JP2009289468A - 荷電粒子線装置 - Google Patents

Abstract

【課題】荷重の集中点を形成することなく、装置本体の振動を好適に抑制できる荷電粒子線装置を提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子線銃２が備わる試料室４を含んでなる装置本体１０が、フレーム構造体である支持台１１に支持される荷電粒子線装置１であって、支持台１１に配設される除振装置６が、装置本体１０に取り付けられる支持部材５ａを下方から支持するとともに、装置本体１０の少なくとも一部は、除振装置６が支持部材５ａを支持する高さより低い位置にあることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、荷電粒子線装置に関する。

荷電粒子線装置は、荷電粒子線銃から観察試料に向かって荷電粒子線を照射し、観察試料の微細な構造を観察する装置であり、観察試料を真空収納する試料室が、除振装置を介して支持体に支持されている。そして試料室に、荷電粒子線銃と観察試料を載置するステージとが備わっている。

このような荷電粒子線装置においては、観察試料に荷電粒子線を照射する際に、例えば荷電粒子線装置の設置面の振動や環境音などで、荷電粒子線装置が振動すると、荷電粒子線銃から照射される荷電粒子線の焦点がずれ、観察試料の観察画像が不鮮明になるという問題がある。

とくに、荷電粒子線装置の装置本体には、上方に高く伸びる円筒状の筐体を有する荷電粒子線銃が備わっているため、荷電粒子線装置の重心位置が高くなり、荷電粒子線装置は振動しやすい構造である。

このような問題を解決するため、例えば特許文献１には、荷電粒子線装置の支持体で、試料室、ステージ及び荷電粒子線銃を含んでいる装置本体を吊り下げ支持することで、装置本体の重心位置を低くして、荷電粒子線装置を安定させ、荷電粒子線装置の振動を低減する技術が開示されている。
特開２０００−１８２５５３号公報（段落００１９、図１参照）

しかしながら、例えば特許文献１に開示される技術によると、装置本体を吊り下げ支持する支持体と装置本体の連結部に装置本体の全荷重がかかることから、連結部が荷重の集中点になる。このように荷重の集中点が形成されると、強度を維持するためにより綿密な強度設計が必要となり、設計コストが高くなるという問題がある。
また、荷重の集中点は破壊しやすいことから、メンテナンスや検査の頻度も高くなり、運用コストが高くなるという問題がある。

そこで本発明は、荷重の集中点を形成することなく、装置本体の振動を好適に抑制できる荷電粒子線装置を提供することを課題とする。

前記課題を解決するために、荷電粒子線装置の装置本体を、フレーム構造体で下方から、除振装置を介して支持するとともに、装置本体の少なくとも一部を、除振装置が装置本体を支持する高さより低くする構成とした。

本発明によれば、荷重の集中点を形成することなく、装置本体の振動を好適に抑制できる荷電粒子線装置を提供できる。

以下、本発明を実施するための最良の形態について、適宜図を参照して詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る荷電粒子線装置を示す図である。図１に示すように、本実施形態に係る荷電粒子線装置１は、装置本体１０を、長尺の支持部材５ａ、及び除振装置６を介して、支持台１１が下方から支持して構成される。
装置本体１０は、荷電粒子線を照射する荷電粒子線銃２、観察試料を真空収納する試料室４、試料室４に備わる後記するステージ４０（図２参照）を駆動するアクチュエータ３、及び試料室４を真空にする排気システム８を含んで構成される。

図２は、荷電粒子線装置の構成を示す図である。なお、図２は試料室４を一部断面図で示し、試料室４の内部を示している。
図２に示すように、荷電粒子線装置１は、フレーム構造体からなる支持台１１が装置本体１０を支持して構成される。装置本体１０には、観察試料４１を収納する試料室４が備わり、試料室４には、観察試料４１を載置するステージ４０が備わる。ステージ４０は、アクチュエータ３によって平面内で移動し、荷電粒子線銃２が照射する荷電粒子線（イオンビームや電子線）が、観察試料４１の任意の位置（すなわち、観察する位置）を照射するように、図示しない制御装置で位置制御される。
以降、上下方向の表記は、装置本体１０の側を上方、支持台１１の側を下方とする。

試料室４の上方には、例えば円筒状の筐体２ｂを有する荷電粒子線銃２が、上方に向かって高く伸びるように備わり、荷電粒子線を照射する照射口２ａが、ステージ４０の上方に開口している。
荷電粒子線銃２の筐体２ｂの内部の上方には、荷電粒子線を発射する電子銃２ｃが備わり、電子銃２ｃから発射された荷電粒子線は、筐体２ｂの内部に形成される図示しない加速管で加速され、照射口２ａから観察試料４１に向かって照射される。

このように、荷電粒子線銃２の筐体２ｂは荷電粒子線の加速管を形成することから、その長さを短くすることはできない。そして、荷電粒子線銃２は、観察試料４１を載置するステージ４０の鉛直上方で、試料室４の上方に向かって高く伸びるように備わることになる。この構成によって、装置本体１０は重心位置が高くなる。

ステージ４０には、観察試料４１が載置され、観察試料４１の表面を、荷電粒子線銃２から照射される荷電粒子線で走査する。荷電粒子線の照射時に観察試料４１から出る２次電子は、図示しない２次電子検出器でとらえられて像表示装置に観察画像として表示される（図示せず）。

また、試料室４には、排気システム８が備わり、観察試料４１の観察時には、試料室４の内部を真空状態に維持できる。排気システム８は、例えば真空ポンプであって、試料室４の内部を真空状態にする。

本実施形態に係る試料室４の外壁には、水平方向（荷電粒子線の照射方向と直角をなす方向）に沿って凹溝４ａが形成され、凹溝４ａには長尺の支持部材５ａが嵌り込む。そして、支持部材５ａは、ボルト９などの締結部材で試料室４に締結固定される。
また、支持部材５ａは、溶接によって試料室４に固定される構成であってもよい。

支持部材５ａの長手方向に沿った長さは、支持部材５ａが備わる試料室４の側面の長さより充分に長く、その両端部は、試料室４から外方に向かって、水平方向に突出している。
そして、このような構成の支持部材５ａが、互いに平行になるように試料室４の外壁の両側面に取り付けられて、装置本体１０に支持部が形成される。

