形成されている。詳しくは、第１の配線１０は、３つの方向から領域（例えば動作領域５４）を囲むようになっている。第１の配線１０は、動作領域５４を囲む領域に、開口を有するように配置されている。この開口側に第３の配線６０が形成されている。第１の配線１０は、少なくとも１つの方向に対して開放する（囲まない）ようになっている。例えば、第１の配線１０は、四辺形領域の３辺を囲み、１辺に対して開放している。第１及び第２の配線１０，２０は、同じ方向に対して開放している。図３に示すように、第１の配線１０を複数層で形成してもよい。

動作素子５０に光学材料（発光材料・液晶等）を設けて、光学装置（電気光学装置）を構成してもよい。光学材料によって電気光学素子を構成してもよい。その場合、動作領域５４は表示領域（表示部）であってもよい。動作領域５４の形状は、矩形（長方形又は正方形）に限らず、それ以外の多角形や円形又は楕円形であってもよい。動作素子５０は、互いに異なる発光色の複数の発光材料のいずれか１つを有する。複数の分割配線１１〜１３は、それぞれ、発光色に応じて設けられている。有機ＥＬパネルとしての電子装置１では、赤、緑、青のそれぞれの発光材料を動作素子５０に設けてもよい。動作素子５０には、正孔輸送層や電子輸送層を形成してもよい。上述したように、第１の分割配線１１は、残りの分割配線１２，１３よりも幅が広いので、発光効率の悪い材料（ポリマー系材料（例えば青色の発光材料））に対応させてもよい。そうすることで、幅の広い第１の分割配線１１から、大電流（あるいは安定した電流）を供給することができる。その場合、第２及び第３の分割配線１２，１３を、例えば低分子系材料（例えば赤、緑色の発光材料）に対応させる。

電子装置１は、電子回路５６を有する。電子回路５６は、動作素子５０の動作（例えば有機ＥＬパネルでは発光）を制御する。または、電子回路５６は、動作素子５０を駆動するための駆動回路（例えば駆動素子１２０を含む回路）に信号を供給する。電子回路５６は、表示部の走査線ドライバを含んでもよい。電子回路５６は、第２の電極５２と電気的に接続されている。電子回路５６は、第２の配線２０と動作領域５４との間に設けられている。詳しくは、第１の分割配線１１の第１の部分３０（又は第２又は第３の分割配線１２，１３の第１の部分３６，４２）と、動作領域５４との間に電子回路５６が設けられている。ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が電子回路５６の一部であってもよい。電子回路５６は、動作領域５４と第１の配線１０との間に形成されている。

第１又は第２の配線１０，２０による囲み込みから開放された方向（図２では左方向）に、少なくとも１つ（多くの場合複数）の第３の配線６０が引き出されている。第３の配線６０は、動作素子５０に電気的に接続されている。第３の配線６０は、第２の電極５２及び電子回路５６の少なくとも一方（図２に示す例では両方）から引き出されている。複数の第３の配線６０は、動作素子５０を駆動するための駆動回路（例えば駆動素子１２０を含む回路）にデータ信号を供給する配線を含む。第３の配線６０のうち、動作領域５４（第２の電極５２）から引き出された配線は、表示部にデータ信号を供給するものであってもよい。第３の配線６０は、端子６２を有する。複数の第３の配線６０における複数の端子６２は、幅方向に並列されている。複数の端子６２は、先端をそろえて配列されている。第３の配線６０は、基板６４の一辺に引き出されている。第１及び第２の配線１０，２０の複数の端子１４のピッチＰ１，Ｐ２は、第３の配線６０の複数の端子６２のピッチＰ３よりも大きい。また、第１及び第２の配線１０，２０の複数の端子１４の幅は、第３の配線６０の複数の端子６２の幅よりも大きい。端子１４，６２は、基板６４の端部に形成されている。基板６４は、複数の辺を有し、一辺に位置する部分（一辺を形成する端部）に端子１４，６２が形成されている。

第１及び第２の配線１０，２０は、支持部材としての基板６４に形成されている。基板６４は、光透過性を有する。基板６４は、例えばガラス基板である。基板６４上に、電子回路５６を形成してもよい。第２の電極５２も基板６４に形成してもよい。全ての配線（例えば第１〜第３の配線１０，２０，６０）を、基板６４の一辺に引き出してもよい。この場合、電子装置１における他の電子部品（回路基板１００）の実装のための部分が、電子装置１の一辺に位置する。

第１の配線１０には、導電部７０が電気的に接続されている。例えば、第１の配線１０上に導電部７０を形成してもよい。第１の配線１０における導電部７０と接触する部分の材料によって、両者の接続抵抗を調整することができる。例えば、図３に示すように、第１の配線１０を構成する複数層の表面層を、第２の電極５２と同じ材料（例えばＩＴＯ）で形成してもよい。

導電部７０は、立ち上げ形成されている。導電部７０は、動作領域５４を３つの方向から囲むように形成されている。また、導電部７０は、第２の配線２０を挟んで、動作領域５４とは反対側に配置されている。さらに、導電部７０は、動作領域５４の一辺に渡る長さで形成されている。これらの詳細は、第１の配線１０について上述した内容が該当する。導電部７０は、第１の配線１０と第１の電極７２との重複領域に設けられている。導電部７０は、第１の配線１０と第１の電極７２とを電気的に接続する。

導電部７０に電気的に接続されて第１の電極７２が設けられている。第１の電極７２は、第１の配線１０と異なる層位置に形成されている。第１の電極７２は、第１の配線１０と重なる部分を有する。第１の電極７２は、複数の動作素子５０に共通に電気エネルギーを供給するためのものである。導電部７０が長く（又は大きく）形成されているので、第１の電極７２に対して抵抗の低い電気的接続が可能になる。導電部７０及び第１の電極７２は、同一材料で一体的に形成してもよい。第１の電極７２の一部は、動作素子５０と重なるようになっている。そして、第１及び第２の電極７２，５２から動作素子５０にエネルギー（例えば電流や電圧）を供給できるようになっている。第１の電極７２は、第２の電極５２よりも高い位置にある。第１及び第２の電極７２，５２は、少なくとも部分的に対向していてもよい。第１及び第２の電極７２，５４は、少なくとも部分的に動作素子５０を挟んでいる。第１の電極７２は、第１及び第２の配線１０，２０を覆う大きさであってもよい。

第１の電極７２は、絶縁層７４によって支持されている。絶縁層７４は、動作素子５０を封止していてもよい。絶縁層７４は、第１の配線１０及び第１の電極７２の間であって、導電部７０を除いた領域に設けられている。絶縁層７４は、第１及び第２の配線１０，２０や、電子回路５６などの上に形成されており、電気的な接続に必要な部分に開口が形成されている。例えば、第１の配線１０の上方には、第１の配線１０が延びる方向に沿って貫通する溝が形成されて、その溝内に導電部７０が形成されている。あるいは、動作素子５０の上方に貫通穴が形成されて、第１の電極７２と動作素子５０の個々の素子との電気的な接続が図られている。変形例として、基板によって第１の電極７２を支持してもよい。

回路基板１００には、少なくとも１つのあるいは複数の電子部品１０１〜１０５が実装されている。電子部品１０１〜１０５によって、例えば有機ＥＬパネルを駆動するための回路が形成されている。電子装置１には、回路基板１００が取り付けられている。回路基板１００には（図１ではその裏面に）、配線パターン（複数の配線）１０６が形成されている。配線パターン（複数の配線）１０６の端部は、端子であって、電子装置１の端子１４，６２等と電気的に接続されている。電気的接続には、異方性導電膜（ＡＣＦ）や異方性導電ペースト（ＡＣＰ）などを使用してもよい。

電子装置１の第１及び第２の配線１０，２０は、例えば電子部品１０１，１０５が有する電源回路に電気的に接続されている。そして、第１及び第２の配線１０，２０を通じて、第１及び第２の電極７２，５２から動作素子５０に電流が供給される。本実施の形態では、第１の電極７２が陰極であるが、第２の電極５２が陰極であってもよい。電子装置１の電子回路５６に電気的に接続された１つのグループの第３の配線６０は、例えば電子部品１０２，１０４が有するタイミング信号発生回路に電気的に接続されている。また、電子回路５６に電気的に接続された他のグループの第３の配線６０は、例えば電子部品１０１，１０５が有する電源回路に電気的に接続されている。第２の電極５２に電気的に接続された別のグループの第３の配線６０は、例えば電子部品１０３が有する画像信号出力回路に電気的に接続されている。

本実施の形態に係る電子装置は、上記のように構成されており、以下その動作を説明する。上述したように、動作素子５０には発光材料が設けられており、動作素子５０へ電流が供給される。電流は、第１及び第２の配線１０，２０から供給される。例えば、第２の配線２０のうち、第２及び第３の分割配線１２，１３よりも幅が広い第１の分割配線１１は、発光効率の悪い材料（ポリマー系材料（例えば青色の発光材料））に、大電流（あるいは安定した電流）を供給する。第２及び第３の分割配線１２，１３は、例えば低分子系材料（例えば赤、緑色の発光材料）に電流を供給する。動作素子５０での生じた光は、図３に示すように、基板６４を透過する。こうして、基板６４側から、画像等の表示が可能になる。なお、本実施の形態では、第１の配線１０は、陰極である。電流の制御や発光させる画素の選択は、画像信号出力回路、タイミング信号発生回路、電子回路５６（走査ドライバ）等で行われる。

図４は、本実施の形態に係る電子装置の回路を説明する図である。この回路は、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたアクティブマトリクス型の表示装置の回路である。動作領域５４（表示部）には、複数の走査線１１０と、これら走査線１１０に対して交差する方向に延びる複数の信号線１１２と、信号線１１２に沿って延びる複数の共通給電線１１４とが形成されている。走査線１１０は、電子回路５６の走査線ドライバ（例えばシフトレジスタ及びレベルシフタを備える。）に電気的に接続されている。信号線１１２は、電子部品１０３の信号線ドライバ（例えばシフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備える。）に電気的に接続されている。共通給電線１１４は、第２の配線２０（第１，第２又は第３の分割配線１１，１２，１３）に電気的に接続されている。走査線１１０及び信号線１１２の各交点に対応して、画素となる動作素子５０が設けられている。

走査線１１０には、各画素に対応して、スイッチング素子１１６が電気的に接続されている。スイッチング素子１１６が薄膜トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）であれば、そのゲート電極に走査線１１０が電気的に接続される。また、信号線１１２には、各画素に対応して、キャパシタ１１８が電気的に接続されている。詳しくは、キャパシタ１１８は、信号線１１２と共通給電線１１４との間に電気的に接続されており、信号線１１２からの画像信号に応じた電荷を保持できるようになっている。キャパシタ１１８と信号線１１２との間に、スイッチング素子１１６が電気的に接続されている。走査線１１０からの走査信号によって、スイッチング素子１１６が制御され、スイッチング素子１１６は、キャパシタ１１８への電荷の蓄積を制御する。

キャパシタ１１８に保持された電荷量又はその有無によって、駆動素子１２０が制御される。駆動素子１２０が薄膜トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）であれば、そのゲート電極とキャパシタ１１８の信号線１１２側の電極とが電気的に接続される。駆動素子１２０は、共通給電線１１４と動作素子５０との間に電気的に接続されている。すなわち、駆動素子１２０は、共通給電線１１４から動作素子５０への電流の供給を制御する。

このような構成のもとに、走査線１１０の走査信号によってスイッチング素子１１６がオンとなると、そのときの信号線１１２と共通給電線１１４との電位差によってキャパシタ１１８に電荷が保持され、その電荷に応じて、駆動素子１２０の制御状態が決まる。そして、駆動素子１２０のチャネルを介して共通給電線１１４から第２の電極５２に電流が流れ、動作素子５０を通じて第１の電極７２に電流が流れる。動作素子５０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。すなわち、駆動素子５０は、駆動回路（駆動素子１２０を含む回路）によって駆動される。駆動回路は、第２の電極５２に電気的に接続されている。駆動回路は、第２の配線２０に電気的に接続されている。

