JP2009282522A - フィルム型光分解性転写材料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】支持体フィルム;光分解性フォトレジスト層;及び基板にラミネーションされる面に形成された反射抑制層を含むフィルム型光分解性転写材料。
【選択図】なし
Description
本発明の一態様によるフィルム型光分解性転写材料は、パターンを形成しようとする基板に接して用いられる。
以下、「フィルム型光分解性転写材料」なる用語は、この語が使用される局面に応じて「ポジティブ型フォトレジストフィルム」、「フォトレジスト樹脂フィルム」、「ポジティブ型ドライフィルムフォトレジスト」、または「ポジティブフォトレジスト樹脂フィルム」等と称される場合があるが、当業者に容易に理解されよう。
(a)良好なフィルム形成性
(b)目的とする露光波長での高光吸収率
(c)フォトレジストとの非混合性
このような点で、本発明の一態様によるフィルム型光分解性転写材料において、反射抑制層はフォトレジスト層と同じ組成にさらにブラック染料、ブラック顔料または実質的にブラック色相を発現する顔料混合物を含む層であることができる。このような染料または顔料、顔料混合物は、フォトレジスト層と共通する成分と完全に混合させることが好ましい。
(I)ガラス基板上に、本発明によって製造されたドライフィルムフォトレジストの反射抑制層が接するように、ドライフィルムフォトレジストを配置し、必要に応じて前記フォトレジスト樹脂フィルムから支持体フィルムを剥離する工程;
(II)前記被膜上に、所望のパターンを得るために、紫外線をマスクを通じて、または通じなくて直接照射する工程;及び
(III)前記フォトレジスト樹脂フィルムから支持体フィルムを剥離しない場合は、これを剥離した後、照射部のフォトレジスト層を現像処理で除去することでレジストパターン被膜を形成する工程を含む。
アルカリ可溶性樹脂(フェノールノボラック樹脂)100重量部に対し、感光性化合物として34重量部の2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホネート;感度増進剤として3.6重量部の2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン;及び220重量部のメチルエチルケトンを含む溶液を製造した。
実施例1と同様な方法で製造するが、フォトレジスト層の厚さが2.0μm、反射抑制層の厚さが1.0μmになるように製造した。
前記実施例1と同様な組成と厚さに製造するが、反射抑制層を保護フィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ16μm)に先にコートした後、フォトレジスト層と反射抑制層が触れ合うように合着して製造した。
前記実施例1と同様な方法でポジティブ型フォトレジストフィルムを製造するが、反射抑制層は形成しなかった。
前記製造されたフィルムをラミネーション速度2m/分、温度110℃、加熱ロール圧力70psiでガラス基板にラミネーションした後、支持体フィルムを剥離し、ポジティブ型フォトレジスト層を100℃のホットプレートで120秒間熱処理し、フォトマスクを通じて紫外線で照射(露光)し、2.38%TMAHアルカリ現像液で適正時間現像した後、洗浄及び30秒間乾燥すれば、未露光の部分は残って回路を形成する。この際の解像度を電子燎微鏡で評価した。
解像度が3μm以下なら”非常に良い”に、3μmを超えた場合、”良い”に評価した。
また得られたパターンに対して走査型電子顕微鏡(SEM)を利用して観察して、パターン端面形が直四角形に類似であればパターン安定性が”非常に良い”と評価し、梯形に類似であればパターン安定性が”良い”と評価した。
これらの解像度とパターン形観察結果をまとめ、解像度が3μm以下であり、かつパターン端面形が直四角形に類似であれば、密着力が”非常に良い”したと評価し、解像度が3μmを超え、かつパターン端面形が梯形に類似であれば密着力が”良い”と評価した。
Claims (11)
- 支持体フィルム;
光分解性フォトレジスト層;及び
基板にラミネーションされる面に形成された反射抑制層;
を含むことを特徴とする、
フィルム型光分解性転写材料。 - 保護層をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- 反射抑制層は、200nm〜700nmの範囲の波長の光に対する吸収率が90%以上であることを特徴とする、請求項1または2に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- 反射抑制層は、光分解性フォトレジスト層と同じ組成に加え、ブラック染料、ブラック顔料または実質的にブラック色相を発現する顔料混合物を含むものであることを特徴とする、請求項3に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- 実質的にブラック色相を発現する顔料混合物は、レッド顔料、イエロー顔料及びブルー顔料の混合物を含むことを特徴とする、請求項4に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- 反射抑制層は、厚さが0.1〜1.0μmであることを特徴とする、請求項1に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- 光分解性フォトレジスト層は、アルカリ可溶性樹脂及び感光性化合物を含むことを特徴とする、請求項1に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- アルカリ可溶性樹脂はノボラック樹脂であることを特徴とする、請求項7に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- アルカリ可溶性樹脂はクレゾールノボラック樹脂であることを特徴とする、請求項7または8に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- 感光性化合物は、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホネート、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホネート及び(1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン)−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホネートから選ばれた1種以上であることを特徴とする、請求項7に記載のフィルム型光分解性転写材料。
- 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン及び1−[1−(4−ヒドロキシフェニル)イソプロピル]−4−[1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼンから選ばれた1種以上の感度増進剤を含むことを特徴とする、請求項7に記載のフィルム型光分解性転写材料。
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