JP2009272472A - Substrate storage container - Google Patents
Substrate storage container Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009272472A JP2009272472A JP2008122055A JP2008122055A JP2009272472A JP 2009272472 A JP2009272472 A JP 2009272472A JP 2008122055 A JP2008122055 A JP 2008122055A JP 2008122055 A JP2008122055 A JP 2008122055A JP 2009272472 A JP2009272472 A JP 2009272472A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- support
- container body
- substrate storage
- storage container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、φ450mm以上の半導体ウェーハを収納する基板収納容器に関するものである。 The present invention relates to a substrate storage container for storing a semiconductor wafer having a diameter of 450 mm or more.
薄く丸い半導体ウェーハは、φ200mmや300mmが主流であるが、多数のICチップを得る観点からφ450mmの開発が検討され、これに伴い、φ450mm用の基板収納容器についても世界中で議論され、規格化・標準化が進行しつつある。 For thin and round semiconductor wafers, φ200mm and 300mm are the mainstream. However, development of φ450mm was studied from the viewpoint of obtaining a large number of IC chips, and accordingly, substrate storage containers for φ450mm were also discussed and standardized around the world.・ Standardization is progressing.
係るφ450mmの半導体ウェーハを収納する基板収納容器は、φ300mmの半導体ウェーハを収納するタイプ(特許文献1、2参照)に準じ、容器本体の正面部が開口したフロントオープンボックスに成形され、容器本体の内部両側には、半導体ウェーハ用の支持片が複数対設されるが、各支持片が半導体ウェーハを支持する際、半導体ウェーハ裏面の周縁部ではなく、半導体ウェーハ裏面の周縁部を除く内側領域に接触することが求められる。
φ450mmの半導体ウェーハ用の基板収納容器は、以上のように、支持片に、半導体ウェーハ裏面の周縁部を除く内側領域に接触することが求められるので、φ300mmの半導体ウェーハを収納するタイプをそのまま流用することができず、何らかの解決手段が求められる。また、容器本体と支持片とは通常一体成形されるので、解決手段には、支持片の成形性に悪影響を及ぼさないこと、具体的にはアンダーカット等の問題が生じないことが望まれる。 As described above, since the substrate storage container for a φ450 mm semiconductor wafer is required to contact the inner side of the backside of the semiconductor wafer except for the peripheral portion of the semiconductor wafer, the type that stores the φ300 mm semiconductor wafer can be used as it is. It cannot be done, and some solution is required. In addition, since the container body and the support piece are usually integrally formed, it is desirable that the solution means that the formability of the support piece is not adversely affected, and specifically, problems such as undercut do not occur.
本発明は上記に鑑みなされたもので、直径が450mm以上の半導体ウェーハの裏面の周縁部を除く内側領域に支持片を接触させることができ、支持片が成形される場合に成形性に悪影響を及ぼすことのない基板収納容器を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above, and the support piece can be brought into contact with the inner region excluding the peripheral edge of the back surface of the semiconductor wafer having a diameter of 450 mm or more, and when the support piece is molded, the moldability is adversely affected. It aims at providing the substrate storage container which does not exert.
本発明においては上記課題を解決するため、直径が450mm以上の半導体ウェーハを収納する容器本体を、正面部が開口したフロントオープンボックスに構成し、この容器本体の内部両側に、半導体ウェーハ用の支持片をそれぞれ設けたものであって、
支持片に切り欠きを形成し、この切り欠きに、半導体ウェーハの裏面の周縁部を除く内側領域に接触する支持ピンを後から取り付けたことを特徴としている。
In the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, a container main body that accommodates a semiconductor wafer having a diameter of 450 mm or more is configured as a front open box having an open front portion. Each with a piece,
A cutout is formed in the support piece, and a support pin that comes into contact with an inner region excluding the peripheral edge portion of the back surface of the semiconductor wafer is attached to the cutout later.
なお、容器本体の開口した正面部に嵌合される蓋体を備え、この蓋体の半導体ウェーハに対向する対向面に、半導体ウェーハの周縁部を接触保持するリテーナを設けることができる。
また、容器本体の内部背面に、半導体ウェーハの周縁部後端に接触する弾性片を取り付けることができる。
In addition, it is possible to provide a retainer that includes a lid fitted to the opened front portion of the container body, and that holds the peripheral edge of the semiconductor wafer in contact with the opposing surface of the lid facing the semiconductor wafer.
Moreover, the elastic piece which contacts the peripheral part rear end of a semiconductor wafer can be attached to the inner back surface of a container main body.
また、容器本体の内部両側の後方に、半導体ウェーハ用の突き当て壁を設けることができる。
また、突き当て壁の半導体ウェーハに接触する接触部には、半導体ウェーハを支持する複数の凹凸を配列することが可能である。
In addition, abutting walls for semiconductor wafers can be provided behind both sides of the inside of the container body.
Moreover, it is possible to arrange the several unevenness | corrugation which supports a semiconductor wafer in the contact part which contacts the semiconductor wafer of an abutting wall.
ここで、特許請求の範囲における半導体ウェーハは、容器本体に単数複数の必要枚数が収納される。この容器本体は、必要に応じ、透明、半透明、不透明に構成される。また、容器本体と支持片とは、樹脂を含む成形材料を用いて一体成形されるのが一般的である。弾性片は、板バネが主ではあるが、樹脂製やゴム製のリテーナ等でも良い。 Here, the required number of semiconductor wafers is stored in the container main body in the claims. The container body is configured to be transparent, translucent, or opaque as required. Further, the container body and the support piece are generally integrally molded using a molding material containing a resin. The elastic piece is mainly a leaf spring, but may be a resin or rubber retainer.
本発明によれば、直径が450mm以上の半導体ウェーハの裏面の周縁部を除く内側領域に、支持片の切り欠きに後付けされた支持ピンが接触することにより半導体ウェーハを支持する。 According to the present invention, the semiconductor wafer is supported by contacting the support pins retrofitted to the notches of the support piece with the inner region excluding the peripheral edge of the back surface of the semiconductor wafer having a diameter of 450 mm or more.
本発明によれば、支持片に切り欠きを形成し、この切り欠きに、半導体ウェーハの裏面の周縁部を除く内側領域に接触する支持ピンを後付けするので、直径が450mm以上の半導体ウェーハの裏面の周縁部を除く内側領域に支持片を接触させることができ、例え支持片が成形される場合にも、成形性に悪影響を及ぼすことが少ないという効果がある。 According to the present invention, a notch is formed in the support piece, and the support pin that comes into contact with the inner region excluding the peripheral edge of the back surface of the semiconductor wafer is retrofitted to the notch, so that the back surface of the semiconductor wafer having a diameter of 450 mm or more is provided. The support piece can be brought into contact with the inner region excluding the peripheral edge of the sheet, and even when the support piece is molded, there is an effect that the moldability is hardly adversely affected.
また、容器本体の内部背面に、半導体ウェーハの周縁部後端に接触する弾性片を取り付ければ、この弾性片により、半導体ウェーハを容器本体の正面部方向に付勢することができるので、半導体ウェーハの容器本体との接触に伴う不具合を防ぐことができる。
さらに、容器本体の内部両側の後方に、半導体ウェーハ用の突き当て壁を設ければ、半導体ウェーハと突き当て壁との接触により、半導体ウェーハの前後方向への位置ずれを抑制することができる。
In addition, if an elastic piece that contacts the rear end of the peripheral edge of the semiconductor wafer is attached to the inner back surface of the container body, the semiconductor wafer can be biased toward the front portion of the container body by the elastic piece. The trouble accompanying the contact with the container body can be prevented.
Furthermore, if a semiconductor wafer abutment wall is provided behind both sides of the inside of the container main body, positional displacement of the semiconductor wafer in the front-rear direction can be suppressed by contact between the semiconductor wafer and the abutment wall.
