JP2009276114A - 干渉計 - Google Patents

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Abstract

【課題】
ゴースト光の影響を抑制した高精度の干渉計を提供する。
【解決手段】
光源装置1からの光をリファレンス光及び測定光に分割するPBS2と、PBS2で分割されて第1の方向から入射するリファレンス光を反射するリファレンスミラー4aと、PBS2で分割されて第2の方向から入射する測定光を反射する測定ミラー4bと、PBS2を介して、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bからの反射光を入射するレンズ系6と、レンズ系6からの光を反射する反射素子5と、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bのそれぞれに二度照射して合波された光を受光する受光素子16とを有し、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bは、反射素子5と共役関係にあり、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bの少なくとも一つは、その法線方向が第1の方向及び第2の方向とは異なるように傾いて配置されている。
【選択図】図1B

Description

本発明は干渉計に係り、特に、リファレンスミラー及び測定ミラーのそれぞれで二度反射した光から被測定物の変位情報を得るダブルパス干渉計に関する。
従来から、物体の変位を測定しステージの制御、様々な測長をする装置として、高精度、高分解能な特徴から、レーザー干渉計が使用されてきた。
図3は、従来の干渉計の構成図である。光源10から出射した波長λ(λ=633nm)のレーザー光110は、PBS20(偏光ビームスプリッタ)に入射し、PBS面20pでリファレンス光120aと測定光120bに分割される。リファレンス光120aは、リファレンスミラー40aで反射され、元の光路を通って再びPBS20に入射する。このとき、1/4λ板30aを2回透過することで、P波がS波に変換される。このため、今度はPBS面20pで透過してリファレンス光130aとなり、反射素子50に入射する。
一方、測定光120bは、測定ミラー40bで反射され、元の光路を通って再びPBS20に入射する。このとき、測定光120bの光束は、1/4λ板30bを二回透過することにより、S波がP波に変換されるため、今度はPBS面20pで反射され、光束130bとなり、リファレンス光130aと同様に、反射素子50に入射する。
その後、リファレンス光130aは再びPBS20を透過してリファレンス光140aとなり、測定光130bは再びPBS20を反射して測定光140bとなる。リファレンス光140a及び測定光140bは、それぞれ、1/4λ板30a、30bを二回透過する。PBS20に再び入射したリファレンス光140a及び測定光140bは、合波されて合波光150となる。合波光150を受光素子160で受光することにより、測定ミラー40bの変位に応じた1/4λ周期の干渉信号が得られる。
特開2006−112974号公報
図3に示されるように、従来の一般的な干渉計では、光路中に多数の反射面が存在する。境界面210bで反射した成分は、通常の測定光と同様の光路をたどり、最終的には合波光150と重なる。この反射成分は、測定ミラー40bの移動によって変調されるが、測定ミラー40bに一回のみの反射で到達している。境界面210a、210aa、210bbについても同様である。このため、変調量は通常の反射成分の半分であり、1/2λ周期の干渉信号(ゴースト光信号)として得られることになる。
例えば、境界面210bにおけるARコート(反射防止膜)の反射率を0.2%とすると、境界面210bで反射したゴースト光から生じる干渉信号は、波動光学的には主信号の干渉強度と比較して、約9%もの干渉強度となる。仮に0.01%の超低反射ARコートを施したとしても、2.5%の干渉強度となる。
図4(a)は理想的干渉信号の波形であり、図4(b)は1/2λ周期誤差が重畳された干渉信号の波形である。図4(b)に示される干渉信号は、ダブルパス干渉計のゴースト光に起因する誤差を含んだ周期信号である。
受光素子160から出力された電気信号は、全てのゴースト光に起因する正弦波信号が重畳されている。このため、従来の干渉計で得られる干渉信号は、図4(b)に示されるような波形となる。
図5は、受光素子の出力(センサ変位出力)と被測定物の変位との関係を示す図である。
通常は、被測定物の変位に応じて変調された正弦波周期信号を電気分割することにより、サブnmの分解能を得ることができる。しかし、ゴースト光に起因する成分が重畳されている場合、図5に示されるように、被測定物の変位に対するセンサ変位出力のリニアリティが悪化する。すなわち、センサ変位出力と被測定物の変位との間には内挿誤差が含まれる。この誤差量は数〜数十nmに達するため、超高精度用途の干渉計では大きな問題となる。
そこで本発明は、ゴースト光の影響を抑制した高精度の干渉計を提供する。
