JP2009302218A - 光照射装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放電ランプ1と反射ミラー2とよりなる光源ユニットNが複数個配列された光源部10と、放電ランプ1の給電装置30と、光源部1から放射された光が入射されるインテグレータ20を少なくとも有し、光源部1から放射された光のインテグレータ20に対する入射率が90%以下であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
一方、ランプ大型化の対策として、例えば、特開2004- 361746号(特許文献1)には、大型ランプ1つで光源を構成するのではなく、複数の小型ランプを並べる構成が提案されている。
また、インテグレータの入射面における光の入射領域を、入射面そのものの面積よりも小さく設計することで、光源からの放射光を高い利用率でワークに照射できるという技術が紹介されている。
特に、電極間距離が数ミリの放電ランプ、あるいは、多量の水銀を封入した放電ランプにあっては、点灯中の電極温度がきわめて高温になるので、電極損耗は、通常の放電ランプより顕著に発生する。さらに、点灯電力の大きい放電ランプほど電極損耗は生じやすいため、光利用率の低下や照度低下は生じやすい。
上記特許文献1に開示される光照射装置は、光源のパワーを大きくするために、ユニット数を増加することが考えられるが、ユニット数が増加すると、光源からインテグレータへの入射角との関係で、光源の位置をインテグレータからより離れた位置に設定しなければならなくなる。すなわち、光照射装置の大型化を招いてしまう。
(イ)半導体ウエハや液晶基板の露光装置に用いられる光源として、1つの大型ランプを使うことには限界があること。
(ロ)特許文献1に開示されるように、複数の小型ランプを並べて1つの光源部を形成する方法も提案されているが、ここで使われる小型ランプは、電極損耗が激しいため、点灯時間の経過ととともに、光の利用率とワークにおける照度が低下してしまうこと。
(ハ)特許文献1に開示される光照射装置の場合、ワークの大型化に対応して、光源部のパワー(ランプ電力)を大きくすると、光源部とインテグレータの距離が大きくなってしまうこと。
(a)点灯時間に影響されることなく、高い利用率と高い照度を維持できること。
(b)光源部のパワーを大きくしたとしても、光源部とインテグレータの距離を大きくする必要がないこと。
をともに解決できる光照射装置を提供することである。
(B)また、光源部から放射される光のうち、インテグレータに入射される光の割合、すなわち光の利用率を90%以下にすることで、たとえ電極間距離が増加したとしても、その影響を受けることなく高い照度維持率を達成できる。
光を放射する光源部10は、複数の光源ユニットNから構成され、各光源ユニットNは共通の支持体3に個別に支持される。各光源ユニットNは、ランプ1と反射ミラー2を内蔵している。支持体3は、略放物面または略楕円面に沿った緩やかな曲面形状であり、各光源ユニットNから放射される光が、光照射領域であるインテグレータ20の入射面において重なり合うように、支持体の周辺部に向かうにつれて、光源ユニットを徐々に傾けて支持している。インテグレータ20は照度分布を均一にする光学素子である。図1では、光源部10とインテグレータ20を接近させて記載しているが、実際には、光源部10とインテグレータ20の距離は、図示よりも長く、また、支持体3に形成される曲面形状は、さらに緩やかである。
実験は、交流点灯型ランプで電極間距離1.6mm(ランプ1)、交流点灯型ランプで電極間距離1.4mm(ランプ2)、交流点灯型ランプで電極間距離1.2mm(ランプ3)、交流点灯型ランプで電極間距離1.0mm(ランプ4)、直流点灯型ランプで電極間距離1.0mm(ランプ5)、直流点灯型ランプで電極間距離0.7mm(ランプ6)の6種類のランプを使った。6種類のランプの電極間距離はいずれも点灯前の大きさを示しており、点灯形態と電極間距離以外の条件は、基本的に同一とした。実験は、図2に示すような形態の6種類の200Wリフレクタ付きランプを製作し、図1に示す光源部総数53灯の装置で照度維持率を調べた。交流点灯ランプは全て350ヘルツで点灯させた。照度は、ウシオ電機製UIT250照度計とS365受光器を使い、ワーク面での照度の維持率を求めた。照度維持率は、点灯時間の経過に伴って照度を測定し、点灯初期の照度に対する相対値として表した。特に、点灯開始から750時間経過後の照度維持率を、業界における指標として捉え、75%以上を示すサンプルを照度維持率の観点から合格をした。
(1)交流点灯させた放電ランプ(ランプ1〜ランプ4)は、直流点灯させた放電ランプ(ランプ5とランプ6)に比べて、照度維持率が格段に優れている。この原因は、前記した突起成長が、交流点灯の放電ランプにおいて良好に機能しているものと考えられる。
(2)交流点灯させた放電ランプであっても、電極間距離が大きいランプほど照度維持率が優れている。具体的には、ランプ4(電極間距離1.0mm)は750時間点灯で照度維持率75%、1500時間点灯で60%まで低下しているのに対し、ランプ1(電極間距離1.6mm)は、750時間点灯で照度維持率90%以上、1500時間点灯でも90%近い維持率である。この原因は、電極間距離が小さいほど電極損耗が激しいことが考えられる。
この結果、200Wの交流点灯型放電ランプの場合は、電極間距離が1.0mm以上あれば、業界で認められるだけの照度維持率を発揮できることがわかった。
各ランプについて、上記と同様の照度維持率(750時間点灯で75%の照度を維持)を有するランプの電極間距離を求めたところ、ランプ電力が250Wの場合は電極間距離1.1mm以上、ランプ電力が300Wの場合は電極間距離1.2mm以上、ランプ電力が420Wは電極間距離1.4mm以上であった。
