JP2009301035A - 繰り返しパターンを有する物体を評価するための方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法は、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を与え又は受け取り、上記リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与え、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであり、更に、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定することを含む。
【選択図】 図5
Description
[0029]検査マシンを使用して全マスクに沿う及び全マスク内の配置誤差測定を行うため、幾つかの基準ポイント/場所/特徴部が選択される。それから、その基準特徴部(例えば、その特徴部の始端から終端までの長さ又は基準要素の周期的サブ要素の幾つかの周期の長さ)が測定され、このような測定が、同じ特徴部(測定特徴部)について、全マスクに沿って又はそのマスクの1つ以上の所定の部分にそって繰り返される。測定要素(特徴部)と基準要素との間の差(相対距離)を比較することにより、相対配置誤差を与えることができる。そのマスクに亘って異なる場所に位置する要素に関連した相対配置誤差に応答して、相対配置誤差のマップを形成することができる。
Claims (15)
- リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法において、
基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を受け取るステップと、
上記リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与えるようにするステップであって、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであるようなステップと、
上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定するステップと、
を含む方法。 - 上記相対配置誤差のマップを生成するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- ある要素を上記基準要素と整列させることにより、上記要素の1対のポイント間の距離と、上記基準要素の基準対のポイント間の距離との差を測定するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 特定の周期を有する繰り返しサブ要素のアレイの複数の画像を取得するステップと、
上記基準結果と測定結果との間の周期以下の差に応答して少なくとも1つの相対配置誤差を決定するステップと、
を更に含む、請求項1に記載の方法。 - 上記相対配置誤差を決定する前に、グローバルアライメントプロセスを行い、ダイアライメントプロセスを行うステップを含む、請求項1に記載の方法。
- ある製品の第1の製造ステージ中に使用される第1のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第1のセットを決定するステップと、
上記第1の製造ステージに続く第2の製造ステージ中に使用される第2のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第2のセットを決定するステップと、
上記相対配置誤差の上記第1のセット及び上記第2のセットを比較することにより予測オーバレイ誤差を決定するステップと、
を更に含む、請求項1に記載の方法。 - 配置誤差を評価するためのシステムにおいて、メモリユニット及び上記メモリユニットに通信可能なように結合されるプロセッサを備えており、上記メモリユニットは、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を記憶し、上記プロセッサは、リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与えるようにし、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであり、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定するように適応されるようなシステム。
- 上記プロセッサは、更に、相対配置誤差のマップを生成するように適応される、請求項7に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、ある要素を上記基準要素に整列させることにより、上記要素の1対のポイント間の距離と、上記基準要素の基準対のポイント間の距離との差を測定するように適応される、請求項7に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、更に、上記基準結果と測定結果との間の周期以下の差に応答して少なくとも1つの相対配置誤差を決定するように適応されており、上記周期以下の差は、特定の周期を有する繰り返しサブ要素のアレイの複数の画像を解析することにより決定される、請求項7に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の差に応答して相対配置誤差を決定するように適応される、請求項7に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、相対配置誤差を決定する前に、グローバルアライメントプロセスを行い、ダイアライメントプロセスを行うように適応される、請求項7に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、
ある製品の第1の製造ステージ中に使用される第1のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第1のセットを決定し、
上記第1の製造ステージに続く第2の製造ステージ中に使用される第2のリソグラフィマスクの相対配置誤差の第2のセットを決定し、
上記相対配置誤差の上記第1のセット及び上記第2のセットを比較することにより予測オーバレイ誤差を決定する、
ように適応される、請求項7に記載のシステム。 - 上記プロセッサは、上記予測オーバレイ誤差を補償するように適応される、請求項13に記載のシステム。
- 上記プロセッサは、上記リソグラフィマスクの異なる要素に関連した相対勾配の間の関係を決定するように適応される、請求項13に記載のシステム。
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