JP2009525472A - 流動層装置または噴流層装置および適切な装置における方向付けられた生成物流動の測定、監視および制御 - Google Patents
流動層装置または噴流層装置および適切な装置における方向付けられた生成物流動の測定、監視および制御 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009525472A JP2009525472A JP2008552720A JP2008552720A JP2009525472A JP 2009525472 A JP2009525472 A JP 2009525472A JP 2008552720 A JP2008552720 A JP 2008552720A JP 2008552720 A JP2008552720 A JP 2008552720A JP 2009525472 A JP2009525472 A JP 2009525472A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- product stream
- product
- microwave
- microwave radiation
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2/00—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
- B01J2/16—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic by suspending the powder material in a gas, e.g. in fluidised beds or as a falling curtain
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2/00—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
- B01J2/006—Coating of the granules without description of the process or the device by which the granules are obtained
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Glanulating (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
Description
(A)1つまたは複数のスプレーノズル(殊にほぼ上方に向かう(=直接的に、もしくはほぼ上方に向かう)噴霧方向を有し、且つ1材料ノズルまたはマルチ材料ノズルとして実施することができる)および1つまたは複数の案内装置を備えた流動層装置または噴流層装置の形のコーティングおよび/または造粒のための処理装置であり、且つ少なくとも1つのマイクロ波センサ装置を有する、前述した、または後述する方法を実施するための装置では、処理装置の内側に配置されている(=外筒に属さない)前述の案内装置のうちの1つの少なくとも1つの壁は、生成物流の形で予定されている方向付けられた生成物流動に対向する、その種のマイクロ波センサ装置から放出されるマイクロ波放射のための流入個所と、予定されている生成物流に対向する、その種の生成物流の粒子によって反射されたマイクロ波放射のための少なくとも1つの流入個所とを有することを特徴とする。
図1:(案内装置の例としての)ワースター管を有し(すなわちワースター装置)、また導波管と共にマイクロ波センサ装置が取り付けられている例示的なボトムスプレー流動層装置の概略的な断面図を示す。
図2:(案内装置の例としての)3つのワースター管と、導波管を介して接続されており、且つ流動層容器の外側に配置されている、ワースター管のための中央の高さ調整部を備えた相応数のマイクロ波センサ装置とを有する、ボトムスプレー原理による例示的な流動層装置の(上方からの)概略的な断面図を示す。
図3:(案内装置の例としての)3つのワースター管と、導波管を介してワースター管と接続されており、また中央の高さ調整部と接続されており、流動層容器の内側に配置されているマイクロ波センサ装置とを有する、ボトムスプレー原理による例示的な流動層装置の(上方からの)概略的な断面図を示す。
図4:分散板とワースター管との距離が50mmのときの良好な流動化と比較した、距離が40mmのときの不均一な流動化の例の測定データのグラフを示す。
図5:種々の処理気体量がワースター管内の流動化特性に及ぼす影響の例の測定データのグラフを示す。
図6:生成物容器の種々の充填量でのワースター管内の流動化に関する測定データの例示的なグラフを示す。最低限必要とされる生成物量が求められる。
本発明による方法のために考えられる測定装置の構造を図1に基づき、単一管ワースターコーティング処理を例にして説明する。ここではボトムスプレー原理に従う(有利には)流動層装置として例示的に示されている処理装置1(例えばこの装置はGPCG15タイプの流動層装置、Glatt-Powder-Coater-Granulator,Glatt GmbH,Binzen,ドイツ連邦共和国、であり、後述する例においても使用される)はコーティング容器2を有する。このコーティング容器2は下方に向かって分散板3によって境界付けられており、この分散板3はここでは例示的に(また有利には)ふるい板として実施されており、このふるい板はそれと同時にふるいとして生成物の落下を阻止する。選択的なノズルカラー5を備えたスプレーノズル4により供された粒子へのコーティング材料の塗布が行われ、これらの粒子は分散板3を介して分散される処理気体および案内装置6(ここでは例示的に(また有利には)立上り管またはワースター管として示されている)を用いて方向付けられた生成物流動(生成物流)7を生じさせる。マイクロ波放射はマイクロ波センサ装置8(マイクロ波のための(有利にはそれぞれ1つの)送信ユニットおよび受信ユニットと、必要に応じて評価電子機構とを有する)から直接的に、または有利には導波管9を介して案内装置に入射される。案内装置6の上側、中央または下側の領域が適切な位置であることが判明しており、有利には案内装置6のほぼ中央を最適な位置として使用することができる。有利には、処理装置の内側に配置されている案内装置6である内筒10には(少なくとも)1つのスロット11が設けられており、このスロット11を介して、送信および受信ユニット8、また必要に応じて近位端部12および生成物流に対向する(マイクロ波透過性の材料によって閉じられるべき)遠位端部13を備えた導波管9が固定的に取り付けられている案内装置6の高さを調整することができる(例えば後述の例において使用されるような、22.86cmの直径、60cmの高さおよび3mmの材料強度を有するワースター管を使用する場合、ワースター管の上端部から6.5〜12.5cmの領域および/またはこの上端部から23.5〜29.5cmの領域にスロット11を設けることができる)。(複数個存在すれば複数の)スロット11は動作時に適切なカバー装置14によって、導波管によって貫通される領域の周囲を覆い、これによりスロット11を通過する横方向の流れが測定に影響を及ぼすことはない。案内装置6は高さ調整機構15(ここでは例えば固定されたアームおよびワースター管の周囲のリング状の領域として実施されており、その内側においてワースター管を上方または下方に向かってスライドさせることができる)を介して分散板3までの距離を変えることができる。マイクロ波放射は流動化された固体粒子によって反射され、受信ユニットによって受信される。評価は送信および受信ユニット8に統合されている、および/または、別個の評価電子機構を用いて、有利には反射された信号の周波数および振幅に関して行われる。堆積物または流動していない粒子を周波数選択的な評価によって抑制することができる。このことは、静止している粒子と流動化された粒子流とを区別できるという格別な利点を有する。導波管の近位端部12またしたがってマイクロ波センサ装置8を有利には処理装置の外筒16の外側に設けることができ、したがって良好に接近することができるので、導波管は外筒16を貫通している。このために、導波管によって貫通されていないこの導波管の周囲の外筒16の領域を覆いシールする適切なカバー装置によって覆われた1つまたは(例えば異なる高さで測定されるべき場合には)複数の孔を外筒16に設けることができる(例えばワースター装置GPCG15では170mm、385mmまたは555mmの高さ)。
動作に関してマイクロ波センサ装置8は先ず有利には較正されなければならない。その一方で流動化の判定のために絶対値または質量流量が必要とされるので、マイクロ波センサ装置が例えば測定領域に関してのみ調整されれば十分である(すなわち較正を必要としない)。これは別の有利な実施形態である。このために処理装置1、殊にボトムスプレー原理による流動層装置ないしそのコーティング容器2が所定量の粒子で充填され、装置が1つまたは複数の所望の処理気体速度で所定のように調整された期間動作し、その際に発生する最小値および最大値が記録される。マイクロ波装置8の信号出力側は生データ値を後置接続されている(必要に応じてマイクロ波センサ装置に統合されている)評価電子機構に供給する。評価電子機構は生データ値を使用可能な測定信号に変換し、この測定信号を直接的に評価電子機構を用いて、および/または、装置制御部に統合することができる評価ユニットおよび/または制御ユニットを用いてさらに処理し、例えば較正、視覚化、(例えばアップスケーリングまたはダウンスケーリングのために経験的なデータを収集するための)記憶することができる、および/または、(例えば自動的な)装置の制御のために使用することができる。有利には、静的な生成物ではゼロ信号が維持され、最大流動化時には(=何よりも、その都度の噴霧処理に関して流動化された粒子の少なくとも十分に最適化された生成物流が殊に、時間単位および粒子速度に応じて流入する粒子の粒子流における最大量に依存する。何故ならば、例えば過度に速い粒子速度(過度に高い処理ガス供給量)においては例えば十分な噴霧はもはや不可能であり、最大限に効率的な粒子流速度したがって処理気体流速度を考慮しなければならない)、ゼロ信号とは異なり、また例えばこの例において最大の(または最大信号の25%〜100%の範囲にある)測定信号が維持されるように較正係数が調整される。流動化が停止するか、流動化の強度が変化すると、マイクロ波センサ装置においては同様に変化した測定信号が生じるので、処理パラメータを適応させることができる。
(殊にワースター管として実施されている)各案内装置6に対して別個のマイクロ波センサ装置8が使用される。流動層処理中にそれらの各マイクロ波センサ装置が測定信号を供給する。各案内装置6の領域に関する生成物流の領域内の粒子が均一に流動化されている場合には測定信号はほぼ同一且つ同等のものである。装置制御部においては例えば平均値および信号の標準偏差を計算することができる。この平均値を用いて、各マイクロ波センサ装置8の個々の測定値を比較することができる。1つまたは複数のマイクロ波センサ装置8の個々の値が平均値を下回るか上回る場合には、処理を中断するか、装置の操作者に通知することができる。同様に平均値に関して限界値を規定することができ、この限界値を上回るか下回るとアクションをトリガすることができる。同様に平均値の標準偏差を評価することができる。この標準偏差が所定の限界値を超えると、均一でない処理が生じる可能性がある。流動層処理中の考えられる障害として、スプレーノズルの領域における凝集形成、癒着または閉塞または案内装置6の領域における生成物の堆積が挙げられる。これらの問題が早期に識別されれば、使用者は所期のように対抗措置を講じることができ、したがって生成物の破壊または損傷、それに伴う経済的な被害を回避することができる。スプレーノズルにおける癒着または閉塞が生じがちな殊にクリティカルな生成物では、この測定法は生成物の品質を保証するために役立つ。処理の特性の正確な知識および危険分析を前提として、本発明による測定方法は重要な発展であり、PAT-(Process Analytical Technology)-US-FDA-lnitiative "Guidance for Industry, PAT-A Framework for Innovative Pharmaceutical Development, Manufacturing, and Quality Assurance; Pharmaceutical cGMPs, September 2004"に関連させて手段として使用することができる。
生産装置においてだけでなく、ベンチスケールまたは試験工場においても、例えば装置の動作中に案内装置6(例えば立上り管)と分散板3との距離が求めるために、案内装置6内、殊にワースター管内のマイクロ波測定を使用することができる。案内装置の選択された位置における可能な限り均一な流動化を達成することが目標とされる。測定信号が所望の流動化空気量において一定時間にわたり記録される。図4に例示的に示されているように、信号が不安定である場合には、安定した信号が得られるまで案内装置6の位置が変更される。
案内装置6の位置(殊にワースター管の位置)が規定されている場合であっても、処理における流動化が処理気体量に応じて変化する可能性がある。しかしながら本発明による測定方法を用いることにより、案内装置6(殊にワースター管)の領域における生成物流が均一になる処理気体量を求めることができる。確かに、測定は速度にあまり依存していないので、処理気体量が異なる場合に測定システムを別個に較正しなければ、生成物流において輸送される粒子量を直接的に質的に推測することはできないが、本方法は流動化の均一性を確実に推測することができる。
別の実施例に基づき、処理容器における最低許容生成物量を検出するための本発明による測定方法を説明する。殊に、小さいスケールでの流動層処理においては、装置が可能な限り少ない生成物で満たされる。このことは処理の展開の開始時におけるコストを節約し、また僅かな量でしか存在しない出発材料を節約する。しかしながらそれにもかかわらず、処理炉内の生成物が最適に流動化されることが重要である。したがって案内装置、殊に立上り管の領域における処理に過度に少ない生成物が提供されることは許されない。試験スケールまたは生産スケールにおける処理データを後に転用するために、理想的にはワースター管内の最適な流動化が考慮され、スプレーノズルの噴霧レートがこれに基づき設計される。比較的小さいスケールまたは比較的大きいスケールにおいては立上り管内の流動化が比較不能である場合には、これによって実施される処理スケールアップまたは処理スケールダウンについての計算に誤りがある可能性がある。実際には、マイクロ波測定技術の使用によって、流動層処理のための最低許容充填量を求めることができる。
Claims (27)
- コーティングおよび/または造粒のためのスプレー方法中に流動層装置および噴流層装置から選択された処理装置(1)における流動化された生成物の方向付けられた生成物流動の測定、監視および/または制御を行う方法において、
1つまたは複数のマイクロ波センサ装置(8)を用いて、例えば非接触でマイクロ波放射を1つまたは複数の生成物流に入射させ、それぞれの生成物流の粒子によって反射されたマイクロ波放射を受信し、受信したマイクロ波放射に基づき生成物流を特徴付ける測定信号を形成して出力することを特徴とする、方法。 - 1つまたは複数の生成物流の外部領域に前記マイクロ波放射を供給する、請求項1記載の方法。
- 測定個所毎にそれぞれが1つの送信および受信ユニットを組み合わせて有する1つまたは複数のマイクロ波センサ装置(8)を使用する、請求項1または2記載の方法。
- 1つまたは複数の導波管(9)を介して前記マイクロ波放射の供給を実施する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- マイクロ波センサ装置(8)毎に送信および受信ユニットならびに導波管(9)を使用し、各導波管(9)の遠位端部(13)は前記マイクロ波放射に対して十分に透過性のカバーによって閉じられている、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 検査すべき生成物流への前記マイクロ波放射の供給を、該生成物流の主方向に対して垂直またはほぼ垂直に行う、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 前記マイクロ波放射を前記処理装置(1)の容器の外筒(16)の内側に設けられている1つまたは複数の案内装置(6)へ供給し、該供給を導波管(9)を介して行い、1つまたは複数の導波管(9)の1つまたは複数の遠位端部(13)は、それぞれが1つまたは複数の案内装置(6)の内筒(10)を貫通し、且つそれぞれの案内装置の前記生成物流に対向する面とほぼ同一平面上で前記生成物流と対向するよう取り付けられており、近位端部(12)はそれぞれ前記案内装置の前記生成物流とは対向しない側に設けられている、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 測定、監視および/または制御すべき生成物流を重力に逆らう方向、例えば実質的に上方に方向付ける流動層装置または噴流層装置において実施する、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 1つまたは複数の分散板の領域内に設けられている1材料ノズルまたはマルチ材料ノズルの形の1つまたは複数のスプレーノズル(4)を介してスプレー方法の枠内で噴霧を実質的に上方に向かって実施する、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 前記処理装置(1)は、ボトムスプレー方法に従い動作する、案内装置(6)としての1つまたは複数のワースター管を備えたワースター装置である、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
- 前記生成物流は50μmから25mmの大きさを有する粒子からなる、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- 前記生成物流は200μmから10mmの大きさを有する粒子からなる、請求項11記載の方法。
- 前記生成物流は、ペレット、コーティングされたペレット、タブレット、顆粒、カプセル、押出品、結晶、粉末、他の粒子状の材料または相応の小さい物体からなる、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- 反射されたマイクロ波放射を周波数および振幅に関して評価する、請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。
- 前記マイクロ波放射に関して周波数選択的に実施する、請求項1から14までのいずれか1項記載の方法。
- 得られた1つまたは複数の測定信号の評価を、それぞれ1つまたは複数のマイクロ波センサ装置(8)と接続されている評価電子機構および/または評価および制御ユニットを用いて実施し、前記評価および制御ユニットにおいては測定結果を直接的に装置の制御に使用する、請求項1から15までのいずれか1項記載の方法。
- 測定を0.2秒から200秒のフィルタ時間またはサンプリングレートでもって行う、請求項1から16までのいずれか1項記載の方法。
- 放射されるマイクロ波放射は1から100GHzの周波数を有する、請求項1から17までのいずれか1項記載の方法。
- 放射されるマイクロ波放射は24.125GHz±100MHzの周波数を有する、請求項1から18までのいずれか1項記載の方法。
- 得られた測定信号の較正を所定の大きさの処理装置に関して実施し、取得されたデータおよび情報を比較的小さいまたは比較的大きい寸法を有する装置に転用する、請求項1から19までのいずれか1項記載の方法。
- 請求項1から20までのいずれか1項記載の方法における1つまたは複数のマイクロ波センサ装置(8)の使用。
- 各マイクロ波センサ装置(8)は送信および受信ユニットならびに導波管を有する、請求項21記載の使用。
- 請求項1から22までのいずれか1項記載の方法を実施する装置であって、
1つまたは複数のスプレーノズル(4)および1つまたは複数の案内装置(6)を備えた流動層装置または噴流層装置の形のコーティングおよび/または造粒のための処理装置(1)であり、且つ少なくとも1つのマイクロ波センサ装置(8)を有する装置において、
前記処理装置(1)の内側に配置されている、前記案内装置(6)のうちの1つの少なくとも1つの壁(10)は、生成物流の形で予定されている方向付けられた生成物流動(7)に対向する、前記マイクロ波センサ装置(8)から放出されるマイクロ波放射のための流入個所と、予定されている生成物流に対向する、該生成物流の粒子によって反射されたマイクロ波放射のための少なくとも1つの流入個所とを有することを特徴とする、装置。 - 請求項1から22までのいずれか1項記載の方法を実施する装置であって、
流動層装置または噴流層装置の形のコーティングおよび/または造粒のための処理装置(1)であり、且つ少なくとも1つのマイクロ波センサ装置(8)を有する装置において、
外筒(16)、分散板(3)および/または処理装置の内側に配置されている案内装置(6)から選択された少なくとも1つの境界部において、生成物流の形で予定されている方向付けられた生成物流動(7)に対向する、前記マイクロ波センサ装置(8)から放出されるマイクロ波放射のための少なくとも1つの流入個所と、予定されている生成物流に対向する、該生成物流の粒子によって反射されたマイクロ波放射のための少なくとも1つの流入個所とを有することを特徴とする、装置。 - 少なくとも1つの分散板の他に、生成物を取り出すための開閉可能な側方の少なくとも1つの出口を有する、請求項24記載の装置。
- 前記処理装置は、相応に構成されている少なくとも1つの分散板を用いて実質的に水平方向に循環する生成物流を生じさせ、生成物を取り出すための開閉可能な側方の少なくとも1つの出口を有する、請求項25記載の装置。
- 請求項25または26記載の装置を使用する請求項1から22までのいずれか1項記載の方法において、
生成物流またはマイクロ波センサ装置の相応に生じる測定信号の所定の特性が生じた際、またはそのような所定の特性に達した際に、開閉可能な側方の少なくとも1つの出口を介する生成物の取り出しを例えば自動的に惹起ないし実施および/または終了する、方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006005382A DE102006005382A1 (de) | 2006-02-03 | 2006-02-03 | Messung, Überwachung und Regelung gerichteter Produktbewegungen in Wirbel- oder Strahlschichtanlagen und geeignete Anlagen |
PCT/EP2007/000544 WO2007090515A1 (de) | 2006-02-03 | 2007-01-23 | Messung, überwachung und regelung gerichteter produktbewegungen in wirbel- oder strahlschichtanlagen und geeignete anlagen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009525472A true JP2009525472A (ja) | 2009-07-09 |
Family
ID=38024286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008552720A Pending JP2009525472A (ja) | 2006-02-03 | 2007-01-23 | 流動層装置または噴流層装置および適切な装置における方向付けられた生成物流動の測定、監視および制御 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8187663B2 (ja) |
EP (1) | EP1979081A1 (ja) |
JP (1) | JP2009525472A (ja) |
CN (1) | CN101426568A (ja) |
BR (1) | BRPI0707486A2 (ja) |
DE (1) | DE102006005382A1 (ja) |
WO (1) | WO2007090515A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2009101309A (ru) * | 2006-06-19 | 2010-07-27 | МакНЕЙЛ-ППС, ИНК. (US) | Частицы с энтеросолюбильным покрытием, содержащие активный ингредиент |
DE102019207167B3 (de) * | 2019-05-16 | 2020-09-10 | Glatt Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung | Trennvorrichtung |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0498305A (ja) * | 1990-08-10 | 1992-03-31 | Fueroo Kogyo Kk | 粉・粒体制御システム |
JP2004024989A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Denso Corp | 粉体塗布装置 |
JP2004130194A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
JP2004148291A (ja) * | 2002-09-04 | 2004-05-27 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3196827A (en) | 1962-11-19 | 1965-07-27 | Wisconsin Alumni Res Found | Apparatus for the encapsulation of discrete particles |
US3241520A (en) | 1964-10-19 | 1966-03-22 | Wisconsin Alumni Res Found | Particle coating apparatus |
JPS58187778A (ja) | 1982-04-26 | 1983-11-02 | 株式会社大川原製作所 | 流動床 |
JPS59196726A (ja) | 1983-04-19 | 1984-11-08 | Okawara Mfg Co Ltd | 連続流動層造粒装置 |
DE3839723C1 (ja) | 1988-11-24 | 1989-07-20 | Herbert 7853 Steinen De Huettlin | |
EP0507035A1 (fr) | 1991-04-03 | 1992-10-07 | Synthelabo | Extraits de Reine des Prés, leur préparation et leurs applications |
US5236503A (en) | 1991-10-28 | 1993-08-17 | Glatt Air Techniques, Inc. | Fluidized bed with spray nozzle shielding |
DE19504544A1 (de) * | 1995-02-11 | 1996-08-14 | Reich Ernst | Verfahren zum Ermitteln der Beladung eines Gasstroms mit Feststoffanteilen |
ATE184808T1 (de) | 1995-12-22 | 1999-10-15 | Niro Atomizer As | Wirbelbettvorrichtung, bettplatte dafür, und verfahren zur herstellung einer bettplatte |
US5750996A (en) * | 1996-09-26 | 1998-05-12 | Duquesne University Of The Holy Ghost | Apparatus for nondestructively inspecting a coated article and associated method |
DE19644244A1 (de) | 1996-10-24 | 1998-04-30 | Henkel Kgaa | Wirbelbettapparat und Verfahren zum Betreiben des Apparates |
DE19723995A1 (de) * | 1997-06-06 | 1998-12-10 | Glatt Gmbh | Verfahren zum Überwachen und/oder Steuern eines Granulations-, Agglomerations-, Instantisierungs-, Coating- und Trocknungsprozesses in einer Wirbelschicht oder einer bewegten Schüttung durch Bestimmung der Produktfeuchte |
JP2001517146A (ja) * | 1997-03-27 | 2001-10-02 | グラツト ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 生産物の湿度を測定することにより、渦流流体層又は可動注入体内の顆粒化−、塊状化−、インスタント製品化−、コーティング−及び乾燥プロセス加工の監視及び/又は制御及び調整方法、並びに、前記方法を実施するためのエアエンジニアリング装置 |
DE29721039U1 (de) * | 1997-11-28 | 1998-02-05 | Berthold Lab Prof Dr | Vorrichtung zur Transmissionsmessung mit Hilfe von Mikrowellen |
US6579365B1 (en) * | 1999-11-22 | 2003-06-17 | Glatt Air Techniques, Inc. | Apparatus for coating tablets |
SE0003796D0 (sv) * | 2000-10-20 | 2000-10-20 | Astrazeneca Ab | Apparatus and method for monitoring |
DE10162781A1 (de) | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Glatt Ingtech Gmbh | Strahlschichtapparat zur chargenweisen oder kontinuierlichen Prozessführung und Verfahren zum Betreiben eines Strahlschichtapparates |
DE10260743B4 (de) * | 2002-12-23 | 2008-05-15 | Outokumpu Oyj | Verfahren und Anlage zum thermischen Behandeln von körnigen Feststoffen in einem Wirbelbett |
DE10322062A1 (de) | 2003-05-15 | 2004-12-02 | Glatt Ingenieurtechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen von Flüssigkeiten in eine Feststoffströmung eines Strahlschichtapparates |
DE602004022469D1 (de) * | 2004-12-23 | 2009-09-17 | Collette N V | Wirbelschichtvorrichtungsmodul und verfahren zum austauschen eines ersten moduls gegen ein zweites modul in wirbelschichtvorrichtungen |
-
2006
- 2006-02-03 DE DE102006005382A patent/DE102006005382A1/de not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-01-23 WO PCT/EP2007/000544 patent/WO2007090515A1/de active Application Filing
- 2007-01-23 US US12/162,674 patent/US8187663B2/en active Active
- 2007-01-23 BR BRPI0707486-7A patent/BRPI0707486A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2007-01-23 JP JP2008552720A patent/JP2009525472A/ja active Pending
- 2007-01-23 CN CNA2007800042252A patent/CN101426568A/zh active Pending
- 2007-01-23 EP EP07702954A patent/EP1979081A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0498305A (ja) * | 1990-08-10 | 1992-03-31 | Fueroo Kogyo Kk | 粉・粒体制御システム |
JP2004024989A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Denso Corp | 粉体塗布装置 |
JP2004148291A (ja) * | 2002-09-04 | 2004-05-27 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
JP2004130194A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Pauretsuku:Kk | 流動層装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1979081A1 (de) | 2008-10-15 |
WO2007090515A1 (de) | 2007-08-16 |
DE102006005382A1 (de) | 2007-08-16 |
US8187663B2 (en) | 2012-05-29 |
CN101426568A (zh) | 2009-05-06 |
US20090011118A1 (en) | 2009-01-08 |
BRPI0707486A2 (pt) | 2011-05-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5726200B2 (ja) | 粒度を決定するための装置 | |
JP4020785B2 (ja) | サンプリング装置 | |
Aghbashlo et al. | Measurement techniques to monitor and control fluidization quality in fluidized bed dryers: A review | |
JP5101278B2 (ja) | 分割された固体をチャンバーに装填する装置および方法 | |
Tok et al. | Monitoring granulation rate processes using three PAT tools in a pilot-scale fluidized bed | |
RU2522127C2 (ru) | Устройство (варианты), способ измерения сыпучих продуктов и применение устройства для измерения сыпучих материалов | |
US7987879B2 (en) | Methods and apparatus for dense particle loading | |
Matero et al. | The feasibility of using acoustic emissions for monitoring of fluidized bed granulation | |
JP2009525472A (ja) | 流動層装置または噴流層装置および適切な装置における方向付けられた生成物流動の測定、監視および制御 | |
JP2013071104A (ja) | 流動層装置 | |
Rantanen et al. | Determination of particle size in a fluidized bed granulator with a near infrared set‐up | |
JP3827731B2 (ja) | 粉粒体処理装置の粒子測定装置およびそれを用いた粒子測定方法 | |
Roßteuscher-Carl et al. | In-line monitoring of particle size in a fluid bed granulator: Investigations concerning positioning and configuration of the sensor | |
CA2555546A1 (en) | A method for eliminating reading errors in a non-contact microwave solids flow meter | |
JP3909382B2 (ja) | 流動層処理装置における粉粒体の造粒制御方法 | |
JP2006136763A (ja) | 粉粒体処理装置 | |
JPS61200444A (ja) | 粉粒体の水分測定方法及び装置 | |
JPH1010033A (ja) | 造粒物の撮影用センサヘッドおよび粒径測定装置 | |
JPH07333113A (ja) | 流動層処理装置における粉粒体の粒度測定装置 | |
US20230258570A1 (en) | Inline analytical imaging for particle characterization | |
DE202007001286U1 (de) | Prozessanlagen mit Messeinrichtungen zur Messung von Produktbewegungen | |
JP2024062189A (ja) | 粉体検査装置 | |
Hill-Izani | In-line powder flow behaviour measured using electrostatic technology | |
Yadav et al. | A review: On scale-up factor determination of rapid mixer granulator | |
Kemeny | Process analysis |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090810 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101228 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120113 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120411 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120418 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120928 |