JP2009276552A - 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】反射光用領域の着色層の薄膜化を可能とし、反射光用領域の輝度の向上を可能とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板と、透明基板および透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、透明基板と、透明樹脂層と、着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、透明基板と、着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、着色層形成用層を形成する着色層形成用塗工液塗布工程と、透明基板側から紫外線照射して露光する裏面露光工程と、現像工程とを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、半透過型液晶表示装置等に用いられる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタおよびその製造方法に関するものである。
近年、液晶表示装置として、外光の反射と、バックライト光の透過光とを利用した半透過型液晶表示装置が開発され、この半透過型液晶表示装置は、外光を利用して表示を行なう従来の反射型カラー液晶表示装置に、バックライトを兼ね備え、周囲が暗い場合でもバックライトによる表示(透過表示)が行なえる、という利点を有する。
このような半透過型液晶表示装置では、透過光および反射光が液晶を通過する回数が異なることから、透過表示および反射表示の視認性を良好なものとするためには、透過光および反射光が、それぞれ液晶を通過する距離を調整する必要があった。そこで、透明基板のうち、反射表示に用いられる反射光用領域にのみ、所定の膜厚を有する透明樹脂層を形成し、その透明樹脂層の上に着色層を形成することにより、反射光用領域と、透過光用領域との光路差を調整する方法が一般的に用いられている(例えば、特許文献1)。
しかしながら、このような半透過型液晶表示装置は、反射光用領域では進入してきた外光が通常2回カラーフィルタを通過するのに対し、透過光用領域では通常1回のみカラーフィルタを通過することになり、透過表示時と反射表示時とは色特性が異なるという問題点を有していた。
上記問題点を解決するためには、透過光用領域に形成される着色層と、反射光用領域に形成される着色層との膜厚比を調節することが必要である。解決法として、透明樹脂層上に着色レジストを塗布し、塗布した後、所定の時間放置することにより、反射光用領域の着色レジストを透過光用領域に流れ込ませ、これにより反射光用領域と透過光用領域の膜厚差を形成する方法(以下引き置き法とする。)、またはハーフトーン部が形成されているフォトマスクを用いて膜厚差を形成する方法がある。
しかしながら、引き置き法では、反射光用領域と透過光用領域の膜厚差は引き置き時の流れ込み量に依存するため、ある一定以上の膜厚差は困難である。また、ハーフトーン部が形成されているフォトマスクを用いた方法ではマスク作製にコストがかかるという問題が生じた。
特開2004−102243号公報
本発明は上記の問題を解決するためになされたものであり、反射光用領域の着色層の薄膜化を可能とし、反射光用領域の輝度の向上を可能とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法および半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供することを主目的とする。
本発明は、透明基板、および上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板と、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板と、上記透明樹脂層と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基板と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する着色層形成用塗工液塗布工程と、上記着色層形成用層を上記透明基板側から紫外線照射して露光する裏面露光工程と、上記着色層形成用層を現像する現像工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供する。
本発明によれば、着色層を透明基板側から裏面露光することで、透明樹脂層が露光紫外線を一部吸収し、その波長強度が下がることにより、反射光用領域の着色層をより薄膜化させることが可能であり、これにより反射光用領域の輝度を向上させることができる。
また、本発明によれば、透明樹脂層の紫外線吸収効果により、ハーフトーン部が形成されているフォトマスクを使わずに済み、通常マスクにて透明樹脂層上の着色層と基板上の着色層の膜厚差を効率的につけることが可能となる。
上記発明においては、上記透明樹脂層における紫外線の透過率が10%〜60%の範囲内であることが好ましい。これにより、効果的に着色層の膜厚差を形成することができるからである。
また本発明は、透明基板、および上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板と、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板と、上記透明樹脂層と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基板と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、上記透明樹脂層内に紫外線吸収剤を含むことを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供する。
本発明によれば、透明樹脂層内に紫外線吸収剤を含むことにより、上記裏面露光工程を行った場合、より効果的に露光紫外線を吸収し、透明樹脂層上の着色層を薄膜化することができる。
本発明によれば、透明樹脂層上に裏面露光により着色層を形成することで、透明樹脂層が露光紫外線を吸収し、着色層の薄膜化を可能とし、反射光用領域の輝度を向上させることを可能とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供できるという効果を奏する。
本発明は、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法、および、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタに関するものである。以下、それぞれについて分けて説明する。