以下、図面を参照して本発明に係る基板収納容器の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における基板収納容器は、図1ないし図9に示すように、φ450mmの半導体ウェーハ1を収納するフロントオープンボックスの容器本体10と、この容器本体10の開口した正面部に着脱自在に嵌合される蓋体30とを備え、容器本体10の内部に、半導体ウェーハ1用の支持片15をそれぞれ対設し、各支持片15に切り欠き16を形成して切り欠き16には、半導体ウェーハ1裏面の周縁部2を除く内側領域3に接触する支持ピン17を後付けするようにしている。
Hereinafter, a preferred embodiment of a substrate storage container according to the present invention will be described with reference to the drawings. The substrate storage container in this embodiment is a front for storing a
半導体ウェーハ1は、図6や図7に示すように、例えば薄く丸いφ450mmのシリコンタイプからなり、周縁部2に位置合わせや識別用のノッチが平面略半円形に選択的に形成される。この半導体ウェーハ1は、図示しない専用のロボットにより、容器本体10に水平に挿入して収納されたり、取り出される。
As shown in FIGS. 6 and 7, the
容器本体10は、図1、図2、図6ないし図8に示すように、成形用の金型に所定の樹脂を含む成形材料が射出されることにより、25枚の半導体ウェーハ1を上下に並べて整列収納するフロントオープンボックスタイプに射出成形され、開口した正面部に同形の蓋体30がエンドレスのガスケットを介し着脱自在に嵌合されており、必要に応じて搬送用の嵌合保持体11に着脱自在に嵌合される。
As shown in FIGS. 1, 2, 6 to 8, the
容器本体10を成形する成形材料の所定の樹脂としては、例えば力学的性質、耐熱性、寸法安定性等に優れるポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート等があげられる。これらの樹脂には、必要なカーボン、カーボン繊維、金属繊維、カーボンナノチューブ、帯電防止剤、難燃剤等が選択的に添加される。
Examples of the predetermined resin of the molding material for molding the
容器本体10の内部背面の略中央には図7や図8に示すように、半導体ウェーハ1の周縁部後端に弾接する複数の板バネ12が棒形の取付片13を介し上下方向に並べて装着され、この可撓性を有する複数の板バネ12が容器本体10から蓋体30が取り外された際に半導体ウェーハ1を容器本体10の正面部前方に突出付勢したり、半導体ウェーハ1の容器本体10との直接接触に伴う欠けや割れ等の不具合を防止するよう機能する。各板バネ12は、上下方向に指向する取付片13から水平方向に伸びる細長い線条に形成され、先端部には半導体ウェーハ1の周縁部後端を保持する保持部14が一体形成される。
As shown in FIG. 7 and FIG. 8, a plurality of
容器本体10の内部、具体的には相対向する内部両側には図7ないし図9に示すように、半導体ウェーハ1の周縁部側方に下方向から対向する一対の支持片15が水平に対設され、この一対の支持片15が容器本体10の上下方向に間隔をおいて複数配列される。各支持片15は、同図に示すように、内側が平面略半円弧形に湾曲した平坦な板形に形成され、内側の前後部に平面半円形あるいは半楕円形等の切り欠き16がそれぞれ切り欠き形成される。
As shown in FIG. 7 to FIG. 9, a pair of
各切り欠き16には、半導体ウェーハ1裏面の周縁部2を除く内側領域3に下方から点接触する支持ピン17が所定の方法、例えば超音波融着法やカシメ等の方法により後から一体化される。各支持ピン17は、図9に示すように、例えばポリエーテルエーテルケトン等からなる成形材料を用い、上部が丸まった短いピン形や断面略茸形に成形されており、半導体ウェーハ1の裏面に上部が点接触して半導体ウェーハ1を水平に支持するよう機能する。
In each
容器本体10の内部両側の後方には図7に示すように、支持片15の後方に位置する半導体ウェーハ1用の突き当て壁18がそれぞれ一体成形され、各突き当て壁18の平面視で先細りの先端部が半導体ウェーハ1の周縁部側方に接触する接触部19に形成される。この接触部19には、半導体ウェーハ1の周縁部側方を支持する複数の凹凸20が間隔をおいて上下方向に配列形成され、この複数の凹凸20が半導体ウェーハ1の撓みにかかわらず、半導体ウェーハ1を確実に保持したり、半導体ウェーハ1の上下方向へのがたつきを有効に規制する。
As shown in FIG. 7, the
複数の凹凸20は、例えば縦一列や千鳥形等に並べられ、凹部を上下から挟む複数の凸部がブロック形、円錐台形、角錐台形、半球形、半楕球形等に形成される。また、容器本体10の底面には、断面略V字形の位置決め具21が間隔をおいて複数配設され、この複数の位置決め具21が図示しない半導体加工装置の位置決めピンに上方から嵌合して容器本体10を位置決めする。
The plurality of irregularities 20 are arranged in, for example, a vertical row or a staggered pattern, and a plurality of convex portions sandwiching the concave portions from above and below are formed in a block shape, a truncated cone shape, a truncated pyramid shape, a hemispherical shape, a semi-elliptical shape, and the like. A plurality of
蓋体30は、図1、図2、図6に示すように、容器本体10の開口した正面部に着脱自在に嵌合される筐体31と、この筐体31の開口した表面を覆う表面プレート32とを備え、筐体31の中央部には、収納された半導体ウェーハ1の周縁部前端を接触保持するフロントリテーナ33が設けられる。筐体31の周縁部あるいは裏面周縁部には、容器本体10の正面部内に圧接する弾性変形可能なガスケットが嵌合される。
As shown in FIGS. 1, 2, and 6, the
上記によれば、支持片15に支持ピン17が一体化されるので、半導体ウェーハ1裏面の内側領域3に複数の支持ピン17を適切に接触させることができ、φ450mm用の基板収納容器の規格化・標準化の要件を満たすことができる。また、支持片15と支持ピン17とが一体成形されるのではなく、成形後の支持片15に支持ピン17が後から設けられるので、容器本体10と支持片15の成形の自由度が向上し、これらの一体成形に何ら支障を来たすことがない。
According to the above, since the
また、支持ピン17の後付けにより、支持ピン17の材料選定の自由度が著しく高まり、しかも、支持ピン17の高さを個別、かつ容易に調整してロボットの作業を円滑化することができる。さらに、左右の支持片15の後方に突き当て壁18がそれぞれ位置するので、簡易な構成で半導体ウェーハ1の前後方向へのがたつきや位置ずれを抑制防止することができる。