本発明の一側面としての干渉計は、光源装置からの光をリファレンス光及び測定光に分割する光分割素子と、前記光分割素子で分割されて第1の方向から入射する前記リファレンス光を反射するリファレンスミラーと、前記光分割素子で分割されて第2の方向から入射する前記測定光を反射する測定ミラーと、前記光分割素子を介して、前記リファレンスミラーからの反射光及び前記測定ミラーからの反射光を入射する光学系と、前記反射光をそれぞれ前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーに再照射するため、前記光学系からの光を反射する反射素子と、前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーのそれぞれに二度照射して合波された光を受光する受光素子とを有し、前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーは、前記反射素子と共役関係にあり、前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーの少なくとも一つは、その法線方向が前記第1の方向及び前記第2の方向とは異なるように傾いて配置されている。
本発明のその他の目的及び特徴は、以下の実施例において説明される。
本発明によれば、ゴースト光の影響を抑制した高精度の干渉計を提供することができる。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
本実施例の干渉計は、物体(被測定物)の変位情報を光の位相情報として検出し、この光の位相情報を電気信号に変換することにより物体の変位情報を得る干渉計である。
図1Aは、本実施例における干渉計の構成を示す上面図である。また、図1Bは、本実施例における干渉計の構成を示す正面図である。
1は光源(光源装置)である。光源1は、波長λ(λ=633nm)を有するレーザー光11(コリメート光束)を射出する。ただし、レーザー光11の波長λはこれに限定されるものではく、他の波長を有するレーザー光を出射するものであってもよい。
2はPBS(偏光ビームスプリッタ)である。PBS2は、入射光の偏光成分に従って光束を二つに分割する光分割素子である。図1Aの上面図において、光源1から射出したレーザー光11は、角度α(例えば、α=5°)でPBS2に入射する。PBS2はPBS面2p(偏光ビームスプリッタ面)を有し、このPBS面2pにおいて、PBS2への入射光は、リファレンス光12a及び測定光12bに分割される。なお、図1Aの上面図はPBS面2pの平面を見た図であり、図1Bの正面図はPBS面2pの断面を見た図である。
4aはリファレンスミラーであり、4bは測定ミラーである。光源1からPBS2へ入射した光は、その一部の光がPBS面2pにおいて第1の方向に反射し、リファレンス光12aとして、リファレンスミラー4aに入射する。また、PBS2への入射光の他の一部は、PBS面2pを透過して、測定光12bとして第2の方向から測定ミラー4bに入射する。図1Bに示されるように、リファレンスミラー4aは、PBS2で分割されて第1の方向から入射するリファレンス光12aを反射する。同様に、測定ミラー4bは、PBS2で分割されて第2の方向から入射する測定光12bを反射する。測定ミラー4bは、被測定物に取り付けられる。測定ミラー4b(被測定物)が光軸方向(第2の方向)に変位することにより、測定光12bの位相情報が変化する。リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bは、後述の反射素子5と共役関係にある。
リファレンスミラー4aは、そのミラー面の法線方向がPBS面2pで反射したリファレンス光12aの光軸方向(第1の方向)とは異なるように、角度θだけ傾いて配置されている。同様に、測定ミラー4bは、そのミラー面の法線方向がPBS面2pを透過した測定光12bの光軸方向(第2の方向)とは異なるように、角度θだけ傾いて配置されている。本実施例において、角度θは例えば0.5°に設定される。なお、本実施例の説明において、角度θは、図1Bの正面図で見た場合における、第1の方向とリファレンスミラー面の法線方向とのなす角度、及び、第2の方向と測定ミラー面の法線方向とのなす角度である。
このため、リファレンスミラー4aで反射した後のリファレンス光13aは、リファレンスミラー4aに入射する前のリファレンス光12aに対して角度2θだけ傾いた光束となる。同様に、測定ミラー4bで反射した後の測定光13bは、測定ミラー4bに入射する前の測定光12bに対して角度2θだけ傾いた光束となる。
6はレンズ系(光学系)である。リファレンスミラー4aで反射したリファレンス光13aは、PBS面2pで反射し、レンズ系6に角度2θで入射する。同様に、測定ミラー4bで反射した測定光13bは、PBS面2pを透過し、レンズ系6に角度2θで入射する。このように、レンズ系6(光学系)は、PBS2を介して、リファレンスミラー4aからの反射光(リファレンス光13a)及び測定ミラー4bからの反射光(測定光13b)を入射する。図1Bの正面図に示されるように、レンズ系6は、角度2θで入射したリファレンス光13a及び測定光13bを元の角度(光源1からのレーザー光11同一の方向)に変更する。
なお、本実施例では、リファレンス光13a及び測定光13bを入射する光学系としてレンズ系6が用いられているが、これに限定されるものではない。レンズ系6の代わりに反射系を用いることもできる。
本実施例では、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bは、レンズ系6における反射光それぞれの通過位置がレンズ系6の中心軸に対して対称位置になるように配置されている。すなわち、図1Bに示されるように、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bの両方を基準位置から右周りに角度θだけ傾け、レンズ系6に入射するリファレンス光13aと測定光13bの各光束の高さが上下対称になるように構成している。
ただし、これに限定されるものではなく、リファレンスミラー4aの角度を測定ミラー4bの角度とは異なる角度に設定することや、これらのミラーを互いに異なる方向に傾けてもよい。また、本実施例では、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bの少なくとも一つが傾いて配置されていればよい。このとき、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bの少なくとも一つの法線方向は、第1の方向及び第2の方向に対して傾いていることになる。
5は反射素子である。レンズ系6に角度2θで入射したリファレンス光13a及び測定光13bは、図1Bの正面図に示されるように、レンズ系6で屈折して互いに平行な光になる。そして、反射素子5は、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bからの反射光(リファレンス光13a、測定光13b)をそれぞれリファレンスミラー4a及び測定ミラー4bに再照射するため、レンズ系6からの互いに平行な光を反射する。
反射素子5は、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bと共役関係にある。このため、リファレンス光13a及び測定光13bは、図1Bの正面図において、光源1からのレーザー光11と平行であり、反射素子5でこの角度を維持するように反射される。反射素子5で反射した光束は、レンズ系6及びPBS2を通って、再び、リファレンスミラー4a又は測定ミラー4bのいずれかに照射する。
16は受光素子(光検出器)である。受光素子16は、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bのそれぞれに二度照射して合波された合波光15を受光する。合波光15はレーザー光11と同じ角度で受光素子16に入射する。
このように、合波光15(ダブルパス干渉計における本来の光束)は受光素子16にレーザー光11と同一の角度で入射する。このため、受光素子16の全面に一様な明滅を繰り返す最大1/4λ周期の干渉信号となる。
次に、本実施例の干渉計で発生する迷光(ゴースト光)について説明する。
本実施例において、反射素子5から戻った光束であるリファレンス光13a及び測定光13bに関して考える。リファレンス光13a及び測定光13bがPBS2に入射した後、その一部は、PBS2(プリズム)と空気との境界面21aa、21bbのARコート面(反射防止膜面)でそれぞれ反射する。境界面21aa、21bbのARコート面で反射したゴースト光15a、15bは、主光束(リファレンス光、測定光)と同様に、受光素子16に入射して干渉信号を発生させる。
しかし、ゴースト光15a、15bは、図1Bの正面図において、合波光15の方向に対してそれぞれ角度2θだけ傾いた角度で受光素子16に入射する。このため、受光素子16の受光領域(受光面)には、所定のピッチpを有する干渉縞が発生する。干渉縞のピッチpは、波長λと角度θを用いて、式(1)で表される。
図2は、受光素子16の受光領域において現れる干渉縞の一例である。図2の右側の「明」と左側の「暗」は、いずれも、受光素子16の受光領域に現れる干渉縞を示している。測定ミラー4bを変位させることにより、受光領域に現れる干渉縞は、図2に示される「明」と「暗」を繰り返す。この周期は波長λに依存し、例えば、波長λが850nmの光を用いて測定ミラー4bを200nm程度変位させると、「明」から「暗」に変化する。
本実施例では、図2に示されるように、式(1)で表されるピッチpを有する干渉縞が得られる。この干渉縞はゴースト光に起因するものである。このため、受光素子16の受光領域が、ピッチPに比較して十分大きければ、受光素子16で検出される光量が平均化される(平均化効果)ことにより、内挿誤差を十分低減させることができ、センサ変位出力の直線性を向上させることが可能となる。
例えば、境界面21aaで反射したゴースト光15aの干渉縞強度が、主光束の干渉縞強度に比較して、従来例で述べたように9%程度発生した場合を考える。このとき、重厚領域がφ2mm、リファレンスミラー4a及び測定ミラー4bの傾き角度θを0.5°とすると、ゴースト光を起因として発生する干渉パターンは、ピッチpが36μmの縞模様となる。電気信号に重畳されるゴースト光を起因とした1/2λ周期の信号の割合は、主信号の0.16%だけである。これは、リニアリティとしては±0.04nmの悪化に過ぎず、サブnmレベルの超高精度測長においても全く問題の無いレベルまで誤差を低下させることができる。以上の点については、その他の境界面21b、21bb、21aでも同様の効果がある。このため、これら4ヶ所の境界面全ての悪化要因を足し合わせたとしても、±0.16nmの周期的誤差が発生するに過ぎない。従って、極めて高精度な測長が可能となる。
本実施例において、受光素子16の受光領域が直径Dの円であるとすると、ピッチpが直径Dより小さくなるように設定すればよい。また、sin2θは1以下であるから、ピッチpが波長λより小さくなることはない。従って、ピッチpを式(2)で表される範囲に設定することにより、本実施例における平均化効果を得ることができる。
また、リファレンスミラー4aとPBS2との間の距離x、及び、測定ミラー4bとPBS2との間の距離rを等しくすれば、リファレンス光及び測定光の波動光学的等光路位置となる。このため、ガラス光路中を通過する光路長と空気中を通過する光路長とが一致する。
このため、気圧、気温、湿度等の空気屈折率に関係する雰囲気の状態変化に影響されること無く、長期的に安定した測定が可能となる。
本実施例における光源装置(光源1)は、コリメート光を発生させる装置であるが、これに限定されるものではない。例えば、コリメート光を発生させる光源の代わりに発散光源を用いた場合でも、発散光束をコリメートするコリメート手段としてのレンズ系を用いることにより、光源1と同様の効果を得ることができる。このとき、コリメート手段としてのレンズ系と、本実施例におけるレンズ系6を共通化する(すなわち、レンズ系6が光源装置の一部を構成する)ことにより、簡便な構成で光源1と同様の効果を得ることができる。このとき、発散光源からの光は、レンズ系6によりコリメート光に変更され、PBS2に入射する。
本実施例の干渉計によれば、リファレンスミラー及び/又は測定ミラーが常に傾いた状態で設置される。このため、リファレンスミラーで1回、測定ミラーで1回反射したゴースト光は、リファレンスミラーで2回反射した光束、測定光で2回反射した光束とは異なった角度で合波される。よって、受光素子上では多数の干渉縞(干渉パターン)が現れ平均化され、誤差量は大幅に改善される。また、リファレンスミラーで2回、測定ミラーで2回反射した本来の光束は、それぞれ同一の角度で合波される。このため、均一な干渉状態となり、最大の干渉強度を得ることができる。
従って、本実施例によれば、ゴースト光の影響を抑制した高精度の干渉計を提供することができる。
以上、本発明の実施例について具体的に説明した。ただし、本発明は上記実施例として記載された事項に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。例えば、本実施例ではマイケルソン干渉計について説明したが、これに限定されるものではなく、フィゾー干渉計など他の干渉計に適用することもできる。
本実施例における干渉計の構成を示す上面図である。 本実施例における干渉計の構成を示す正面図である。 本実施例における受光素子の受光領域において現れる干渉縞の一例である。 従来のダブルパス干渉計の構成図である。 (a)理想的干渉信号の波形、(b)1/2λ周期誤差が重畳された干渉信号の波形である。 従来のダブルパス干渉計におけるセンサ変位出力と被測定物の変位との関係を示す図である。
符号の説明
1:光源
2:PBS
2p:PBS面
4a:リファレンスミラー
4b:測定ミラー
5:反射素子
6:レンズ系
11:レーザー光
12a、13a:リファレンス光
12b、13b:測定光
15:合波光
15a、15b: ゴースト光
16:受光素子
21a、21aa、21b、21bb:境界面

Claims (6)

  1. 光源装置からの光をリファレンス光及び測定光に分割する光分割素子と、
    前記光分割素子で分割されて第1の方向から入射する前記リファレンス光を反射するリファレンスミラーと、
    前記光分割素子で分割されて第2の方向から入射する前記測定光を反射する測定ミラーと、
    前記光分割素子を介して、前記リファレンスミラーからの反射光及び前記測定ミラーからの反射光を入射する光学系と、
    前記反射光をそれぞれ前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーに再照射するため、前記光学系からの光を反射する反射素子と、
    前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーのそれぞれに二度照射して合波された光を受光する受光素子と、を有し、
    前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーは、前記反射素子と共役関係にあり、
    前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーの少なくとも一つは、その法線方向が前記第1の方向及び前記第2の方向とは異なるように傾いて配置されていることを特徴とする干渉計。
  2. 前記リファレンスミラーは、その法線方向が前記第1の方向とは異なるように傾いて配置され、
    前記測定ミラーは、その法線方向が前記第2の方向とは異なるように傾いて配置されていることを特徴とする請求項1記載の干渉計。
  3. 前記光学系は、前記リファレンスミラーからの反射光及び前記測定ミラーからの反射光の方向を、前記光源装置からの光と同一の方向に変更することを特徴とする請求項1又は2記載の干渉計。
  4. 前記光学系はレンズ系であり、
    前記光源装置は発散光源を有し、
    前記発散光源からの光は、前記レンズ系によりコリメート光に変更され、前記光分割素子に入射することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載の干渉計。
  5. 前記リファレンスミラー及び前記測定ミラーは、前記光学系における前記反射光それぞれの通過位置が該光学系の中心軸に対して対称位置になるように傾いていることを特徴とする請求項2記載の干渉計。
  6. 前記受光素子の受光領域に現れる干渉縞のピッチは、該受光領域の直径より小さいことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載の干渉計。
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