JP2009531665A - セラミックベースクロマトグラフィ装置およびこれを作る方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (193)
- 処理ユニットの入口ポートと流体連通する分離カラムを画定し、焼結無機粒子を含む処理ユニットと、
高速液体クロマトグラフィに十分な圧力で溶媒を含む液体を運ぶように構成されたポンプと、入口ポートと物理的に連通しており、ポンプによって運ばれた液体を担持する導管にほぼ漏洩のない接続を行うように構成されたコネクタとを備える、化学処理機器。 - 分離カラムが、約500μm未満の幅を有する、請求項1に記載の機器。
- 分離カラムが、約200μm未満の幅を有する、請求項1に記載の機器。
- 圧力が約2kpsiより大きい、請求項1に記載の機器。
- 圧力が約5kpsiより大きい、請求項4に記載の機器。
- 圧力が約20kpsiより大きい、請求項5に記載の機器。
- 処理ユニットにコネクタを取り付ける接着剤をさらに含む、請求項1に記載の機器。
- コネクタが、導管を受けるように構成されたハウジングを備えている、請求項1に記載の機器。
- ハウジングと処理ユニットの間に配置された密封ユニットをさらに備えている、請求項8に記載の機器。
- 密封ユニットがガスケットを備えている、請求項9に記載の機器。
- ガスケットが、ガスケットを処理ユニットに取り付ける接着層を備えている、請求項10に記載の機器。
- ガスケットが、約0.05平方インチ未満の面積を有する、請求項10に記載の機器。
- ガスケットが、少なくとも約1:1のガスケット係数を有する、請求項10に記載の機器。
- 密封ユニットが、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、テトラフルオロエチレン、およびポリジメチルシロキサンからなる群から選択した材料を含む、請求項9に記載の機器。
- コネクタがさらに、ハウジングを処理ユニットに固定する少なくとも1つのボルトを備えている、請求項8に記載の装置。
- コネクタが、それぞれ処理ユニットを交換し、処理ユニットを密封するように開放および閉鎖位置を有するクランプを備えている、請求項1に記載の装置。
- コネクタがさらに、コネクタと処理ユニットの間に加えられる圧力を選択する圧力調節可能素子を備えている、請求項16に記載の装置。
- 圧力調節可能素子が圧電材料を含んでいる、請求項17に記載の装置。
- 入口ポートが、入口ポートと分離カラムの間に流体連通を提供する処理ユニットによって画定された導管の幅より大きな幅を有する、請求項1に記載の装置。
- 処理ユニットがさらに、入口ポートおよび分離カラムの入口と流体連通する捕捉カラムを画定する、請求項1に記載の機器。
- 捕捉カラムを通過する流体が分離カラムの入口に入る前に処理ユニットから出ることを可能にするように構成された捕捉弁をさらに備える、請求項20に記載の機器。
- 無機粒子が、ガラス、ガラス結晶セラミック、結晶セラミック、および金属からなる材料の群から選択された材料を含んでいる、請求項1に記載の機器。
- セラミック酸化物が、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、および/または安定化ジルコニアを含んでいる、請求項22に記載の機器。
- 無機粒子が、酸化セラミック、無酸化セラミック、または酸化セラミックおよび無酸化セラミックを含んでいる、請求項1に記載の機器。
- 処理ユニットが主に結晶状である、請求項1に記載の機器。
- 処理ユニットがさらに、無機粒子間に配置されたインターフェイス材料を含んでいる、請求項1に記載の機器。
- インターフェイス材料が実質的にガラス状である、請求項26に記載の機器。
- 機器が、イオンクロマトグラフまたは液体クロマトグラフである、請求項1に記載の機器。
- 機器がHPLC機器である、請求項29に記載の機器。
- 分離カラムに隣接して配置された厚膜レジスタをさらに備える、請求項1に記載の機器。
- 分離カラムが、処理ユニットの少なくとも2層内に分配される、請求項1に記載の機器。
- 処理ユニットが、並列関係で少なくとも2つの分離カラムを画定する、請求項1に記載の機器。
- 処理ユニットの入口ポートと流体連通する分離カラムを画定し、焼結無機粒子を含む処理ユニットを提供するステップと、
高速液体クロマトグラフィに十分な圧力で分離カラム内に試料を含む流体をポンピングするステップとを含む、化学試料を分離する方法。 - 圧力が約2kpsiより大きい、請求項1に記載の機器。
- 圧力が約5kpsiより大きい、請求項34に記載の機器。
- 圧力が約10kpsiより大きい、請求項35に記載の機器。
- 質量分析ユニットと、
出口ポートおよび出口ポートと流体連通する分離カラムを画定し、焼結無機粒子を含むクロマトグラフィユニットと、
出口ポートを介して分離カラムから溶離剤を受ける質量分析ユニットの入口オリフィスに隣接させてクロマトグラフィユニットの出口ポートを位置決めするように構成された支持ユニットとを備える、化学処理装置。 - 支持ユニットが、クロマトグラフィユニットを受ける開放状態、および受けられたクロマトグラフィユニットを機械的に固定する閉鎖状態を有する、請求項37に記載の装置。
- 支持ユニットがヒンジ部を備えている、請求項38に記載の装置。
- 支持ユニットが貝殻構成を有する、請求項39に記載の装置。
- 支持ユニットが、閉鎖状態に関連する力をクロマトグラフィユニットに選択的に加える圧電素子を備えている、請求項38に記載の装置。
- 支持ユニットが、クロマトグラフィユニットに弾性力を加える少なくとも1つの弾性素子を備えている、請求項37に記載の装置。
- 弾性素子が、少なくとも1つのばねを備えている、請求項42に記載の装置。
- 支持ユニットが、クロマトグラフィユニットを支持ユニットに機械的に固定する少なくとも1つのボルトを備えている、請求項37に記載の装置。
- 支持ユニットが、クロマトグラフィユニットの流体ポートと噛み合う流体インターフェイスを有する、請求項37に記載の装置。
- 支持ユニットが、クロマトグラフィユニットの電気インターフェイスと噛み合う電気インターフェイスを有する、請求項37に記載の装置。
- クロマトグラフィユニットがさらに、質量分析ユニットの入口オリフィスに溶離剤を案内するエレクトロスプレーインターフェイスを備えている、請求項37に記載の装置。
- 焼結セラミック粒子を含み、分離カラムを画定する化学処理ユニットを備えるHPLC機器を備え、
焼結セラミック粒子の破壊強度および分離カラムの断面構成が、化学処理ユニットを破壊することなく、HPLCに十分である流体圧力を分離カラム内で協働して維持するように構成される、HPLC機器。 - 圧力が約1kpsiより大きい、請求項48に記載の機器。
- 圧力が約5kpsiより大きい、請求項49に記載の機器。
- 圧力が約10kpsiより大きい、請求項50に記載の機器。
- 分離カラムの断面構成が、少なくとも約5μmの最小曲率半径を有する、請求項48に記載の機器。
- 最小曲率半径が、少なくとも約25μmである、請求項52に記載の機器。
- 破壊強度が、約300Mpaから約1000Mpaの範囲内である、請求項48に記載の機器。
- 化学処理ユニットが、分離カラムの断面構成の高さの約3から約7倍の範囲の厚さを有する、請求項48に記載の機器。
- 厚さが、断面構成の高さの約3から約5倍の範囲内である、請求項55に記載の機器。
- 分離カラムの断面構成が、約25μmから約150μmの範囲の高さを有する、請求項48に記載の機器。
- 分離カラムの断面構成が、約500μm未満の幅を有する、請求項48に記載の機器。
- 幅が、約50μmから約300μmの範囲内である、請求項58に記載の機器。
- 焼結セラミック粒子がLTCC材料を含んでいる、請求項48に記載の機器。
- LTCC材料が酸化アルミニウムを含んでいる、請求項60に記載の機器。
- 焼結セラミック粒子がHTCC材料を含んでいる、請求項48に記載の機器。
- HTCC材料がイットリア安定化酸化ジルコニウムを含んでいる、請求項62に記載の機器。