A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、透明基板、および上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板と、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板と、上記透明樹脂層と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基板と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する着色層形成用塗工液塗布工程と、上記着色層形成用層を上記透明基板側から紫外線照射して露光する裏面露光工程と、上記着色層形成用層を現像する現像工程とを有することを特徴とする製造方法である。
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、例えば図1に示すように、透明基板1、および透明基板1上にパターン状に形成された透明樹脂層2を有するカラーフィルタ用基板11上に、透明基板1および透明樹脂層2を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層3'を形成する着色層形成用塗工液塗布工程(図1(a))と、上記着色層形成用層3'を上記透明基板1側からフォトマスク5を用いて紫外線6を照射して露光する裏面露光工程(図1(b))と、上記着色層形成用層3'を現像して着色層3を形成する現像工程(図1(c))とを有する方法である。
ここで、本発明に用いられるカラーフィルタ用基板11は、透明基板1上に画素部を画定する遮光部4が形成されていてもよい。
一般に、反射光用領域上に膜厚の薄い着色層を形成する方法として、反射光用領域上にパターン状に透明樹脂層を形成し、その上に着色層形成用塗工液を塗布する方法が知られている。この方法では着色層の露光は着色層側から行われる。この方法によれば、透明樹脂層上に塗布された着色層形成用塗工液は、透過光用領域側に流れ落ちるため、透明樹脂層上には膜厚の薄い着色層が形成される。しかしながら、着色層形成用塗工液を透過光用領域方向流れ込ませる方法のみでは、一定以上の薄い膜厚の着色層を形成することは困難であった。
一方、本発明においては、着色層を透明基板側から裏面露光することで、着色層形成の際、透明樹脂層が露光の紫外線を吸収することにより、透明樹脂層上と透明基板上とで着色層の硬化度に違いが生じる。これにより、裏面露光を行わない場合に比べて、透明樹脂層上に塗布された着色層形成用塗工液の硬化度が下がるため、現像工程において透明樹脂層上の着色層の薄膜化が可能となる。したがって、透明樹脂層上に目的とする薄い膜厚の着色層を形成することができ、反射光用領域の輝度が高い半透過型液晶表示装置用カラーフィルタとすることが可能となるのである。
以下、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の各工程について説明する。
1.着色層形成用塗工液塗布工程
まず、本発明における着色層形成用塗工液塗布工程について説明する。本発明における着色層形成用塗工液塗布工程は、透明基板、および上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板上に、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する工程である。
以下に、本工程に用いられるカラーフィルタ用基板および着色層形成用塗工液等について説明する。
(1)カラーフィルタ用基板
本工程に用いられるカラーフィルタ用基板は、透明基板および透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するものである。
a.透明基板
上記カラーフィルタ用基板に用いられる透明基板は、上記透明樹脂層を形成可能であり、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様のものとすることができる。
具体的には、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材等が挙げられる。
b.透明樹脂層
上記カラーフィルタ用基板に用いられる透明樹脂層としては、透明基板上にパターン状に形成されるものであり、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタのうち、反射光用領域として用いられる領域に形成されるものである。
上記透明樹脂層の形状としては、上記反射光用領域に形成される着色層の膜厚を調整することが可能であり、また上記反射光用領域および透過光用領域における着色層表面に生じる段差によって、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを対向基板と対向させて配置した際のセルギャップを調整することが可能なものであれば、その形状等は特に限定されるものではない。例えば断面形状が矩形状や台形状のもの等とすることができる。
また、上記透明樹脂層の厚みとしては、1.0μm〜6.0μmの範囲以内であることが好ましく、中でも2.0μm〜5.0μmの範囲内であることが好ましい。
上記カラーフィルタ用基板に用いられる透明樹脂層の材料としては、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタに入射した外光およびその外光が反射された反射光に対して透明なもので、かつ、上記裏面露光工程で、露光で用いられる紫外線を適度に吸収することが可能な透明樹脂であれば、特に限定されるものではない。
上記透明樹脂の紫外線透過率は、10%〜60%の範囲以内であることが好ましく、中でも10%〜50%の範囲内、特に10%〜40%の範囲内であることが好ましい。透明樹脂の紫外線透過率が、上記の範囲を超える場合では後述する裏面露光工程において、透明樹脂上の着色層形成用層が硬化しないおそれがあり、上記の範囲に満たない場合では反射光用領域と透過光用領域との着色層形成用層の硬化度に目的とする差異が得られない可能性が生じるためである。
ここでの紫外線透過率とは、露光波長のうち250nm〜400nmの範囲内のものの平均透過率である。
上記紫外線透過率は、上記紫外線透過率は、紫外可視近赤外分光光度計(Lambda19 PERKIN ELEMER社製)により測定される値である。
上記透明樹脂層に用いられる材料としては、紫外線の透過率が上記の範囲以内のものであれば、特に限定されるものではなく、例えば感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミド、ポジレジスト、カルド樹脂、ポリシロキサン、ベンゾシクロブテン等が挙げられる。