なお、試料室４の、例えば支持部材５ａが取り付けられない側面には、図示しない開閉扉が備わり、観察試料４１の出し入れができる構成が好適である。

支持台１１は、図２に示すように、例えば上面視が矩形の枠状の支持枠１１ｂを、４本の脚部１１ａで支持するように構成される。
４本の脚部１１ａ、及び支持枠１１ｂは、それぞれ長尺の例えば金属製のフレーム部材からなり、フレーム構造体の支持台１１が構成される。
そして、支持枠１１ｂは、支持台１１を設置する設置面に平行な、例えば４本のフレーム部材１１ｂ１が互いに連結して形成されることが好適である。
なお、図２に示すように、隣り合う脚部１１ａを、フレーム部材からなる補強部材１１ｃで互いに連結し、脚部１１ａを補強する構成であってもよい。

図１に示すように、本実施形態に係る荷電粒子線装置１においては、装置本体１０の試料室４が支持台１１の支持枠１１ｂの内側に入り込むとともに、支持部材５ａが支持枠１１ｂに横架して、装置本体１０は支持台１１に下方から支持される。
また、本実施形態においては、支持部材５ａと支持台１１の間に除振装置６が介在することが好適である。
そのため、図２に示すように、支持台１１の支持枠１１ｂを形成する、設置面に平行なフレーム部材１１ｂ１には、例えば４つの除振装置６が配設される。
そして、除振装置６は、試料室４の外壁に取り付けられ、図１に示すように試料室４から外方に向かって水平に突出する支持部材５ａを、鉛直下方から支持する。

除振装置６は、例えばスプリング６ａとダンパ６ｂを含んで構成され、支持台１１の振動をスプリング６ａとダンパ６ｂの作用で減衰する機能を有する。
なお、除振装置６は、公知の技術が適用できるため詳細な説明は省略する。

本実施形態に係る除振装置６は、支持台１１の支持枠１１ｂに、装置本体１０の支持部材５ａに対応して備わる。すなわち、支持台１１に装置本体１０が支持されるときに、支持部材５ａが横架する位置に除振装置６が配設され、図１に示すように、除振装置６が支持部材５ａを下方から支持する。

さらに、図１に示すように、本実施形態に係る荷電粒子線装置１は、支持台１１の支持枠１１ｂの内側に、試料室４の一部が入り込むように構成されることから、支持枠１１ｂは、試料室４が入り込む大きさの開口を有して形成されることが好適である。また、支持部材５ａは、支持枠１１ｂを横架するのに充分な長さのフレーム部材で形成されることが好適である。
そして、この構成により、装置本体１０の少なくとも一部は、支持部材５ａが除振装置６に支持される高さより低い位置になる。

図１、図２に示すように構成される荷電粒子線装置１は、装置本体１０の試料室４が支持台１１の支持枠１１ｂの内側に入り込むとともに、試料室４に取り付けられる支持部材５ａが、支持枠１１ｂに配設される除振装置６に下方から支持される。この構成によって、装置本体１０の少なくとも一部は、支持部材５ａが除振装置６に支持される高さより低い位置になることから、支持台１１に対する装置本体１０の重心位置を低くすることができる。したがって、荷電粒子線装置１の重心位置を低くして、荷電粒子線装置１の安定性を向上でき、例えば設置面の振動や環境音による荷電粒子線装置１の振動を抑制することができる。

また、本実施形態に係る支持台１１は、図１に示すように、装置本体１０を下方から支持する構造である。
前記したように、装置本体１０を吊り下げ支持する構造の場合、装置本体１０を支持する支持体と装置本体１０の連結部に全荷重がかかることから、連結部には高い強度が要求される。
本実施形態に係る支持台１１はフレーム構造体であり、装置本体１０を下方から支持することから、装置本体１０の荷重を、支持台１１を構成するフレーム部材に好適に分散できる。したがって、装置本体１０の荷重の集中点を形成することがない。

このように、本実施形態に係る荷電粒子線装置１は、装置本体１０の重心位置を低くすることで、設置面の振動や環境音による荷電粒子線装置１の振動を抑制することができ、観察試料４１の鮮明な観察画像を得ることができるという優れた効果を奏する。
また、装置本体１０を支持する支持台１１は、装置本体１０の荷重を、支持台１１を構成するフレーム部材に分散することによって、装置本体１０の荷重が集中する荷重の集中点を形成しないという優れた効果を奏する。

図３は、試料室と支持部材を、固定部材を介して固定する形態を示す図である。
すなわち、図３に示すように、板状の固定部材５０の端部が支持部材５ａの長手方向の端部から、例えば上方に突出するように、溶接などの方法で支持部材５ａの表面に固定される。
そして、固定部材５０の支持部材５ａから突出した部分には、図示しない複数の固定孔が開口する。
さらに、試料室４には、固定部材５０の固定孔に対応する位置に図示しないねじ穴が形成され、ボルト９などの締結部材で、試料室４と固定部材５０を固定する。
このとき、試料室４に形成される凹溝４ａの深さは、支持部材５ａの厚みと略同等であることが好適である。

このような構成によると、支持部材５ａに、ボルト９などの締結部材用の穴を加工する必要がなくなり、支持部材５ａの剛性を高めることができ、試料室４をより確実に固定できる。

図４は、試料室に取り付けられる支持部材の位置を変えたことを示す図である。すなわち、図４に示すように、支持部材５ａを試料室４の上方（具体的には、図２に示すステージ４０より上方）に取り付ける構成であってもよい。
このように構成すると、試料室４に備わるステージ４０を支持枠１１ｂより下方に配置できる。したがって、支持枠１１ｂに干渉されることなく、観察試料４１（図２参照）を容易に出し入れできる。
また、支持部材５ａを試料室４の上方に取り付けると、支持台１１に対する装置本体１０の重心位置がさらに低い位置になり、荷電粒子線装置１の安定性がさらに向上する。

図５の（ａ）は、装置本体の第１変形例を示す図、（ｂ）は、図５の（ａ）におけるＸ１−Ｘ１断面図である。また、図６は、第１変形例に係る装置本体を備える荷電粒子線装置を示す図である。
本実施形態の第１変形例は、図５の（ａ）、（ｂ）に示すように、上面視でロ字型枠状の支持部材５ｂを形成し、試料室４の外壁の周囲に、水平方向（荷電粒子線の照射方向に直角な方向）に沿って形成される凹溝４ｂに嵌め込むように、支持部材５ｂを試料室４に外挿する。さらに、支持部材５ｂを試料室４に対して、所定の角度（例えば４５°）だけ回転させ、支持部材５ｂの４つの角部５ｂ１が、試料室４から外方に向かって、水平に突出するように形成する。

