JP2009301035A - 繰り返しパターンを有する物体を評価するための方法及びシステム - Google Patents

Abstract

【課題】 リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法、システム及びコンピュータプログラム製品を提供すること。
【解決手段】 リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法は、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を与え又は受け取り、上記リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与え、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであり、更に、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定することを含む。
【選択図】 図５

Description

関連出願

[0001]本願は、非仮出願であり、２００８年６月１０日に出願された米国仮特許出願第６１／０６０，１５９号に基づく優先権を主張しており、この仮特許出願の明細書の記載は、ここに援用される。

発明の分野

[0002]本発明は、一般に、繰り返しパターンを含むマスク又はウエハの如き物体の自動光学検査の分野に関する。

発明の背景

[0003]リソグラフィ技術が改良され、特徴部がより小さくなるにつれて、精密度、解像度及び正確度における更なる改善が必要とされてきている。ＣＤ履歴は、もはや、別個の制御尺度としては取り扱えないことを理解することが重要である。例えば、４５ｎｍ以下のノードにおいて、ダブルパターニング技法（ＤＰＴ）を使用するとき、オーバレイ誤差は、全ＣＤ履歴の部分となってくる。

[0004]配置誤差は、ＣＤに影響を与える誤差のうちの１つであるので、特徴部解像度レベルで、その配置誤差を測定できることが重要である。ＣＤ履歴のうちのあるものは、マスクによるものであるので、マスクの異なる場所の間（又はマスクの間）の配置誤差を測定できることが重要である。

[0005]リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法は、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を与え又は受け取るステップと、上記リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与えるようにするステップとを含み、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであり、更に、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定するステップを含む。

[0006]コンピュータプログラム製品は、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を与え又は受け取り、リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与えるようにし、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであり、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定するようにするための命令を記憶するコンピュータ読み取り可能な媒体を備える。

[0007]配置誤差を評価するためのシステムは、メモリユニット及びプロセッサを備え、上記メモリユニットは、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を記憶し、上記プロセッサは、リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与えるようにし、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであり、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定するように適応される。

[0008]本発明を理解し且つ本発明が実際にどのようにして実施されるのかについて理解できるようにするため、ある実施形態について、単なる非限定実施例として、添付図面を参照して、以下に説明する。
本発明の一実施形態によるリソグラフィマスクのマップを例示している。 本発明の一実施形態による２つのリソグラフィマスクの２つのマップを例示している。 サブ要素の１つ以上の繰り返しアレイの複数のオーバーラッピング画像を例示している。 本発明の一実施形態による２つのサブ画像の間のレジストレーションプロセスを例示している。 本発明の一実施形態による配置誤差を決定するための方法のフローチャートである。 本発明の一実施形態による予測オーバレイ誤差を決定するための方法のフローチャートである。 本発明の一実施形態によるシステムを例示している。

典型的な実施形態の詳細な説明

[0016]方法、システム及びコンピュータプログラム製品が提供される。リソグラフィマスクの異なる要素に関連した各対のポイント間の距離と基準対のポイント間の距離との間の差が、計算され、相対配置誤差を決定するのに使用される。

[0017]グローバルアライメントプロセス及びダイス（又は、より局部的な）アライメントプロセスを行った後に、相対配置誤差を計算することができる。グローバルアライメントプロセス及びより局部的なアライメントプロセスは、専用アライメントターゲットに依存することができるのであるが、相対配置誤差は、このような専用アライメントターゲット無しで決定することができる。

[0018]これらの相対配置誤差は、理想マスクからのリソグラフィマスクの偏差を表している。

[0019]次々に適用される異なるリソグラフィマスクの相対配置を比較することにより、オーバレイ誤差を検出することができ、また、任意的にそれを補償することができる。従って、ダブルパターニングプロセスを適応するときには、オーバレイ誤差は、前もって計算することができ、フィードフォワードプロセスによりそれを補償することができる。