また、紫外線の透過率を下げるために上記のような透明樹脂材料に紫外線吸収剤を添加してもよい。
このような紫外線吸収剤としては、添加することで透明樹脂層の透明度に影響しないものであれば、特に限定されるものではなく、例えばベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードアミン系の紫外線吸収剤等が挙げられる。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノンが挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。ヒンダードアミン系光安定剤(HALS)としては、TINUVIN144,TINUVIN 123,TINUVIN 152,TINUVIN 292,TINUVIN 770(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社)等が挙げられる。
これらの紫外線吸収剤は、単独もしくは2種類以上混合して使用してもよい。
また、紫外線吸収剤の添加量は透明樹脂層が所望の紫外線透過率をもつ程度である必要があるが、0.05質量%〜20質量%の範囲以内であることが好ましく、中でも0.1質量%〜15質量%の範囲内が好ましい。紫外線吸収剤の添加量が、上記の範囲を超える場合では後述する裏面露光工程において、透明樹脂上の着色層形成用層が硬化しないおそれがあり、上記の範囲に満たない場合では反射光用領域と透過光用領域との着色層形成用層の硬化度に目的とする差異が得られない可能性が生じるためである。
c.その他
本工程に用いられるカラーフィルタ用基板は、上述した透明基板、および透明樹脂層以外にも、必要な部材を適宜形成することができる。例えば画素を画定する遮光部が挙げられる。
上記遮光部が形成される領域は、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを半透過型液晶表示装置とした際、表示に関係しない非表示領域とされる領域である。
上記遮光部のパターン形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、ストライプ状、マトリクス状等の形状が挙げられる。
また、このような遮光部としては、一般的に、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの遮光部として用いられるものと同様とすることができ、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等によって、厚み1000Å〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングしたもの等であってもよく、また、例えば、樹脂バインダー中にカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた層をフォトリソ法、印刷法等により形成した方法等であってもよい。
(2)着色層形成用塗工液
本工程においては、上述したカラーフィルタ用基板に着色層形成用塗工液を塗布する。このような着色層形成用塗工液は、通常、固形分と、溶剤分とからなる。本工程においては、このような着色層形成用塗工液中の固形分濃度は20質量%〜35質量%の範囲内が好ましく、中でも20質量%〜25質量%の範囲内、特に21質量%〜25質量%の範囲内が好ましい。
上述した着色層は、上述した着色層形成用塗工液を塗布した後に行われる減圧乾燥工程の際、溶剤分が蒸発し、固形分のみが透明樹脂層上および透明基板上に残存することにより形成される。したがって、上記範囲内より固形分濃度を大きくすると、反射光用領域における着色層と透過光用領域における着色層との膜厚差は大きくなり、上記範囲内より固形分濃度を小さくすると、反射光用領域における着色層と透過光用領域における着色層との膜厚差は小さくなる。このように着色層形成用塗工液中の固形分濃度を調整することで、各領域における着色層の膜厚差を調整することが可能となる。
本工程に用いられる着色層形成用塗工液の固形分濃度は上記に示す範囲内とすることで、反射光用領域における着色層と透過光用領域における着色層との膜厚差を所望のものとなるようにすることができる。
また、固形分濃度をこのような範囲内に調整することにより、着色層形成用塗工液の動的粘度を最適範囲とすることができ、結果的に得られる着色層表面の横スジムラの発生を抑制することができる。また、着色層を形成する際にウェット膜厚(着色層形成用塗工液を塗布した際の膜厚)を好適な範囲とすることができる点からも表面のスジムラの発生を抑えることができる。
次に本工程に用いられる着色層形成用塗工液の組成について説明する。本工程に用いられる着色層形成用塗工液は、一般に用いられている着色層形成用塗工液と同様に、溶剤と、ポリマー成分、モノマー成分、開始剤、顔料、および添加剤等からなる固形分成分とから構成されるものである。
以下各成分について説明する。
a.溶剤
上記着色層形成用塗工液に用いられる溶剤としては、所望により配合される添加剤成分を分散または溶解し、かつ、これらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
このような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル等のグリコールエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、4−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のカルボン酸アミド類等を挙げることができる。これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
さらに、上記溶剤とともに、ベンジルエチルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶剤を併用することもできる。これらの高沸点溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
上記溶剤のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸i−プロピル、酪酸エチル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましく、また高沸点溶剤としてはミネラルスピリット、石油ナフサS−100、石油ナフサS−150、テトラリン、テレピン油、γ−ブチロラクトン等が好ましい。溶剤の使用量は、固形分成分100重量部に対して、通常、100重量部〜10,000重量部、好ましくは500重量部〜5,000重量部である。
b.固形分成分
(ポリマー成分)
本工程に用いられるポリマー成分としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレンビニル共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ABS樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、エチレンメタクリル酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等、および、重合可能なモノマーであるメチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、sec-ブチルアクリレート、sec-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、n−ペンチルアクリレート、n−ペンチルメタクリレート、n−ヘキシルアクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、n−オクチルアクリレート、n−オクチルメタクリレート、n−デシルアクリレート、n−デシルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、N−ビニル−2−ピロリドン、グリシジル(メタ)アクリレートの1種以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の2量体(例えば、東亜合成化学(株)製M−5600)、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物等の1種以上からなるポリマーまたはコポリマー等が挙げられる。また、上記のコポリマーにグリシジル基または水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させたポリマー等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記のポリマー成分のなかで、合わせて使用するモノマー成分との相溶性等の観点から、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリメタクリル酸エチル樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂とポリメタクリル酸エチル樹脂の共重合体、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルローストリアセテート等を好ましく使用することができる。特に好ましくは、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリメタクリル酸エチル樹脂、ポリスチレン樹脂、メタクリル酸とスチレン、グリシジルメタクリレートとの共重合体、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、および、これらの変性物を使用することができる。
このようなポリマー成分は、着色層中、すなわち固形分成分中において30質量%〜50質量%、特に30質量%〜40質量%の範囲内で用いることが好ましい。
(モノマー成分)
また、本工程に用いられるモノマー成分としては、具体的には、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,3−プロパンジオールアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリアクリレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、1,10−デカンジオールジメチルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、および、上記のアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−ピロリドン、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、3−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、フェノール−エチレンオキサイド変性アクリレート、フェノール−プロピレンオキサイド変性アクリレート、N−ビニル−2−ピロリドン、ビスフェノールA−エチレンオキサイド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等のアクリレートモノマー、および、これらのアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの、ポリウレタン構造を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたウレタンアクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたポリエステルアクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたエポキシアクリレートオリゴマー、ポリウレタン構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたウレタンメタクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたポリエステルメタクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたエポキシメタクリレートオリゴマー、アクリレート基を有するポリウレタンアクリレート、アクリレート基を有するポリエステルアクリレート、アクリレート基を有するエポキシアクリレート樹脂、メタクリレート基を有するポリウレタンメタクリレート、メタクリレート基を有するポリエステルメタクリレート、メタクリレート基を有するエポキシメタクリレート樹脂等が挙げられる。
このようなモノマー成分の着色層中、すなわち固形分成分中の使用量としては、30質量%〜50質量%、特に30質量%〜40質量%の範囲内であることが好ましい。
(開始剤)