(3)照度維持率が業界水準を満たすための電極間距離は、ランプの定格電力(ランプ電力)によって異なる。具体的には、200Wの場合は電極間距離1.0mm以上、250Wの場合は電極間距離1.1mm以上、300Wの場合は電極間距離1.2mm以上、420Wの場合は電極間距離1.4mm以上のランプであり、ランプ電力が大きくなるほど、要求を満たす電極間距離は大きくなる。
具体的には、200W電極間距離1.0mmのランプを使った装置(装置A)、250W電極間距離1.1mmのランプを使った装置(装置B)、300W電極間距離1.2mmのランプを使った装置(装置C)、420W電極間距離1.4mmのランプを使った装置(装置D)について、光の利用率を測定した。
なお、各装置は、露光面における照度が等しくなるようにランプ(ユニット)の数を調整している。具体的には、装置Aはユニット数53個で総電力10.7KW、装置Bは42個で総電力10.6KW、装置Cは36個で総電力10.8KW、装置Dは25個で総電力10.5KWであり、露光面照度は45.5mW/cm2に統一させた。
そして、この実験における各装置の光の利用率を測定したところ、装置Aは89.9%、装置Bは88.7%、装置Cは88.0%、装置Dは89.3%となった。
この結果、以下のことがわかる。
(4)照度維持率が十分な光照射装置は、ランプ電力に関わらず、光の利用率が90%以下であることがわかる。言い方を変えるならば、光の利用率が90%以下であるならば、ランプ電力に関わらず照度維持率を十分である。ここで、照度維持率が十分とは業界基準値を満たすものをいう。
図6は光の利用率の測定方法を説明する図面であり、(a)はランプとインテグレータの配置関係を示す図面であり、(b)はインテグレータの入射面を示す図面であり、(c)はインテグレータの入射面における直径方向の照度分布を示す。
(a)において、ランプとインテグレータを所定距離(例えば、2600mm)離して設置する。この距離は図1に示される装置を組み立てた場合に設定される数値であり、実際にはランプの搭載本数によって最適値は変化する。インテグレータの入射面に照射された光は(b)に示すように、インテグレータの入射面を照射する成分もあるが、入射面に照射されてない成分も存在する。インテグレータの入射面では、入射面より広い領域を対象に受光器の位置をインテグレータの直径方向に移動させる。具体的には、ロボット(XY方向に稼動する機構)を配置して、例えば20mm間隔で照度計の受光器を移動させて、X,Yの各点で照度(mW/cm2)を測定する。なお、受光器の移動は手動であってもかまわない。測定した照度値とその位置の面積(ドーナツ状部分)の面積(cm2)を掛ければ、光束(W)が求まる。このようにして、インテグレータの入射面全体に渡って照度測定を行うことでランプの全光束を求めることができる。そして、インテグレータに入射する領域は、入射面の光束(=インテグ入射光束)であるから、インテグ入射光束/全光束を計算すれば、インテグレータに何%の光束が入射しているかを求めることができる。具体的には、20mm間隔で左右、上下各17点の計33点(中心は1回省く)でφ720の円内を測定し、全光束としている。
その結果、光の利用率は、ランプ1は58%、ランプ2は67%、ランプ3は77%、ランプ4は90%、ランプ5は90%、ランプ6は100%であった。
すなわち、この実験からも、照度維持率が十分な光照射装置は、ランプ電力に関わらず、光の利用率が90%以下である。しかし、光の利用率が50%を下回ると、利用していない光が多くなり、投入電力との関係で好ましくない。従って。光の利用率は50%以上90%以下が望ましい。
(1)放電ランプを交流点灯させることで、直流点灯させる場合に比較して、格段に優れた照度維持率を発揮できる。
(2)電極間距離と照度維持率は正の相関関係を有し、電極間距離が大きい放電ランプほど照度維持率が優れる。
(3)業界水準とされる照度維持率(所定の照度維持率)を満たす最小の電極間距離は、ランプ電力によって異なる。ランプ電力が大きくなるほど、所定の照度維持率を満たす電極間距離は大きくなる。
(4)所定の照度維持率は、ランプ電力に関わらず、光の利用率に関係する。光の利用率が90%以下であるならば、ランプ電力に関わらず、照度維持率は業界水準を満たすことができる。
一方、200Wの放電ランプならば18個用いることで、同一の照射エリアに対し、同一の視覚で同一の照射エネルギーを構成することができる。この場合18個の放電ランプは総電力で3.6kWとなり、100Wのランプを用いた場合に比較して、約59%の電力効率がアップする。つまり、100Wの放電ランプを用いて光源部を構成するよりも、200Wの放電ランプを用いて光源部を構成するほうが、ランプの数が少なくなり、電力効率が高くなることが分かった。
図7は、0.15mg/mm3の水銀と、ハロゲンを封入した放電ランプの分光分布を示す。図示のように、波長300〜350nmの紫外線が多く放射されていることがわかる。水銀は0.08mg/mm3よりも少なくなると、波長300〜350nmの発光以外に300nm以下水銀による発光も増加して露光に悪影響を及ぼすため好ましくない。また、350〜450nm付近の連続スペクトルも低下するため好ましくない。水銀が0.25mg/mm3よりも多くなると、波長300〜350nmの発光が少なくなり好ましくない。
給電装置3は、直流電圧が供給される降圧チョッパ回路31と、降圧チョッパ回路31の出力側に接続され直流電圧を交流電圧に変化させて放電ランプ1に供給するフルブリッジ型インバータ回路32(以下、「フルブリッジ回路」ともいう)と、放電ランプに直列接続されたコイルL1、コンデンサC1、スタータ回路33、および制御回路34から構成される。
なお、降圧チョッパ回路31、フルブリッジ回路32、スタータ回路33、制御回路34により給電装置を構成し、放電ランプ1を含めて点灯装置と称される。