支持部材５ｂを形成する方法は限定されるものではないが、例えば図５の（ｂ）に示すように、コ字型の部材の開放端側に、長尺の部材を溶接等で固定して形成される。
また、例えば、凹溝４ｂが形成される位置には、試料室４の外壁に、所定の角度だけ回転した支持部材５ｂの辺の方向に沿うように傾斜部４ｂ１を形成する。すなわち、凹溝４ｂの位置において、試料室４の外壁は、図５の（ｂ）に示すように８角形になる。

このように、試料室４を形成すると、支持部材５ｂは傾斜部４ｂ１によって、試料室４の外壁周りの回動が抑止され、支持部材５ｂは回動することなく試料室４に取り付けられる。

図５の（ａ）に示す支持部材５ｂが取り付けられた試料室４を有する装置本体１０ａは、図６に示すように支持台１１に支持される。すなわち、支持台１１に装置本体１０ａが支持されるときに、試料室４から水平に突出する、支持部材５ｂの４つの角部５ｂ１（図６には、２つの角部５ｂ１を図示）が、支持枠１１ｂと上下方向に重なる位置に除振装置６が配設され、図６に示すように、支持部材５ｂは、除振装置６を介して支持枠１１ｂに下方から支持される。
このような構成によって、装置本体１０ａは、支持部材５ｂ、及び除振装置６を介して支持台１１に下方から支持され、図１、図２に示す構造と同等の効果を奏することができる。

また、試料室４は支持部材５ｂと４箇所で接することから、支持部材５ｂにかかる荷重を好適に分散することができる。

図７の（ａ）は、装置本体の第２変形例を示す図、（ｂ）は、第２変形例に係る支持部の構造を示す図である。また、図８は、第２変形例に係る支持部の他の構造を示す図である。
図７の（ａ）に示すように、本実施形態の第２変形例に係る装置本体１０ｂは、試料室４の上端部の側に、４つの長尺の支持部材５ｃが取り付けられて構成されることを特徴とする。
すなわち、試料室４の外壁の同じ側面において、上端部の例えば角部近傍から、端部が外方に向かって水平に突出するように、且つ２つの支持部材５ｃが互いに平行になるように取り付けられる。そして、試料室４を挟んだ反対側の側面には、それぞれの支持部材５ｃと直線上に、さらに２つの支持部材５ｃが取り付けられる。

また、支持台１１には、枠状の支持枠１１ｂと上面視で同形状の枠部材１１ｄが、例えば４つの除振装置６を介して支持されて備わる。
そして、試料室４に取り付けられる４つの支持部材５ｃは、枠部材１１ｄに上方から溶接などの方法で固定される。

支持部材５ｃを試料室４に固定する構造は限定するものではないが、例えば図７の（ｂ）に示す構造が考えられる。
試料室４の外壁の上端部には、断面形状がＴ字型の溝が形成されるガイド部材４ｃを取り付ける。ガイド部材４ｃは、Ｔ字型の溝が試料室４の上端部に沿って水平になるように、且つ幅狭部４ｃ２が外側に開口するように、溶接などの方法で試料室４の外壁に固定される。
そして、ガイド部材４ｃには、幅狭部４ｃ２を挟んだ上下に、例えば４つのねじ穴４ｃ１が形成される。

支持部材５ｃの一端には、両側に広がるようなフランジ部５１が形成され、フランジ部５１には、４つの固定孔５１ａ（図５の（ｂ）には３つが図示）が形成される。この固定孔５１ａは、試料室４に固定されるガイド部材４ｃに形成される、例えば４つのねじ穴４ｃ１に対応して形成される。
なお、ガイド部材４ｃのねじ穴４ｃ１の数、及びフランジ部５１の固定孔５１ａの数は、互いに等しければその数は４つに限定されない。

フランジ部５１は断面形状が、例えばＨ字型で、試料室４に固定されるガイド部材４ｃのＴ字型の溝にスライド挿入される形状とする。
そして、フランジ部５１をガイド部材４ｃのＴ字型の溝にスライド挿入した後、ボルト９などの締結部材を、固定孔５１ａを介して、ガイド部材４ｃに形成されるねじ穴４ｃ１に螺入し、支持部材５ｃと試料室４を締結固定する。

このような構成によって、装置本体１０ｂには支持部材５ｃが取り付けられる。そして、装置本体１０ｂを、支持部材５ｃ、枠部材１１ｄ、及び除振装置６を介して支持台１１で下方から支持すると、図１、図２に示す構造と同等の効果を奏することができる。

第２変形例における装置本体１０ｂは、支持台１１に支持される枠部材１１ｄと、４つの支持部材５ｃを介して固定されることから、装置本体１０ｂは枠部材１１ｄに確実に固定される。
また、装置本体１０の荷重を、４つの支持部材５ｃに好適に分散できる。

なお、図７の（ａ）には、４つの支持部材５ｃが取り付けられる構成を図示したが、試料室４の外壁の全ての側面に２つの支持部材５ｃを取り付け、合計８つの支持部材５ｃを取り付ける構成としてもよい。
このように、試料室４に取り付けられる支持部材５ｃの数を増やすと、装置本体１０ｂの荷重を、各支持部材５ｃにさらに好適に分散できる。

また、図７の（ｂ）には、ガイド部材４ｃを試料室４の外壁に固定する構成を示したが、試料室４の外壁に、断面がＴ字型の溝部を形成する構成であってもよい。

また、図８に示すように、試料室４に係合溝４ｄを形成し、この係合溝４ｄに係合する係合部５ｃ２を有する支持部材５ｃ´を試料室４に取り付ける構成であってもよい。
係合溝４ｄは、例えば、試料室４の上端部に沿って水平方向に伸びる横溝４ｄ１と、横溝４ｄ１と端部で接続するように形成される縦溝４ｄ２とからなる。

横溝４ｄ１は、試料室４の外壁内部で段差をもって上下に広がり、断面形状がＴ字型となっている。そして、横溝４ｄ１が形成される側面に接続する側面には、横溝４ｄ１の端部が開口している。

横溝４ｄ１の開口している端部の側は、断面形状がＬ字型に鉛直方向に沿って切り取られ、横溝４ｄ１と接続する縦溝４ｄ２が形成される。
例えば、縦溝４ｄ２は、図８に示すように、横溝４ｄ１が段差をもって広がる部分に対応して折れ曲がり、断面形状がＬ字型に形成される。
なお、縦溝４ｄ２は、試料室４の上方に貫通しない構造が好適である。