本工程に用いられる開始剤としては、具体的には、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、N,N′テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン、2−エチルアントラキノン、フェナントレン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−フェニルイミダゾール2量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2,4,5−トリアリールイミダゾール2量体、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−S−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−S−トリアジン、2−トリクロロメチル−4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−S−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−S−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−S−トリアジン、2−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−S−トリアジン等のハロメチル−S−トリアジン系化合物、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン、1,2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、イルガキュアー369(チバガイギー社製)、イルガキュアー651(チバガイギー社製)、イルガキュアー907(チバガイギー社製)等の光重合開始剤が挙げられる。本工程では、これらの光重合開始剤を単独で、または、2種以上を混合して使用することができる。
このような開始剤の着色層中、すなわち固形分成分中の使用量としては、10質量%〜30質量%、特に10質量%〜20質量%の範囲内であることが好ましい。
(顔料)
本工程に用いられる顔料としては、赤色顔料であれば、ピグメントレッド177、ピグメントレッド254、およびピグメントレッド209等を挙げることができ、緑色顔料であれば、ピグメントグリーン36、ピグメントグリーン37、およびピグメントグリーン7等を挙げることができ、青色顔料であれば、ピグメントブルー15:3、ピグメントブルー16、ピグメントブルー17、およびピグメントブルー15等を挙げることができる。
このような顔料は、一般的には上記ポリマー成分を100重量部とした際に、3重量部〜60重量部の範囲内、好ましくは5重量部〜50重量部の範囲内で用いられる。
(添加剤)
本工程に用いられるその他の添加剤として、1種または2種以上の分散剤を用いることができる。使用可能な分散剤は特に限定されず、例えば、ノナノアミド、デカンアミド、ドデカンアミド、N−ドデシルヘキサデカンアミド、N−オクタデシルブロピオアミド、N,N−ジメチルドデカンアミドおよびN,N−ジヘキシルアセトアミド等のアミド化合物、ジエチルアミン、ジヘプチルアミン、ジブチルヘキサデシルアミン、N,N,N',N'−テトラメチルメタンアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン及びトリオクチルアミン等のアミン化合物、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N,N,N',N'−(テトラヒドロキシエチル)−1,2−ジアミノエタン、N,N,N'−トリ(ヒドロキシエチル)−1,2−ジアミノエタン、N,N,N',N'−テトラ(ヒドロキシエチルポリオキシエチレン)−1,2−ジアミノエタン、1,4−ビス(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン及び1−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン等のヒドロキシ基を有するアミン等を例示することができ、その他にニペコタミド、イソニペコタミド、ニコチン酸アミド等の化合物を挙げることができる。
さらに、ポリアクリル酸エステル等の不飽和カルボン酸エステルの(共)重合体類;ポリアクリル酸等の不飽和カルボン酸の(共)重合体の(部分)アミン塩、(部分)アンモニウム塩や(部分)アルキルアミン塩類;水酸基含有ポリアクリル酸エステル等の水酸基含有不飽和カルボン酸エステルの(共)重合体やそれらの変性物;ポリウレタン類;不飽和ポリアミド類;ポリシロキサン類;長鎖ポリアミノアミドリン酸塩類;ポリ(低級アルキレンイミン)と遊離カルボキシル基含有ポリエステルとの反応により得られるアミドやそれらの塩類等を挙げることができる。
また、分散剤の市販品として、シゲノックス−105(商品名、ハッコールケミカル社製)Disperbyk−101、同−130、同−140、同−160、同−161、同−162、同−163、同−164、同−165、同−166、同−170、同−171、同−182、同−2000、同−2001(以上ビックケミージャパン(株)製)、EFKA−47、同−47EA、同−48、同−49、同−100、同−400、同−450(以上、EFKA CHEMICALS社製)、ソルスパース12000、同13240、同13940、同17000、同20000、同24000GR、同24000SC、同27000、同28000、同33500(以上、ゼネカ(株)製)、PB711、同821、同822(以上、味の素(株)製)等を挙げることができる。
また、本工程に用いられる顔料分散組成物には各種界面活性剤を配合しても良い。本工程に用いられるバインダーに各種界面活性剤を組み合わせて使用すると分散安定性を向上させることができる。界面活性剤としては、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。上記界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンn−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンn−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類;ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエステル類;3級アミン変性ポリウレタン類;ポリエチレンイミン類を挙げることができる。
界面活性剤の商品名としては、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社化学(株)製)、エフトップ(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(以上、旭硝子(株)製)等を挙げることができる。
また、無水マレイン酸、多官能樹脂、メタクリル官能性シラン等を添加してもよい。
(3)塗布方法