[0020]本方法、システム及びコンピュータプログラム製品は、リソグラフィマスク（レチクルとも称される）の１つ以上の部分に亘って、また、全マスクに亘ってでも、相対配置誤差のマップ、また、密度の高いマップでも与えることができる。

[0021]相対配置誤差は、マスク製造プロセスへ与えて、相対配置誤差がより小さくなるような別のマスクを製造しようとすることができる。

[0022]このシステムは、リソグラフィマスクの画像を光学的に取得することができるものであるが、このような画像を光学的に取得できないようなシステムとすることもできることに注意されたい。

[0023]複数のマスクの相対配置誤差を生成して、それから、それを、マスク製造プロセス又は（リソグラフィマスクを使用する）リソグラフィプロセスへと与えることができることに注意されたい。

[0024]相対配置誤差は、基準結果に応答している。基準結果は、データベースから、又は、別のリソグラフィマスクから、又は、複数の他のリソグラフィマスクから、又は、評価されるリソグラフィマスクの別の部分から、得ることができる。

[0025]基準結果及び、付加的又は代替的に、測定結果は、１つ以上の検査ツールを使用することにより得ることができる。

[0026]このシステム、方法及びコンピュータプログラム製品は、必要な変更を加えることにより、ウエハ、ウエハのセット、リソグラフィマスクのセットに適用することができる。

[0027]リソグラフィマスクについて以下説明するが、これら説明は、ウエハ、データベースからのマスクレイアウト、又はマスク、レイアウト及びウエハの任意の組合せについても当てはまるものである。

[0028]相対距離の方法による配置誤差の測定
[0029]検査マシンを使用して全マスクに沿う及び全マスク内の配置誤差測定を行うため、幾つかの基準ポイント／場所／特徴部が選択される。それから、その基準特徴部（例えば、その特徴部の始端から終端までの長さ又は基準要素の周期的サブ要素の幾つかの周期の長さ）が測定され、このような測定が、同じ特徴部（測定特徴部）について、全マスクに沿って又はそのマスクの１つ以上の所定の部分にそって繰り返される。測定要素（特徴部）と基準要素との間の差（相対距離）を比較することにより、相対配置誤差を与えることができる。そのマスクに亘って異なる場所に位置する要素に関連した相対配置誤差に応答して、相対配置誤差のマップを形成することができる。

[0030]図１は、本発明の一実施形態による相対配置誤差のマップ１０を例示している。

[0031]マップ１０は、基準結果と測定結果との間の関係を表す曲線２０を含む。

[0032]各ポイントにおける曲線２０の傾斜は、そのポイントに関連した測定要素の測定結果と基準結果との間の比率を表している。その関連付けは、測定要素の場所に基づいて決定することができるが、これは、必ずしもそうでなくてもよい。

[0033]曲線２０は、基準結果（水平線ａ_１，ｂ_１ ３１の如き）と測定結果（Ｄ（ａ_１，ｂ_１）４１の如き）との間の関係を近似する多項式（及び特に低次多項式）であることができる。図１は、（ａ_ｎ，ｂ_ｎ）３８の如き付加的基準結果及びＤ（ａ_ｎ，ｂ_ｎ）４８の如き付加的測定結果をも例示している。

[0034]複数の基準結果を与えることができることに注意されたい。この場合において、１つ以上の測定結果を、各基準結果と比較することができる。もし、配置誤差が存在していないならば、基準結果は、測定結果と等しいはずである。

[0035]本発明の一実施形態によれば、相対配置誤差は、相対勾配により計算される。これは、（i）微分値の変化のマップを見つけ出し、（ii）正規化処理を適用し、（iii）配置変化マップを再構成する、ことを含む。この配置変化マップは、換算の知識及び配置変化が小さいものであるという事実に基づき、再構成することができる。このマップは、全リソグラフィマスク又は選択部分に亘る微分値の変化を表すことができる。

[0036]微分値は、次のプロセスにより測定される。（i）各フレームにおいて（各視野ＦＯＶにおいて）、（２つのポイントを与える）２つの離れた特徴部を見つけ出し、それらの間（その対のポイント間）の距離を測定し、測定された距離（測定結果とも称される）を基準結果で除算するか、又は、その測定結果をその基準結果（それら２つのポイント間の予測距離である）で減算する。この基準結果は、その同じポイントを含む基準画像から、又は、データベースから、又は、別のマスクから、又は、ウエハから取ることができる。この基準結果は、サブ要素の繰り返しアレイの複数のサブ要素の間の距離であることもできる（それは、周期の数−サブ要素の数により表すことができる）。

[0037]基準要素は、測定要素と異なることができるが（再配置誤差が存在していないとしても）、基準結果は、その配置誤差がない場合にはその測定結果に等しくなることに注意されたい。別の仕方として、再配置誤差がない場合には、基準結果と測定結果との間に固定関係（例えば、換算比率）が維持されていると予測することができる。

[0038]前述した方法は、特定の製品を製造するのに複数の評価されるマスクが使用されるときに、配置誤差及びオーバレイ誤差でさえも測定するのに、都合良く適用することができる。それらマスクは、同じ層又は異なる層を製造するに使用することができる。ダブルパターニングプロセスにおいて製品の同じ層を製造するのに２つのマスクが使用される。このダブルパターニングプロセス中においては、高密度パターンは、照射されるときにより密度の低いパターンを生成するようなマスクにより製造されるものである。

[0039]一方のマスクの相対配置誤差は、予測オーバレイ誤差を決定するため、他方のマスクの相対配置誤差と比較される。各マスクのマップは、図２に例示されるように、他方のマスクのマップと比較される。

[0040]第１のマスクのマップ１０は、この第１のマスクの測定結果と基準結果との間の関係を表す曲線２０を含む。第２のマスクのマップ５０は、この第２のマスクの測定結果と基準結果との間の関係を表す曲線６０を含む。

[0041]１対のポイント間の距離又は対の測定ポイント間の距離とその対の基準ポイント間の距離との差は、種々な仕方で測定することができる。本発明の一実施形態によれば、オーバーラッピングアルゴリズムが与えられる。このオーバーラッピングアルゴリズムは、マスクの複数の部分的にオーバーラッピングした画像を得ることを含む。このようなオーバーラッピング画像は、図３に例示されている。例えば、基準要素のオーバーラッピングフレーム７１から７６及び測定要素のオーバーラッピング画像８１から８６が例示されている。２つの隣接するフレーム（画像）の間で共有される重なり区域は、第２の画像に隣接する第１の画像に対して第２の画像を厳密に正確に整列させるのに使用することができる。

[0042]このようなアライメントプロセスは、厳密に正確に整列したフレームのチェーンを形成するのに必要とされる回数だけ、繰り返される。

[0043]このオーバーラッピングアルゴリズムは、周期的パターンを有する全てのマスクに適用することができるが、非周期的な仕方で実施することもできる。

[0044]本発明の別の実施形態によれば、サイクルモジュロアルゴリズムが与えられる。これによれば、周期的パターンの画像の整列により生ずるあいまいさの問題を解決することができる。これは、２つのポイント間の測定距離がそのパターンの複数の繰り返しを含むときに、特にそうである。この場合において、周期以下の差のみを考慮に入れて、その周期的パターンの１つ以上の周期に等しい距離変化は、無視される。

[0045]例えば、もし、その周期が３０ナノメータであるならば、３０ナノメータモジュロオペレーションが適用される。従って、もし、１対の基準ポイント間の距離がＮ１個の周期に等しく、１対の測定ポイント間の距離がＮ２個の要素及び周期以下の距離ｄに等しい場合には、その距離差は、（Ｎ２−Ｎ１）＊３０ナノメータ＋ｄであるが、ｄのみを考慮に入れるのである。

[0046]Ｎ１とＮ２との間の差は、測定要素のオーバーラッピング画像の整列が１周期落とすか又は１周期飛び越すか、することにより、生ずることがある。このような差は、図３に例示されている。図３において、基準要素７０のブロック長さ９１が、測定要素８０のブロック長さ９２と比較されている。この差は、配置誤差のため、基準要素及び測定要素を形成する周期的パターンの１周期より小さい値だけずらされる。

[0047]各対の隣接画像のアライメントプロセスは、周期的パターン（両フレームの共有区域）に対する位相マッチングにより、厳密に正確に行うことができる。

[0048]本発明の一実施形態によれば、測定要素の１対のポイント間の距離は、アライメントプロセスにより正確に測定することができる。このアライメントプロセスにおいては、一方のポイントが対応する基準ポイントに整列され、第２の測定ポイントと他方の基準ポイントとの間の差も測定される。第２の基準ポイントの場所と第２の測定ポイントとの間の差は、基準距離と測定ポイント間の距離との差を示している。

[0049]レジストレーションプロセスは、両特徴部をそれらの近接する周囲部で切り出し、各ポイント及びその周囲部の画像を得て、各基準ポイント及びその周囲部の画像を得ることを含む。このようなプロセスは、図４に例示されており、ここでは、２つのポイント及びそれらの周辺部の２つのサブ画像（１０１及び１０２）が、それらを基準要素の対応するサブ画像と比較することにより、処理される。

[0050]本発明の一実施形態によれば、基準結果と測定結果の各々との間の関係を近似するため、低次多項式が計算される。

[0051]この低次多項式は、配置誤差現象が基本的には変化の遅い現象であるので、使用することができるのである。多項式の次数は、配置誤差のサンプリングレート及び配置誤差変化性により決定される。サンプルが多い程、より高い次数の多項式を使用することができる。実際には、キュービックスプラインのようなより複雑なフィッティングを使用することができる。多くのサンプルがあるような領域においては、実効のある多項式の次数をより高いものとすることができる。

[0052]図５は、本発明の一実施形態による方法２００を例示している。

[0053]この方法２００は、ステージ２１０及び２２０のうちのどちらかによって開始される。ステージ２１０は、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を与えることを含む。ステージ２２０は、その基準結果を受け取ることを含む。

[0054]ステージ２１０及び２２０の後に、ステージ２３０が続き、このステージ２３０においては、リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数の対のポイントからの各対のポイントについて、複数の測定結果を与えるためその対のポイント間の距離が測定され、ここで、測定結果と基準結果との間の差が、相対配置誤差を示す。

[0055]ステージ２３０は、複数の対のポイント間の距離の複数の測定を行うことを含む。これら対のポイントは、全マスクに亘って又はそのマスクの選択部分に亘って広がる測定要素に属すことができる。

[0056]都合良くは、ステージ２３０は、ある要素をその基準要素と整列することにより、その要素の１対のポイント間の距離と、その基準要素の基準対のポイント間の距離との間の差を測定することを含む。

[0057]ステージ２３０の後に、ステージ２５０が続き、このステージ２５０において、基準結果と測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差が決定される。

[0058]都合良くは、ステージ２５０は、基準結果と測定結果の各々との間の差に応答して相対配置誤差を決定することを含む。

[0059]都合良くは、ステージ２５０は、各測定結果と基準結果との比率の差に応答して相対配置誤差を決定することを含む。

[0060]ステージ２５０の後に、ステージ２６０が続き、このステージ２６０において、相対配置誤差のマップが生成される。このマップは、密度が高く、従って、このマップは、互いに比較的に近い要素の複数の相対配置誤差を含むことができる。

[0061]ある要素は、あるアレイを形成する複数の繰り返しサブ要素を含むことができる。

[0062]基準要素は、測定要素とは異なることができることに注意されたい。

[0063]都合良くは、ある測定要素は、特定の周期を有する繰り返しサブ要素のアレイを含み、ステージ２１０及び２２０の後に、ステージ２２５が続き、このステージ２２５において、そのアレイの複数の画像が取得される。ステージ２２５の後に、ステージ２３０が続き、このステージ２３０は、そのアレイの異なる画像を整列させることを含む。ステージ２３０の後に、ステージ２５０が続き、このステージ２５０において、基準結果と測定結果との間の周期以下の差に応答して少なくとも１つの相対配置誤差が決定される。ステージ２５０は、基準結果と測定結果との間の差に対して周期モジュールオペレーションを適用することを含むことができる。

[0064]都合良くは、ステージ２６０は、基準結果と測定結果の各々との間の関係を表す関数を計算することを含む。この関数は、そのマップに表すことができる。

[0065]都合良くは、ステージ２６０は、低次多項式により、基準結果と測定結果との間の関係を近似することを含む。

[0066]都合良くは、この方法２００は、実時間で実行され、その結果は、リソグラフィプロセスを修正するのに使用される。従って、ステージ２５０の後に、ステージ２８０が続き、このステージ２８０において、相対配置誤差に応答して、リソグラフィプロセスのフィードフォワード修正が行われる。

[0067]都合良くは、この方法２００は、グローバルアライメントプロセスを行うステージ２０２及びダイアライメントプロセスを行うステージ２０４を含む。これらのステージは、ステージ２５０の前にある。

[0068]オーバレイ誤差を決定するために、この方法２５０が２回繰り返すことができる。これは、図６に例示されている。

[0069]図６は、本発明の一実施例によるオーバレイ誤差を決定するための方法３００を例示している。

[0070]この方法３００は、ステージ３１０で開始され、このステージ３１０において、ある製品の第１の製造ステージ中に使用される第１のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第１のセットが決定される。ステージ３１０は、方法２００を実行することを含むことができる。

[0071]ステージ３１０の後に、ステージ３２０が続き、このステージ３２０において、第１の製造ステージに続く第２の製造ステージ中に使用される第２のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第２のセットが決定される。ステージ３２０は、方法２００を実行することを含むことができる。

[0072]ステージ３２０の後に、ステージ３３０が続き、このステージ３３０において、相対配置誤差の第１のセットと第２のセットとを比較することにより、予測オーバレイ誤差が決定される。

[0073]ステージ３３０は、リソグラフィマスクの異なる要素に関連した相対勾配の間の関係を決定することを含むことができる。

[0074]ステージ３３０の後に、ステージ３４０が続き、このステージ３４０において、予測オーバレイ誤差が補償される。

[0075]図７は、配置誤差を評価するためのシステム４００を例示しており、このシステム４００は、メモリユニット４１０及びプロセッサ４２０を含む。メモリユニット４１０は、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を記憶する。プロセッサ４２０は、リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数の対のポイントからの各対のポイントについて、複数の測定結果を与えるため各対のポイント間の距離を測定し、ここで、測定結果と基準結果との間の差が相対配置誤差を示しており、基準結果と測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定するように適応される。このシステム４００は、画像取得ユニット４３０を含むことができる。

[0076]プロセッサ４２０は、方法３００のステージのいずれか又はそれらステージの任意の組合せに適用することができる。

[0077]当業者には容易に理解されるように、前述したような本発明の実施形態に対して、特許請求の範囲の記載により限定される範囲から逸脱せずに、種々な変形及び変更を加えることができるものである。

１０…相対配置誤差のマップ（第１のマスクのマップ）、２０…基準結果と測定結果（第１のマスクの測定結果）の間の関係を表す曲線、３１…基準結果、３８…付加的基準結果、４１…測定結果、４８…付加的測定結果、５０…第２のマスクのマップ、６０…基準結果と第２のマスクの測定結果との関係を表す曲線、７０…基準要素、７１…基準要素のオーバーラッピングフレーム、７２…基準要素のオーバーラッピングフレーム、７３…基準要素のオーバーラッピングフレーム、７４…基準要素のオーバーラッピングフレーム、７５…基準要素のオーバーラッピングフレーム、７６…基準要素のオーバーラッピングフレーム、８０…測定要素、８１…測定要素のオーバーラッピング画像、８２…測定要素のオーバーラッピング画像、８３…測定要素のオーバーラッピング画像、８４…測定要素のオーバーラッピング画像、８５…測定要素のオーバーラッピング画像、８６…測定要素のオーバーラッピング画像、９１…基準要素のブロック長さ、９２…測定要素のブロック長さ、１０１…サブ画像、１０２…サブ画像、２００…配置誤差を決定するための方法、３００…オーバレイ誤差を決定するための方法、４００…配置誤差を評価するためのシステム、４１０…メモリユニット、４２０…プロセッサ、４３０…画像取得ユニット

Claims (15)

1. リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法において、
   基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を受け取るステップと、
   上記リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与えるようにするステップであって、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであるようなステップと、
   上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定するステップと、
   を含む方法。
2. 上記相対配置誤差のマップを生成するステップを含む、請求項１に記載の方法。
3. ある要素を上記基準要素と整列させることにより、上記要素の１対のポイント間の距離と、上記基準要素の基準対のポイント間の距離との差を測定するステップを含む、請求項１に記載の方法。
4. 特定の周期を有する繰り返しサブ要素のアレイの複数の画像を取得するステップと、
   上記基準結果と測定結果との間の周期以下の差に応答して少なくとも１つの相対配置誤差を決定するステップと、
   を更に含む、請求項１に記載の方法。
5. 上記相対配置誤差を決定する前に、グローバルアライメントプロセスを行い、ダイアライメントプロセスを行うステップを含む、請求項１に記載の方法。
6. ある製品の第１の製造ステージ中に使用される第１のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第１のセットを決定するステップと、
   上記第１の製造ステージに続く第２の製造ステージ中に使用される第２のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第２のセットを決定するステップと、
   上記相対配置誤差の上記第１のセット及び上記第２のセットを比較することにより予測オーバレイ誤差を決定するステップと、
   を更に含む、請求項１に記載の方法。
7. 配置誤差を評価するためのシステムにおいて、メモリユニット及び上記メモリユニットに通信可能なように結合されるプロセッサを備えており、上記メモリユニットは、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を記憶し、上記プロセッサは、リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与えるようにし、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであり、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定するように適応されるようなシステム。
8. 上記プロセッサは、更に、相対配置誤差のマップを生成するように適応される、請求項７に記載のシステム。
9. 上記プロセッサは、ある要素を上記基準要素に整列させることにより、上記要素の１対のポイント間の距離と、上記基準要素の基準対のポイント間の距離との差を測定するように適応される、請求項７に記載のシステム。
10. 上記プロセッサは、更に、上記基準結果と測定結果との間の周期以下の差に応答して少なくとも１つの相対配置誤差を決定するように適応されており、上記周期以下の差は、特定の周期を有する繰り返しサブ要素のアレイの複数の画像を解析することにより決定される、請求項７に記載のシステム。
11. 上記プロセッサは、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の差に応答して相対配置誤差を決定するように適応される、請求項７に記載のシステム。
12. 上記プロセッサは、相対配置誤差を決定する前に、グローバルアライメントプロセスを行い、ダイアライメントプロセスを行うように適応される、請求項７に記載のシステム。
13. 上記プロセッサは、
    ある製品の第１の製造ステージ中に使用される第１のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第１のセットを決定し、
    上記第１の製造ステージに続く第２の製造ステージ中に使用される第２のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第２のセットを決定し、
    上記相対配置誤差の上記第１のセット及び上記第２のセットを比較することにより予測オーバレイ誤差を決定する、
    ように適応される、請求項７に記載のシステム。
14. 上記プロセッサは、上記予測オーバレイ誤差を補償するように適応される、請求項１３に記載のシステム。
15. 上記プロセッサは、上記リソグラフィマスクの異なる要素に関連した相対勾配の間の関係を決定するように適応される、請求項１３に記載のシステム。