次に、本実施の形態に係る電子装置の製造方法を説明する。電子装置の製造方法は、第１及び第２の配線１０，２０、第１及び第２の電極７２，５２、導電部７０及び動作素子５０を形成することを含む。これらの部材は、基板６４上に積層して形成してもよい。そして、導電部７０は、第２の配線２０を挟んで動作領域５４とは側に配置し、少なくとも動作素子５０成された領域の一辺に渡る長さで形成する。本実施の形態によれば、第２の配線２０の外側に配置される導電部７０を大きく形成することができ、少なくとも動作領域５４の一辺に渡る長さで形成することで、第１の電極７２に対して抵抗の低い電気的接続が可能である。

本発明の実施の形態に係る電子装置を有する電子機器として、図５にはノート型パーソナルコンピュータ１０００が示され、図６には携帯電話２０００が示されている。

本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。

１…電子装置、１０…第１の配線、１４，６２…端子、２０…第２の配線、３０，３６，４２…第１の部分、３２，３８，４４…第２の部分、３４，４０…切り欠き、５２…第２の電極、５６…電子回路、６０…第３の配線、６４…支持部材としての基板、７０…導電部、７２…第１の電極、７４…絶縁層、１００…回路基板、１０１〜１０５…電子部品、１０６…配線パターン（複数の配線）、１１０…走査線、１１２…信号線、１１４…共通給電線、１１６…スイッチング素子、１１８…キャパシタ、１２０…駆動素子、１０００…ノート型パーソナルコンピュータ、２０００…携帯電話、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３…ピッチ。

Claims (6)

1. 基板と、
   複数の信号線及び複数の走査線の交差に対応して設けられた複数の動作素子に共通に電気エネルギーを供給する第１の配線と、
   前記第１の配線と前記基板の外部との電気的接続をとるための複数の端子からなる第１の端子群と、
   前記複数の動作素子に対応してそれぞれ設けられた複数のスイッチング素子を介して前記複数の動作素子に電気エネルギーを供給する第２の配線と、
   前記第２の配線と前記基板の外部との電気的接続をとるための複数の端子からなる第２の端子群と、
   前記複数の動作素子を駆動する駆動回路に信号を供給する第３の配線と前記基板の外部との電気的接続をとるための複数の端子からなる第３の端子群と、を有し、
   前記第１、第２及び第３の端子群は、前記基板の一辺の端部に並列して配置され、
   前記第１及び第２の端子群は、前記第３の端子群よりも前記複数の動作素子から離れた位置に配置され、
   前記第１及び第２の端子群に含まれる複数の端子のうち、隣り合う端子の中心同士の間隔は、前記第３の端子群に含まれる複数の端子のうち、隣り合う端子の中心同士の間隔よりも大きいことを特徴とする電子装置。
2. 前記第１及び第２の端子群に含まれる複数の端子の幅は、前記第３の端子群に含まれる複数の端子の幅よりも広いことを特徴とする請求項１に記載の電子装置。
3. 前記第３の端子群は、前記複数の走査線を介して前記駆動回路に走査信号を供給する配線、及び前記複数の信号線を介して前記駆動回路にデータ信号を供給する配線に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の電子装置。
4. さらに前記複数の走査線に走査信号を供給する走査ドライバが前記第３の配線に接続されるとともに、前記複数の動作素子が配置される領域と前記第２の配線とに挟まれた領域に配置されることを特徴とする請求項１に記載の電子装置。
5. 前記第１の配線は、前記複数の動作素子が配置される領域及び前記第２の配線を囲むように配置されることを特徴とする請求項１に記載の電子装置。
6. 請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の電子装置を有することを特徴とする電子機器。

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