本工程において着色層形成用塗工液を塗布する方法としては、上記カラーフィルタ用基板上に着色層形成用塗工液を塗布することが可能な方法であれば特に限定されるものではなく、例えばスピンコート法やダイコート法、印刷法など一般的な方法とすることができる。中でも好適に用いられる方法としては、スピンコート法が挙げられる。
(4)その他
本工程においては、着色層形成用塗工液を塗布した後に通常、所定の時間放置して反射光用領域と透過光用領域との膜厚差を形成する引き置き、減圧乾燥、プリベーク等が行われる。
2.裏面露光工程
次に、本発明における裏面露光工程について説明する。本発明における裏面露光工程は、上記着色層形成用層を上記透明基板側から露光する工程である。
本工程における露光方法は、上記着色層形成用層を透明基板側から露光することが可能な方法であれば、特に限定されるものではなく、上記反射光用領域の着色層形成用層および上記透過光用領域の着色層形成用層を一括して露光する方法であってもよく、また例えば上記反射光用領域の着色層形成用層と、上記透過光用領域の着色層形成用層とを別々に露光する方法であってもよい。
図2に本工程における露光方法の一例を図示する。図2で示すように透明基板1とその透明基板1上にパターン状に形成された透明樹脂層2とを有するカラーフィルタ用基板11上に、透明基板1および透明樹脂層2を覆うように着色層形成用塗工液を塗布して形成した着色層形成用層3'を上記透明基板1側からフォトマスク5等を用いて露光する。このとき、透明樹脂層2により露光の紫外線6が一部吸収されるため、着色層形成用層3'の反射光用領域と透過光用領域とに対する紫外線照射量を異なるものにすることができ、それぞれの着色層形成用層の硬化度を変化させることができるため、上記現像工程において反射光用領域の着色層の膜厚を薄くすることが可能である。
なお、図2ではカラーフィルタ用基板11は、画素を画定する遮光部4が形成されたものを用いている。
また、本工程の露光に用いられる紫外線については、上記着色層形成用層を露光可能であれば、特に限定されるものではなく、上記着色層形成用層の種類に応じて適宜選択される。このような紫外線としては、一般的な着色層形成用層を露光するために用いられる紫外線と同様のものとすることができ、例えば超高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ等が挙げられる。
本工程に用いることが可能なフォトマスクとしては、一般的な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造の際に使用されるものと同様とすることができる。
本工程における露光量は反射光用領域の着色層形成用層が適度に硬化する程度であれば特に限定しないが、30mJ/cm〜200mJ/cmの範囲が好ましく、中でも40mJ/cm〜200mJ/cmの範囲が好ましい。露光量が、上記を超える範囲では着色層形成用層の硬化が進み、目的とする膜厚差が得られないからである。また露光量が、上記に満たない範囲では、透明樹脂層上の着色層形成用層が硬化しない可能性があるためである。
なお、本工程における露光方法は、例えばフォトマスク等を用いることなく、透明基板側から、紫外線レーザーを照射する方法等であってもよい。
本工程の露光に有する時間については、反射光用領域の着色層形成用層が適度に硬化する程度であれば特に限定されないが、具体的には、1秒〜17秒の範囲内が好ましく、中でも1.5秒〜17秒の範囲内であることが好ましい。上記を超える範囲では着色層形成用層の硬化が進み、目的とする膜厚差が得られないからである。また上記に満たない範囲では、透明樹脂層上の着色層形成用層が硬化しない可能性があるためである。
3.現像工程
次に、本発明における現像工程について説明する。本発明における現像工程は、上記着色層形成用層を現像する工程である。
現像方法としては、不要な着色層形成用層を除去することが可能であれば、特に限定されるものではない。本工程に用いられる現像液や現像方法等については、一般的なカラーフィルタの製造の際に用いられる方法と同様の方法とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
本工程において、現像工程が終了した後の反射光用領域の着色層形成用層の膜厚および透過光用領域の着色層形成用層の膜厚としては、上記透明樹脂層の膜厚や、上記着色層形成用塗工液に含まれる固形分の含有量によっても異なるものであるが、上記反射光用領域の着色層形成用層の膜厚が、0.1μm〜1.8μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.2μm〜1.3μmの範囲内であることが好ましい。
また、本工程において、現像工程が終了した後の透過光用領域の着色層形成用層の膜厚と、反射光用領域の着色層形成用層の膜厚との比(透過光用領域/反射光用領域)としては、1.4〜7.0の範囲内であることが好ましく、中でも2.0〜3.3の範囲内であることが好ましい。透過光用領域の着色層形成用層の膜厚と、反射光用領域の着色層形成用層の膜厚との比が、上記範囲内であることにより、反射光用領域と透過光用領域との着色層形成用層の膜厚差をより大きなものにすることができ、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの反射光用領域の輝度を向上させることができるためである。
4.その他の工程
本発明は、上述した着色層形成用塗工液塗布工程、露光工程、および現像工程以外に必要な工程を適宜有していてもよい。例えば上記カラーフィルタ用基板を形成するカラーフィルタ用基板形成工程や、上記着色層上に配向膜を形成する配向膜形成工程、透明電極層を形成する透明電極層形成工程等が挙げられる。このような各工程については、一般的なカラーフィルタの製造方法の際に行なわれる方法と同様とすることができる。
B.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ
次に、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタについて説明する。
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、透明基板、および上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板と、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板と、上記透明樹脂層と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基板と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、上記透明樹脂層内に紫外線吸収剤を含むことを特徴とするものである。
図3に本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの一例を示す概略断面図を図示する。図3に示すように、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、透明基板1、および上記透明基板1上にパターン状に形成された紫外線吸収剤を含む透明樹脂層2を有するカラーフィルタ用基板11と、透明基板1および透明樹脂層2を覆うようにして形成された着色層3(この例では3色の着色層3B、3R、3G)とを有するものである。上記透明基板1と、上記透明樹脂層2と、上記着色層3とが積層された領域は反射光用領域として、上記透明基板1と、上記着色層3とが積層された領域は透過光用領域として用いられる。本発明のカラーフィルタは、透明基板1上に画素部を画定する遮光部4が形成されていてもよい。
本発明によれば、透明樹脂層内に紫外線吸収剤を含むことにより、上述した半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、裏面露光工程を行った場合、より効果的に露光紫外線を吸収し、透明樹脂層上の着色層を薄膜化することができる。
以下、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの各構成について詳細に説明する。
(1)カラーフィルタ用基板
透明基板、および上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するものである。
a.透明樹脂層
本発明における透明樹脂層は、透明基板上にパターン状に形成されるものであり、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタのうち、反射光用領域として用いられる領域に形成されるものである。
上記透明樹脂層は、上述した半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、裏面露光時に露光の紫外線の吸収をより効果的に行うため、材料である透明樹脂内に紫外線吸収剤を含むことを特徴とする。
上述した紫外線吸収剤を含む透明樹脂の紫外線透過率は、10%〜60%の範囲以内であることが好ましく、中でも10%〜50%の範囲内、特に10%〜40%の範囲内であることが好ましい。紫外線透過率が、上記の範囲を超える場合では前述した裏面露光工程において、透明樹脂層上の着色層形成用層が硬化しないおそれがあり、上記の範囲に満たない場合では反射光用領域と透過光用領域との着色層形成用層の硬化度に目的とする差異が得られない可能性が生じるためである。
ここでの紫外線透過率およびその測定方法については、「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
上記透明樹脂層の形状、材料である透明樹脂および紫外線吸収剤等については「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
b.透明基板
本発明における透明基板については、「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
(2)着色層
次に、本発明に用いられる着色層について説明する。本発明に用いられる着色層は、上記透明樹脂層および上記透明基板を覆うように形成され、反射光用領域および透過光用領域の各領域に形成されるものである。
本発明に用いられる着色層は、図3に例示するように、通常、赤色着色パターン3R、緑色着色パターン3G、および青色着色パターン3Bで形成される。また、上記着色層における着色パターン形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列とすることができ、着色面積は任意に設定することができる。
なお、本発明に用いられる着色層の材料については、「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」に記載したのでここでの説明は省略する。
本発明に用いられる着色層において、反射光用領域の着色層の膜厚および透過光用領域の着色層の膜厚としては、上記反射光用領域の着色層が、0.1μm〜1.6μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.2μm〜1.2μmの範囲内であることが好ましい。
また、本発明に用いられる着色層において、透過光用領域の着色層形成用層の膜厚と、反射光用領域の着色層形成用層の膜厚との比(透過光用領域/反射光用領域)としては、1.4〜7.0の範囲内であることが好ましく、中でも2.0〜3.3の範囲内であることが好ましい。透過光用領域の着色層形成用層の膜厚と、反射光用領域の着色層形成用層の膜厚との比が、上記範囲内であることにより、反射光用領域と透過光用領域との着色層の膜厚差をより大きなものにすることができ、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの反射光用領域の輝度を向上させることができるためである。
(3)その他
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、上記透明基板、透明樹脂層および着色層以外にも、例えば、遮光部、オーバーコート層や透明電極層、更には配向膜や柱状スペーサ等が形成されたものであってもよい。
なお、本発明における遮光部については、「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に掲載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。
[実施例1]
(感光性樹脂層形成工程)
透明基板として300mm×400mm、厚さ0.7mm、i線透過率91%のガラス基板(コーニング社製1317ガラス)を準備し、この基板を定法にしたがって洗浄した。この透明基板上に下記に示す成分組成に従って調製した透明樹脂を塗布した。
(透明樹脂層形成用感光性樹脂組成物)
・メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体 40重量部
・エピコート180s70(ジャパンエポキシレジン(株)) 17重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 30重量部
・イルガギュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) 8重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 286重量部
・TINUVIN152(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) 20重量部
次に、80℃のホットプレート上にて180秒間加熱を行った後、プロキシミティ露光機(株式会社トプコン社製 TME−400R)にて所定のフォトマスクを用いて感光性樹脂層側から露光を行った。フォトマスクは石英ガラス製であり、表面の酸化クロム膜上に所定のパターンが描画してあるものを使用した。高圧水銀ランプを光源とし、条件は、露光量150mJ/cm2(波長365nm)とした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。これにより、線幅40μm、膜厚3.0μmの透明樹脂層を形成した。
(着色層形成工程)
上記透明基板上に下記に示す成分組成に従って調製した緑色着色層樹脂を塗布した。
(緑色着色層形成用感光性樹脂組成物)
・緑色顔料(アビシア社製 モナストラルグリーンθY−C) 4.2重量部
・黄色顔料(BASF社製 パリオトールイエローD1819) 1.8重量部
・分散材(ビックケミー社製 ディスパービック161) 3.0重量部
・モノマー(サートマー社製SR399) 4.0重量部
・ポリマーII 5.0重量部
・イルガキュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) 1.4重量部
・(2,2’ビス(o-クロロフェニル)-4,5,4',5'-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール) 0.6重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 80.0重量部
次に、80℃のホットプレート上にて180秒間加熱を行った後、プロキシミティ露光機にて所定のフォトマスクを用いて透明基板側から露光を行った。条件は、露光量150mJ/cm2(波長365nm)とした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。
反射光用着色層の膜厚は、1.1μm、透過光用着色層の膜厚は2.1μmであった。また、透過光用領域の着色層形成用層の膜厚と、反射光用領域の着色層形成用層の膜厚との比(透過光用領域/反射光用領域)としては1.9であった。
[比較例1]
(感光性樹脂層形成工程)
下記組成の透明樹脂層形成用感光性樹脂組成物を用いて、実施例1と同様の操作により、透明樹脂層を形成した。これにより、線幅40μm、膜厚3.0μmの透明樹脂層を形成した。
(透明樹脂層形成用感光性樹脂組成物)
・メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体 42重量部
・エピコート180s70(ジャパンエポキシレジン(株)) 18重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 32重量部
・イルガギュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) 8重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 300重量部
(着色層形成工程)
実施例1と同様成分組成の緑色着色層樹脂を塗布し、80℃のホットプレート上にて180秒間加熱を行った。プロキシミティ露光機にて所定のフォトマスクを用いて感光性樹脂層側から露光を行った。条件は、露光量150mJ/cm2(波長365nm)とした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。
反射光用着色層の膜厚は、1.6μm、透過光用着色層の膜厚は2.1μmであった。また、透過光用領域の着色層形成用層の膜厚と、反射光用領域の着色層形成用層の膜厚との膜厚比(透過光用領域/反射光用領域)としては1.3であった。
実施例1および比較例1のそれぞれの反射光用着色層、透過光用着色層、および膜厚比(透過光用領域/反射光用領域)を表1に示す。
Figure 2009276552
以上、実施例1では、比較例1と比較して反射光用領域の着色層の薄膜化が可能となった。
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。 本発明における裏面露光工程の一例を示す工程図である。 本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの一例を示す概略断面図である。
符号の説明
1…透明基板
2…透明樹脂層
2'… 紫外線吸収剤を含む透明樹脂層
3…着色層
3'…着色層形成用層
4…遮光部
5…フォトマスク
6…紫外線
11…カラーフィルタ用基板

Claims (3)

  1. 透明基板、および前記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板と、前記透明基板および前記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、前記透明基板と、前記透明樹脂層と、前記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、前記透明基板と、前記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、
    前記透明基板および前記透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する着色層形成用塗工液塗布工程と、前記着色層形成用層を前記透明基板側から紫外線照射して露光する裏面露光工程と、前記着色層形成用層を現像する現像工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
  2. 前記透明樹脂層における紫外線の透過率が10%〜60%の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
  3. 透明基板、および前記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板と、前記透明基板および前記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、前記透明基板と、前記透明樹脂層と、前記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、前記透明基板と、前記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、
    前記透明樹脂層内に紫外線吸収剤を含むことを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ。
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