支持部材５ｃ´は、係合溝４ｄに係合する係合部５ｃ２に、腕部５ｃ１が固定されて形成される。
係合部５ｃ２は、例えば板状の側面５１ｂの上方に、断面形状がＴ字型で横溝４ｄ１にスライド挿入されるガイドレール５１ｃが形成され、ガイドレール５１ｃの一方の端部には、断面形状がＬ字型の嵌合部５１ｄが、ガイドレール５１ｃから直角に下方に伸びるように形成される。
そして、側面５１ｂには、長尺の腕部５ｃ１が突出するように固定されて備わり、支持部材５ｃ´が形成される。

支持部材５ｃ´の係合部５ｃ２は、ガイドレール５１ｃが横溝４ｄ１にスライド挿入するように、試料室４に形成される係合溝４ｄが開口した端部から嵌め込まれ、嵌合部５１ｄが縦溝４ｄ２に嵌合して係止する。
そして、例えば、図示はしないが、ボルト等の締結部材で、試料室４と係合部５ｃ２を締結固定することで、支持部材５ｃ´を試料室４に取り付けることができる。

このように試料室４に取り付けられる支持部材５ｃ´は、係合溝４ｄの横溝４ｄ１と縦溝４ｄ２とで、試料室４に固定されることから、支持部材５ｃ´は試料室４に強固に固定されることになる。したがって、試料室４と支持部材５ｃ´の間の剛性を高めることができ、試料室４の振動を好適に抑制できる。
また、試料室４の係合溝４ｄの横溝４ｄ１と縦溝４ｄ２で支持部材５ｃ´を支持することから、支持部材５ｃ´の取り付け部においては、装置本体１０ｂの荷重が広い範囲に分散される。

また、本実施形態の、例えば第２変形例に係る装置本体１０ｂを備える荷電粒子線装置１には、枠部材１１ｄに磁場キャンセラを形成できる。
図９は磁場キャンセラを示す図である。
磁場キャンセラは、磁場が対象物（本実施形態においては、試料室４に備わる荷電粒子線銃２）に影響を与えないように、対象物周辺の磁場を相殺する磁場を発生する機能を有する。磁場キャンセラは、例えば対象物周辺の磁場を検知して、対象物の周囲に配設されるコイルに電流を流し、コイルに発生する磁界で対象物周辺の磁場を相殺する。

本実施形態においては、図９に示すように、支持台１１に支持される枠部材１１ｄを中空のフレーム部材で構成するとともに、枠部材１１ｄの上方に、主に荷電粒子線銃２を囲むように上部枠部材１１ｄ１を中空のフレーム部材で形成する。そして、枠部材１１ｄ、及び上部枠部材１１ｄ１を形成するフレーム部材の中空部にコイル１２を配設する。
前記したように、上部枠部材１１ｄ１は、荷電粒子線銃２を囲むように形成されることから、上部枠部材１１ｄ１を構成するフレーム部材にコイル１２を配設すると、そのコイル１２は、荷電粒子線銃２の周囲に配設されることになる。

したがって、上部枠部材１１ｄ１に配設されたコイル１２は、荷電粒子線銃２を対象物とした磁場キャンセラを形成することができる。
そして、例えば、コイル１２に供給する電流を調節するコントローラ１３を接続し、コイル１２に供給する電流を調節することでコイル１２に磁界を発生させることができ、その磁界によって、荷電粒子線銃２を周囲の磁場から遮断できる。

前記したように、荷電粒子線装置１は、荷電粒子線を観察試料４１（図２参照）に照射して観察画像を作成するが、荷電粒子線は磁場の影響を受けやすく、磁場の影響で観察試料４１の観察画像が不鮮明になる場合がある。
このような場合に、磁場キャンセラで荷電粒子線銃２を周囲の磁場から遮断すると、荷電粒子線に与える磁場の影響を軽減でき、鮮明な観察試料４１の観察画像を得ることができる。

そして、本実施形態においては、上部枠部材１１ｄ１に磁場キャンセラを形成することで、例えば荷電粒子線装置１（図１参照）を大型化することなく磁場キャンセラを備えることができる。

図１０は、装置本体の第３変形例を示す図、図１１は、第３変形例に係る支持部材の構成を示す図、図１２は、第３変形例に係る支持部材の他の形状を示す図である。図１０に示すように、本実施形態の第３変形例に係る装置本体１０ｃは、試料室４の外壁の同じ側面において、上端部の例えば角部近傍から、外方に向かって水平に突出するように２つの腕部５ｄ１が備わり、試料室４を挟んだ反対側の側面には、例えばそれぞれの腕部５ｄ１の略延長上に、２つの腕部５ｄ１が備わる。

そして、それぞれの腕部５ｄ１の下方には補強部材５ｄ２が連結され、支持部材５ｄが形成される。補強部材５ｄ２は、腕部５ｄ１の下方から試料室４の外壁に向かって、筋交として備わる部材である。

また、支持台１１には、枠状の支持枠１１ｂと上面視で同形状の枠部材１１ｄが、例えば４つの除振装置６を介して支持されて備わる。
さらに、試料室４に備わる４つの支持部材５ｄは、それぞれの腕部５ｄ１が上方から枠部材１１ｄに、溶接などの方法で固定されて取り付けられる。
そして、装置本体１０ｃを、支持部材５ｄ、及び除振装置６を介して支持台１１で支持すると、図１、図２に示す構造と同等の効果を奏することができる。
なお、補強部材５ｄ２は、支持枠１１ｂの内側に入り込むように構成されることが好適である。

第３変形例に係る装置本体１０ｃに取り付けられる支持部材５ｄは、例えば図１１に示すように構成される。
図１１に示すように、試料室４の外壁には、支持部材５ｄが取り付けられる側面の端部近傍に、溝部４ｅが形成される。溝部４ｅは、鉛直方向に沿って形成されその上端部は貫通していない。すなわち、溝部４ｅは、試料室４の下端側で開放し、上端側は閉塞している。
そして、溝部４ｅは、試料室４の外壁内部で段差をもって広がり、断面形状がＴ字型となっている。
そして、溝部４ｅの両側には、複数のねじ穴（図１１には、１０個のねじ穴を図示）４ｅ１が形成される。

支持部材５ｄは、断面形状がＨ字型のガイドレール５ｄ３の側壁部５ｄ４に腕部５ｄ１が固定されて形成される。ガイドレール５ｄ３は、試料室４に形成される溝部４ｅにスライド挿入される形状とする。
また、ガイドレール５ｄ３の下方には、Ｈ字型の溝を閉塞する係止部材５ｄ６を溶接などで固定してもよい。

腕部５ｄ１は、側壁部５ｄ４に起立してガイドレール５ｄ３に固定され、腕部５ｄ１の下方には、補強部材５ｄ２が連結される。補強部材５ｄ２は、腕部５ｄ１から側壁部５ｄ４に向かうように、いわゆる筋交として備わって腕部５ｄ１を補強する。
なお、腕部５ｄ１と補強部材５ｄ２は一体に形成されてもよい。

ガイドレール５ｄ３の側壁部５ｄ４には、複数の固定孔５ｄ５が貫通して形成される。固定孔５ｄ５は、ガイドレール５ｄ３が試料室４の溝部４ｅにスライド挿入したときに、ねじ穴４ｅ１に対応する位置に形成される。そして、ガイドレール５ｄ３が試料室４の溝部４ｅにスライド挿入したとき、ボルト９などの締結部材を、固定孔５ｄ５を介してねじ穴４ｅ１に螺入することで、支持部材５ｄを試料室４に締結固定し取り付けられる。

このように、補強部材５ｄ２を含んで支持部材５ｄを形成したことで、腕部５ｄ１が補強されて支持部材５ｄの剛性が高くなるとともに、試料室４は下方の振動も補強部材５ｄ２で抑制することができ、荷電粒子線装置１（図１０参照）の振動をより好適に抑制することができる。

また、図１２に示すように、腕部５ｄ１をガイドレール５ｄ３の長手方向略中央部に備え、腕部５ｄ１の上下に、２つの補強部材５ｄ２を備えて支持部材５ｄ´を形成してもよい。
このように支持部材５ｄ´を形成することで、試料室４（図１１参照）に対する腕部５ｄ１の上下方向の位置を変更することができる。
支持部材５ｄ´は、腕部５ｄ１が上方から枠部材１１ｄ（図１０参照）に、溶接などで固定されることから、例えば図１２に示すように、腕部５ｄ１をガイドレール５ｄ３の長手方向略中央部に備えることで、枠部材１１ｄに対する試料室４の位置を上下方向に高くすることができる。

この構成は、荷電粒子線装置１（図１０参照）を設置する周囲環境の制約（例えば地形的な制約）等で、例えば試料室４を低く設置できない場合に有効である。

なお、図１１においては、溝部４ｅを試料室４の外壁に形成したが、これは限定されず、例えば、断面形状がＴ字型の溝が形成されるガイド部材を試料室４の外壁に固定して、ガイドレール５ｄ３がスライド挿入される溝を形成してもよい。

図１３は、装置本体の第４変形例を示す図、図１４は、支持部材を固定する構造を示す図、図１５は、荷電粒子線銃の周囲に磁場キャンセラを形成したことを示す図である。図１３に示すように、本実施形態の第４変形例に係る装置本体１０ｄは、支持台１１の支持枠１１ｂの４つの角部に向かうように、支持部材５ｅが取り付けられることを特徴とする。
すなわち、試料室４が支持台１１の支持枠１１ｂの内側に入り込んだときに、支持枠１１ｂの４つの角部に向かうように、試料室４の上端部の角部から長尺の支持部材５ｅが、外方に向かって水平に突出して取り付けられる。
支持台１１の支持枠１１ｂには、４つの角部に４つの除振装置６が配設され、試料室４に取り付けられる支持部材５ｅは、除振装置６を介して支持台１１の支持枠１１ｂに下方から支持される。

支持部材５ｅを試料室４に固定する構造は限定するものではないが、例えば図１４に示す構造が考えられる。
図１４に示すように、試料室４の外壁の上端部には、断面形状がＴ字型の溝が形成されるガイド部材５ｅ１が備わる。ガイド部材５ｅ１は、Ｔ字型の溝が水平になるように、且つ幅狭部５ｅ３の開口が外側を向くように、溶接などの方法で試料室４の外壁に固定される。
そして、ガイド部材５ｅ１には、幅狭部５ｅ３を挟んで上下に、例えば８つのねじ穴５ｅ２が形成される。

支持部材５ｅは、断面がＨ字型のガイドレール５２の側壁部５２ａに、腕部５３を固定してなる。
ガイドレール５２は、試料室４に固定されるガイド部材５ｅ１にスライド挿入される部材であって、側壁部５２ａには、ガイド部材５ｅ１に形成されるねじ穴５ｅ２と対応する位置に、固定孔５２ｂが貫通して形成される。
ガイドレール５２は、側壁部５２ａが外側になるように試料室４に備わるガイド部材５ｅ１にスライド挿入され、ボルト９などの締結部材が、固定孔５２ｂを介して、ガイド部材５ｅ１に形成されるねじ穴５ｅ２に螺入し、支持部材５ｅと試料室４は締結固定される。

腕部５３は、ガイドレール５２の側壁部５２ａに起立して固定される。このとき、腕部５３はガイドレール５２の長手方向と所定の角度で固定される。
すなわち、ガイドレール５２がガイド部材５ｅ１に固定され、試料室４が、支持台１１の支持枠１１ｂ（図１３参照）の内側に入り込んだときに、支持枠１１ｂの角部に向かうような角度で、腕部５３は、ガイドレール５２の側壁部５２ａに固定される。

このような構成によって、支持部材５ｅを、試料室４（図１３参照）の４つの角部に取り付けることができる。
そして、図１３に示すように、装置本体１０ｄを、支持部材５ｅ、及び除振装置６を介して支持台１１で下方から支持すると、図１、図２に示す構造と同等の効果を奏することができる。
なお、ガイド部材５ｅ１のねじ穴５ｅ２の数、及びガイドレール５２の固定孔５２ｂの数は、互いに等しければその数は８つに限定されない。

また、図１３に示すように、試料室４の下端部において、４つの角部からそれぞれ支持部材５ｅと平行に突出する、下部支持部材５ｅ３を備えてもよい。下部支持部材５ｅ３は支持部材５ｅより短く形成され、鉛直方向に沿って備わる補強部材５ｅ４で、下部支持部材５ｅ３の端部と支持部材５ｅとを連結する。
このように、下部支持部材５ｅ３を備えることで、試料室４は下方の振動も抑制されることになり、荷電粒子線装置１の振動をより好適に抑制することができる。

なお、図１４には、ガイド部材５ｅ１を試料室４に固定する構成を示したが、例えば試料室４の外壁に、断面がＴ字型の溝部を形成する構成であってもよい。

また、図１５に示すように、隣り合う支持部材５ｅを、フレーム部材で互いに連結して上部支持枠５ｅ５を形成し、隣り合う下部支持部材５ｅ３を、フレーム部材で互いに連結して下部支持枠５ｅ６を形成し、上部支持枠５ｅ５の上方には、主に荷電粒子線銃２を囲むように上部枠部材５ｅ７を形成する。
そして、支持部材５ｅ、下部支持部材５ｅ３、下部支持枠５ｅ６、及び上部枠部材５ｅ７を中空のフレーム部材で形成し、その中空部にコイル１２を配設する。
さらに、コイル１２に供給する電流を調節するコントローラ１３を接続し、コイル１２に供給する電流を調節する構成で、荷電粒子線銃２の周囲に磁気キャンセラを形成できる。

図１６の（ａ）は、装置本体の第５変形例を示す図、（ｂ）は、第５変形例に係る支持枠の構成を示す図である。図１６の（ａ）に示すように、本実施形態の第５変形例に係る装置本体１０ｅは、試料室４から外方に向かって水平に突出するフランジ状の支持部材５ｆが、試料室４の外壁の周囲に取り付けられて、支持部を形成することを特徴とする。

図１６の（ａ）に示すように、フランジ状の支持部材５ｆは、その外形が、支持台１１の支持枠１１ｂの外形と略等しく形成される。そして、試料室４が支持枠１１ｂの内側に入り込んだとき、フランジ状の支持部材５ｆの一部は、支持枠１１ｂと上下方向に重なる。
さらに、支持台１１の支持枠１１ｂの、例えば角部には除振装置６が配設され、フランジ状の支持部材５ｆが支持枠１１ｂに上方から重なる部分で、除振装置６が支持部材５ｆを下方から支持する。このような構成によって、装置本体１０ｅは、フランジ状の支持部材５ｆ、除振装置６を介して、支持台１１に下方から支持される。

フランジ状の支持部材５ｆは、試料室４の外壁と一体に形成してもよいし、図１６の（ｂ）に示すように、２つの板状部材５ｆ１を、試料室４の外壁に取り付けて形成してもよい。
図１６の（ｂ）に示すように、上面視でコ字型の板状部材５ｆ１の切り欠き５ｆ２に試料室４を嵌め込み、対向する側からもう一枚の例えば同形状の板状部材５ｆ１を同様に嵌め込む。
そして、試料室４を挟むように備わる２枚の板状部材５ｆ１の端部を互いに当接させ、その当接部分を溶接等で固定する。さらに、例えば試料室４の外壁と板状部材５ｆ１とを溶接等で固定することで、フランジ状の支持部材５ｆからなる支持部を形成できる。

このとき、例えば、試料室４の外壁の周囲に、水平方向に沿った凹溝４ｆを形成するとともに、２枚の板状部材５ｆ１の切り欠き５ｆ２が、凹溝４ｆに嵌り込む構成とすれば、板状部材５ｆ１を、より強固に試料室４に固定できる。

このような構成によって、フランジ状の支持部材５ｆを、試料室４の外壁に取り付けることができる。
そして、装置本体１０ｅを、支持部材５ｆ、及び除振装置６を介して支持台１１で下方から支持すると、図１、図２に示す構造と同等の効果を奏することができる。
また、フランジ状の支持部材５ｆは、試料室４の外壁の周囲に接するように備わることから、装置本体１０ｅの荷重をフランジ状の支持部材５ｆに好適に分散することができる。

図１７は、装置本体の第６変形例を示す図、図１８は、第６変形例に係る支持部の構成を示す図である。
図１７に示すように、本実施形態の第６変形例に係る装置本体１０ｆは、試料室４の外壁の全ての側面に、複数の支持部材５ｇ（図１７には、各側面５本の支持部材５ｇが図示される）を取り付け、支持台１１の支持枠１１ｂに、例えば４つの除振装置６を介して支持される枠部材１１ｄに、上方から溶接などで固定される。
このような構成によって、装置本体１０ｆは、支持台１１に、支持部材５ｇ、除振装置６及び枠部材１１ｄを介して下方から支持され、図１、図２に示す構造と同等の効果を奏することができる。

図１８に示すように、試料室４の上端部の周囲には、断面形状がＴ字型の溝が形成されるガイド部材４ｇが備わる。ガイド部材４ｇは、Ｔ字型の溝が試料室４の上端部と平行になるように、且つ開口端が外側を向くように、溶接などの方法で試料室４の外壁に固定される。
ガイド部材４ｇに形成されるＴ字型の溝の幅広部４ｇ１には、ベース板４ｈがスライド挿入されて備わる。ベース板４ｈには、試料室４に取り付けられる支持部材５ｇの数の２倍に相当する数のねじ穴４ｈ１が、Ｔ字型の溝の幅狭部４ｇ２の位置に形成される。

支持部材５ｇは、ガイド部材４ｇに形成されるＴ字型の溝の幅狭部４ｇ２に入り込む大きさのフランジ部５ｇ２に、腕部５ｇ１が固定されて形成される。腕部５ｇ１はフランジ部に起立して固定され、フランジ部５ｇ２には、腕部５ｇ１を挟んで２つの固定孔５ｇ３が貫通して開口する。

支持部材５ｇは、フランジ部５ｇ２がガイド部材４ｇに形成されるＴ字型の溝の幅狭部４ｇ２に入り込むように備わる。
そして、ボルト９などの締結部材が、フランジ部５ｇ２に開口した固定孔５ｇ３を介して、ガイド部材４ｇのＴ字型の溝にスライド挿入されたベース板４ｈに形成されたねじ穴４ｈ１に螺入し、支持部材５ｇとベース板４ｈを締結固定する。

このとき、支持部材５ｇとベース板４ｈとでガイド部材４ｇを挟持し、支持部材５ｇがガイド部材４ｇに対して固定される構成が好適である。
このため、例えば腕部５ｇ１は、ガイド部材４ｇに形成されるＴ字型の溝の幅狭部４ｇ２の幅より縦長の部材で形成され、腕部５ｇ１の上端部及び下端部の少なくとも一方は、フランジ部５ｇ２の上端部、又は下端部から突出する構成が好ましい。

このように、複数の支持部材５ｇ（例えば、５つの支持部材５ｇ）をベース板４ｈに固定し、試料室４の外壁の側面に複数の支持部材５ｇを取り付けることができる。
このとき、隣接する支持部材５ｇのフランジ部５ｇ２の端部は、互いに当接する構成が好ましい。

そして、このような構成の支持部材５ｇを試料室４の外壁の全ての側面に取り付けることで、試料室４の外壁の全ての側面に、複数（例えば５つ）の支持部材５ｇを取り付けることができる。

また、試料室４の外壁の側面では、複数の支持部材５ｇを横並びに隣接して配置したことで、一つの支持部材５ｇの回りに発生するモーメントを、隣接する他の支持部材５ｇで抑制することができ、試料室４の傾きや回転の発生を抑制できる。このことによって、装置本体１０ｆの振動を抑制できる。
したがって、荷電粒子線装置１（図１参照）の振動を効果的に抑制できる。

さらに、第６変形例に係る装置本体１０ｆは、図１７に示すように複数（例えば、５つ）の支持部材５ｇを介して、支持台１１の枠部材１１ｄに固定されることから、装置本体１０ｆの荷重を好適に分散することができる。

図１９は、装置本体の第７変形例を示す図である。
例えば荷電粒子線装置１を設置する周囲環境の制約（例えば地形的な制約）等によって、試料室４が支持台１１の支持枠１１ｂの内側に入り込む形態が好適でない場合がある。

このような場合、図１９に示すように、例えば、４本のフレーム部材５ｈ１を連結して井桁状の支持部材５ｈを形成し、井桁状の支持部材５ｈの矩形の中央部を試料室４の底部に固定して、装置本体１０ｇを形成する。
このとき、各フレーム部材５ｈ１に切込み５ｈ２を２箇所ずつ形成し、各フレーム部材５ｈ１を、切込み５ｈ２が互いに嵌り込むように連結することで、支持部材５ｈの剛性を高めることができる。
なお、支持部材５ｈを形成する各フレーム部材５ｈ１を、溶接などの方法で互いに固定してもよい。
また、支持部材５ｈは、試料室４に溶接等で固定すればよい。または、図示しないボルト等の締結部材で締結固定すればよい。

この場合、井桁状の支持部材５ｈから四方に広がる８本の延伸部５ｈ３が、試料室４から外方に向かって水平に突出して、支持部を形成する。

そして、支持台１１には、支持枠１１ｂと上面視で同形状の枠部材１１ｄが、例えば４つの除振装置６を介して支持され、井桁状の支持部材５ｈの８本の延伸部５ｈ３は、上方から枠部材１１ｄに、溶接などの方法で固定される。
このような構成によって、装置本体１０ｇは、支持台１１に、井桁状の支持部材５ｈ、除振装置６、及び枠部材１１ｄを介して支持され、図１、図２に示す構造と同等の効果を奏することができる。

第７変形例に係る装置本体１０ｇにおいても、例えば試料室４の下方に排気システム８が備わる構成の場合、排気システム８が、井桁状の支持部材５ｈの矩形の中央部の内側に入り込む構成とすれば、装置本体１０ｇの支持台１１に対する重心位置を低くすることができる。したがって、荷電粒子線装置１の重心位置を低い位置に設定できることになり、荷電粒子線装置１の安定性が向上する。

第７変形例における装置本体１０ｇは、井桁状の支持部材５ｈを介し、８本の延伸部５ｈ３で支持台１１の支持枠１１ｂに支持される枠部材１１ｄに固定されることから、装置本体１０ｇは、枠部材１１ｄに確実に固定される。すなわち、枠部材１１ｄと装置本体１０ｇとの間の剛性を高めることができ、装置本体１０ｇの振動を抑制できる。
したがって、荷電粒子線装置１の振動を効果的に抑制できる。

また、装置本体１０ｇは、８本の延伸部５ｈ３を介して支持台１１の枠部材１１ｄに支持されることから、装置本体１０ｇの荷重を８本の延伸部５ｈ３に好適に分散することができる。

また、本実施形態に係る荷電粒子線装置１（図１参照）には、アクティブマスダンパを備える構成であってもよい。
図２０は、支持部材にアクティブマスダンパを備えたことを示す図である。
図２０に示すように、試料室４に取り付けられる支持部材５ａを中空のフレーム部材で構成し、その中空部に水平・垂直方向の振動を制振させるための、アクティブマスダンパ１４を配設する構成としてもよい。この構成により、試料室４が備わる装置本体１０（図１参照）の振動をより効果的に抑制できる。そして、アクティブマスダンパ１４を支持部材５ａの内部に配設できるため、新たにスペースを確保することなく、アクティブマスダンパ１４を備えられる。

また、本実施形態に係る荷電粒子線装置１（図１０参照）には、例えば試料室４（図１０参照）を水平方向に駆動する水平駆動手段、および試料室４を鉛直方向に駆動する鉛直駆動手段を備える構成であってもよい。
図２１は、荷電粒子線装置に水平駆動手段を備えたことを示す図である。
図２１に示すように、試料室４の支持部材５ｄと支持台１１の間に枠部材１１ｄが介在する構成の場合、試料室４に取り付けられる支持部材５ｄを、アクチュエータ等で駆動される水平駆動手段１５を介して枠部材１１ｄで支持し、装置本体１０ｃ´が枠部材１１ｄに対して水平方向に駆動可能に備わる構成としてもよい。
このように構成することで、例えば装置本体１０ｃ´に図示しない分析装置等を新たに設置し、装置本体１０ｃ´の重心位置が変わった場合であっても、装置本体１０ｃ´の位置を水平方向に駆動することで、装置本体１０ｃ´の重心位置を移動できる。そして、除振装置６にかかる荷重を均等にすることができ、荷電粒子線装置１を安定させることができる。

また、試料室４（図２１参照）と支持部材５ｄ（図２１参照）の間に鉛直駆動手段を備える構成であってもよい。
図２２は、荷電粒子線装置に鉛直駆動手段を備えたことを示す図である。
図２２に示すように、例えば試料室４の内部にアクチュエータ等で駆動する鉛直駆動手段１７を備え、鉛直駆動手段１７で支持部材５ｄを支持し、支持部材５ｄが試料室４の外壁に形成される溝部４ｅに沿って鉛直方向に摺動するように構成してもよい。

このように、鉛直駆動手段１７を備えることで、試料室４を支持台１１（図２１参照）に対して鉛直方向に駆動することができる。したがって、装置本体１０ｃ´（図２１参照）の重心位置が鉛直方向に変わった場合に、試料室４を鉛直方向に駆動することで、例えば装置本体１０ｃ´の重心位置を好適な位置に移動することができ、装置本体１０ｃ´が備わる荷電粒子線装置１（図２１参照）を安定させることができる。
また、試料室４を鉛直上方に駆動することで、試料室４に備わるステージ４０（図２参照）等の交換が容易になる。

なお、荷電粒子線装置１（図２１参照）は、水平駆動手段１５（図２１参照）と鉛直駆動手段１７（図２２参照）を共に備える構成であってもよいし、水平駆動手段１５、または鉛直駆動手段１７のどちらか一方を備える構成であってもよい。

以上説明したように、本実施形態に係る荷電粒子線装置は、支持台をフレーム構造体とし、荷電粒子線装置の装置本体に取り付けられる支持部材を、除振装置を介して下方から支持する構成とした。このとき、装置本体の少なくとも一部を、除振装置が支持部材を支持する高さより低くすることで、荷電粒子線装置の重心位置を低くした。この構成によって、荷電粒子線装置の安定性を向上することができ、仮に設置面が振動した場合であっても荷電粒子線装置の振動を好適に抑制できるという優れた効果を奏する。
また、支持台をフレーム構造体としたことで、装置本体の荷重を、支持台を構成するフレーム部材に好適に分散することができ、荷重の集中点を形成しない。このことによって、強度設計が容易になって設計コストを低減できるという優れた効果を奏する。さらに、例えばメンテナンスの頻度を少なくすることができ、運用コストを低減できるという優れた効果を奏する。

なお、試料室に取り付けられる支持部材は、例えば中空のフレーム部材や、断面形状がＴ字型、Ｈ字型のフレーム部材を使用すればよい。このようなフレーム部材を使用することで、中実のフレーム部材を使用した場合より、荷電粒子線装置の軽量化を図ることができる。

また、例えば図１１に示すように、試料室に形成される鉛直方向の溝部に支持部材が取り付けられる構造の場合、試料室が上下に移動できるように、例えば溝部にリフト装置を設置する構成であってもよい。この構成により、例えば撮像時には試料室を下げ、観察試料の交換時やメンテナンスのときには試料室を上げることができ、荷電粒子線装置が安定するとともに、観察試料の交換やメンテナンスを容易にすることができる。

本実施形態に係る荷電粒子線装置を示す図である。 荷電粒子線装置の構成を示す図である。 試料室と支持部材を、固定部材を介して固定する形態を示す図である。 試料室に取り付けられる支持部材の位置を変えたことを示す図である。 （ａ）は、装置本体の第１変形例を示す図、（ｂ）は、図５の（ａ）におけるＸ１−Ｘ１断面図である。 第１変形例に係る装置本体を備える荷電粒子線装置を示す図である。 （ａ）は、装置本体の第２変形例を示す図、（ｂ）は、第２変形例に係る支持部の構造を示す図である。 第２変形例に係る支持部の他の構造を示す図である。 磁場キャンセラを示す図である。 装置本体の第３変形例を示す図である。 第３変形例に係る支持部材の構成を示す図である。 第３変形例に係る支持部材の他の形状を示す図である。 装置本体の第４変形例を示す図である。 支持部材を固定する構造を示す図である。 荷電粒子線銃の周囲に磁場キャンセラを形成したことを示す図である。 （ａ）は、装置本体の第５変形例を示す図、（ｂ）は、第５変形例に係る支持枠の構成を示す図である。 装置本体の第６変形例を示す図である。 第６変形例に係る支持部の構成を示す図である。 装置本体の第７変形例を示す図である。 支持部材にアクティブマスダンパを備えたことを示す図である。 荷電粒子線装置に水平駆動手段を備えたことを示す図である。 荷電粒子線装置に鉛直駆動手段を備えたことを示す図である。

符号の説明

１ 荷電粒子線装置
２ 荷電粒子線銃
４ 試料室
５ａ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｇ 支持部材（長尺の支持部材、支持部）
５ｂ 支持部材（枠状の支持部材）
５ｂ１ 角部（支持部）
５ｆ 支持部材（フランジ状の支持部材、支持部）
５ｈ 支持部材（井桁状の支持部材、支持部）
６ 除振装置
１０、１０ａ〜１０ｇ 装置本体
１１ 支持台（フレーム構造体）
１１ｂ１ フレーム部材（設置面に平行なフレーム部材）
１４ アクティブマスダンパ
１５ 水平駆動手段
１７ 鉛直駆動手段
４１ 観察試料

Claims (9)

1. 荷電粒子線を観察試料に照射する荷電粒子線銃が前記観察試料を収納する試料室に取り付けられた装置本体を、除振装置を介してフレーム構造体で支持する荷電粒子線装置であって、
   前記フレーム構造体を構成するフレーム部材のうち、当該フレーム構造体の設置面に平行なフレーム部材に備わる前記除振装置が、前記試料室から外方に向かって水平に突出するように形成される支持部を鉛直下方から支持し、
   前記装置本体の少なくとも一部は、前記除振装置が前記支持部を支持する高さより低い位置にあることを特徴とする荷電粒子線装置。
2. 水平方向に延伸する長尺の支持部材が、前記試料室の外壁に取り付けられ、
   前記支持部材の少なくとも１つの端部が、前記試料室から外方に向かって水平に突出し、前記支持部が形成されることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線装置。
3. 前記試料室に外挿される枠状の支持部材の角部が、前記試料室から外方に向かって水平に突出し、前記支持部が形成されることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線装置。
4. 前記試料室の外壁に形成され、前記試料室から外方に向かって水平に突出するフランジ状の支持部材で、前記支持部が形成されることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線装置。
5. 複数の支持部材が井桁状に組み合わされて前記試料室の外壁の底部に固定され、
   前記井桁状に組み合わされた前記複数の支持部材の端部が、前記試料室から外方に向かって水平に突出し、前記支持部を形成することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線装置。
6. 前記フレーム構造体を中空のフレーム部材で構成するとともに、
   前記中空のフレーム部材の中空部にコイルを配設して、磁場キャンセラを構成することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の荷電粒子線装置。
7. 前記フレーム構造体を中空のフレーム部材で構成するとともに、
   前記中空のフレーム部材の中空部にアクティブマスダンパを配設することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の荷電粒子線装置。
8. 前記除振装置は、フレーム部材で構成される支持枠を鉛直下方から支持するとともに、
   前記支持枠は、前記支持部を水平方向に駆動する水平駆動手段を介して、前記支持部を鉛直下方から支持し、
   前記試料室は、前記水平駆動手段で、前記支持枠に対して水平方向に駆動されることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の荷電粒子線装置。
9. 前記支持部と前記試料室の間には、鉛直駆動手段が備わり、
   前記試料室は、鉛直駆動手段によって、前記支持部に対して鉛直方向に駆動されることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の荷電粒子線装置。

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