JP2009270176A - 表面強化被膜の形成方法及び表面強化製品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平均粒径を10〜100μm,好ましくは平均粒径20〜50μmの酸化錫の粉体,又は表面に酸化膜が形成された平均粒径を10〜100μm,好ましくは平均粒径20〜50μmの錫の粉体を,ブラスト加工装置により圧縮気体と共に噴射圧力0.5MPa以上,又は噴射速度200m/sec以上で被処理製品に噴射して衝突させる。これにより,被処理製品の表面に1ミクロン以下の厚みで酸化錫の被膜を形成し,これを前述の表面強化被膜とした。
【選択図】図2
Description
錫の粉体を被処理製品の表面に噴射することにより酸化錫の被膜を形成できることは既に公知であるところ,このようにして形成された酸化錫の被膜は,切削工具の刃先や機械部品の摺動部に形成した場合,容易に剥離してしまうものであることは前述した通りである。
以上の着眼点から,本発明の表面強化被膜の形成方法は,表面に酸化膜が形成された平均粒径10〜100μm,好ましくは平均粒径20〜50μmの錫の粉体を,噴射圧力0.5MPa以上又は噴射速度200m/sec以上で被処理製品に噴射することにより,被処理製品の表面に厚み1μm以下で付着強度の高い酸化錫の被膜を形成するものである。
本発明の表面強化被膜の製造方法では,前述のように噴射粉体として表面に酸化膜の形成された錫粉体使用し,このような噴射粉体は,一例として噴射粉体である錫粉体を水アトマイズ法によって製造することにより得ることができる。
前述の噴射粉体の噴射には,噴射粉体を圧縮空気等の圧縮気体と共に噴射する既知の各種のブラスト加工装置を使用することができ,このブラスト加工装置の噴射方式は,直厚式,重力式,サクション式等の既知の如何なる方法によって行うものであって良く,前述した噴射圧力又は噴射速度で噴射粉体を噴射し得るものであれば特に限定されない。
本発明の表面強化被膜の形成対象とする被処理製品は,前述した噴射粉体を,前述した噴射圧力又は噴射速度による噴射,衝突によって酸化錫の被膜を形成可能なものであれば,各種材質,形状,用途のものを使用することができ,好ましくは金属,セラミック又はこれらの混合体から成る被処理製品を処理対象とする。
以上のように,表面に酸化膜の形成された平均粒径10〜100μmの錫粉体,好ましくは20〜50μmの錫粉体を,0.5MPa以上,又は噴射速度200m/sec以上という比較的高速で噴射して被処理製品の表面に衝突させると,噴射された錫粉体は,被処理製品の表面に衝突し,弾き返される際にその一部が被処理製品の表面に溶着付着,又は拡散・浸透,被覆して酸化錫の被膜が形成される。
切削加工用のCBNチップに対し,本発明の方法により表面強化被膜(酸化錫被膜)の形成を行った。表面強化被膜の形成条件を下記の表1に,上記処理によってCBNチップに形成された表面強化被膜の膜厚を測定した結果を表2にそれぞれ示す。
超硬チップに対し,下表4に示すように微粉用ブラスト装置を使用した前処理を行った後,本発明の方法による表面強化被膜の形成を行った。処理対象とした切削用チップは,その表面にセラミック被膜(WC)が形成されており,下表4に示した前処理は,ピーニング効果によってこのWC被膜のつなぎ材である母材中のCOの強化を行うと共に,WC,COの微細化を可能とする。
サーメットチップ(SKD−11熱処理品)に対し,前処理として微粉用ブラスト装置により表5の前処理を行った後,下記の表6に示す条件で本発明の方法による表面強化被膜の形成を行った。
マトリックスハイス(YXR−3)の熱処理品である転造用Vロールダイスに対し,下記の表7に示す前処理を行った後,表8に示す加工条件で本発明の表面強化被膜の形成を行った。
マトリックスハイス(YXR−3)の熱処理品である高張力鋼板用絞り金型に対し,前記表7に示した2種類の前処理を行った後,下記の表9に示す処理条件で本発明の表面強化被膜を形成した。
機械構造用炭素鋼(S45C)製の機械ディスク板に上記表7に示した前処理のうち,「前処理1」と同様の処理(但し,噴射時間については片面3分×2方向。)を行った後,下記の表10に示す処理条件で本発明の表面強化被膜の形成を行った。
織物機械用のスライドレールに対して表7に示した前処理1,前処理2の双方を共に行った後(但し,噴射時間については「前処理1」について 2分間×2方向,「前処理2」について2分間×2方向。),下記の表11に示す処理条件で本発明の表面強化被膜の形成を行った。
SCM435の浸炭品である,タッパー(タップ加工機)の駆動軸に対して,表7に示した前処理1,2(但し噴射時間については「前処理1」について2分,「前処理2」について2分。)をいずれも行った後,下記の表12に示す加工条件により本発明の表面強化被膜の形成を行った。
本発明の方法と同様の方法により,ガスアトマイズ法によって得られた未酸化の錫粉体を噴射して被処理製品の表面に被膜を形成した場合,形成された被膜は軟質であり,水アトマイズ法によって得られた錫粉体を噴射粉体とした場合のように,硬質の酸化錫の被膜を形成することはできなかった。
Claims (10)
- 表面に酸化膜が形成された平均粒径10〜100μmの錫の粉体を,噴射圧力0.5MPa以上,又は噴射速度200m/sec以上で被処理製品に噴射することにより,被処理製品の表面に酸化錫の被膜を1μm以下の厚みで形成することを特徴とする表面強化被膜の形成方法。
- 前記被処理製品に対し平均粒径37〜74μmの鋼球を,噴射圧力0.3MPa以上,又は噴射速度100m/sec以上で噴射する前処理を行った後,前記酸化錫被膜の形成を行うことを特徴とする請求項1記載の表面強化被膜の形成方法。
- 前記被処理製品に対し平均粒径20〜63μmのセラミックビーズを,噴射圧力0.2MPa以上,又は噴射速度100m/sec以上で噴射する前処理を行った後,前記酸化錫被膜の形成を行うことを特徴とする請求項1記載の表面強化被膜の形成方法。
- 請求項2に記載の前処理を行った被処理製品の表面に対し,更に請求項3に記載の前処理を行った後,前記酸化錫被膜の形成を行うことを特徴とする請求項1記載の表面強化被膜の形成方法。
- 前記被処理製品が金属,セラミックス,又はこれらの混合体により形成されていることを特徴とする請求項1〜4いずれか1項記載の表面強化被膜の形成方法。
- 表面に酸化膜が形成された平均粒径10〜100μmの錫の粉体を,噴射圧力0.5MPa以上,又は噴射速度200m/sec以上で被処理製品に噴射することにより,厚さ1μm以下の酸化錫の被膜を表面強化被膜として形成した表面強化製品。
- 平均粒径37〜74μmの鋼球を,噴射圧力0.3MPa以上,又は噴射速度100m/sec以上で噴射する前処理を行った後の前記被処理製品に対し,前記酸化錫の被膜を形成したことを特徴とする請求項6記載の表面強化製品。
- 平均粒径20〜63μmのセラミックビーズを,噴射圧力0.2MPa以上,又は噴射速度100m/sec以上で噴射する前処理を行った後の前記被処理製品に対し,前記酸化錫の被膜を形成したことを特徴とする請求項6記載の表面強化製品。
- 請求項7に記載の前処理を行った被処理製品の表面に対し,更に請求項8に記載の前処理を行った後,前記酸化錫の被膜を形成したことを特徴とする請求項6記載の表面強化製品。
- 前記被処理製品が金属,セラミックス,又はこれらの混合体によって形成されていることを特徴とする請求項6〜9いずれか1項記載の表面強化製品。
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