Further, the retrofit of the support pins 17 remarkably increases the degree of freedom in selecting the material of the support pins 17, and the height of the support pins 17 can be adjusted individually and easily to facilitate the work of the robot. Furthermore, since the abutting
なお、上記実施形態ではφ450mmの半導体ウェーハ1を示したが、何らこれに限定されるものではない。例えば、φ450mmを超える大きさの半導体ウェーハ1でも良い。また、容器本体10の天井には、搬送用の複数の螺子孔を穿孔したり、搬送用のフランジを着脱自在に取り付けても良い。また、内側が平面略半円弧形の支持片15を示したが、支持片15を平面視で略雲形定規形等に形成しても良い。さらに、蓋体30には、容器本体10に嵌合した蓋体30を施錠する外部操作可能な施錠機構を内蔵することができる。
Although the
1 半導体ウェーハ
2 周縁部
3 内側領域
10 容器本体
12 板バネ(弾性片)
15 支持片
16 切り欠き
17 支持ピン
18 突き当て壁
19 接触部
20 凹凸
30 蓋体
33 フロントリテーナ
DESCRIPTION OF
15
Claims (3)
支持片に切り欠きを形成し、この切り欠きに、半導体ウェーハの裏面の周縁部を除く内側領域に接触する支持ピンを後から取り付けたことを特徴とする基板収納容器。 A substrate storage container in which a container body for storing a semiconductor wafer having a diameter of 450 mm or more is configured as a front open box having an open front portion, and support pieces for semiconductor wafers are provided on both sides of the container body. ,
A substrate storage container, wherein a notch is formed in a support piece, and a support pin that comes into contact with an inner region excluding the peripheral edge of the back surface of the semiconductor wafer is attached to the notch.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008122055A JP5160298B2 (en) | 2008-05-08 | 2008-05-08 | Substrate storage container |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008122055A JP5160298B2 (en) | 2008-05-08 | 2008-05-08 | Substrate storage container |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009272472A true JP2009272472A (en) | 2009-11-19 |
JP5160298B2 JP5160298B2 (en) | 2013-03-13 |
Family
ID=41438767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008122055A Active JP5160298B2 (en) | 2008-05-08 | 2008-05-08 | Substrate storage container |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5160298B2 (en) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06216229A (en) * | 1993-01-18 | 1994-08-05 | Hitachi Ltd | Wafer carrier |
JPH0662542U (en) * | 1993-01-29 | 1994-09-02 | 信越半導体株式会社 | Waha cassette |
JPH07263520A (en) * | 1994-03-17 | 1995-10-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Apparatus for conveying/accomodating substrate |
JPH0817753A (en) * | 1994-06-28 | 1996-01-19 | Tokyo Electron Ltd | Mounting jig for heat treatment of semiconductor wafer, and its heat treatment equipment |
JPH0992702A (en) * | 1995-09-27 | 1997-04-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate cassette, interface mechanism and substrate processing system |
JP2000091409A (en) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Precise-substrate housing container and method for assembling the same |
JP2002353301A (en) * | 2001-05-30 | 2002-12-06 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Vessel for storing precision substrate and its presser member |
JP2006324327A (en) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Substrate accommodating container and its manufacturing method |
JP2006332261A (en) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Substrate storage container |
JP2007220823A (en) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Miraial Kk | Thin plate container |
-
2008
- 2008-05-08 JP JP2008122055A patent/JP5160298B2/en active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06216229A (en) * | 1993-01-18 | 1994-08-05 | Hitachi Ltd | Wafer carrier |
