JP2009539754A5

JP2009539754A5 -

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Publication number: JP2009539754A5
Application number: JP2009514860A
Authority: JP
Filing date: 2007-06-12
Publication date: 2010-07-08

Claims

ガラス、セラミック又はガラス−セラミックの基材を、実質的に大気圧のプラズマを発生する装置由来の励起ガスと少なくとも一種のフルオロ化合物を含有するガスの混合物と接触させることによって、前記基材上に疎水性コーティングを合成するための方法であって、１〜１００ｎｍの厚さを有する副層が最初に前記基材上に堆積されることを特徴とする、方法。
前記副層が、金属の酸化物、窒化物、炭化物、オキシ炭化物及びオキシ窒化物からなる群より選択される少なくとも一種の無機化合物から構成される、請求項１に記載の方法。
前記副層が、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｇａ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ₃、Ｖ₂Ｏ₅、Ｙ₂Ｏ₃、ＴｉＮ、ＳｉＯ_x（式中、ｘは２より小さい）、ＳｉＯ_pＣ_q及びＳｉＯ_pＮ_q（式中、ｐは１〜２であり、ｑは０〜１である）からなる群より選択される無機化合物を単独で又は組み合わせて構成される、請求項２に記載の方法。
前記無機化合物が、それを電子伝導性及び／又はイオン伝導性にするため、その耐加水分解性を改善するため又はその光学特性を変更するためにドープされる、請求項２又は３に記載の方法。
前記副層が、実質的に大気圧のプラズマを発生する装置によって堆積される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
前記副層が、マグネトロンスパッタリング、低圧の熱ＣＶＤ若しくはプラズマＣＶＤ、又はゾル−ゲル法によって堆積される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
前記フルオロ化合物が、以下の式、すなわち、

（式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｚｒ及びＳｎからなる群より選択される元素であり、Ｒ₁〜Ｒ₆は水素を表すか又は少なくとも１つの炭素原子を含む基を表し、基Ｒ₁〜Ｒ₆のうち少なくとも１つはフッ素を含む）のフッ素化有機金属化合物である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
前記フルオロ化合物が、以下の式、すなわち、
Ｒ−Ａ−Ｚ−［ＳｉＸ₂Ｏ］_n−Ｓｉ（Ｘ_3-p）（Ｒ’_p）
（式中、Ｒはフルオロカーボンに基づく鎖であり、Ａはエーテル−Ｏ−基又はチオエーテル−Ｓ−基を間に含むことができるフルオロカーボンに基づく鎖であり、Ｚはフルオロ鎖とシランの間の架橋基であり、Ｘはハロゲンであるか又はアルコキシ基であり、Ｒ’はアルキル基又は水素原子であり、ｎは０〜５であり、ｐは０〜３である）のフルオロシランである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
前記フルオロ化合物が、以下の式、すなわち、
Ｆ₃Ｃ−（ＣＦ₂）_m−（ＣＨ₂）_n−Ｓｉ（Ｘ_3-p）（Ｒ’_p）（ＩＩ）
（式中、
ｍ＝０〜１５であり、
ｎ＝１〜５であり、
ｐ＝０、１又は２であり、
Ｒ’はアルキル基又は水素原子であり、
Ｘは加水分解性基又はアルコキシ基である）
のペルフルオロアルキルシランである、請求項８に記載の方法。
前記フルオロ化合物が、式Ｃ_nＦ_2n+2に対応する飽和型、式Ｃ_nＦ_2nに対応する不飽和型、又は式Ｃ_nＦ_2nＯに対応するフルオロエーテル型のＣ、Ｈ及びＦのみを含むフルオロカーボンに基づく前駆物質であり、式中、ｎが１〜２０の整数である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
前記ガスが、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の少なくとも一種のフルオロ化合物と、有機金属化合物、有機シリカ、並びにＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ及びＺｒからなる群より選択される元素のハロゲン化物から選択される少なくとも一種の前駆物質との混合物を含有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
ガラス、セラミック又はガラス−セラミックの材料から構成される外表面が、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法によって得ることができる疎水性／疎油性コーティングを少なくとも部分的に備えた、製品。
モノリシックグレイジング、積層グレイジング又は複層グレイジングからなる、請求項１２に記載の製品。
輸送車両又は建物のためのグレイジングとしての、請求項１２又は１３に記載の製品の適用。
ガラス−セラミックの天板又はオーブンのドアとしての、請求項１２又は１３に記載の製品の適用。
街路備品の部材、家具の部材、又はスクリーンとしての、請求項１２又は１３に記載の製品の適用。