JP2009301821A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009301821A JP2009301821A JP2008153869A JP2008153869A JP2009301821A JP 2009301821 A JP2009301821 A JP 2009301821A JP 2008153869 A JP2008153869 A JP 2008153869A JP 2008153869 A JP2008153869 A JP 2008153869A JP 2009301821 A JP2009301821 A JP 2009301821A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- positioning member
- hole
- processing target
- plasma
- radiator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 title abstract description 5
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 14
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 14
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 14
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 230000005404 monopole Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
【解決手段】処理対象管Z(処理対象体)を貫通させる貫通孔22aが形成された筐体11と、筐体11に立設されると共に高周波信号Sを入力して放射する放射器14とを備えて、高周波信号Sの放射によって放射器14の近傍にプラズマPを発生させるプラズマ処理装置1であって、貫通孔22aに貫通させた状態で筐体11に取り外し可能に取り付けられると共に、筐体11の内面に対する接離方向への処理対象管Zの移動を規制しつつ、貫通方向に沿っての処理対象管Zの移動を許容する位置決め部材15を備えている。
【選択図】図1
Description
2 プラズマ処理室
3 ガス供給部
4 高周波電源
11 筐体
13 カップリングループ
14,14a 放射器
15a〜15g 位置決め部材
21 筒体
21a〜23a 貫通孔
22 閉塞板
23 取付け板
23b 凹部
31 本体部
31a 中心孔
32 鍔部
32a テーパ部
G プラズマ放電用ガス
L1,L2,L5a〜L5c,L6 内径
L3,L4a,L4b 外径
L7a,L7b 距離
L8a,L8c,L9a,L9b 長さ
P プラズマ
S 高周波信号
Za〜Zc 処理対象管
Claims (5)
- 処理対象体を貫通させる貫通孔が形成された筐体と、前記筐体に立設されると共に高周波信号を入力して放射する放射器とを備えて、前記高周波信号の放射によって前記放射器の近傍にプラズマを発生させるプラズマ処理装置であって、
前記貫通孔に貫通させた状態で前記筐体に取り外し可能に取り付けられると共に、当該筐体の内面に対する接離方向への前記処理対象体の移動を規制しつつ、前記貫通方向に沿っての当該処理対象体の移動を許容する位置決め部材を備えているプラズマ処理装置。 - 前記位置決め部材は、前記処理対象体を前記貫通方向に沿って案内可能な筒状に形成されている請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記位置決め部材における中心孔の断面形状および当該中心孔の最小の内径の少なくとも一方が相違する複数種類の前記位置決め部材を備えて、当該複数種類の位置決め部材のうちから前記処理対象体の断面形状および当該処理対象体の最大の外径に応じた1つの当該位置決め部材を取り付け可能に構成されている請求項2記載のプラズマ処理装置。
- 前記位置決め部材は、前記貫通方向手前側の内径が当該貫通方向に向かうに従って徐々に小径となるテーパ部が形成されている請求項2または3記載のプラズマ処理装置。
- 前記位置決め部材は、前記貫通孔に貫通可能な本体部と、当該本体部の一端側に設けられた鍔部とを備え、
前記筐体は、前記貫通孔が形成された筐体本体と、前記貫通孔に対する前記本体部の貫通方向に沿って前記鍔部を前記筐体本体に押し付けて前記位置決め部材を当該筐体本体に取り外し可能に取り付ける取付け板とを備えている請求項1から4のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008153869A JP5297098B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008153869A JP5297098B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009301821A true JP2009301821A (ja) | 2009-12-24 |
JP5297098B2 JP5297098B2 (ja) | 2013-09-25 |
Family
ID=41548528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008153869A Active JP5297098B2 (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5297098B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8649800B2 (en) | 2011-05-12 | 2014-02-11 | Nokia Corporation | Direction-enhanced navigation |
CN104756563A (zh) | 2012-08-31 | 2015-07-01 | 诺基亚技术有限公司 | 定位装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06188094A (ja) * | 1992-12-18 | 1994-07-08 | Kazuo Sugiyama | 同軸形のマイクロ波プラズマ発生器 |
JPH0857038A (ja) * | 1993-06-07 | 1996-03-05 | Agency Of Ind Science & Technol | プラスチックチュ−ブ、抗血栓性医用材料及び医療用具並びにこれらの製造方法、製造装置及びプラズマ処理装置 |
JPH0885160A (ja) * | 1994-05-06 | 1996-04-02 | Medtronic Inc | 高分子物質製の管内通路のプラズマ放電処理装置、同処理方法並びにこれらにより製造したシリコンゴム管 |
-
2008
- 2008-06-12 JP JP2008153869A patent/JP5297098B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06188094A (ja) * | 1992-12-18 | 1994-07-08 | Kazuo Sugiyama | 同軸形のマイクロ波プラズマ発生器 |
JPH0857038A (ja) * | 1993-06-07 | 1996-03-05 | Agency Of Ind Science & Technol | プラスチックチュ−ブ、抗血栓性医用材料及び医療用具並びにこれらの製造方法、製造装置及びプラズマ処理装置 |
JPH0885160A (ja) * | 1994-05-06 | 1996-04-02 | Medtronic Inc | 高分子物質製の管内通路のプラズマ放電処理装置、同処理方法並びにこれらにより製造したシリコンゴム管 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5297098B2 (ja) | 2013-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6369763B1 (en) | Reconfigurable plasma antenna | |
EP2639330A1 (en) | Method and device for transporting vacuum arc plasma | |
US20090242131A1 (en) | Ecr plasma source | |
RU2014131219A (ru) | Плазменный двигатель и способ генерирования движущей плазменной тяги | |
JP5297098B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2005508068A (ja) | 特定的に同調された高周波電磁界発生器を備える、物質のプラズマ切込み用装置 | |
JP2022046598A (ja) | 局所的なローレンツ力を用いるモジュール式マイクロ波源 | |
JP5540201B2 (ja) | 電磁波プラズマ発生装置、その発生方法、その表面処理装置、およびその表面処理方法。 | |
US7005809B2 (en) | Energy switch for particle accelerator | |
JP4152135B2 (ja) | 導電体近接領域で表面波励起プラズマを発生する方法と装置 | |
US9215789B1 (en) | Hybrid plasma source | |
JP6501493B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
WO2013172456A1 (ja) | プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 | |
TW538422B (en) | Ion production device for ion beam irradiation apparatus | |
JP2010056002A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP5026169B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
US10290471B2 (en) | Device for generating plasma by means of microwaves | |
JP2010055991A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP6341690B2 (ja) | 浮遊電極がシールドされた誘導結合型マイクロプラズマ源 | |
JP2009301820A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2015135883A (ja) | ドライエッチング装置及びプラズマスパッタリング装置 | |
JP2009283157A (ja) | プラズマ処理装置 | |
US5506405A (en) | Excitation atomic beam source | |
JP5586137B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
US20180030594A1 (en) | High-frequency wave supplying structure |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110525 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120724 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130527 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130611 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130614 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5297098 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |