JP2009283873A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】熱応力によって生じる配線の断線を防止する半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体素子と、前記半導体素子が搭載された基板Pと、前記基板における前記半導体素子の搭載面の反対側面に形成された複数の外部端子と、前記基板に設けられ引き出し線102とダミーティアドロップ104を有する複数のランド1と、を備え、前記基板の最外周に位置し前記基板の各辺の中央付近に位置する前記ランドからの前記引き出し線の引き出し方向を、前記ランドの中心LOと前記基板の中心POとを結ぶ線分となす角度が90度以内とし、前記ランドの前記ダミーティアドロップの方向を、前記ランドの中心と前記ランドの中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ線分となす角度が45度以内とすることを特徴とする半導体装置。
【選択図】図7
【解決手段】半導体素子と、前記半導体素子が搭載された基板Pと、前記基板における前記半導体素子の搭載面の反対側面に形成された複数の外部端子と、前記基板に設けられ引き出し線102とダミーティアドロップ104を有する複数のランド1と、を備え、前記基板の最外周に位置し前記基板の各辺の中央付近に位置する前記ランドからの前記引き出し線の引き出し方向を、前記ランドの中心LOと前記基板の中心POとを結ぶ線分となす角度が90度以内とし、前記ランドの前記ダミーティアドロップの方向を、前記ランドの中心と前記ランドの中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ線分となす角度が45度以内とすることを特徴とする半導体装置。
【選択図】図7
Description
本発明は、半導体装置に関し、特にLGA(Land Grid Array)型半導体装置に関する。
半導体装置は、大容量化の要求により、複数の半導体素子を積層したSiP化が進んでいる。そのため、樹脂封止型半導体装置の厚さ及びシリコン総厚は、増加傾向にある。また、半導体装置が搭載されるマザーボードとの取り付け高さを極力低くするために、NSMD(Non Solder Mask Defined)構造を採用しており、且つランドからの配線引き出し部には、滑らかに幅広くされたティアドロップ形状も装備しているのが一般的である。
樹脂封止型半導体装置の厚さとシリコン総厚が増加すると、実装TCT(Temperature Cycle Test)の信頼性が悪化する傾向にあることが、評価解析の結果分かっている。半導体装置の故障の原因も、パッケージ最外周のランドの電極部の形状に沿う様に配線引き出し部が断線するという、LGA特有の現象にある。これは、Cu配線と実装半田とソルダーレジストの3つが交わる部分に熱応力が集中することにより、Cu配線の断線が起きると考えられている。
この問題を解決するために、特許文献1では、ランドの配線を、ランド中心とチップ搭載エリアの中心とを結ぶ線分となす角度が90度以内である方向へ引き出すことで、環境温度の変化などによって生じる熱応力による配線の断線を防止しようとしている。
しかしながら、配線をチップ搭載エリアの中心部方向へ引き出しても、ランドに対してパッケージの外側に位置する部分では、ガラエポ基板にクラックが入ることになる。このため、このクラック部から、外気中にある水分がパッケージ内部に入ることとなり、やがて半導体装置の故障を引き起こす可能性がある。
特開2004−128290号公報
本発明の目的は、熱応力によって生じる配線の断線を防止する半導体装置を提供することにある。
本発明の一形態の半導体装置は、半導体素子と、前記半導体素子が搭載された基板と、前記基板における前記半導体素子の搭載面の反対側面に形成された複数の外部端子と、前記基板に設けられ引き出し線とダミーティアドロップを有する複数のランドと、を備え、前記基板の最外周に位置し前記基板の各辺の中央付近に位置する前記ランドからの前記引き出し線の引き出し方向を、前記ランドの中心と前記基板の中心とを結ぶ線分となす角度が90度以内とし、前記ランドの前記ダミーティアドロップの方向を、前記ランドの中心と前記ランドの中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ線分となす角度が45度以内とすることを特徴とする半導体装置。
本発明によれば、熱応力によって生じる配線の断線を防止する半導体装置を提供できる。
以下、実施の形態を図面を参照して説明する。
(第1の実施の形態)
図1〜図6は、従来技術に係るLGA型樹脂封止半導体装置を示す図である。
図1〜図6は、従来技術に係るLGA型樹脂封止半導体装置を示す図である。
図1は、LGA型樹脂封止半導体装置の断面図であり、LGA型の半導体素子(例えば、NAND型フラッシュメモリ素子)をガラエポ基板に1チップ搭載した場合の図である。図1に示すように、Cu配線及びランド1がソルダーレジスト21内に形成されており、これらの上に基板基材3が設けられている。基板基材3上のソルダーレジスト21内には配線11が形成されており、この配線11はビア7を介してランド1に接続されている。ソルダーレジスト22上には、フィルム等の接着剤4を介して半導体素子5が設けられており、半導体素子5は、Au等のボンディングワイヤ6を介して配線11に接続されている。装置全体は、封止樹脂で覆われている。
図2は、LGA型樹脂封止半導体装置の平面図であり、ガラエポ基板のランド配置図であり、ランドのティアドロップの向きと配線を従来例として表記している。図3は、図2のA部分を拡大した断面図であり、図1と同一な部分には同符号を付してある。図2、図3では、LGA基板の特徴であるNSMD構造を示しており、かつパッケージPの外周に向けてランドのティアドロップを搭載し、チップ搭載面の配線11とランド1側の配線とを繋ぐビア7を搭載していることを示している。
図4は、LGA型樹脂封止半導体装置の断面図であり、LGA型樹脂封止半導体装置を半田を使い実装TCT評価基板12に実装し、実装TCT評価を行った場合に、配線に断線が起きている部分を示した図である。図4では、半田ペースト10により接着されたランド1の配線が熱応力によって断線し、クラック9が生じた場合を示している。
図5は、ランドの平面図であり、配線に断線が起きている状態を示している。図5に示すように、ランド1は、円形状の電極部101、ティアドロップ形状の引き出し部102、及び補強部103からなる。図6はランド1からの配線引き出し部を、ティアドロップを搭載した形でパッケージ中心POとランド中心LOとの線分となす角度が90度以内の方向へ引き出した時の平面図であり、実装TCTでの故障のみに対策をした場合の図である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
本発明の実施の形態では、LGA特有のパッケージ最外周のランド部のランドの形状に沿う様に配線が断線する現象を防止し、且つガラエポ基板へのクラックを防止するために、ダミーティアドロップを搭載することにより、信頼性の高い半導体装置を実現する。
(第1の実施の形態)
図7は、第1の実施の形態に係るランド面の平面図であり、ランドに搭載されたティアドロップ形状の配線の引き出し方向と、ガラエポ基板へのクラックを防ぐためにランドに搭載されたダミーティアドロップの状態を示す。
図7は、第1の実施の形態に係るランド面の平面図であり、ランドに搭載されたティアドロップ形状の配線の引き出し方向と、ガラエポ基板へのクラックを防ぐためにランドに搭載されたダミーティアドロップの状態を示す。
パッケージ(PKG)Pの最外周(外縁)に位置するランドであり補強ランド100を除くランド1、つまり、電気的に導通しているランドにおいて、パッケージ各辺の中央付近に位置するランドからの引き出し線の角度を、ランド中心LOとパッケージ中心POとを結ぶ線分となす角度が90度以内の方向へ引き出すことにより、配線の断線を防ぐことができる。なお、複数の外部端子がガラエポ基板の半導体素子搭載面の反対側面に形成されており、これら外部端子に連絡する配線が半導体素子搭載面の反対側面に設けられている。
また、該当するランド1からダミーティアドロップ104を、該当ランド1の中心と該当ランド1の中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ最短の線分となす角度が45度以内の方向に搭載していることにより、ガラエポ基板へのクラックを防止することもできる。
(第2の実施の形態)
図8は、第2の実施の形態に係るランド面の平面図であり、規定しているランドからのティアドロップ形状の配線の引き出し部を2個付けている例である。1つのランドに対し、配線の引き出し部の数が1つとは限らない構成も多いため、この追加された引き出し部も、ランド中心LOとパッケージ中心POとを結ぶ線分となす角度が90度以内の方向へ引き出すことにより、配線の断線を防ぐことができる。
図8は、第2の実施の形態に係るランド面の平面図であり、規定しているランドからのティアドロップ形状の配線の引き出し部を2個付けている例である。1つのランドに対し、配線の引き出し部の数が1つとは限らない構成も多いため、この追加された引き出し部も、ランド中心LOとパッケージ中心POとを結ぶ線分となす角度が90度以内の方向へ引き出すことにより、配線の断線を防ぐことができる。
また、該当するランド1からダミーティアドロップ104を、該当ランド1の中心と該当ランド1の中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ最短の線分となす角度が45度以内の方向に搭載していることにより、ガラエポ基板へのクラックを防止することもできる。
(第3の実施の形態)
図9は、第3の実施の形態に係るランド面の平面図であり、規定しているランドからのティアドロップ形状の配線の引き出し部を1個付け、且つ該当するランド1にダミーティアドロップ104を2個搭載した例である。
図9は、第3の実施の形態に係るランド面の平面図であり、規定しているランドからのティアドロップ形状の配線の引き出し部を1個付け、且つ該当するランド1にダミーティアドロップ104を2個搭載した例である。
導通している引き出し線は、ランド中心LOとパッケージ中心POとを結ぶ線分となす角度が90度以内の方向へ引き出すことにより、配線の断線を防ぐことができる。
また、該当するランド1から2個のダミーティアドロップ104,104を、該当ランド1の中心と該当ランド1の中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ最短の線分となす角度が45度以内の2つの方向に1個ずつ、すなわち前記角度が90度以内の方向に2個搭載していることにより、ガラエポ基板へのクラックをより一層防止することもできる。
本実施の形態にかかる半導体装置は、LGA型樹脂封止型半導体装置であり、ガラエポ基板のランド部にティアドロップを装備しており、このティアドロップの向きを規定することにより、熱応力によって生じる配線断線を防止し、ガラエポ基板に入るクラックも防止し、信頼性を向上させることができる。
すなわち、本実施の形態によれば、熱応力によるLGA型樹脂封止半導体装置の配線部の断線を防止することができ、ガラエポ基板のクラックも防止することによって、高信頼性構造の半導体装置を提供することができる。
なお、本発明は上記実施の形態のみに限定されず、要旨を変更しない範囲で適宜変形して実施できる。
1…ランド、2、21、22…ソルダーレジスト、3…基板基材、4…接着剤、5…半導体素子(chip)、6…ボンディングワイヤ、7…ビア、8…封止樹脂、9…クラック、10…半田ペースト、11…配線、100…補強ランド、101…電極部、102…引き出し部、103…補強部
Claims (5)
- 半導体素子と、
前記半導体素子が搭載された基板と、
前記基板における前記半導体素子の搭載面の反対側面に形成された複数の外部端子と、
前記基板に設けられ引き出し線とダミーティアドロップを有する複数のランドと、を備え、
前記基板の最外周に位置し前記基板の各辺の中央付近に位置する前記ランドからの前記引き出し線の引き出し方向を、前記ランドの中心と前記基板の中心とを結ぶ線分となす角度が90度以内とし、
前記ランドの前記ダミーティアドロップの方向を、前記ランドの中心と前記ランドの中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ線分となす角度が45度以内とすることを特徴とする半導体装置。 - 半導体素子と、
前記半導体素子が搭載された基板と、
前記基板における前記半導体素子の搭載面の反対側面に形成された複数の外部端子と、
前記基板に設けられ少なくとも2つの引き出し線とダミーティアドロップを有する複数のランドと、を備え、
前記基板の最外周に位置し前記基板の各辺の中央付近に位置する前記ランドからの前記少なくとも2つの引き出し線の引き出し方向を、前記ランドの中心と前記基板の中心とを結ぶ線分となす角度が90度以内とし、
前記ランドの前記ダミーティアドロップの方向を、前記ランドの中心と前記ランドの中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ線分となす角度が45度以内とすることを特徴とする半導体装置。 - 半導体素子と、
前記半導体素子が搭載された基板と、
前記基板における前記半導体素子の搭載面の反対側面に形成された複数の外部端子と、
前記基板に設けられ引き出し線と少なくとも2つのダミーティアドロップを有する複数のランドと、を備え、
前記基板の最外周に位置し前記基板の各辺の中央付近に位置する前記ランドからの前記引き出し線の引き出し方向を、前記ランドの中心と前記基板の中心とを結ぶ線分となす角度が90度以内とし、
前記ランドの前記2つのダミーティアドロップの方向を、前記ランドの中心と前記ランドの中心から最も近いパッケージ端とを結ぶ線分となす角度が90度以内とすることを特徴とする半導体装置。 - 前記基板はガラエポ基板である請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記半導体素子は、LGA型の半導体素子である請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008137173A JP2009283873A (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008137173A JP2009283873A (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2008137173A Withdrawn JP2009283873A (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 半導体装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014183059A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Hitachi Automotive Systems Ltd | 制御装置 |
US11171079B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-11-09 | Toshiba Memory Corporation | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
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2008
- 2008-05-26 JP JP2008137173A patent/JP2009283873A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2014183059A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Hitachi Automotive Systems Ltd | 制御装置 |
US11171079B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-11-09 | Toshiba Memory Corporation | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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