- それぞれセラミック粒子を含む第1および第2の未焼成層を提供するステップと、
第1と第2の未焼成層の間に約5μmより大きい最も小さい角部半径を有する分離カラムを画定するステップと、
第2の未焼成層に隣接させて第1の未焼成層を配置するステップと、
分離カラムが化学処理ユニットを破壊することなくHPLCに十分である流体圧力を維持する、実質的に剛性の処理ユニットを形成するように隣接する層を焼成するステップとを含む、HPLC機器を作る方法。 - 圧力が約1kpsiより大きい、請求項64に記載の方法。
- 圧力が約5kpsiより大きい、請求項65に記載の方法。
- 圧力が約10kpsiより大きい、請求項66に記載の方法。
- 丸みを帯びた角部が、少なくとも約5μmの最小曲率半径を有する、請求項64に記載の方法。
- 最小曲率半径が、少なくとも約25μmである、請求項68に記載の方法。
- 焼成セラミック粒子の破壊強度が、約300Mpaから約1000Mpaの範囲内である、請求項64に記載の方法。
- 画定するステップが、エンボス加工をするステップを含む、請求項64に記載の方法。
- 焼結無機粒子を含み、毛細管スケールまたはナノスケールHPLCのために選択された幅を有する分離カラムを画定する層状化学処理ユニットと、
分離カラムの入口と流体連通しており、毛細管スケールまたはナノスケールHPLCに十分である圧力で溶媒をポンピングするように構成されたポンプとを備える、HPLC機器。 - 分離カラムの幅が、約500μm未満である、請求項72に記載の機器。
- 化学処理ユニットがさらに、分離カラムの入口とポンプの間に流体通路を与え、約150μmから約300μmの範囲の幅を有する導管を画定する、請求項73に記載の機器。
- 分離カラムの幅が約150μm未満である、請求項73に記載の機器。
- 化学処理ユニットがさらに、分離カラムの入口とポンプの間に流体通路を与え、約25μmから約50μmの範囲の幅を有する導管を画定する、請求項75に記載の機器。
- 圧力が約2kpsiより大きい、請求項72に記載の機器。
- 圧力が10kpsiより大きい、請求項72に記載の機器。
- 分離カラム内に配置され、約5μm未満の直径を有する粒子を含む固定媒体をさらに含む、請求項72に記載の機器。
- 化学処理ユニットがさらに、ポンプおよび分離カラムの入口と流体連通している捕捉カラムを画定する、請求項72に記載の機器。
- 焼結無機粒子を含み、毛細管スケールまたはナノスケールHPLCのために選択された幅を有する分離カラムを画定する層状化学処理ユニットを提供するステップと、
約100μL/分未満の流量で分離カラムを通して試料化合物を含む流体をポンピングするステップとを含む、HPLCを行う方法。 - 分離カラムが、約500μm未満の幅を有する、請求項81に記載の方法。
- 分離カラムが、約150μm未満の幅を有する、請求項82に記載の方法。
- 流量が約1μL/分未満である、請求項83に記載の方法。
- ポンピングするステップが、約1kpsiより大きい圧力で分離カラムの入口に流体を運ぶステップを含んでいる、請求項81に記載の方法。
- 圧力が約5kpsiである、請求項85に記載の方法。
- 圧力が10kpsiである、請求項86に記載の方法。
- それぞれ無機粒子を含む第1および第2の未焼成層を提供するステップと、
少なくとも部分的に第1と第2の未焼成層の間に分離カラムを画定するステップと、
第1と第2の未焼成層の間に、分離カラムと流体連通し、分離カラムの幅より小さい幅を有する出口導管を画定するステップと、
第2の未焼成層に隣接させて第1の未焼成層を配置するステップと、
実質的に剛性の処理ユニットを形成するために隣接する層を焼成するステップと、
少なくともその一部が出口導管によって分離カラム内に捕捉される粒子を含むスラリーを、分離カラムを通して出口導管内に流すステップとを含む、クロマトグラフィ装置を作る方法。 - 出口導管を画定するステップが、第2の未焼成層に隣接させて第1の未焼成層を配置する前に、第1の未焼成層の一部を取り除くステップを含む、請求項88に記載の方法。
- 出口導管を画定するステップが、導管の形状に関連する形状を有する導管画定素子を第1と第2の未焼成層の間に配置するステップを含む、請求項88に記載の方法。
- 導管画定素子が犠牲材料を含んでいる、請求項90に記載の方法。
- 犠牲材料が炭素を含んでいる、請求項91に記載の方法。
- 導管画定素子がさらに、充填剤を含んでいる、請求項91に記載の方法。
- 充填剤が、金属材料、セラミック材料、およびガラス状材料からなる群から選択された材料を含んでいる、請求項93に記載の方法。
- 犠牲材料が厚膜材料を含んでいる、請求項91に記載の方法。
- 導管画定素子を配置するステップが、導管画定材料をスクリーン印刷するステップを含んでいる、請求項90に記載の方法。
- 導管画定素子を配置するステップがファイバを配置するステップを含んでいる、請求項90に記載の方法。
- 粒子が、約5μm未満の直径を有し、出口導管の幅が約10μm未満である、請求項88に記載の方法。
- 分離カラムの幅が、約50μmから約300μmの範囲内である、請求項88に記載の方法。
- 分離カラムの幅が、約75μmから約150μmの範囲内である、請求項99に記載の方法。
- 分離カラム、および分離カラムの一端部と流体連通している出口導管を画定し、焼結無機粒子を含む処理ユニットと、
出口導管と分離カラムの間の幅の差によって分離カラム内に捕捉される粒子状固定媒体とを備える、化学処理機器。 - 出口導管の幅が、分離カラム内に粒子状固定媒体を捕捉するのに十分小さい、請求項101に記載の機器。
- 粒子がほぼ合計より小さい幅を有し、出口導管の幅が約10μm未満である、請求項102に記載の機器。
- 分離カラムの幅が、約50μmから約300μmの範囲内である、請求項101に記載の機器。
- 分離カラムの幅が、約75μmから約150μmの範囲内である、請求項104に記載の機器。
- それぞれ無機粒子を含む第1および第2の未焼成層を提供するステップと、
少なくとも部分的に第1と第2の未焼成層の間に分離カラムを画定するステップと、
分離カラムの一端部に隣接させてフリット材料を配置するステップと、
第2の未焼成層に隣接させて第1の未焼成層を配置するステップと、
隣接する層およびフリット材料を焼成し、それによってフリット材料が多孔質プラグに変換される、焼成ステップと、
固定相粒子を含むスラリーを、分離カラムの少なくとも一部を固定相粒子で充填するように分離カラムを通して多孔質プラグ内に流すステップとを含む、クロマトグラフィ装置を作る方法。 - フリット材料が厚膜ペーストを含んでいる、請求項106に記載の方法。
- フリット材料を配置するステップが、厚膜ペーストをスクリーン印刷するステップを含んでいる、請求項106に記載の方法。
- フリット材料を配置するステップが、フリット材料を分離カラム内に配置するステップを含んでいる、請求項106に記載の方法。
- フリット材料を配置するステップが、フリット材料を第1の未焼成層の表面上に配置するステップを含んでいる、請求項106に記載の方法。
- フリット材料が粒子を含んでいる、請求項106に記載の方法。
- 粒子が、ガラス状材料、セラミック材料、および金属材料からなる群から選択した材料を含んでいる、請求項111に記載の方法。
- フリット材料が、焼結または化学結合により多孔質プラグに変換される、請求項111に記載の方法。
- 焼結無機粒子を含み、分離カラムを画定する処理ユニットと、
分離カラムの一端部に隣接して配置された多孔質プラグと、
分離カラム内に配置された固定相粒子とを含む、化学処理機器。 - 多孔質プラグが、分離カラム内に配置されている、請求項114に記載の機器。
- 固定相粒子が、約5μm未満の直径を有する、請求項114に記載の機器。
- 分離カラムが、約50μmから約300μmの範囲の幅を有する、請求項114に記載の機器。
- 幅が、約75μmから約150μmの範囲内である、請求項117に記載の機器。
- 多孔質プラグが、分離カラム内に固定相粒子を捕捉するように選択された孔寸法を有する、請求項114に記載の機器。
- 孔寸法が約10μm未満である、請求項119に記載の機器。
- 孔寸法が、化学処理機器の作動圧力より小さい背圧を与えるのに十分大きいように選択される、請求項119に記載の機器。
- 多孔質プラグが焼結材料を含んでいる、請求項114に記載の機器。
- 多孔質プラグが化学結合粒子系材料を含んでいる、請求項114に記載の機器。
- それぞれ無機粒子を含む第1および第2の未焼成層を提供するステップと、
少なくとも部分的に第1と第2の未焼成層の間に分離カラムを画定するステップと、
分離カラムおよび出口ポートの間に流体連通を提供するビアを少なくとも部分的に第2の未焼成層内に画定するステップと、
第2の未焼成層に隣接させて第1の未焼成層を配置するステップと、
実質的に剛性の処理ユニットを形成するように隣接する層を焼成するステップと、
処理ユニットの外部にフィルタを配置し、出口ポートを遮断するステップと、
少なくともその一部がフィルタによって分離カラム内に捕捉される固定相粒子を含むスラリーを、出口ポートにより分離カラムを通して処理ユニットから流すステップとを含む、クロマトグラフィ機器を作る方法。 - フィルタが多孔質材料を含んでいる、請求項124に記載の方法。
- 多孔質材料が指向性濾紙を含んでいる、請求項125に記載の方法。
- 多孔質材料が、ガラス状材料、金属材料、およびセラミック材料からなる群から選択された材料を含んでいる、請求項125に記載の方法。
- フィルタを配置するステップが、フィルタ材料をスクリーン印刷するステップを含んでいる、請求項124に記載の方法。
- フィルタを配置するステップが、処理ユニット上にフィルタを締め付けるステップを含む、請求項124に記載の方法。
- スラリーを流した後にフィルタを取り除くステップをさらに含む、請求項124に記載の方法。
- 固定剤を固定相粒子の一部に流すステップをさらに含む、請求項130に記載の方法。
- 固定剤がPDMSを含んでいる、請求項131に記載の方法。
- 分離カラムおよび分離カラムと流体連通している出口導管を画定し、焼結無機粒子を含む処理ユニットと、
処理ユニットの出口導管と流体連通しているエレクトロスプレーインターフェイスとを備える、化学処理機器。 - 処理ユニットがさらに、エレクトロスプレーインターフェイスにシースガスを運ぶシースガス導管を画定する、請求項133に記載の機器。
- エレクトロスプレーインターフェイスが、処理ユニットによって画定された平面に対してほぼ平行な方向に延びている、請求項133に記載の機器。
- エレクトロスプレーインターフェイスから噴霧を受ける質量分析ユニットをさらに備える、請求項133に記載の機器。
- エレクトロスプレーインターフェイスが焼結無機粒子を含み、処理ユニットの一体部分である、請求項133に記載の機器。
- エレクトロスプレーインターフェイスを処理ユニットに取り付ける取付具をさらに備える、請求項133に記載の機器。
- 処理ユニットの分離カラムを流体連通しており、少なくとも1psiの圧力で溶媒を含む液体を推進させるように構成されたポンプをさらに備える、請求項133に記載の機器。
- 圧力が少なくとも5kpsiである、請求項139に記載の機器。
- 圧力が少なくとも10kpsiである、請求項140に記載の機器。
- 分離カラムが300μm未満の幅を有する、請求項133に記載の機器。
- 幅が約150μm未満である、請求項142に記載の機器。
- 無機粒子を含む1つまたは複数の未焼成層を提供するステップと、
1つまたは複数の未焼成層の少なくとも1つの中に分離カラムを画定するステップと、
1つまたは複数の未焼成層の少なくとも1つの中に、分離カラムの出口と流体連通するエレクトロスプレーインターフェイスのエミッタを画定するステップと、
実質的に剛性の処理ユニットを形成するように1つまたは複数の未焼成層を焼成するステップとを含む、化学処理機器を作る方法。 - エミッタを画定するステップが、少なくとも1つの未焼成層の表面部を取り除くステップを含んでいる、請求項133に記載の方法。
- 表面部を取り除くステップが、表面部をレーザエッチングするステップを含んでいる、請求項145に記載の方法。
- エミッタを画定するステップが、エレクトロスプレーインターフェイスの軸を処理ユニットによって画定された平面とほぼ平行またはほぼ垂直に配向するステップを含んでいる、請求項133に記載の方法。
- 1つまたは複数の未焼成層の少なくとも1つの中に、エレクトロスプレーインターフェイスにシースガスを運ぶシースガス導管を画定するステップをさらに含む、請求項133に記載の方法。
- 分離カラムおよび分離カラムと流体連通しているオリフィスを画定する、焼結無機粒子を含む処理ユニットと、
オリフィスに隣接した弁体、弁体をオリフィスから離れるように押す変形可能部材、および弁ユニットが閉鎖状態にある場合にオリフィスを遮断するように弁体をオリフィスに向かって押すアクチュエータを含む弁ユニットとを備える、化学処理機器。 - 処理ユニットがさらに、オリフィスと流体連通している捕捉カラムを画定し、弁ユニットが捕捉カラムに捕捉弁を提供するようにオリフィスと協働する、請求項149に記載の機器。
- 捕捉カラムの入口と流体連通しており、高速液体クロマトグラフィに十分な圧力で溶媒を含む液体を推進させるように構成されたポンプをさらに備える、請求項149に記載の機器。
- 圧力が少なくとも約2kpsiである、請求項151に記載の機器。
- 圧力が少なくとも約10kspiである、請求項152に記載の機器。
- 変形可能部材が、弁体に取り付けられたOリングを備えている、請求項149に記載の機器。
- 弁体が、弁が開放状態である場合にオリフィスから出るまたはそこに入る流体を通過させる導管を画定する、請求項149に記載の機器。
- 変形可能部材が、弁ユニットが開放状態にある場合に、流体が弁ユニットから漏洩するのを防ぐ、請求項155に記載の機器。
- 弁ユニットが閉鎖状態にある場合、オリフィスを遮断するように弁体とオリフィスの間に配置された密封部材をさらに備える、請求項149に記載の機器。
- アクチュエータが圧電材料を含んでいる、請求項149に記載の機器。
- 変形可能材料が、弁体と処理ユニットの間に配置されている、請求項149に記載の機器。
- 分離カラムが約300μm未満の幅を有する、請求項149に記載の機器。
- 幅が約150μm未満である、請求項160に記載の機器。
- 分離カラムおよび分離カラムから溶離剤を受ける導管を画定する焼結無機粒子、および導管を通して光源から光を案内する、または導管から光を受けるように焼結無機粒子内に少なくとも部分的に埋め込まれた第1の光ガイドを備える処理ユニットを備える、化学処理機器。
- 第1の光ガイドの軸が、導管の一部の軸とほぼ平行に配向され、それによって光が導管の部分に沿って案内される、請求項162に記載の機器。
- 第1の光ガイドの軸が、導管の一部の軸とほぼ垂直に配向され、それによって光が導管の部分を横切って案内される、請求項162に記載の機器。
- 第1の光ガイドが少なくとも1つの光ファイバを備えている、請求項162に記載の機器。
- 光源が処理ユニットと一体化される、請求項162に記載の機器。
- 導管内の流体を通して通過した光源から光を検出する検出器をさらに備える、請求項162に記載の機器。
- 検出器が少なくとも1つの光ダイオードを備える、請求項167に記載の機器。
- 導管から光を受けるように、焼結無機粒子内に少なくとも部分的に埋め込まれた第2の光ガイドをさらに備える、請求項162に記載の機器。
- 分離カラムと流体連通しており、高速液体クロマトグラフィに十分な圧力で溶媒を含む液体を推進させるように構成されたポンプをさらに備える、請求項162に記載の機器。
- 無機粒子を含む1つまたは複数の未焼成層を提供するステップと、
1つまたは複数の未焼成層の少なくとも1つの中に分離カラムを画定するステップと、
1つまたは複数の未焼成層の少なくとも1つの中に、分離カラムから溶離剤を受ける導管を画定するステップと、
導管内の溶離剤を通して光源からの光を案内するように、導管に隣接させて第1の光ガイドを配置するステップと、
実質的に剛性の処理ユニットを形成するように1つまたは複数の未焼成層を焼成するステップとを含む、化学処理機器を作る方法。 - 配置するステップがさらに、少なくとも1つの未焼成層内に第1の光ガイドを少なくとも部分的に埋め込むステップを含む、請求項171に記載の方法。
- 導管内の溶離剤から光を受けるように、導管に隣接させて第2の光ガイドを配置するステップをさらに含む、請求項171に記載の方法。
- 導管に隣接させて光検出器を形成するステップをさらに含む、請求項171に記載の方法。
- 流体を輸送する導管を確定する焼結無機粒子と、
導管に隣接して配置された第1および第2の感熱要素、および第1と第2の感熱要素の間で導管に隣接して配置された放熱要素を含む流量感知ユニットとを備える処理ユニットを備える、化学処理機器。 - 放熱要素が厚膜素子を含んでいる、請求項175に記載の機器。
- 第1の感熱要素が厚膜素子を含んでいる、請求項175に記載の機器。
- 分離カラムと流体連通しており、高速液体クロマトグラフィに十分な圧力で溶媒を含む液体を推進させるように構成されたポンプをさらに備える、請求項175に記載の機器。
- 導管を通して予め選択した流量を維持するように、流量感知ユニットから受けた信号に応じてポンプの動作を媒介する流量調整ユニットをさらに備える、請求項178に記載の機器。
- 予め選択した流量が、約20μL/分未満である、請求項179に記載の機器。
- 予め選択した流量が、約5μL/分未満である、請求項180に記載の機器。
- 流体を輸送する導管を画定する焼結無機粒子、
導管に隣接して配置された流量感知ユニット、および
流量感知ユニットによって発生した信号に応じて、流体の流れを可変に抑制するように構成された可変抑制要素を備える処理ユニットを備える、化学処理機器。 - 温度調節可能ユニットによって媒介される温度の変化に応じて、抑制の程度を変えるように構成された可変抑制要素と熱連通している温度調節可能ユニットをさらに備える、請求項182に記載の機器。
- 温度調節可能ユニットがペルチェ装置を備えている、請求項183に記載の機器。
- ペルチェ装置が厚膜素子を備えている、請求項184に記載の機器。
- 信号を受け、予め選択した流量を与えるように可変抑制要素の抑制の程度を応答可能に媒介する流量調整ユニットをさらに備える、請求項182に記載の機器。
- 予め選択した流量が約20μL/分未満である、請求項186に記載の機器。
- 予め選択した流量が約5μL/分未満である、請求項187に記載の機器。
- 導管と流体連通しているポンプをさらに備える、請求項182に記載の機器。
- 少なくとも1つの可変抑制装置を通してポンプ流体をポンピングポンプ装置に接続された、少なくとも1つの可変抑制装置を有する流体制御装置を備えるセラミックベース基板を備える、化学処理機器。
- 冷たい面および熱い面を有する熱電ヒートポンプを備えたセラミックベース基板と、
第1の抑制要素を形成し、前記熱電ヒートポンプの前記冷たい面と熱連通している第1の流体経路と、
第2の抑制要素を形成し、前記熱電ヒートポンプの前記熱い面と熱連通している第2の流体経路とを備える、化学処理機器。 - 分離カラムを画定し、基板内に画定されたポンプ経路内に配置された多孔質セラミック系材料を含む少なくとも1つの動電ポンプと、多孔質材料の端部と電気接触している少なくとも2本の電極とを備えるセラミックベース基板を備えるHPLC装置であって、ポンプが少なくとも約1kpsiの流体圧力を発生させるように構成されている、HPLC装置。
- 少なくとも1つの分離カラム、分離カラムの入口と並列または直列流体連通している2つ以上の捕捉カラム、および2つ以上の捕捉カラムの少なくとも2つに含まれる異なる固定相を画定するセラミックベース基板を備えるHPLC装置であって、少なくとも2つの捕捉カラムが、多寸法分離のために並列に、または少なくとも2つの捕捉カラムの第1のカラムの中で総タンパク質試料を消化し、少なくとも2つの捕捉カラムの第2のカラムの中で分解産物ペプチドを収集するように直列に接続されている、HPLC装置。
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