JP2009544018A - Maldi−msを用いる動的画素走査 - Google Patents
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Abstract
Description
出願人の教示は、動的画素質量分析結像(dynamic pixel mass spectrometric imaging)または動的画素結像(dynamic pixel imaging)に関する。
質量分析結像は、質量分析計を用いて、二次元の表面をその分子構造に関して分析する技術である。質量分析結像によって作られる画像マップは、試料の表面全体にわたり1つのイオンまたは多数のイオン信号の検出を示す質量マップまたはイオン(m/z)強度マップである。試料は、例えば組織片を含み得る。静止の点ごと(spot−to−spot)の走査方法は、長方形の画素が試料上に定義され、レーザが、画素を有する一箇所においてのみであるが試料からイオンを除去する場合において用いられる。質量スペクトルは、画素内の静止点から得られる。試料は次いで、(試料ステージを介して)レーザに対して移動され、その結果、レーザは次の画素内に集中され、質量スペクトルが得られる。試料ステージは、各スペクトルが得られている間、移動されない。従って、質量スペクトルは、画素ずつに連続して収集される。
出願人の教示は、動的画素質量分析結像または動的画素結像に関する。さらに、出願人の教示は、試料を走査する方法に関する。方法は、レーザビームを走査される試料に当てることであって、レーザビームは、試料から検体を放出する、ことと、レーザビームおよび試料を互いに対して移動させ、その結果、レーザビームは、試料上の所定の経路を実質的に連続的にトレースし、所定の経路に沿って試料から検体を放出することと、放出された検体の質量分析を行なうこととを包含する。
出願人の教示は、動的画素質量分析結像または動的画素結像に関する。出願人の教示に従って、試料(例えば、組織などであるがそれに限定されない)を走査する方法が開示される。
しかしながら、動的画素結像は、限定領域内において試料標的をレーザに対してリアルタイムに常時移動させ、十分な基質冷却を可能にし、任意の所定の地点における基質クエンチングを効果的に防ぐ。上に詳述される出願人の例示に従って、出願人の教示は、動的画素結像が測定上10〜20倍の感度向上を提供することを示す。従って、出願人の教示は、検出される余剰の化合物が非常に少なく、組織試料における検体の高速である検出を可能にする。
出願人の教示が様々な実施形態に関連して説明されるが、出願人の教示は、そのような実施形態に限定されることは意図されない。それどころか、当業者によって理解されるように、出願人の教示は、様々な代案、修正、および均等物を包含する。
Claims (17)
- 試料を走査する方法であって、該方法は、
(a)レーザビームを走査される試料に当てることであって、該レーザビームは、該試料から検体を放出する、ことと、
(b)該レーザビームおよび該試料を互いに対して移動させることであって、その結果、該レーザビームは、該試料上の所定の経路を実質的に連続的にトレースし、該所定の経路に沿って該試料から検体を放出する、ことと、
該放出された検体の質量分析を行なうことと
を包含する、方法。 - 前記試料に関係する仮想の限定領域を作ることをさらに包含し、該限定領域は、前記レーザビームが該試料上の前記所定の経路を実質的に連続的にトレースする境界を定義する、請求項1に記載の方法。
- 前記限定領域は、複数のパーセルに分割される、請求項2に記載の方法。
- 前記放出された検体の質量分析は、前記所定の経路に沿って前記試料から放出された該検体からの選択化合物のピーク強度の分布をプロットするために用いられる、請求項3に記載の方法。
- 前記パーセルのサイズは、前記レーザビームのサイズに関係して選択され、前記分布プロットの解像度および感度を設定する、請求項4に記載の方法。
- 前記限定領域はグリッドであり、前記複数のパーセルはグリッド要素である、請求項3〜5のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記試料は、エネルギ吸収基質が備えられている、請求項1〜6のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記レーザは、選択パルス周波数で前記試料に当る、請求項1〜7のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記試料に関係する少なくとも1つの他の限定領域を仮想的に作ることをさらに包含し、該少なくとも1つの他の限定領域は、前記レーザビームが該試料上の少なくとも1つの他の所定の経路を実質的に連続的にトレースする境界を定義し、該少なくとも1つの他の限定領域において該レーザビームから、放出された検体の質量分析を行なう、請求項2〜8のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の限定領域および前記少なくとも1つの他の限定領域から得られた質量分析は、該それぞれの限定領域内の前記検体からの選択化合物のピーク強度の分布をプロットするために用いられる、請求項9に記載の方法。
- 前記第1の限定領域および前記少なくとも1つの他の限定領域が重なり合う領域からのピーク強度は、合計される、請求項10に記載の方法。
- 前記第1の限定領域および前記少なくとも1つの他の限定領域が重なり合う領域からのピーク強度は、数学的に解析される、請求項10に記載の方法。
- 第1の所定の経路をトレースした後に、前記レーザビームおよび前記試料は、その後、互いに対して移動され、その結果、該レーザビームは、該第1の所定の経路の少なくとも一部分と実質的に同一の広がりをもつ、該試料上の少なくとも第2の所定の経路を実質的に連続してトレースする、請求項1〜12のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記質量分析は、質量分析計によって行われる、請求項1〜13のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記質量分析計は、飛行時間型質量分析計、トリプル四重極分光計、またはイオントラップ質量分析計である、請求項14に記載の方法。
- 前記限定仮想領域は、コンピュータによって生成される、請求項2〜15のうちのいずれか1項に記載の方法。
- 前記試料に対する前記レーザビームの移動は、前記コンピュータによって制御される、請求項16に記載の方法。
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