JPH0662542U (en) * | 1993-01-29 | 1994-09-02 | 信越半導体株式会社 | Waha cassette |
JPH07263520A (en) * | 1994-03-17 | 1995-10-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Apparatus for conveying/accomodating substrate |
JPH0817753A (en) * | 1994-06-28 | 1996-01-19 | Tokyo Electron Ltd | Mounting jig for heat treatment of semiconductor wafer, and its heat treatment equipment |
JPH0992702A (en) * | 1995-09-27 | 1997-04-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate cassette, interface mechanism and substrate processing system |
JP2000091409A (en) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Precise-substrate housing container and method for assembling the same |
JP2002353301A (en) * | 2001-05-30 | 2002-12-06 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Vessel for storing precision substrate and its presser member |
JP2006324327A (en) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Substrate accommodating container and its manufacturing method |
JP2006332261A (en) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Substrate storage container |
JP2007220823A (en) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Miraial Kk | Thin plate container |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5160298B2 (en) | 2013-03-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101129486B1 (en) | Substrate storage container | |
JP5269077B2 (en) | Support and substrate storage container | |
JP6190726B2 (en) | Substrate storage container | |
TWI760317B (en) | Substrate storage container | |
JP2010199354A (en) | Substrate storing container | |
JP2006245206A (en) | Board accommodating case | |
JP5268858B2 (en) | Substrate storage container | |
TW202144265A (en) | Substrate storage container | |
JP2009283537A (en) | Substrate-ousing container | |
KR20180022656A (en) | Substrate storage container | |
JP5160298B2 (en) | Substrate storage container | |
JP6491590B2 (en) | Substrate storage container | |
JP2011108715A (en) | Substrate housing container | |
JP2009231653A (en) | Substrate storing container | |
JP2010199189A (en) | Substrate storage container and method to pick out substrate | |
JP5103596B2 (en) | Substrate container and positioning structure thereof | |
JP6576811B2 (en) | Substrate storage container | |
KR101486612B1 (en) | Container for processing tool for mounting substrate | |
JP2010182948A (en) | Substrate storage container | |
TW202110730A (en) | Substrate storage container | |
KR102605057B1 (en) | Substrate storage container | |
JP4823094B2 (en) | Teeth body and substrate storage container | |
JP5460274B2 (en) | Substrate storage container | |
TWI796660B (en) | Substrate storage container | |
WO2024029016A1 (en) | Substrate storage container and lid thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110411 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120321 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120509 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120717 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120831 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121211 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5160298 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151221 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |