JP2009543116A - 結像のための方法および装置 - Google Patents
結像のための方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009543116A JP2009543116A JP2009518015A JP2009518015A JP2009543116A JP 2009543116 A JP2009543116 A JP 2009543116A JP 2009518015 A JP2009518015 A JP 2009518015A JP 2009518015 A JP2009518015 A JP 2009518015A JP 2009543116 A JP2009543116 A JP 2009543116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beamlet
- array
- turning
- focusing means
- organ
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 claims abstract description 28
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
- H01J29/488—Schematic arrangements of the electrodes for beam forming; Place and form of the elecrodes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
【選択図】図2
Description
Claims (13)
- ビームを分光してそのビームをビームレットに分割するように構成された、動作中にビームを提供するビーム源(1)の像を形成するための方法であって、
転向器官(3)を用いて各個別ビームレットを予め定められた程度に転向させ、前記転向器官(3)による各ビームレットの転向の程度がそのビームレットから前記ビームの中心軸線までの距離に依存するものであることで、その結果、前記ビーム源(1)からのビームレットが前記転向器官に位置する焦点(9)に集束し、これらの焦点(9)から発する前記ビームレットが共通結像点(4)に集束して、ビームレットが共通結像点(4)に収斂することを特徴とする方法。 - 前記結像点(4)で前記ビームレット間の位相差が0もしくは2π、または2πの整数倍になるように、前記ビームレットの偏向が調整されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記ビームレットが前記ビーム源(1)と前記結像点(4)との間で略均等な光路長関係を有するように、前記ビームレットの偏向が調整されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 前記ビームの軸線から半径方向に見て、各ビームレットの大きさは、目立つ球面収差が残らないような大きさであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- ビーム源(1)と、該ビーム源(1)から発されるビームからビームレットを形成するためのビームスプリッタ(2’)と、前記ビームレットの転向のための転向器官(3)とを備え、集束手段の第1アレイ(2’)が前記転向器官(3)の前に設けられると共に、集束手段の第2アレイ(2’’)が前記転向器官(3)の後に設けられている装置であって、
前記ビーム源(1)から発される前記ビームレットが前記転向器官(3)の面内に位置する焦点(9)に収斂し、前記転向器官(3)によるビームレットの転向の程度が各ビームレットから前記ビームの中心軸線までの距離に依存し、更には、前記転向器官(3)に位置する焦点(9)から発される前記ビームレットが、これらのビームレットが収斂するところの共通結像点(4)に集束するように、
前記集束手段の第1アレイ(2’)、前記集束手段の第2アレイ(2’’)及び前記転向器官(3)が調整可能であるか、又は調整されていることを特徴とする装置。 - 前記集束手段の第1アレイ(2’)および/または前記集束手段の第2アレイ(2’’)がマイクロレンズアレイを備えることを特徴とする、請求項5に記載の装置。
- 前記ビームスプリッタが、前記集束手段の第1アレイ(2’)又はその一部として具現されていることを特徴とする、請求項5又は6に記載の装置。
- 前記転向器官(3)がマクロレンズ(3)として具現されていることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか一項に記載の装置。
- 各ビームレットの経路で前記マクロレンズ(3)に偏向器(5、6)が設けられていることを特徴とする、請求項8に記載の装置。
- 前記転向器官(3)が偏向器(5、6)の集合体として具現されていることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか一項に記載の装置。
- 前記集束手段の第1アレイ(2’)および/または前記集束手段の第2アレイ(2’’)が、開口を設けたプレート群のシステムとして具現され、動作中の前記プレート群は、所望の集束度を実現するように調節された電位を有することができることを特徴とする、
電子またはイオンのような荷電粒子に適用するための、請求項5〜8のいずれか一項に記載の装置。 - 前記開口が、穴のマトリクスおよび円形スロットからなる群から選択されることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記集束手段の第1アレイ(2’)および/または前記集束手段の第2アレイ(2’’)が、開口を設けたプレート群のシステムとして具現されており、そして、光を集束させるために前記開口にはレンズが設けられていることを特徴とする、
光像を形成するための、請求項5〜8のいずれか一項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1032066 | 2006-06-27 | ||
NL1032066A NL1032066C2 (nl) | 2006-06-27 | 2006-06-27 | Werkwijze en inrichting voor het vormen van een afbeelding. |
PCT/NL2007/050303 WO2008002132A1 (en) | 2006-06-27 | 2007-06-22 | Method and apparatus for imaging |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009543116A true JP2009543116A (ja) | 2009-12-03 |
JP5236639B2 JP5236639B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=37814430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009518015A Expired - Fee Related JP5236639B2 (ja) | 2006-06-27 | 2007-06-22 | 結像のための方法および装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7859760B2 (ja) |
EP (1) | EP2038685A1 (ja) |
JP (1) | JP5236639B2 (ja) |
NL (1) | NL1032066C2 (ja) |
WO (1) | WO2008002132A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014188882A1 (ja) * | 2013-05-22 | 2014-11-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線応用装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07508838A (ja) * | 1992-04-01 | 1995-09-28 | デ モントフォート ユニヴァーシティ | 像形成装置 |
