JP2009272317A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI467318B (zh) * 2009-12-04 2015-01-01 旭硝子股份有限公司 An optical member for EUV microfilm, and a method for manufacturing a substrate with a reflective layer for EUV microfilm
EP2511945A4 (en) * 2009-12-09 2014-09-03 Asahi Glass Co Ltd MULTILAYER MIRROR FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF
KR102064643B1 (ko) 2012-03-30 2020-01-08 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 기판, 다층 반사막 부착 기판, 투과형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 블랭크, 투과형 마스크, 반사형 마스크 및 반도체 장치의 제조 방법
JP6279476B2 (ja) * 2012-09-28 2018-02-14 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板の製造方法
JP6126847B2 (ja) * 2012-12-29 2017-05-10 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
KR20210089406A (ko) * 2020-01-08 2021-07-16 주식회사 에스앤에스텍 극자외선용 반사형 블랭크 마스크 및 포토마스크
JP7226389B2 (ja) * 2020-04-28 2023-02-21 信越化学工業株式会社 反射型マスクブランク用膜付き基板及び反射型マスクブランク

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040159538A1 (en) * 2003-02-13 2004-08-19 Hans Becker Photo mask blank, photo mask, method and apparatus for manufacturing of a photo mask blank
JP4666365B2 (ja) * 2005-10-14 2011-04-06 Ｈｏｙａ株式会社 多層反射膜付き基板、その製造方法、反射型マスクブランクおよび反射型マスク
WO2007069417A1 (ja) * 2005-12-12 2007-06-21 Asahi Glass Company, Limited Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランク、および該マスクブランク用の導電膜付基板

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