フルブリッジ回路32は、ブリッジ状に接続されたトランジスタやFETのスイッチング素子Q1〜Q4と、スイッチング素子Q1〜Q4の駆動回路G1〜G4から構成される。なお、スイッチング素子Q1〜Q4には、各々に並列にダイオードが逆並列に接続されることもあるが、この実施例においてダイオードは省略している。
制御回路34は、電力変換器340、比較器341、パルス幅変調回路342、制御部343、フルブリッジ回路駆動回路344から構成される。電力変換器340は、抵抗R1、R2、R3で検出された電圧信号や電流信号を電力信号に変換する。電力信号は比較器341で基準電力値と比較されパルス幅変調回路342を介してスイッチング素子Qxをフィードバック制御する。これにより、ランプの点灯電力を一定値とする、いわゆる定電力制御が実施される。また、スイッチング素子Q1〜Q4は、制御部343を介してフルブリッジ回路駆動回路344により駆動される。
上記スイッチング素子Q1〜Q4を駆動するに際し、スイッチング素子Q1〜Q4の同時オンを防止するため、交流矩形波の極性切り替わり時に、スイッチング素子Q1〜Q4の全てオフにする期間(デッドタイムTd)が設けられる。
2 反射ミラー
3 支持体
4 収納ケース
10 光源部
11 発光部
12 封止部
13 金属箔
14 外部リード
20 インテグレータ
21 コリメータ
22 マスクステージ
23 マスク
24 ワークステージ
30 給電装置
N ユニット
W ワーク
Claims (5)
- 水銀とハロゲンが封入された放電ランプと反射ミラーとより構成される光源ユニットが複数個配列された光源部と、各放電ランプに対して電力を供給する給電装置と、光源部から放射された光が入射されるインテグレータとを少なくとも有する光照射装置において、
前記給電装置は、前記放電ランプに対して交流電流を供給するとともに、
前記光源部から放射された光の前記インテグレータに対する入射率が90%以下であることを特徴とする光照射装置。 - 前記光源部から放射された光の前記インテグレータに対する入射率は50%以上であることを特徴とする請求項1の光照射装置。
- 前記放電ランプは、定格200W以上であって、電極間距離が1.0mm以上であることを特徴とする請求項1の光照射装置。
- 前記放電ランプは、0.08〜0.25mg/mm3の範囲の水銀が封入されていることを特徴とする請求項1の光照射装置。
- 前記放電ランプは、5×10−5〜7×10−3μmol/mm3の範囲のハロゲンが封入されていることを特徴とする請求項1の光照射装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008153669A JP5092914B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | 光照射装置 |
TW098116746A TWI382283B (zh) | 2008-06-12 | 2009-05-20 | Light irradiation device |
KR1020090044897A KR101248274B1 (ko) | 2008-06-12 | 2009-05-22 | 광 조사 장치 |
CN2009101459470A CN101603642B (zh) | 2008-06-12 | 2009-06-11 | 光照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008153669A JP5092914B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | 光照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009302218A true JP2009302218A (ja) | 2009-12-24 |
JP5092914B2 JP5092914B2 (ja) | 2012-12-05 |
Family
ID=41469483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008153669A Active JP5092914B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | 光照射装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5092914B2 (ja) |
KR (1) | KR101248274B1 (ja) |
CN (1) | CN101603642B (ja) |
TW (1) | TWI382283B (ja) |
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JP7492889B2 (ja) | 2020-09-18 | 2024-05-30 | 株式会社オーク製作所 | 光源装置および露光装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN101603642A (zh) | 2009-12-16 |
TW201017341A (en) | 2010-05-01 |
JP5092914B2 (ja) | 2012-12-05 |
KR101248274B1 (ko) | 2013-03-27 |
KR20090129327A (ko) | 2009-12-16 |
TWI382283B (zh) | 2013-01-11 |
CN101603642B (zh) | 2013-03-13 |
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