JP2001183601A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Toshiba Corp | 画像投影装置 |
JP2004157270A (ja) * | 2002-11-06 | 2004-06-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 三次元表示装置 |
JP2005122041A (ja) * | 2003-10-20 | 2005-05-12 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光源装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5270859A (en) * | 1992-01-30 | 1993-12-14 | United Technologies Corporation | Optical instrument with micro-lenses |
US5392157A (en) * | 1993-08-18 | 1995-02-21 | Trw Inc. | Line-of-sight steering system for high power laser beams and method using same |
JP2001307655A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-11-02 | Toshiba Electronic Engineering Corp | カラーブラウン管装置 |
-
2006
- 2006-06-27 NL NL1032066A patent/NL1032066C2/nl not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-06-22 JP JP2009518015A patent/JP5236639B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-22 EP EP07747526A patent/EP2038685A1/en not_active Withdrawn
- 2007-06-22 WO PCT/NL2007/050303 patent/WO2008002132A1/en active Application Filing
-
2008
- 2008-12-19 US US12/339,551 patent/US7859760B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07508838A (ja) * | 1992-04-01 | 1995-09-28 | デ モントフォート ユニヴァーシティ | 像形成装置 |
JP2001183601A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Toshiba Corp | 画像投影装置 |
JP2004157270A (ja) * | 2002-11-06 | 2004-06-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 三次元表示装置 |
JP2005122041A (ja) * | 2003-10-20 | 2005-05-12 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光源装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014188882A1 (ja) * | 2013-05-22 | 2014-11-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線応用装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7859760B2 (en) | 2010-12-28 |
WO2008002132A1 (en) | 2008-01-03 |
EP2038685A1 (en) | 2009-03-25 |
US20090180192A1 (en) | 2009-07-16 |
NL1032066C2 (nl) | 2008-01-02 |
JP5236639B2 (ja) | 2013-07-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101068607B1 (ko) | 복수 개의 빔렛 발생 장치 | |
JP2007500948A5 (ja) | ||
US8598545B2 (en) | Multiple beam charged particle optical system | |
JP5340930B2 (ja) | マルチビーム荷電粒子光学システム | |
JP5587299B2 (ja) | 結像システム | |
TWI377593B (en) | A charged particle multi-beamlet system for exposing a target using a plurality of beamlets | |
US7709815B2 (en) | Lithography system and projection method | |
TW201921103A (zh) | 帶電粒子束裝置、用於帶電粒子束裝置的孔佈置和用於操作帶電粒子束裝置的方法 | |
JP2011514633A5 (ja) | ||
JP2011517130A5 (ja) | ||
JP2007500948A (ja) | 荷電粒子ビームレット露光システム | |
JP2012243803A5 (ja) | ||
JP2012243802A (ja) | 描画装置、および、物品の製造方法 | |
TW201239943A (en) | Drawing apparatus and method of manufacturing article | |
GB2352323A (en) | Charged particle beam exposure device with aberration correction | |
JP5236639B2 (ja) | 結像のための方法および装置 | |
JP4721798B2 (ja) | 電子線装置 | |
JP2007227782A (ja) | 荷電ビーム描画装置および半導体装置の製造方法 | |
WO2007032671A1 (en) | Lithography system and projection method | |
JP2006080276A (ja) | 電子ビーム描画装置 | |
WO2021071357A1 (en) | Device for generating a plurality of charged particle beamlets, and an inspection imaging or processing apparatus and method for using the same. | |
KR101423408B1 (ko) | 대전 입자 리소그래피 시스템 | |
JP2012204624A (ja) | 描画装置、および、物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100617 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120808 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120814 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121116 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130226 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130327 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |