JP2009277845A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】装置アボート後にポンプが再起動不能状態になるのを回避することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハ200を処理する処理室201と、液体原料が気化したガスを処理室201に供給する第1液体原料供給管232aおよび第2液体原料供給管232dと、処理室201を排気する排気管231と、排気管231に接続され処理室201を排気する真空ポンプ246とを有する処理炉において、排気管231の真空ポンプ246よりも上流側にストップバルブ245を設ける。メインコントローラ256はストップバルブ245と真空ポンプ246とを、リセット時にストップバルブ245を閉じ、リセット中に真空ポンプ246の稼働を継続させるように制御する。液体原料が真空ポンプ内で固化するのを防止できるので、真空ポンプが再起動が不能となるのを未然に防止できる。
【選択図】図1
【解決手段】ウエハ200を処理する処理室201と、液体原料が気化したガスを処理室201に供給する第1液体原料供給管232aおよび第2液体原料供給管232dと、処理室201を排気する排気管231と、排気管231に接続され処理室201を排気する真空ポンプ246とを有する処理炉において、排気管231の真空ポンプ246よりも上流側にストップバルブ245を設ける。メインコントローラ256はストップバルブ245と真空ポンプ246とを、リセット時にストップバルブ245を閉じ、リセット中に真空ポンプ246の稼働を継続させるように制御する。液体原料が真空ポンプ内で固化するのを防止できるので、真空ポンプが再起動が不能となるのを未然に防止できる。
【選択図】図1
Description
本発明は、基板処理装置に関する。
例えば、半導体集積回路装置(以下、ICという。)の製造方法において、半導体素子を含む集積回路が作り込まれる半導体ウエハ(以下、ウエハという。)に薄膜を形成するのに利用して有効なものに関する。
例えば、半導体集積回路装置(以下、ICという。)の製造方法において、半導体素子を含む集積回路が作り込まれる半導体ウエハ(以下、ウエハという。)に薄膜を形成するのに利用して有効なものに関する。
ICの製造方法において、ICが作り込まれるウエハに薄膜を形成する工程には、ウエハを処理する処理室と、処理室内にガスを供給するガス供給ラインと、ポンプに接続され処理室内を排気するガス排気ラインと、ガス供給ラインやガス排気ラインに設けられたエアオペレートバルブと、を有する基板処理装置が使用されることがある。
従来のこの種の基板処理装置においては、突発的なアラーム発生に伴ってリセット(アボート)状態へ移行する場合にはリセット処理を行う。このリセット処理により、エアオペレートバルブは全閉し、ポンプは停止する。
ポンプはアラームが解除された後に再起動する。
ポンプはアラームが解除された後に再起動する。
前述した基板処理装置においては、液体原料を気化させたガスが処理ガスに使用されると、アラームが解除された後にポンプが再起動された際に、ポンプ内に存在する液体原料がポンプ内で固化することに起因してポンプ始動時の負荷トルクが増大するために、再起動が不能となる場合が発生する。
本発明の目的は、装置アボート後にポンプが再起動不能状態となるのを回避することができる基板処理装置を提供することにある。
前記した課題を解決するための手段のうち代表的なものは、次の通りである。
(1)基板を処理する処理室と、
前記処理室内にガスを供給するガス供給ラインと、
前記処理室内を排気するガス排気ラインと、
前記排気ラインに接続され前記処理室内を排気するポンプと、を有する基板処理装置において、
さらに、前記排気ラインの前記ポンプよりも上流側に設けられたストップバルブと、
基板処理装置のリセット時に前記ストップバルブを閉じ、前記リセット中においても前記ポンプの稼働を停止させることなく継続させるよう、前記ストップバルブおよび前記ポンプを制御する制御部と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
(2)前記(1)において、前記ガス排気ラインの前記ストップバルブと前記ポンプとの間には、前記ガス排気ライン内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部が設けられ、
前記制御部は、基板処理装置のリセット時に、前記ガス排気ラインの前記ストップバルブと前記ポンプとの間に不活性ガスを供給するよう前記不活性ガス供給部を制御することを特徴とする基板処理装置。
(3)基板を処理する処理室と、
前記処理室内にガスを供給するガス供給ラインと、
前記処理室内を排気するガス排気ラインと、
前記排気ラインに接続され前記処理室内を排気するポンプと、
前記排気ラインの前記ポンプよりも上流側に設けられたストップバルブと、
前記ポンプを交換する前に、前記ストップバルブを閉じ前記ポンプの稼働を継続させた状態を所定時間維持することで、前記ポンプからの熱を利用して前記ガス排気ラインの前記ストップバルブと前記ポンプとの間に付着した副生成物を気化させるよう制御する制御部と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
(1)基板を処理する処理室と、
前記処理室内にガスを供給するガス供給ラインと、
前記処理室内を排気するガス排気ラインと、
前記排気ラインに接続され前記処理室内を排気するポンプと、を有する基板処理装置において、
さらに、前記排気ラインの前記ポンプよりも上流側に設けられたストップバルブと、
基板処理装置のリセット時に前記ストップバルブを閉じ、前記リセット中においても前記ポンプの稼働を停止させることなく継続させるよう、前記ストップバルブおよび前記ポンプを制御する制御部と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
(2)前記(1)において、前記ガス排気ラインの前記ストップバルブと前記ポンプとの間には、前記ガス排気ライン内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部が設けられ、
前記制御部は、基板処理装置のリセット時に、前記ガス排気ラインの前記ストップバルブと前記ポンプとの間に不活性ガスを供給するよう前記不活性ガス供給部を制御することを特徴とする基板処理装置。
(3)基板を処理する処理室と、
前記処理室内にガスを供給するガス供給ラインと、
前記処理室内を排気するガス排気ラインと、
前記排気ラインに接続され前記処理室内を排気するポンプと、
前記排気ラインの前記ポンプよりも上流側に設けられたストップバルブと、
前記ポンプを交換する前に、前記ストップバルブを閉じ前記ポンプの稼働を継続させた状態を所定時間維持することで、前記ポンプからの熱を利用して前記ガス排気ラインの前記ストップバルブと前記ポンプとの間に付着した副生成物を気化させるよう制御する制御部と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
前記した手段によれば、装置アボート後にポンプが再起動不能状態となるのを回避することができる。
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
本実施の形態においては、本発明に係る基板処理装置は、図1に示された処理炉を備えており、基板としてのウエハ200に薄膜を形成するものとして構成されている。
図1に示されているように、処理室201は処理容器202により形成されており、処理室201内にはウエハ200を支持する支持台206が設けられている。支持台206の上部にはサセプタ217が設けられており、サセプタ217はウエハ200を支持する支持板を構成している。支持台206の内部には、加熱機構(加熱手段)としてのヒータ207が設けられている。ヒータ207はサセプタ217上に載置されるウエハ200を加熱する。ヒータ207はウエハ200の温度が所定の温度となるように温度制御部(温度制御手段)253により制御される。
処理室201外部には回転機構(回転手段)267が設けられており、回転機構267は処理室201内の支持台206を回転して、サセプタ217上のウエハ200を回転させる。また、処理室201外部には昇降機構(昇降手段)266が設けられており、昇降機構266は支持台206を処理室201内において昇降させる。
処理室201の上部にはシャワーヘッド236がサセプタ217と対向するように設けられている。シャワーヘッド236は多数のガス噴出口としての孔240を有する。シャワーヘッド236は分散板236aとシャワー板236bとを有する。分散板236aは内部に供給されたガスを分散させる。シャワー板236bは分散板236aにより分散されたガスを処理室201内へシャワー状に噴出させる。
シャワーヘッド236の天井部と分散板236aとの間には第1バッファ空間236cが設けられており、分散板236aとシャワー板236bとの間には、第2バッファ空間236dが設けられている。
シャワーヘッド236の天井部と分散板236aとの間には第1バッファ空間236cが設けられており、分散板236aとシャワー板236bとの間には、第2バッファ空間236dが設けられている。
処理室201の外部には、液体原料である第1原料を供給する第1原料供給源250aと、液体原料である第2原料を供給する第2原料供給源250dとが設けられている。第1原料供給源250aには第1液体原料供給管232aが接続されており、第2原料供給源250dには第2液体原料供給管232dが接続されている。
第1液体原料供給管232aおよび第2液体原料供給管232dは、LMFC(液体マスフローコントローラ)241a、241dを介して、原料を気化する気化器255a、255dにそれぞれ接続されている。LMFC241a、241dは原料の液体供給流量を制御する液体流量制御器(液体流量制御手段)を構成している。
気化器255a、255dには第1原料ガス供給管232a′および第2原料ガス供給管232d′がそれぞれ接続されており、第1原料ガス供給管232a′および第2原料ガス供給管232d′はバルブ243a、243dを介してシャワーヘッド236にそれぞれ接続されている。
このようにして、原料供給系としての第1原料供給系、第2原料供給系が構成される。原料としては、例えば、常温において液体である有機金属材料すなわち有機金属液体原料を用いる。
第1液体原料供給管232aおよび第2液体原料供給管232dは、LMFC(液体マスフローコントローラ)241a、241dを介して、原料を気化する気化器255a、255dにそれぞれ接続されている。LMFC241a、241dは原料の液体供給流量を制御する液体流量制御器(液体流量制御手段)を構成している。
気化器255a、255dには第1原料ガス供給管232a′および第2原料ガス供給管232d′がそれぞれ接続されており、第1原料ガス供給管232a′および第2原料ガス供給管232d′はバルブ243a、243dを介してシャワーヘッド236にそれぞれ接続されている。
このようにして、原料供給系としての第1原料供給系、第2原料供給系が構成される。原料としては、例えば、常温において液体である有機金属材料すなわち有機金属液体原料を用いる。
処理室201の外部には不活性ガス供給源250cが設けられており、不活性ガス供給源250cは非反応性ガスとしての不活性ガスを供給する。不活性ガス供給源250cには不活性ガス供給管232cが接続されており、不活性ガス供給管232cの途中にはマスフローコントローラ(MFC)241cが設けられている。MFC241cは不活性ガスの供給流量を制御する流量制御器(流量制御手段)を構成している。
不活性ガス供給管232cはMFC241cよりも下流側で3つの供給管に分岐している。分岐した供給管の一つはバルブ243cを介して第1原料ガス供給管232a′に接続されている。分岐した供給管の他の一つはバルブ243eを介して第2原料ガス供給管232d´に接続されている。分岐した供給管の残りの一つはバルブ243jを介して後述するオゾンガス供給管232fに接続されている。
このようにして、不活性ガス供給系が構成されている。
不活性ガスとしては、例えば、Ar、He、N2 等を用いる。
なお、MFC241cは3つに分岐した供給管のそれぞれに設けてもよい。
不活性ガス供給管232cはMFC241cよりも下流側で3つの供給管に分岐している。分岐した供給管の一つはバルブ243cを介して第1原料ガス供給管232a′に接続されている。分岐した供給管の他の一つはバルブ243eを介して第2原料ガス供給管232d´に接続されている。分岐した供給管の残りの一つはバルブ243jを介して後述するオゾンガス供給管232fに接続されている。
このようにして、不活性ガス供給系が構成されている。
不活性ガスとしては、例えば、Ar、He、N2 等を用いる。
なお、MFC241cは3つに分岐した供給管のそれぞれに設けてもよい。
第1原料ガス供給管232a′では、気化器255aにて第1原料を気化して得た第1原料ガスと、不活性ガス供給管232cからの不活性ガスとが混合される。第2原料ガス供給管232d´では、気化器255dにて第2原料を気化して得た第2原料ガスと、不活性ガス供給管232cからの不活性ガスとが混合される。これらの混合ガスはシャワーヘッド236にそれぞれ供給される。
また、第1原料ガス供給管232a′、第2原料ガス供給管232d′、不活性ガス供給管232cにそれぞれ設けられた各バルブ243a、243d、243c、243e、243jを開閉することにより、それぞれのガスの供給を制御することが可能となっている。
また、第1原料ガス供給管232a′、第2原料ガス供給管232d′、不活性ガス供給管232cにそれぞれ設けられた各バルブ243a、243d、243c、243e、243jを開閉することにより、それぞれのガスの供給を制御することが可能となっている。
処理室201の外部には、酸素ガス(O2 )からオゾンガス(O3 )を生成するオゾナイザ222が設けられている。オゾナイザ222の上流側には、酸素ガス供給管232bが設けられている。酸素ガス供給管232bには酸素ガス供給源250bが接続されており、酸素ガス供給源250bは酸素ガスを酸素ガス供給管232bを介してオゾナイザ222に対して供給するようになっている。
酸素ガス供給管232bにはマスフローコントローラ(MFC)241bおよびバルブ243bが設けられている。バルブ243bを開閉することにより、酸素ガスの供給を制御することが可能となっている。MFCは酸素ガスの供給流量を制御する流量制御器(流量制御手段)を構成している。
オゾナイザ222の下流側にはオゾンガス供給管232fが設けられている。オゾンガス供給管232fはバルブ243fを介してシャワーヘッド236に接続され、シャワーヘッド236にオゾナイザ222にて生成されたオゾンガスを供給するようになっている。また、オゾンガス供給管232fに設けられたバルブ243fを開閉することにより、オゾンガスの供給を制御することが可能となっている。
なお、オゾンガス供給管232fには、オゾンガスを希釈するための酸素ガスを供給する希釈用酸素ガス供給管を接続してもよい。
このようにしてオゾンガス供給系が構成される。
酸素ガス供給管232bにはマスフローコントローラ(MFC)241bおよびバルブ243bが設けられている。バルブ243bを開閉することにより、酸素ガスの供給を制御することが可能となっている。MFCは酸素ガスの供給流量を制御する流量制御器(流量制御手段)を構成している。
オゾナイザ222の下流側にはオゾンガス供給管232fが設けられている。オゾンガス供給管232fはバルブ243fを介してシャワーヘッド236に接続され、シャワーヘッド236にオゾナイザ222にて生成されたオゾンガスを供給するようになっている。また、オゾンガス供給管232fに設けられたバルブ243fを開閉することにより、オゾンガスの供給を制御することが可能となっている。
なお、オゾンガス供給管232fには、オゾンガスを希釈するための酸素ガスを供給する希釈用酸素ガス供給管を接続してもよい。
このようにしてオゾンガス供給系が構成される。
主に、第1原料供給系、第2原料供給系、不活性ガス供給系、オゾンガス供給系によりガス供給系が構成される。
処理容器202の下部側壁には排気口230が設けられており、排気口230には排気ラインとしての排気管231の一端が接続されている。排気管231の他端には排気装置(排気手段)としての真空ポンプ246および除害装置248が接続されている。排気管231には、処理室201内の圧力を制御するAPC(Auto Pressure Controller)バルブ等の圧力制御部(圧力制御手段)254と、原料を回収するための原料回収トラップ251と、が設けられている。
排気管231の真空ポンプ246よりも上流側にはストップバルブ245が設けられており、ストップバルブ245は制御部としてのメインコントローラ(後述する)に接続されている。メインコントローラは、リセット時にストップバルブ245を閉じ、リセット中においても真空ポンプ246の稼働を停止させることなく継続させるよう、ストップバルブ245および真空ポンプ246を制御する。
主に、排気口230、排気管231、真空ポンプ246および圧力制御部254によりガス排気系が構成される。
排気管231の真空ポンプ246よりも上流側にはストップバルブ245が設けられており、ストップバルブ245は制御部としてのメインコントローラ(後述する)に接続されている。メインコントローラは、リセット時にストップバルブ245を閉じ、リセット中においても真空ポンプ246の稼働を停止させることなく継続させるよう、ストップバルブ245および真空ポンプ246を制御する。
主に、排気口230、排気管231、真空ポンプ246および圧力制御部254によりガス排気系が構成される。
処理室201内の支持台206上にはプレート205が設けられている。プレート205はガス供給系よりシャワーヘッド236を介して供給されたガスの流れを調整する整流板を構成している。プレート205は円環(リング)形状であり、ウエハ200の周囲に設けられている。
シャワーヘッド236を介してウエハ200上に供給されたガスは、ウエハ200の径方向外方に向かって流れ、プレート205上を通り、プレート205と処理容器202の側壁(内壁)との間を通り、排気口230より排気される。
シャワーヘッド236を介してウエハ200上に供給されたガスは、ウエハ200の径方向外方に向かって流れ、プレート205上を通り、プレート205と処理容器202の側壁(内壁)との間を通り、排気口230より排気される。
第1原料ガス供給管232a′、第2原料ガス供給管232d′およびオゾンガス供給管232fには、ベント管(バイパス管)252a、252c、252bが排気管231の原料回収トラップ251よりも上流側にそれぞれ接続されている。各ベント管252a、252c、252bには、各バルブ243g、243i、243hがそれぞれ設けられている。
処理容器202の排気口230と反対側の側壁にはウエハ搬送口247が設けられており、ウエハ搬送口247はウエハ200を処理室201内に対して搬送し得るように構成されている。ウエハ搬送口247は仕切弁としてのゲートバルブ244によって開閉される。
バルブ243a〜243j、LMFC241a、241d、MFC241b、241c、温度制御部253、圧力制御部254、気化器255a、255d、オゾナイザ222、真空ポンプ246、回転機構267、昇降機構266、ゲートバルブ244、ストップバルブ245等の基板処理装置を構成する各部の動作の制御は、主制御部(主制御手段)としてのメインコントローラ256により行う。
次に、以上のように構成された処理炉を用いて、半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程としてウエハ上に薄膜を形成(堆積)する方法について説明する。
本実施形態では、常温において液体である有機金属液体原料を用いて、CVD(Chemical Vapor Deposition )法、特に、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition )法またはALD(Atomic Layer Deposition )法により、ウエハ上に金属酸化膜等の薄膜を形成する場合について説明する。
なお、以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はメインコントローラ256により制御される。
本実施形態では、常温において液体である有機金属液体原料を用いて、CVD(Chemical Vapor Deposition )法、特に、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition )法またはALD(Atomic Layer Deposition )法により、ウエハ上に金属酸化膜等の薄膜を形成する場合について説明する。
なお、以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はメインコントローラ256により制御される。
支持台206がウエハ搬送位置まで下降した状態で、ゲートバルブ244が開かれ、ウエハ搬送口247が開放されると、図示しないウエハ移載機によりウエハ200が処理室201内に搬入される(ウエハ搬入ステップ)。
ウエハ200が処理室201内に搬入され、突き上げピン(図示せず)上に載置された後、ゲートバルブ244が閉じられる。支持台206がウエハ搬送位置からそれよりも上方のウエハ処理位置まで上昇する。その間に、突き上げピン上のウエハ200はサセプタ217により掬い上げられ、サセプタ217上に載置される(ウエハ載置ステップ)。
ウエハ200が処理室201内に搬入され、突き上げピン(図示せず)上に載置された後、ゲートバルブ244が閉じられる。支持台206がウエハ搬送位置からそれよりも上方のウエハ処理位置まで上昇する。その間に、突き上げピン上のウエハ200はサセプタ217により掬い上げられ、サセプタ217上に載置される(ウエハ載置ステップ)。
支持台206がウエハ処理位置に到達すると、ウエハ200は回転機構267により回転される。
温度制御部253によりヒータ207へ供給される電力が制御される。ヒータ207はウエハ200を所定の処理温度となるよう均一に加熱する(ウエハ昇温ステップ、温度調整ステップ)。
同時に、処理室201内は真空ポンプ246により排気され、圧力制御部254により所定の処理圧力となるように制御される(圧力調整ステップ)。
なお、ウエハ搬送時やウエハ昇温時や圧力調整時においては不活性ガス供給管232cに設けられたバルブ243c、243e、243jは常時開いた状態とされ、不活性ガス供給源250cより処理室201内に不活性ガスが常に流される。これにより、パーティクルや金属汚染物のウエハ200への付着を防ぐことができる。
温度制御部253によりヒータ207へ供給される電力が制御される。ヒータ207はウエハ200を所定の処理温度となるよう均一に加熱する(ウエハ昇温ステップ、温度調整ステップ)。
同時に、処理室201内は真空ポンプ246により排気され、圧力制御部254により所定の処理圧力となるように制御される(圧力調整ステップ)。
なお、ウエハ搬送時やウエハ昇温時や圧力調整時においては不活性ガス供給管232cに設けられたバルブ243c、243e、243jは常時開いた状態とされ、不活性ガス供給源250cより処理室201内に不活性ガスが常に流される。これにより、パーティクルや金属汚染物のウエハ200への付着を防ぐことができる。
ウエハ200の温度、処理室201内の圧力が、それぞれ所定の処理温度、所定の処理圧力に到達して安定すると、処理室201内に第1原料ガスが供給される。
すなわち、第1原料供給源250aから供給された第1原料としての有機金属液体原料、例えば、Hf[OC(CH3 )2 CH2 OCH3 ]4 (以下、Hf(MMP)4 と略す。)が、第1液体原料供給管232aを通り、LMFC241aによって流量制御され、気化器255aへ供給されて気化される。バルブ243gが閉じられるとともに、バルブ243aが開かれ、気化された第1原料ガスが第1原料ガス供給管232a′を通り、シャワーヘッド236を介してウエハ200上へ供給される。このときも、バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態とされる。
第1原料ガスと不活性ガスとは第1原料ガス供給管232a′内において混合されて、シャワーヘッド236に導かれ、シャワーヘッド236の第1バッファ空間236c、分散板236a、第2バッファ空間236d、シャワー板236bを介してサセプタ217上のウエハ200に対してシャワー状に供給される(第1原料ガス供給ステップ)。
ウエハ200に対して供給された第1原料ガスは、排気管231より排気される。
なお、第1原料ガスは不活性ガスで希釈されることにより撹拌され易くなる。
すなわち、第1原料供給源250aから供給された第1原料としての有機金属液体原料、例えば、Hf[OC(CH3 )2 CH2 OCH3 ]4 (以下、Hf(MMP)4 と略す。)が、第1液体原料供給管232aを通り、LMFC241aによって流量制御され、気化器255aへ供給されて気化される。バルブ243gが閉じられるとともに、バルブ243aが開かれ、気化された第1原料ガスが第1原料ガス供給管232a′を通り、シャワーヘッド236を介してウエハ200上へ供給される。このときも、バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態とされる。
第1原料ガスと不活性ガスとは第1原料ガス供給管232a′内において混合されて、シャワーヘッド236に導かれ、シャワーヘッド236の第1バッファ空間236c、分散板236a、第2バッファ空間236d、シャワー板236bを介してサセプタ217上のウエハ200に対してシャワー状に供給される(第1原料ガス供給ステップ)。
ウエハ200に対して供給された第1原料ガスは、排気管231より排気される。
なお、第1原料ガスは不活性ガスで希釈されることにより撹拌され易くなる。
第1原料ガスの供給が所定時間行われた後に、バルブ243aが閉じられて、第1原料ガスのウエハ200への供給が停止される。このときも、各バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態なので、処理室201内への不活性ガスの供給は維持される。処理室201内へ供給された不活性ガスは排気管231より排気される。
これにより、処理室201内が不活性ガスによりパージされ、処理室201内の残留ガスが除去される(パージステップ)。
これにより、処理室201内が不活性ガスによりパージされ、処理室201内の残留ガスが除去される(パージステップ)。
なお、この際、バルブ243gを開き、第1原料ガスをベント管252aより排気して、気化器255aからの第1原料ガスの供給を停止しないようにするのが好ましい。
液体原料を気化してから、気化した原料ガスを安定供給するまでには時間がかかるので、気化器255aからの第1原料ガスの供給を停止することなく、処理室201をバイパスするように流しておくと、次の第1原料ガス供給ステップでは、流れを切換えるだけで、直ちに第1原料ガスをウエハ200に対して安定供給することができる。
液体原料を気化してから、気化した原料ガスを安定供給するまでには時間がかかるので、気化器255aからの第1原料ガスの供給を停止することなく、処理室201をバイパスするように流しておくと、次の第1原料ガス供給ステップでは、流れを切換えるだけで、直ちに第1原料ガスをウエハ200に対して安定供給することができる。
処理室201内のパージが所定時間行われた後に、処理室201内に第2原料ガスが供給される。
すなわち、第2原料供給源250dから供給された第2原料としての有機金属液体原料、例えば、Si[OC(CH3 )2 CH2 OCH3 ]4 (以下、Si(MMP)4 と略す。)が、第2液体原料供給管232dを通り、LMFC241dによって流量制御され、気化器255dへ供給されて気化される。バルブ243iが閉じられるとともに、バルブ243dが開かれ、気化された第2原料ガスが第2原料ガス供給管232d′を通り、シャワーヘッド236を介してウエハ200上へ供給される。このときも、バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態とされる。
第2原料ガスと不活性ガスとは第2原料ガス供給管232d′内において混合されてシャワーヘッド236に導かれ、シャワーヘッド236の第1バッファ空間236c、分散板236a、第2バッファ空間236d、シャワー板236bを介してサセプタ217上のウエハ200に対してシャワー状に供給される(第2原料ガス供給ステップ)。
ウエハ200に対して供給された第2原料ガスは、排気管231より排気される。
なお、第2原料ガスは不活性ガスで希釈されることにより撹拌され易くなる。
すなわち、第2原料供給源250dから供給された第2原料としての有機金属液体原料、例えば、Si[OC(CH3 )2 CH2 OCH3 ]4 (以下、Si(MMP)4 と略す。)が、第2液体原料供給管232dを通り、LMFC241dによって流量制御され、気化器255dへ供給されて気化される。バルブ243iが閉じられるとともに、バルブ243dが開かれ、気化された第2原料ガスが第2原料ガス供給管232d′を通り、シャワーヘッド236を介してウエハ200上へ供給される。このときも、バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態とされる。
第2原料ガスと不活性ガスとは第2原料ガス供給管232d′内において混合されてシャワーヘッド236に導かれ、シャワーヘッド236の第1バッファ空間236c、分散板236a、第2バッファ空間236d、シャワー板236bを介してサセプタ217上のウエハ200に対してシャワー状に供給される(第2原料ガス供給ステップ)。
ウエハ200に対して供給された第2原料ガスは、排気管231より排気される。
なお、第2原料ガスは不活性ガスで希釈されることにより撹拌され易くなる。
第2原料ガスの供給が所定時間行われた後に、バルブ243dが閉じられて、第2原料ガスのウエハ200への供給が停止される。このときも、各バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態なので、処理室201内への不活性ガスの供給は維持される。処理室201内へ供給された不活性ガスは排気管231より排気される。
これにより、処理室201内が不活性ガスによりパージされ、処理室201内の残留ガスが除去される(パージステップ)。
これにより、処理室201内が不活性ガスによりパージされ、処理室201内の残留ガスが除去される(パージステップ)。
なお、この際、バルブ243iを開き、第2原料ガスをベント管252cより排気して、気化器255dからの第2原料ガスの供給を停止しないようにするのが好ましい。
液体原料を気化してから、気化した原料ガスを安定供給するまでには時間がかかるので、気化器255dからの第2原料ガスの供給を停止することなく、処理室201をバイパスするように流しておくと、次の第2原料ガス供給ステップでは、流れを切換えるだけで、直ちに第2原料ガスをウエハ200に対して安定供給することができる。
液体原料を気化してから、気化した原料ガスを安定供給するまでには時間がかかるので、気化器255dからの第2原料ガスの供給を停止することなく、処理室201をバイパスするように流しておくと、次の第2原料ガス供給ステップでは、流れを切換えるだけで、直ちに第2原料ガスをウエハ200に対して安定供給することができる。
処理室201内のパージが所定時間行われた後、処理室201内に酸化剤としてのオゾンガス(O3 )が供給される。
すなわち、バルブ243bが開かれて、酸素ガス供給源250bから供給された酸素ガス(O2 )が酸素ガス供給管232bを通り、MFC241bによって流量制御されてオゾナイザ222へ供給され、オゾナイザ222によってオゾンガスが生成される。
オゾンガスが生成された後に、バルブ243hが閉じられるとともに、バルブ243fが開かれ、オゾナイザ222からオゾンガスがオゾンガス供給管232fを通り、シャワーヘッド236の第1バッファ空間236c、分散板236a、第2バッファ空間236d、シャワー板236bを介してウエハ200上へシャワー状に供給される(酸化剤供給ステップ)。
ウエハ200に対して供給されたオゾンガスは、排気管231より排気される。
このときも、各バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態とされる。
なお、このときバルブ243jは閉じてもよい。
すなわち、バルブ243bが開かれて、酸素ガス供給源250bから供給された酸素ガス(O2 )が酸素ガス供給管232bを通り、MFC241bによって流量制御されてオゾナイザ222へ供給され、オゾナイザ222によってオゾンガスが生成される。
オゾンガスが生成された後に、バルブ243hが閉じられるとともに、バルブ243fが開かれ、オゾナイザ222からオゾンガスがオゾンガス供給管232fを通り、シャワーヘッド236の第1バッファ空間236c、分散板236a、第2バッファ空間236d、シャワー板236bを介してウエハ200上へシャワー状に供給される(酸化剤供給ステップ)。
ウエハ200に対して供給されたオゾンガスは、排気管231より排気される。
このときも、各バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態とされる。
なお、このときバルブ243jは閉じてもよい。
オゾンガスの供給が所定時間行われた後、バルブ243fが閉じられ、オゾンガスのウエハ200への供給が停止される。このときも、各バルブ243c、243e、243jは開いたままの状態なので、処理室201内への不活性ガスの供給は維持される。
なお、処理室201内へ供給された不活性ガスは排気管231より排気される。
これにより、処理室201内が不活性ガスによりパージされ、処理室201内の残留ガスが除去される(パージステップ)。
なお、処理室201内へ供給された不活性ガスは排気管231より排気される。
これにより、処理室201内が不活性ガスによりパージされ、処理室201内の残留ガスが除去される(パージステップ)。
なお、この際、バルブ243hを開き、オゾンガスをベント管252bより排気して、オゾナイザ222からのオゾンガスの供給を停止しないようにするのが好ましい。
オゾンガスを生成してから、オゾンガスを安定供給するまでには時間がかかるので、オゾナイザ222からのオゾンガスの供給を停止することなく、処理室201をバイパスするように流しておくと、次の酸化剤供給ステップでは、流れを切換えるだけで、直ちにオゾンガスをウエハ200に対して安定供給することができる。
オゾンガスを生成してから、オゾンガスを安定供給するまでには時間がかかるので、オゾナイザ222からのオゾンガスの供給を停止することなく、処理室201をバイパスするように流しておくと、次の酸化剤供給ステップでは、流れを切換えるだけで、直ちにオゾンガスをウエハ200に対して安定供給することができる。
処理室201内のパージが所定時間行われた後に、再び、バルブ243gが閉じられるとともに、バルブ243aが開かれて、気化した第1原料ガスが不活性ガスと一緒にシャワーヘッド236を介してウエハ200上へ供給され、第1原料ガス供給ステップが行われる。
以上のような、第1原料ガス供給ステップ、パージステップ、第2原料ガス供給ステップ、パージステップ、酸化剤供給ステップ、パージステップを、1サイクルとして、このサイクルを複数回繰り返すサイクル処理を行うことにより、ウエハ200上に所定膜厚の薄膜、例えばHfSiO膜(ハフニウムシリケート膜)を形成することができる(薄膜形成ステップ)。
なお、第1原料ガス供給ステップと第2原料ガス供給ステップとを同時に行うようにしてもよい。すなわち、第1原料ガス供給ステップと第2原料ガス供給ステップとを同時に行う原料ガス供給ステップ、パージステップ、酸化剤供給ステップ、パージステップを、1サイクルとして、このサイクルを複数回繰り返すサイクル処理を行うことにより、ウエハ200上に所定膜厚の薄膜、例えばHfSiO膜を形成するようにしてもよい。
ウエハ200への薄膜形成処理終了後、回転機構267によるウエハ200の回転が停止され、処理済ウエハ200はウエハ搬入ステップと逆の手順で処理室201外へ搬出される(ウエハ搬出ステップ)。
なお、薄膜形成ステップをCVD法により行う場合には、処理温度を原料ガスが自己分解する程度の温度帯となるように制御する。この場合、原料ガス供給ステップにおいては、原料ガスが熱分解し、ウエハ200上に数〜数十原子層程度の薄膜が形成される。酸化剤供給ステップにおいては、オゾンガスによりウエハ200上に形成された数〜数十原子層程度の薄膜よりC、H等の不純物が除去される。
また、薄膜形成ステップをALD法により行う場合には、処理温度を原料ガスが自己分解しない程度の温度帯となるように制御する。この場合、原料ガス供給ステップにおいては、原料ガスは熱分解することなくウエハ200上に吸着する。酸化剤供給ステップにおいては、ウエハ200上に吸着した原料とオゾンガスとが反応することによって、ウエハ200上に1〜数原子層程度の薄膜が形成される。
なお、このとき、オゾンガスにより薄膜中に混入しようとするC、H等の不純物を脱離させることができる。
なお、このとき、オゾンガスにより薄膜中に混入しようとするC、H等の不純物を脱離させることができる。
なお、本実施形態の処理炉にて、CVD法により、ウエハを処理する際の処理条件としては、例えば、HfSiO膜を成膜する場合には、処理温度:390〜450℃、処理圧力:50〜400Pa、第1原料(Hf(MMP)4 )供給流量:0.01〜0.2g/min、第2原料(Si(MMP)4 )供給流量:0.01〜0.2g/min、酸化剤(オゾンガス)供給流量:100〜3000sccmが例示される。
また、本実施形態の処理炉にて、ALD法により、ウエハを処理する際の処理条件としては、例えば、HfSiO膜を成膜する場合には、処理温度:200〜350℃、処理圧力:50〜400Pa、第1原料(Hf(MMP)4 )供給流量:0.01〜0.2g/min、第2原料(Si(MMP)4 )供給流量:0.01〜0.2g/min、酸化剤(オゾンガス)供給流量:100〜3000sccmが例示される。
以上の薄膜形成工程において、基板処理装置に突発的なアラームが発生すると、従来、メインコントローラ256は基板処理装置のリセット(アボート)状態へ移行するために、リセット処理を行い各バルブを全閉し、真空ポンプ246を停止させる。
このとき、液体原料が真空ポンプ246内に存在すると、液体原料が真空ポンプ246内で固化することにより、真空ポンプ246の始動時の負荷トルクが増大するために、再起動が不能となる場合が発生する。
このとき、液体原料が真空ポンプ246内に存在すると、液体原料が真空ポンプ246内で固化することにより、真空ポンプ246の始動時の負荷トルクが増大するために、再起動が不能となる場合が発生する。
そこで、本実施形態においては、排気管231の真空ポンプ246よりも上流側にストップバルブ245を設け、メインコントローラ256によってストップバルブ245をリセット時に閉じるとともに、リセット中においても真空ポンプ246の稼働を停止させることなく継続させることにより、液体原料が真空ポンプ246内で固化するのを防止するものとした。このとき、真空ポンプ246の運転は継続させるので、ストップバルブ245と真空ポンプ246との間の排気管231内は、引き切り状態、すなわち、到達真空状態となる。
なお、このとき、真空ポンプ246の回転速度を通常の装置運転時よりも小さくなるように抑えてもよい。
なお、このとき、真空ポンプ246の回転速度を通常の装置運転時よりも小さくなるように抑えてもよい。
前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。
(1)排気管の真空ポンプよりも上流側にストップバルブを設け、メインコントローラによってリセット時にストップバルブを閉じるとともに、リセット中においても真空ポンプの稼働を停止させることなく継続させることにより、液体原料が真空ポンプ内で固化するのを防止することができるので、真空ポンプ始動時の負荷トルクが増大するのを防止することができ、真空ポンプの再起動が不能となるのを未然に防止することができる。
(2)真空ポンプがリセット中も回転を継続することにより、リセット解除後の真空ポンプの再起動が不要となるため、真空ポンプの起動不能のリスクをより一層軽減することができる。
(3)リセット中は、真空ポンプの回転速度を通常運転時よりも小さくなるように抑制することにより、消費電力を抑制することができるので、省エネルギに寄与することができる。
図2は本発明の第二実施形態を示している。
本実施の形態が前記実施形態と異なる点は、排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246間に排気管231内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部249が接続されている点、メインコントローラ256が基板処理装置のリセット時に排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246との間に不活性ガスを供給するように不活性ガス供給部249を制御する点、である。
本実施の形態が前記実施形態と異なる点は、排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246間に排気管231内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部249が接続されている点、メインコントローラ256が基板処理装置のリセット時に排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246との間に不活性ガスを供給するように不活性ガス供給部249を制御する点、である。
ストップバルブ245をリセット時に閉じるとともに、リセット中において真空ポンプ246の稼働を停止させることなく継続させると、排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246との間は、引き切り状態すなわち到達真空状態になる。
本実施形態においては、ストップバルブ245の閉時における真空ポンプ246の継続運転中に、排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246との間に不活性ガスを不活性ガス供給部249から供給することにより、排気管231のこの区間が引き切り状態すなわち到達真空状態になるのを防止するものとした。
本実施形態においては、ストップバルブ245の閉時における真空ポンプ246の継続運転中に、排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246との間に不活性ガスを不活性ガス供給部249から供給することにより、排気管231のこの区間が引き切り状態すなわち到達真空状態になるのを防止するものとした。
本実施形態によれば、前記実施形態の効果に加えて次の効果を得ることができる。
ストップバルブの閉時における真空ポンプの継続運転中に、排気管のストップバルブと真空ポンプとの間に不活性ガスを不活性ガス供給部から供給することにより、排気管のこの区間が引き切り状態すなわち到達真空状態になるのを防止することができるので、真空ポンプから排気管内へのオイルの逆拡散を防止することができる。
ストップバルブの閉時における真空ポンプの継続運転中に、排気管のストップバルブと真空ポンプとの間に不活性ガスを不活性ガス供給部から供給することにより、排気管のこの区間が引き切り状態すなわち到達真空状態になるのを防止することができるので、真空ポンプから排気管内へのオイルの逆拡散を防止することができる。
図3は本発明の第三実施形態を示している。
本実施の形態が前記実施形態と異なる点は、ストップバルブ245と真空ポンプ246とが容易に切り離し可能な構造に構成されている点、メインコントローラ256は真空ポンプ246を交換する前に、ストップバルブ245を閉じるとともに、真空ポンプ246の稼働を継続させた状態を所定時間維持することにより、真空ポンプ246からの熱を利用して排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246との間に付着して再液化した副生成物を気化させるよう制御する点、である。
本実施の形態が前記実施形態と異なる点は、ストップバルブ245と真空ポンプ246とが容易に切り離し可能な構造に構成されている点、メインコントローラ256は真空ポンプ246を交換する前に、ストップバルブ245を閉じるとともに、真空ポンプ246の稼働を継続させた状態を所定時間維持することにより、真空ポンプ246からの熱を利用して排気管231のストップバルブ245と真空ポンプ246との間に付着して再液化した副生成物を気化させるよう制御する点、である。
本実施形態によれば、前記実施形態の効果に加えて次の効果を得ることができる。
真空ポンプの交換前に、真空ポンプからの熱を利用して排気管のストップバルブと真空ポンプとの間に付着して再液化した副生成物を気化させることにより、真空ポンプの交換時に再液化した液体原料が排気管内から外部へ漏洩するのを防止することができるため、真空ポンプの交換作業を安全に実施することができる。
真空ポンプの交換前に、真空ポンプからの熱を利用して排気管のストップバルブと真空ポンプとの間に付着して再液化した副生成物を気化させることにより、真空ポンプの交換時に再液化した液体原料が排気管内から外部へ漏洩するのを防止することができるため、真空ポンプの交換作業を安全に実施することができる。
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々に変更が可能であることはいうまでもない。
例えば、前記実施形態においては液体原料を使用する場合について説明したが、本発明はこれに限らず、気体原料を使用する場合にも適用することができる。
被処理基板はウエハに限らず、LCD装置の製造工程におけるガラス基板や液晶パネル等の基板であってもよい。
前記実施形態においては成膜工程について説明したが、本発明はこれに限らず、拡散処理、酸化処理、アニール処理等の基板処理全般に適用することができる。
200…ウエハ(基板)、
201…処理室、
231…排気管(ガス排気ライン)、
232a…第1液体原料供給管(ガス供給ライン)、
232d…第2液体原料供給管(ガス供給ライン)、
245…ストップバルブ、
246…真空ポンプ(ポンプ)、
249…不活性ガス供給部、
256…メインコントローラ(制御部)。
201…処理室、
231…排気管(ガス排気ライン)、
232a…第1液体原料供給管(ガス供給ライン)、
232d…第2液体原料供給管(ガス供給ライン)、
245…ストップバルブ、
246…真空ポンプ(ポンプ)、
249…不活性ガス供給部、
256…メインコントローラ(制御部)。
Claims (1)
- 基板を処理する処理室と、
前記処理室内にガスを供給するガス供給ラインと、
前記処理室内を排気するガス排気ラインと、
前記排気ラインに接続され前記処理室内を排気するポンプと、を有する基板処理装置において、
さらに、前記排気ラインの前記ポンプよりも上流側に設けられたストップバルブと、
基板処理装置のリセット時に前記ストップバルブを閉じ、前記リセット中においても前記ポンプの稼働を停止させることなく継続させるよう、前記ストップバルブおよび前記ポンプを制御する制御部と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008126970A JP2009277845A (ja) | 2008-05-14 | 2008-05-14 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2008126970A JP2009277845A (ja) | 2008-05-14 | 2008-05-14 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009277845A true JP2009277845A (ja) | 2009-11-26 |
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Family Applications (1)
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JP2008126970A Pending JP2009277845A (ja) | 2008-05-14 | 2008-05-14 | 基板処理装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2009277845A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011222960A (ja) * | 2010-02-26 | 2011-11-04 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2013091087A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Disco Corp | レーザー加工装置 |
-
2008
- 2008-05-14 JP JP2008126970A patent/JP2009277845A/ja active Pending
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